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      一種單晶硅太陽能電池絨面腐蝕槽的制作方法

      文檔序號:7226875閱讀:247來源:國知局
      專利名稱:一種單晶硅太陽能電池絨面腐蝕槽的制作方法
      一種單晶^t陽能電〗敗:l面腐蝕槽
      獄領(lǐng)敏
      本發(fā)明涉及晶^i:陽能電池,尤 及單晶硅太陽能電,面腐蝕槽。
      背景駄
      單晶硅太陽能電M^面陷光效果與太陽能電池的"金字塔"絨面均勻性有直接關(guān)系。
      目前,單晶硅太陽能電鵬面都^iil腐蝕 球獲得"金字塔"絨面的,現(xiàn)在常用的方 法超維片豎直鵬爐在硅片承織中,然后離片承織方爐在駭腐蝕液的腐蝕槽 中,腐蝕液由氫氧化鈉驢氧化鉀、水、消泡劑混合而成。目前,單晶硅太陽能電鵬 面腐蝕槽由槽體、加熱管、支撐平板、硅片織器《賊,力口熱管設(shè)置在槽體的底部,支 撐平板架設(shè)在加熱管的上面,在支撐平fel均勻地設(shè)有^f滲液孔,硅片承,方爐在 雄平社,加熱后的腐蝕狐窮掌平社的滲液孔中冒出,流動的腐蝕液與硅片撤蟲, 使單晶硅太陽能電池形成絨面。這種結(jié)構(gòu)的腐蝕槽,腐蝕液的流向是從硅片底部i^i賠 片的上部,再沿lf壁流下,不斷循環(huán)。由于在支撐平fei:有^F個均勻分布的滲液孔, 在設(shè)有滲液孔的^gj^蝕液流動快,沒有滲液孔的^S腐蝕液流動慢,這離片底部腐 蝕液的流動不均勻,造成了硅片表面腐蝕不均,所獲得的絨面表面不均勻,難以達到人 們的f^要求。

      發(fā)明內(nèi)容
      為了克SgJ^缺陷,提高單晶硅太陽能電池絨面均勻性,本發(fā)明鄉(xiāng)了一種新型單 晶硅太陽能電^^面腐蝕槽。
      本發(fā)明所細的技術(shù)方案是
      戶;M單晶硅太陽能電池絨面腐蝕槽,包括槽體、加熱管、支撐平板、硅片承載器, 支撐平板架設(shè)在槽體內(nèi),并與槽體底面形成一個空腔,硅片承織放置在支撐平t肚,
      硅片插^&硅片承,上,,征是在窮掌平板的左右兩端分別開有左缺口和右缺口,
      戶;M加熱管安驗槽體內(nèi)ILt:,且位于左缺口航缺口的上方。
      戶;f^缺口和右缺口的皿為"d"字形,旨支撐平板的皿為"工"字形。 當(dāng)腐蝕槽加熱時,腐蝕^/人設(shè)有加熱管的一女雕央口流出,沿垂直于承織的方向流 向另一端的缺口, 、^it支撐平板下面的空腔中,再髓誕加熱管的缺口上升繼續(xù)加熱,
      如此不斷循環(huán)。這樣,不i5^h硅片表面的受熱均勻,而皿蝕液流動皿均勻,腐蝕
      液與硅片的撤蟲機率更均勻,從而使得腐t^ffl均勻,所形成的絨面結(jié)構(gòu)均勻一致。


      圖1~2為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖; 其中,圖2為圖1的俯視圖中,1-槽休2-加熱管;3-支撐平板;4^圭片承織;5-左缺口; 6-右缺口; 7-槽體底面; 8畫槽體內(nèi)壁;9-空腔;10勒。
      下面結(jié)合附圖1、圖2詳細說明本發(fā)明的具體實施方式
      ,所述單晶硅太陽能電 自 面腐蝕槽,由槽體l、力口熱管2、支撐平板3、硅片承織4會賊,在支撐平板3的左右 兩端開有"d"字形的左缺口 5和右缺口 6,旨窮掌平板3的開娥為"工"字形,支撐 平板3架設(shè)在槽體1內(nèi),并與槽體底面7形成一個空腔9,所述加熱管2安M槽體內(nèi) 壁8上,且位于支撐平板3的右缺口6的上方,硅片承織4方爐支撐平板3上,硅片 10插^^硅片承i^4上。
      權(quán)利要求
      1、一種單晶硅太陽能電池絨面腐蝕槽,包括槽體(1)、加熱管(2)、支撐平板(3)、硅片承載器(4),支撐平板(3)架設(shè)在槽體(1)內(nèi),并與槽體底面(7)形成一個空腔(9),硅片承載器(4)放置在支撐平板(3)上,硅片(10)插裝在硅片承載器(4)上,其特征是在支撐平板(3)的兩端開有左缺口(5)和右缺口(6),所述加熱管(2)安裝在槽體內(nèi)壁(8)上,且位于左缺口(5)或右缺口(6)的上方。
      2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述單晶硅太陽能電池絨面腐蝕槽,其特征是所述左 缺口 (5)和右缺口 (6)的形狀為"D"字形,支撐平板(3)的形狀為"工" 字形。
      全文摘要
      一種單晶硅太陽能電池絨面腐蝕槽,包括槽體、加熱管、支撐平板、硅片承載器,在支撐平板的左右兩端分別開有左缺口和右缺口,支撐平板架設(shè)在槽體內(nèi),并與槽體底面形成一個空腔,所述加熱管安裝在槽體內(nèi)壁上,且位于左缺口或右缺口的上方,硅片承載器放置在支撐平板上。當(dāng)腐蝕槽加熱時,腐蝕液從加熱管的缺口垂直于承載器的方向流動,沿著支撐平板的缺口流到支撐平板下面的空腔中,再沿著靠近加熱管的缺口上升繼續(xù)加熱,如此不斷循環(huán)。這樣,整個硅片表面的受熱均勻,腐蝕液流動均勻,腐蝕速度均勻,絨面結(jié)構(gòu)一致。
      文檔編號H01L21/306GK101097971SQ20071002396
      公開日2008年1月2日 申請日期2007年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月30日
      發(fā)明者劉志剛, 荀建華 申請人:荀建華;劉志剛
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