專利名稱：用于半導(dǎo)體設(shè)備制造裝備的延伸主機(jī)設(shè)計(jì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于半導(dǎo)體組件制造，尤其是關(guān)于用于半導(dǎo)體組件制造設(shè)備的 延伸主機(jī)-沒計(jì)。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體組件的制造制程通常是以具有數(shù)個主機(jī)的工具進(jìn)行，而主機(jī)中 有多個處理室及/或負(fù)載鎖定室耦接環(huán)繞中央傳送處理室。所述處理室各可 進(jìn)行特定制程，或于許多情況中，可進(jìn)行額外及/或相關(guān)制程。
為確保能適當(dāng)操作半導(dǎo)體組件制造工具，工具的處理室、負(fù)載鎖定室 及其它處理室必須作維護(hù)，故需充分存取以維護(hù)處理室。然而，于某些情 況中，提供這樣的存取可能會限制系統(tǒng)產(chǎn)量。

發(fā)明內(nèi)容
于本發(fā)明第一方式中，第一主機(jī)是用于半導(dǎo)體組件制造。該第一主機(jī)
包括(1)側(cè)壁，可界定中央傳送區(qū)域，用于容設(shè)機(jī)械臂；(2)數(shù)個面，形成在 該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；(3)延伸面，形成在該側(cè)壁上，以讓主機(jī) 得以耦接到至少四個全尺寸處理室，同時(shí)提供主機(jī)的維護(hù)進(jìn)出口。
于本發(fā)明第二方式中，是提供用于半導(dǎo)體組件制造的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包 括一主機(jī)，其具有(1)側(cè)壁，可界定出中央傳送區(qū)，適于容設(shè)機(jī)械臂；(2) 數(shù)個面，形成在該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及(3)延伸面，形成在 該側(cè)壁上，以讓主機(jī)得以耦接到至少四個全尺寸處理室，同時(shí)提供主機(jī)的 維護(hù)進(jìn)出口。該系統(tǒng)也包括(a)機(jī)械臂，位于該主機(jī)的中央傳送區(qū)內(nèi)；(b) 負(fù)載鎖定室，耦接至該數(shù)個面的第一個；以及(c)一處理室，耦接至該延伸 面。該延伸面適于增加該負(fù)載鎖定室(耦接至主機(jī))以及該處理室(耦接至該 延伸面)之間的距離。
于本發(fā)明第三方式中，是提供用于半導(dǎo)體組件制造的第二主機(jī)。該第二主機(jī)包括第一傳送區(qū)段，其具有(1)第一側(cè)壁，可界定出適于容設(shè)第一機(jī)
械臂的第一中央傳送區(qū)；(2)數(shù)個面，形成在該第一側(cè)壁上，各適于耦接至 處理室；以及(3)延伸面，形成在該第一側(cè)壁上，以讓該主機(jī)得以耦接到至 少四個全尺寸處理室，同時(shí)提供該主機(jī)維護(hù)存取。該第二主機(jī)也包括耦接 至該第一傳送區(qū)段的第二傳送區(qū)段，且具有(1)第二側(cè)壁，可界定適于容設(shè) 第二機(jī)械臂的第二中央傳送區(qū)；(2)數(shù)個面，形成在該第二側(cè)壁上，各適于 耦接至處理室；以及(3)延伸面，形成在該第二側(cè)壁上，以讓該主機(jī)得以耦 接到至少四個全尺寸處理室，同時(shí)提供主機(jī)的維護(hù)進(jìn)出口 。
于本發(fā)明第四方式中，是提供用于半導(dǎo)體組件制造的第三主機(jī)。該第 三主機(jī)包括(1)側(cè)壁，可界定適于容設(shè)機(jī)械臂的中央傳送區(qū)；(2)數(shù)個面，形 成在該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及(3)間距物，耦接至所述面的至 少一個，該間距物適于讓主機(jī)得以耦接到至少四個全尺寸處理室，同時(shí)提 供主機(jī)的維護(hù)存取。依據(jù)此等及其它方式更可提供多種其它實(shí)施方式。
本發(fā)明其它特征及實(shí)施方式在參閱下文詳細(xì)說明、權(quán)利要求及圖標(biāo)后 更可清楚領(lǐng)會。


圖1為半導(dǎo)體組件制造期間可使用的公知的真空主機(jī)的俯視平面圖。 圖2為圖1主機(jī)的俯視平面圖，顯示四個耦接至該主機(jī)的大處理室。 圖3A為依據(jù)本發(fā)明的第 一 例示性主機(jī)的俯視平面圖。 圖3B為本發(fā)明所提供圖3A主機(jī)的第一替代實(shí)施例的俯視平面圖。 圖3C為本發(fā)明所提供圖3A主機(jī)的第二替代實(shí)施例的俯視平面圖。 圖4為圖3A的第一例示性主機(jī)的俯視平面圖，其具有四個耦接至該
主4/L的大型處理室。
圖5A為本發(fā)明所提供第二例示性主機(jī)的俯視平面圖。 圖5B為本發(fā)明所提供圖5A主機(jī)的第一替代實(shí)施例的俯視平面圖。 圖5C為本發(fā)明所提供圖5A主機(jī)的第二替代實(shí)施例的俯視平面圖。 圖6為圖5A第二例示性主機(jī)的俯視平面圖，其具有五個耦接至該主
才幾的處理室。
圖7A為本發(fā)明所提供第三例示性主機(jī)的俯視平面圖。 圖7B為本發(fā)明所提供圖7A主機(jī)的第一替代實(shí)施例的俯視平面圖。 圖7C為本發(fā)明所提供圖7A主機(jī)的第二替代實(shí)施例的俯視平面圖。 圖8A為一例示性通過室(pass through chamber)的俯4見平面圖，其利 用本發(fā)明 一或多個間距物。
圖8B為本發(fā)明所提供一例示性延伸通過室的俯視平面圖。 圖9為本發(fā)明的一例示性負(fù)栽鎖定室的俯視平面圖。
主要組件符號說明 100 真空主枳^ 102a-f 面 106 工廠接口 110 主機(jī)機(jī)械臂 300 主機(jī) 303a
502單一負(fù)載鎖定室
506 間距物
700 主機(jī)
704 第二主機(jī)段
708a-f
712a-b 主機(jī)機(jī)械臂 716 中心傳送區(qū) 802a 第一間距物 500 主機(jī)
101 中心傳送處理室區(qū) 104a-b 負(fù)栽鎖定室 108a-c基材載件 200a-d 大型處理室 400a-d 大型處理室 303b 間距物 504 中心傳送區(qū) 600a-e 大型處理室 702 第一主機(jī)段 706a-b 通過室 710d 面 714 中心傳送區(qū) 720 間距物 802b 第二間距物
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明關(guān)于延伸主機(jī)設(shè)計(jì)，以讓其它及/或較大處理室可放置在主機(jī)周 圍，同時(shí)維持對主機(jī)、處理室以及/或耦接至該主機(jī)的負(fù)載鎖定室的維護(hù)進(jìn) 出口 。
圖1為公知的可在半導(dǎo)體組件制造期間使用的真空主機(jī)100的俯視平 面圖。該真空主機(jī)100包括一中心傳送處理室區(qū)101以及數(shù)個面102a-f, 各適于耦接至處理室、負(fù)載鎖定室或其它處理室(例如，預(yù)清潔、烘烤、冷 卻或度量或缺陷檢測室、或類似的)。雖然圖1主機(jī)100圖標(biāo)具有六個面， 但應(yīng)可理解也可采用較少或較多面。
在一般應(yīng)用期間，數(shù)個負(fù)載鎖定室104a-b是耦接至主機(jī)100,例如所 示的面102e、 102f。工廠接口 106也可耦接至該負(fù)載鎖定室104a-b,且 也可于工廠接口 106的負(fù)載端口(未個別示出)接收基材栽件108a-c。工廠 接口 106內(nèi)的工廠接口機(jī)械臂(未個別示出)其后可取得來自基材載件 108a-c的基材，并將基材傳送至負(fù)載鎖定室104a-b(或?qū)碜载?fù)載鎖定室 104a-b的基材傳送至基材載件108a-c)。半導(dǎo)體組件制造期間，主機(jī)機(jī)械 臂110可將基材傳送于該負(fù)載鎖定室104a-b以及耦接至該主機(jī)100 (例 如，于面102a-d處)的任何制程或其它處理室。
圖2為圖1主機(jī)100的俯視平面圖，顯示四個耦接至主機(jī)100的大型 處理室200a-d。參照圖1及圖2，于公知的主機(jī)100中，主機(jī)機(jī)械臂110 是利用較傳送基材進(jìn)出處理室200a-d(耦接至主機(jī)100，如圖所示)為短的 范圍將基材傳送進(jìn)出負(fù)載鎖定室104a、 104b。
為增加負(fù)載鎖定室104a-b及處理室200a-d間的空地(例如，為了維修 服務(wù))，負(fù)載鎖定室通常是一起旋轉(zhuǎn)(如圖所示)。然而，維修服務(wù)的情形在 大型處理室(例如蝕刻室、化學(xué)氣相沉積(CVD)室、原子層沉積(ALD)室、 物理氣相沉積(PVD)室或類似的)配合主機(jī)100應(yīng)用時(shí)才會出現(xiàn)。例如，如 圖2所示在四個大型處理室耦接至主機(jī)100時(shí)，主機(jī)100及/或負(fù)載鎖定室 104a-b可能就無法作為修服務(wù)、或維修存取可能會受限及/或不安全(例如， 小于24英寸的SEMI標(biāo)準(zhǔn))。因此，只有將近三個大型處理室配合主機(jī)100 使用。
圖3A為本發(fā)明第一例示性主機(jī)300的俯視平面圖。相較于第1及2 圖的公知的主機(jī)100,主機(jī)300為向前r伸展J至工廠接口 106。例如， 主機(jī)300可伸展至主機(jī)機(jī)械臂110的最大范圍(或至其它適當(dāng)距離)。于至 少一實(shí)施例中，當(dāng)將基材傳送進(jìn)出負(fù)載鎖定室104a-b時(shí)，主機(jī)300會延
伸以便增加主機(jī)機(jī)械臂110的擴(kuò)展范圍約10英寸(相較于公知的主機(jī)100 內(nèi)主機(jī)機(jī)械臂110的擴(kuò)展范圍)。如圖3A所示，主機(jī)300是通過增加主機(jī) 300側(cè)壁中面102c、 102d的長度來伸展，而使中心傳送區(qū)301的尺寸有 些許增加。
通過伸展主機(jī)300,四個大型處理室可設(shè)在主機(jī)300周圍，并仍做安 全的維護(hù)。例如，圖4為第一例示性主機(jī)300的俯視平面圖，其具有四個 耦接至主機(jī)300的大型處理室400a-d。維護(hù)存取因此而改善且安全，甚至 在使用全尺寸處理室時(shí)亦然。例如，耦接至面102c或102d的處理室及工 廠接口 106之間可以進(jìn)行維護(hù)。于相同實(shí)施例中，也可使用SEMI標(biāo)準(zhǔn)存 取規(guī)范，例如24英寸或更大的存取尺寸。
通過將主機(jī)300伸展一個不會超過主機(jī)機(jī)械臂110范圍限制的范圍， 就不會因改變主機(jī)設(shè)計(jì)而大幅增加成本。例如，使用在公知的主機(jī)100內(nèi) 的相同主機(jī)機(jī)械臂110、狹縫閥、負(fù)載鎖定室等仍可使用在伸展的主機(jī)300 內(nèi)。
參照圖3B,此外或者可通過將間距物303a放置在面102e及負(fù)載鎖 定室104a之間及/或?qū)㈤g距物303b放置在面102f及負(fù)載鎖定室104b之 間，以增加處理室400a及/或400b以及工廠接口 106間額外距離的方式(參 照圖4)而達(dá)到較大的維護(hù)進(jìn)出口范圍。間距物303a-b可包括，例如通道 或可延伸于主機(jī)300及負(fù)載鎖定室104a及/或104b間的類似結(jié)構(gòu)。類似 間距物303a-b也可用于負(fù)載鎖定室104a及/或104b及工廠接口 106之間， 如圖3C所示(例如，約6英寸至8英寸長的片狀金屬或類似通道)。
負(fù)載鎖定室104a及/或104b的本體長度另外或者可增加，以增加處 理室400a及/或400b以及工廠接口 106間的額外面積。使用間距物及/或 延伸的負(fù)載鎖定室本體長度可增加主機(jī)300及工廠接口 106間的距離，并 提供較大的維護(hù)進(jìn)出口。
圖5A為本發(fā)明第二例示性主機(jī)500的俯視平面圖。相較于圖1及圖 2的公知的主機(jī)100，主機(jī)500的單一面102d(形成在主機(jī)側(cè)壁中)會向前 r延伸J至工廠接口 106,如圖所示。主機(jī)500的面102d可伸展，例如， 伸展至主機(jī)機(jī)械臂110的最大范圍(或至任何其它適當(dāng)距離)。于至少一實(shí) 施例中，主機(jī)500的面102d會伸展，以在傳送基材進(jìn)出主機(jī)500使用的 單一 負(fù)載鎖定室502時(shí)，能使主機(jī)機(jī)械臂110的擴(kuò)展范圍增加約10英寸(相 較于公知的主機(jī)100內(nèi)主機(jī)機(jī)械臂110的擴(kuò)展范圍)。應(yīng)注意的是，主機(jī) 500的中心傳送區(qū)504相較于公知的主機(jī)100并未明顯增加尺寸。
通過僅伸展主機(jī)500的面102d，五個大型處理室便可設(shè)于主機(jī)500 周圍，且仍能安全維護(hù)。例如，圖6為第二例示性主機(jī)500的俯視平面圖， 其具有五個耦接至主機(jī)500的大型處理室600a-e。即便在利用全尺寸處理 室時(shí)，也可改善并安全進(jìn)行維護(hù)存取。例如，耦接至面102d及工廠接口 106間的處理室也可進(jìn)行維護(hù)。于某些實(shí)施例中，也可利用例如24英寸或 更大存取范圍的SEMI標(biāo)準(zhǔn)存取規(guī)范。
應(yīng)注意的是，面102c或者也可在面102d維持不延伸的同時(shí)進(jìn)行伸展。 于這樣的實(shí)施例中，負(fù)載鎖定室502是耦接至面102e,且可于，例如，耦 接至面102c的處理室及工廠接口 106間進(jìn)行維護(hù)。
通過將主機(jī)500伸展一個不會超過主機(jī)機(jī)械臂110范圍限制的范圍， 就不會因改變主機(jī)500設(shè)計(jì)而大幅增加成本。例如，使用在公知的主機(jī)100 內(nèi)的相同主機(jī)機(jī)械臂110、狹縫閥、負(fù)載鎖定室等仍可使用在伸展的主機(jī) 300內(nèi)。
如圖5A所示，負(fù)載鎖定室502是以類似圖3A負(fù)載鎖定室104a-b的 相同方式(例如，旋轉(zhuǎn)約5至10度，不過也可使用其它旋轉(zhuǎn)角度)做旋轉(zhuǎn)。 圖5A的主機(jī)500甚至在將五個大型(全尺寸)處理室耦接至主機(jī)500時(shí)， 也可進(jìn)行維護(hù)。延伸主機(jī)及負(fù)載鎖定室旋轉(zhuǎn)的結(jié)合便可增加維修服務(wù)性。
于進(jìn)一步范例中，當(dāng)所有處理室并行操作時(shí)(例如，實(shí)施相同制程)， 使用五個處理室面會較使用四個面有25。/。多的產(chǎn)量。對連續(xù)制程而言，便 可具有額外產(chǎn)量的改進(jìn)。例如，典型金屬蝕刻制程是利用兩個蝕刻室及兩 個剝除室。各蝕刻室通常有一剝除室約三分的二的產(chǎn)量(例如，蝕刻室20 片晶片/小時(shí)對剝除室30片晶片/小時(shí))。通過使用所有五個面，額外的蝕刻 室即可耦接至主機(jī)500，進(jìn)而具有三個蝕刻室及兩個剝除室。三個蝕刻室 及兩個剝除室的4吏用在與其它主機(jī)配置中使用兩個蝕刻室及兩個剝除室的 比較后，呈現(xiàn)50%的產(chǎn)量增加。
此外，或者也可通過將間距物506放置于面102f及負(fù)載鎖定室502 間而達(dá)到較大的維護(hù)進(jìn)出口范圍，以于處理室600d及工廠接口 106間增 加額外空間(參見圖6)。間距物506可包括，例如通道或可延伸于主機(jī)500 及負(fù)載鎖定室502之間的類似結(jié)構(gòu)。類似的間距物也可以用在負(fù)載鎖定室 502及工廠接口 106之間，如圖5C所示(例如，長約6英寸至8英寸的金 屬片或類似通道)。
另或者也可增加負(fù)栽鎖定室502本體長度，以于處理室600d及工廠 接口 106間形成額外空間。使用間距物及/或延伸的負(fù)載鎖定室本體長度可 增加主機(jī)500及工廠接口 106間的距離，并提供較大的維護(hù)服務(wù)范圍。
圖7A為本發(fā)明第三例示性主機(jī)700的俯視平面圖。第三主機(jī)700包 括耦接至第二主機(jī)段704(如，低真空輸入段段)的第一主機(jī)段702(如，高 真空區(qū)段)。第一及第二主機(jī)段702、 704經(jīng)由通過室706a-706b耦接。第 一主機(jī)段702包括數(shù)個面708a-f(形成在該主機(jī)的第一側(cè)壁中)以及第二主 機(jī)段704，其包括數(shù)個面710a-f(形成在該主機(jī)的第二側(cè)壁中)。各主機(jī)段 702、 704包括一主機(jī)機(jī)械臂712a、 712b。
如圖7A所示，第一主機(jī)段702類似圖3A-C及圖4的主機(jī)300。亦即， 第一主機(jī)段702的面708c及708d是向前r伸展」至工廠接口 106(如圖 所示)。第一主機(jī)段702的面708c、 708d可伸展，例如，伸展至第一主機(jī) 機(jī)械臂712a的最大范圍(或至其它適當(dāng)距離)。在至少一實(shí)施例中，第一主 機(jī)段702的面708c、 708d會伸展以使第一主機(jī)機(jī)械臂712a的范圍在傳 送基材進(jìn)出通過室706a、 706b時(shí)可增加約10英寸(相較于公知的主機(jī)內(nèi) 主機(jī)機(jī)械臂的范圍)。如前述通過伸展第一主機(jī)段702,四個大型處理室便 可設(shè)在第一主機(jī)段702周圍，并安全地作維護(hù)。
于第二主機(jī)段704，主機(jī)段704的單一面710d會向前r伸展J至工 廠接口 106(如圖所示)。第二主機(jī)段704的面710d可伸展，例如，伸展至 第二主機(jī)機(jī)械臂712b的最大范圍(或至任何適當(dāng)距離)。在至少一實(shí)施例中， 第二主機(jī)段704的面710d會伸展，以在配合主機(jī)700傳送基材進(jìn)出單一 負(fù)載鎖定室502時(shí)，使主機(jī)機(jī)械臂712b的擴(kuò)展能增加約10英寸(相較于 公知的主機(jī)內(nèi)主機(jī)機(jī)械臂的擴(kuò)展范圍)。通過僅伸展第二主機(jī)段704的面710d，五個大型處理室便可設(shè)在第二主機(jī)段704周圍，且仍可安全地維護(hù)。 經(jīng)由使用伸展主機(jī)段702、 704,主機(jī)700可提供大型全尺寸處理室 總共七個面。第一主機(jī)段702的中心傳送區(qū)714比第二主機(jī)段704的中心 傳送區(qū)716略長。
此外或者也可通過將間距物720(示于圖7B)安置在面710f及負(fù)載鎖定 室502之間，以于任何耦接至面710d的處理室及工廠接口 106之間形成 額外空間。間距物720可包括，例如通道或可延伸于第 一主才幾702及通過 室706a、 706b間的類似結(jié)構(gòu)。間距物也可用于通過室706a、 706b以及 第二主機(jī)段704之間。
圖8A為本發(fā)明第一通過室706a的例示性實(shí)施例的俯視平面圖，其具 有相耦接的第一間距物802a以及第二間距物802b。該第二通過室706b 可為類似配置。
通過室706a及/或706b的本體長度另或者也可增加。例如，圖8B為 第二通過室706b的例示性實(shí)施例，其具有依本發(fā)明伸展的本體區(qū)804。然 其它本體部分也可作伸展。該第一通過室706a可作類似配置。
另或者也可增加負(fù)載鎖定室502的本體長度，以于耦接至面710d的 任一處理室及工廠接口 106間形成額外空間。例如，圖9繪示依據(jù)本發(fā)明 具有本體區(qū)902延伸的負(fù)載鎖定室的例示性實(shí)施例。然其它本體區(qū)也可作 延伸。該負(fù)載鎖定室104a-b也可作類似延伸。使用間距物及/或延伸的負(fù) 載鎖定室本體長度可增加主機(jī)700(或500)及工廠接口 106間的距離，并提 供較大的維護(hù)進(jìn)出口范圍。
前文說明僅揭示本發(fā)明例示性實(shí)施例。熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)可立 即了解，前文所揭示設(shè)備及方法的變化皆落于本發(fā)明涵蓋范圍內(nèi)。例如， 主機(jī)300、 500及或主機(jī)段702、 704可包括比六個更多或更少的面。因此， 雖然本發(fā)明是以例示實(shí)施例做說明，但應(yīng)了解其它實(shí)施例也應(yīng)落入本發(fā)明 范圍內(nèi)，且其范圍應(yīng)由權(quán)利要求所界定。
權(quán)利要求
1.一種半導(dǎo)體組件制造期間所用的主機(jī)，其包括側(cè)壁，界定出適于容設(shè)機(jī)械臂的中心傳送區(qū)；數(shù)個面，形成在該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及延伸面，形成在該側(cè)壁上，其可讓該主機(jī)耦接至至少四個全尺寸的處理室，并同時(shí)提供對該主機(jī)進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口。
2. 如權(quán)利要求1所述的主機(jī)，其中該延伸面適于增加耦接至該主機(jī)的 負(fù)載鎖定室及耦接至該延伸面的一處理室之間的距離。
3. 如權(quán)利要求2所述的主機(jī)，其中該機(jī)械臂大致以該機(jī)械臂的最大范 圍傳送基材進(jìn)出該負(fù)載鎖定室。
4. 如權(quán)利要求1所述的主機(jī)，其中該主機(jī)適于耦接到至少四個全尺寸 處理室，并同時(shí)提供對該主機(jī)及任何耦接該主機(jī)的負(fù)載鎖定室進(jìn)行維護(hù)的 進(jìn)出口。
5. 如權(quán)利要求1所述的主機(jī)，其中該主機(jī)適于耦接至五個全尺寸處理 室，同時(shí)提供對該主機(jī)及任何耦接該主機(jī)的負(fù)載鎖定室進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口 。
6. 如權(quán)利要求1所述的主機(jī)，其中該主機(jī)包括數(shù)個延伸面。
7. —種半導(dǎo)體組件制造期間使用的系統(tǒng)，其至少包含 主機(jī)，具有側(cè)壁，可界定適于容設(shè)機(jī)械臂的中心傳送區(qū)； 數(shù)個面，形成在該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及 延伸面，形成于該側(cè)壁上，其可讓該主機(jī)耦接到至少四個全尺寸處理 室，同時(shí)提供對該主機(jī)進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口； 機(jī)械臂，設(shè)于該主機(jī)的該中心傳送區(qū)內(nèi)； 負(fù)載鎖定室，耦接至該數(shù)個面的第一個；以及 一處理室，耦接至該延伸面；其中該延伸面適于增加耦接至該主機(jī)的該負(fù)載鎖定室以及耦接至該延 伸面的該處理室之間的距離。
8. 如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中該機(jī)械臂可大致以該機(jī)械臂的最大 范圍傳送基材進(jìn)出該負(fù)載鎖定室。
9. 如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中該主機(jī)適于耦接到至少四個全尺寸 處理室，并同時(shí)提供對該主機(jī)及任何耦接至該主機(jī)的負(fù)載鎖定室進(jìn)行維護(hù) 的進(jìn)出口 。
10. 如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中該主機(jī)適于耦接至五個全尺寸處 理室，并同時(shí)提供對該主機(jī)及耦接至該主機(jī)的任一負(fù)載鎖定室進(jìn)行維護(hù)的 進(jìn)出口。
11. 如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中該主機(jī)包括數(shù)個延伸面。
12. —種半導(dǎo)體組件制造期間使用的主機(jī)，其至少包括 第一傳送段，具有第一側(cè)壁，可界定適于容設(shè)第一機(jī)械臂的第一中心傳送區(qū)； 數(shù)個面，形成于該第一側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及 延伸面，形成于該第一側(cè)壁上，以讓該主機(jī)可耦接到至少四個全尺寸 處理室，同時(shí)提供對該主機(jī)進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口；以及 第二傳送段，耦接至該第一傳送段，其具有 第二側(cè)壁，可界定適于容設(shè)第二機(jī)械臂的第二中心傳送區(qū)； 數(shù)個面，形成于該第二側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及 延伸面，形成于該第二側(cè)壁上，以讓該主機(jī)耦接到至少四個全尺寸處 理室，同時(shí)提供對該主機(jī)進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口。
13. 如權(quán)利要求12所述的主機(jī)，其中該第一傳送段的該延伸面適于 增加耦接至該主機(jī)的一通過室以及耦接至該延伸面的處理室之間的距離。
14. 如權(quán)利要求13所述的主機(jī)，其中該第一機(jī)械臂可大致以該第一 機(jī)械臂的最大范圍傳送基材進(jìn)出該通過室。
15. 如權(quán)利要求12所述的主機(jī)，其中該第二傳送段的該延伸面適于 增加耦接至該主機(jī)的負(fù)載鎖定室及耦接至該延伸面的處理室之間的距離。
16. 如權(quán)利要求15所述的主機(jī)，其中該第二機(jī)械臂可大致以該第二 機(jī)械臂的最大范圍傳送基材進(jìn)出該負(fù)載鎖定室。
17. 如權(quán)利要求12所述的主機(jī)，其中該主機(jī)的該第一傳送段適于耦 接到至少四個全尺寸處理室，并同時(shí)提供對該主機(jī)的該第一傳送段進(jìn)行維 護(hù)的進(jìn)出口。
18. 如權(quán)利要求12所述的主機(jī)，其中該主機(jī)的該第二傳送段適于耦 接到至少四個全尺寸處理室，并同時(shí)提供對該主機(jī)的該第二傳送段進(jìn)行維 護(hù)的進(jìn)出口 。
19. 如權(quán)利要求12所述的主機(jī)，其中該主機(jī)的該第二段適于耦接至 五個全尺寸處理室，同時(shí)提供對該主機(jī)進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口。
20. 如權(quán)利要求12所述的主機(jī)，其中該主機(jī)的該第一傳送段包括數(shù) 個延伸面。
21. —種半導(dǎo)體組件制造期間使用的主機(jī)，其至少包含側(cè)壁，可界定適于容設(shè)機(jī)械臂的中心傳送區(qū)； 數(shù)個面，形成于該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及 間距物，耦接到所述面的至少一個，該間距物適于讓該主機(jī)能耦接到 至少四個全尺寸處理室，并同時(shí)提供對該主機(jī)進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口。
22. 如權(quán)利要求21所述的主機(jī)，其中該間距物適于將負(fù)載鎖定室耦 接至該主機(jī)。
23. 如權(quán)利要求21所述的主機(jī)，其中該間距物適于將通過室耦接至 該主機(jī)。
24. 如權(quán)利要求21所述的主機(jī)，其中該間距物適于讓該主機(jī)能耦接 到至少四個全尺寸處理室，并同時(shí)提供對該主機(jī)進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口。
全文摘要
于第一實(shí)施方式中，本發(fā)明提供用于半導(dǎo)體組件制造期間使用的主機(jī)。該第一主機(jī)包括(1)側(cè)壁，可界定適于容設(shè)機(jī)械臂的中心傳送區(qū)；(2)數(shù)個面，形成于該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及(3)延伸面，形成于該側(cè)壁上，可讓該主機(jī)能耦接到至少四個全尺寸處理室，同時(shí)提供該主機(jī)的維護(hù)進(jìn)出口。本發(fā)明亦揭示其它多種實(shí)施方式。
文檔編號H01L21/00GK101341574SQ200680048123
公開日2009年1月7日 申請日期2006年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月20日
發(fā)明者M·R·賴斯 申請人:應(yīng)用材料股份有限公司