專利名稱：曝光修正方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及曝光修正方法。
技術(shù)背景光刻工藝是集成電路制造工藝中不可或缺的重要技術(shù)。所述光刻工藝通 常包括如下步驟，先在晶圓表面涂布光阻等感光材料，在感光材料干燥后， 通過曝光機(jī)將掩膜上的電路設(shè)計(jì)圖形以特定光源曝在所述的感光材料上，隨 后，再以顯影劑將感光材料顯影，并利用顯影出來(lái)的圖形作為屏蔽，進(jìn)行蝕 刻等工藝，并最終完成掩膜圖形的轉(zhuǎn)移。隨著集成電路制造工藝中器件的尺寸的越來(lái)越小，對(duì)于光刻工藝的要求 也越來(lái)越高。目前， 一般都是通過縮小曝光光源的曝光波長(zhǎng)來(lái)達(dá)到曝出更小 尺寸圖形的目的。然而，這種僅僅借由縮小曝光波長(zhǎng)的方式，通常會(huì)出現(xiàn)光 刻分辨率不足的問題。為了增加光刻分辨率，如今的集成電路制造工藝已發(fā) 展出光學(xué)鄰近修正以及相位移掩膜等分辨率增強(qiáng)技術(shù)。最近，還出現(xiàn)了另一 種提高分辨率的技術(shù)一 "兩次曝光技術(shù)"，所述"兩次曝光技術(shù)"是將需要 進(jìn)行曝光的電路圖形分解成兩部分，首先曝光一部分電路圖形，然后將已曝 光圖形移到鄰近地方，再對(duì)剩下的一部分電路圖形進(jìn)行曝光。采用這一技術(shù) 能夠提高光刻分辨率。而當(dāng)前在"兩次曝光技術(shù)"中使用的是基于雙極照明的兩次曝光技術(shù)。所述兩次曝光是先把版圖分解成X極和Y極兩套，并寫入 光罩，再分別對(duì)它們進(jìn)行曝光。在例如專利申請(qǐng)?zhí)枮?3128638.0的中國(guó)專利 申請(qǐng)中還能發(fā)現(xiàn)更多關(guān)于利用雙極照明來(lái)得到具有較小特征尺寸的電路圖形 的方法。 并且，目前的工藝是采用既定的規(guī)則(X極和Y極有兩套不同的規(guī)則)， 針對(duì)版圖中每條邊進(jìn)行不同的移動(dòng)，以形成分別對(duì)應(yīng)于X 4及和Y極的兩套版 圖，再對(duì)兩套版圖進(jìn)行光學(xué)修正后寫入光罩，對(duì)同一片晶圓進(jìn)行兩次曝光， 曝光后圖形在晶圓上疊加從而得到實(shí)際的器件圖形的。然而，對(duì)于版圖中的一些非水平方向(X極方向)或非垂直方向(Y極方向)的圖形，即非正交 圖形，例如角度為45度的圖形，無(wú)論哪套規(guī)則都很難準(zhǔn)確地將其分解移動(dòng)， 因而經(jīng)過曝光后，這種非正交圖形最終經(jīng)曝光后在晶圓上形成的器件圖形會(huì) 與原版形存在誤差，從而影響光刻工藝的精度。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供一種曝光修正的方法，解決現(xiàn)有技術(shù)曝光后實(shí)際的器件圖形 與原版形存在誤差，影響光刻精度的問題。為解決上述問題，本發(fā)明提供一種曝光修正方法，包括下列步驟，對(duì)根據(jù)版圖形成的光罩分別進(jìn)行X極曝光和Y極曝光；采集所述光罩的對(duì)比度分布；根據(jù)所述對(duì)比度分布獲得對(duì)比度分組間隔，并以對(duì)比度分組間隔將對(duì)比 度數(shù)據(jù)分組；設(shè)置對(duì)應(yīng)于每一對(duì)比度分組的修正值，并分別調(diào)試各分組修正值，使得 各對(duì)比度分組所對(duì)應(yīng)的版形經(jīng)修正寫入光罩后，在曝光后的對(duì)比度達(dá)到 光刻工藝設(shè)計(jì)要求?？蛇x的，采集所述對(duì)比度的方法包括下列步驟，采集所述光罩的最大光 強(qiáng)和最小光強(qiáng)；并根據(jù)最大光強(qiáng)和最小光強(qiáng)來(lái)獲得所述對(duì)比度的值?？蛇x的，所述根據(jù)最大光強(qiáng)和最小光強(qiáng)獲得對(duì)比度值按下述公式計(jì)算 所述對(duì)比度=(最大光強(qiáng)-最小光強(qiáng))/ (最大光強(qiáng)+最小光強(qiáng))。
可選的，所述獲得對(duì)比度分組間隔包括下列步驟，采集符合光刻工藝設(shè)計(jì)要求的最小對(duì)比度值作為對(duì)比度標(biāo)稱值；根據(jù)對(duì)比度標(biāo)稱值，計(jì)算光罩上 對(duì)比度值小于對(duì)比度標(biāo)稱值的點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的版圖中圖形的個(gè)數(shù)；采集光罩上對(duì) 比度的最大值；根據(jù)所得到的對(duì)比度標(biāo)稱值、小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖中圖 形的個(gè)數(shù)以及光罩上的對(duì)比度的最大值獲得對(duì)比度分組間隔。可選的，所述根據(jù)所得到的對(duì)比度標(biāo)稱值、小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖中 圖形的個(gè)數(shù)以及光罩上的對(duì)比度的最大值獲得對(duì)比度分組間隔按下述公式計(jì) 算獲得所述將對(duì)比度分組間隔=(小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖中圖形的個(gè)數(shù)/ 版圖中圖形的總數(shù))x對(duì)比度標(biāo)稱值x版圖中最大對(duì)比度?？蛇x的，所述調(diào)試各分組修正值的方法包括下列步驟，首先改變所需要 調(diào)試的修正值的值，并保持其他修正值為初始值；判斷所述修正值是否能夠 使得應(yīng)用該修正值的版圖達(dá)到對(duì)比度的要求，如果不能達(dá)到對(duì)比度要求，則 繼續(xù)修改；如果能達(dá)到對(duì)比度要求，則將能夠使得應(yīng)用該修正值的版圖達(dá)到 對(duì)比度要求的值作為該修正值的定值?？蛇x的，所述使得曝光后對(duì)比度達(dá)到光刻工藝設(shè)計(jì)要求的各分組修正值 是使得曝光后對(duì)比度達(dá)到光刻工藝設(shè)計(jì)要求的最小修正值。與現(xiàn)有技術(shù)相比，上述所公開的曝光修正方法具有以下優(yōu)點(diǎn)上述所公 開的曝光修正方法通過采集根據(jù)版圖形成的光罩經(jīng)曝光后的光強(qiáng)分布來(lái)得到 對(duì)比度分布，并且根據(jù)對(duì)比度分布來(lái)將對(duì)比度分組，再通過對(duì)應(yīng)于每一對(duì)比 度分組的修正值來(lái)對(duì)于版圖進(jìn)行修正，這樣就可以對(duì)版圖上任一角度的圖形 進(jìn)行修正，進(jìn)而彌補(bǔ)了分別應(yīng)用X極和Y極兩套規(guī)則進(jìn)行修正的局限性，因 而避免了曝光后實(shí)際器件圖形與原版形存在誤差，影響光刻精度的問題。


圖l是本發(fā)明曝光修正方法的一種實(shí)施方式流程圖2是本發(fā)明曝光修正方法的實(shí)施方式中獲得對(duì)比度的方法流程圖；圖3是本發(fā)明曝光修正方法的實(shí)施方式中獲得對(duì)比度分組間隔的方法流 程圖；圖4時(shí)本發(fā)明曝光修正方法的實(shí)施方式中調(diào)試各分組修正值的方法流程圖。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明曝光修正方法全面采集了版圖上的光強(qiáng)分布來(lái)得到對(duì)比度分布， 并且根據(jù)實(shí)際的對(duì)比度分布來(lái)將對(duì)比度分組，再通過對(duì)應(yīng)于每一對(duì)比度分組 的修正值來(lái)對(duì)版圖進(jìn)行修正，這樣就可以對(duì)任何角度的邊進(jìn)行修正，進(jìn)而彌 補(bǔ)了應(yīng)用兩套規(guī)則進(jìn)行修正的局限性，因而避免了曝光后實(shí)際器件圖形與原 版形存在誤差，影響光刻精度的問題。參照?qǐng)Dl所示，本發(fā)明曝光修正方法的一種實(shí)施方式包括下列步驟，步驟sl,對(duì)根據(jù)版圖形成的光罩分別進(jìn)行X極曝光和Y極曝光；步驟s2,采集所述光罩的對(duì)比度分布；步驟s3,根據(jù)所述對(duì)比度分布獲得對(duì)比度分組間隔，并以對(duì)比度分組間 隔將對(duì)比度數(shù)據(jù)分組；步驟s4，設(shè)置對(duì)應(yīng)于每一對(duì)比度分組的修正值，并分別調(diào)試各分組修正 值，使得各對(duì)比度分組所對(duì)應(yīng)的版形經(jīng)修正寫入光罩后，在曝光后的對(duì) 比度達(dá)到光刻工藝設(shè)計(jì)要求；步驟s5,將所述修正值應(yīng)用于版圖上。其中采集所述對(duì)比度的方法參照?qǐng)D2所示，包括下列步驟，步驟s21,采集所述光罩的最大光強(qiáng)和最小光強(qiáng)； 步驟S22，并根據(jù)最大光強(qiáng)和最小光強(qiáng)來(lái)獲得所述對(duì)比度的值。所述根據(jù)最大光強(qiáng)和最小光強(qiáng)獲得對(duì)比度值按下述公式計(jì)算所述對(duì)比 度=(最大光強(qiáng)-最小光強(qiáng))/ (最大光強(qiáng)+最小光強(qiáng))。其中獲得對(duì)比度分組間隔的方法參照?qǐng)D3所示，包括下列步驟，步驟s31,采集符合光刻工藝設(shè)計(jì)要求的最小對(duì)比度值作為對(duì)比度標(biāo)稱值；步驟s32，根據(jù)對(duì)比度標(biāo)稱值，計(jì)算光罩上對(duì)比度值小于對(duì)比度標(biāo)稱值的 點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的版圖中圖形的個(gè)數(shù)；步驟s33,采集光罩上對(duì)比度的最大值；步驟s34,根據(jù)所得到的對(duì)比度標(biāo)稱值、小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖中圖形 的個(gè)數(shù)以及光罩上的對(duì)比度的最大值獲得對(duì)比度分組間隔。所述根據(jù)所得到的對(duì)比度標(biāo)稱值、小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖中圖形的個(gè) 數(shù)以及光罩上的對(duì)比度的最大值獲得對(duì)比度分組間隔按下述公式計(jì)算獲得 所述將對(duì)比度分組間隔=(小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖中圖形的個(gè)數(shù)/版圖中圖 形的總數(shù))x對(duì)比度標(biāo)稱值x版圖中最大對(duì)比度。其中，所述調(diào)試各分組修正值的方法參照?qǐng)D4所示，包括下列步驟，步驟s41,改變所需要調(diào)試的修正值的值，并保持其他修正值為初始值；步驟s42;判斷所述修正值是否能夠使得應(yīng)用該修正值的版圖達(dá)到對(duì)比度 的要求，如果不能達(dá)到對(duì)比度要求，則返回步驟s41;如果能達(dá)到對(duì)比度要求， 則執(zhí)行步驟s43;步驟s43,將能夠使得應(yīng)用該修正值的版圖達(dá)到對(duì)比度要求的值作為該修 正值的定值。所述使得曝光后對(duì)比度達(dá)到光刻工藝設(shè)計(jì)要求的各分組修正值是使得曝
光后對(duì)比度達(dá)到光刻工藝設(shè)計(jì)要求的最小修正值。下面對(duì)于上述的曝光修正方法的每一步驟進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，以使得所述曝 光修正方法更加清楚。繼續(xù)參照?qǐng)Dl所示，執(zhí)行步驟sl:對(duì)根據(jù)版圖形成的光罩分別進(jìn)行X極 曝光和Y極曝光。如前所述，在目前的光刻工藝中，在將版圖寫入光罩之前，通常都會(huì)對(duì)版圖上的圖形進(jìn)行一系列的修正。而正是由于修正方法的局限性 導(dǎo)致了曝光后圖形與原版形的誤差，影響了光刻工藝的精度。因此，本 實(shí)施方式在將版圖寫入光罩之前先不作任何修正，而是直接將版圖寫入光罩。并且，此處采用的曝光方法仍然是兩次曝光技術(shù)，即先采用X極方向的曝光 光源對(duì)根據(jù)版圖形成的光罩曝光，再采用Y極方向的曝光光源對(duì)根據(jù)版圖形 成的光罩曝光；或者先采用Y極方向的曝光光源對(duì)根據(jù)版圖形成的光罩曝光， 再采用X極方向的曝光光源對(duì)根據(jù)版圖形成的光罩曝光。繼續(xù)參照?qǐng)D1所示，執(zhí)行步驟s2:采集所述光罩的對(duì)比度分布。在對(duì)根 據(jù)版圖形成的光罩兩次曝光之后，就能夠通過Mentor公司的光學(xué)鄰近修正軟 件CALIBRE以及探測(cè)設(shè)備，來(lái)得到光罩上各個(gè)圖形分別經(jīng)X極方向和Y極 方向曝光后的光強(qiáng)，并通過所述光學(xué)鄰近修正工具CALIBRE對(duì)所得到的光強(qiáng) 數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，來(lái)獲得光罩上各個(gè)圖形在X極方向和Y極方向的對(duì)比度分布。如上所述的，所述對(duì)比度按下列公式計(jì)算，對(duì)比度=(最大光強(qiáng)-最小 光強(qiáng))/ (最大光強(qiáng)+最小光強(qiáng))，即所述對(duì)比度是通過上述的光學(xué)鄰近修正工 具釆集光罩上各個(gè)圖形的最大光強(qiáng)和最小光強(qiáng)而得到的，所述采集光罩上各 個(gè)圖形的個(gè)數(shù)根據(jù)采集的效率要求和精度要求而定。所述最大光強(qiáng)為所采集 到的光罩上各個(gè)圖形的光強(qiáng)最大值，而所述最小光強(qiáng)則是所采集到的光罩上 各個(gè)圖形的光強(qiáng)最小值。而所述光強(qiáng)一般可以通過例如對(duì)光阻吸收的能量進(jìn) 行分析來(lái)獲得。
在采集了光罩上各個(gè)圖形的光強(qiáng)之后，將所采集到的最大光強(qiáng)和最小光 強(qiáng)應(yīng)用于所述的對(duì)比度公式就能夠得到所述的對(duì)比度了 。然后光學(xué)鄰近修正 工具會(huì)將所得到的對(duì)比度數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)，來(lái)得到光罩上各個(gè)圖形分別經(jīng)X極 方向曝光和Y極方向曝光后的對(duì)比度分布。繼續(xù)參照?qǐng)D1所示，執(zhí)行步驟s3:根據(jù)所述對(duì)比度分布將對(duì)比度數(shù)據(jù)分 組。由上述分析可知，不同的對(duì)比度其實(shí)代表了光罩上各個(gè)圖形分別經(jīng)X極 方向或Y極方向的曝光光源曝光后的不同光強(qiáng)分布，因此如果對(duì)版圖上圖形 都僅僅作統(tǒng)一的修正分析，顯然是不準(zhǔn)確的。因此，就需要對(duì)于所得到的對(duì) 比度數(shù)據(jù)進(jìn)行合理地分組。所述分組間隔不能太寬，因?yàn)樘珜挄?huì)導(dǎo)致之后曝 光修正值的不準(zhǔn)確，所述分組間隔也不能太窄，太窄則會(huì)增加之后調(diào)試曝光 修正值的時(shí)間，降低了效率。如上所述的，所述獲得對(duì)比度分組間隔包括下列步驟，采集符合光刻工 藝設(shè)計(jì)要求的最小對(duì)比度值作為對(duì)比度標(biāo)稱值；根據(jù)對(duì)比度標(biāo)稱值，計(jì)算光 罩上對(duì)比度值小于對(duì)比度標(biāo)稱值的點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的版圖中圖形的個(gè)數(shù)；釆集光罩 上對(duì)比度的最大值；根據(jù)所得到的對(duì)比度標(biāo)稱值、小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖 中圖形的個(gè)數(shù)以及光罩上的對(duì)比度的最大值獲得對(duì)比度分組間隔。所述版圖 中最大對(duì)比度是光罩上各個(gè)圖形經(jīng)X極方向或Y極方向曝光后所采集的最大 對(duì)比度。所述根據(jù)所得到的對(duì)比度標(biāo)稱值、小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖中圖形的個(gè) 數(shù)以及光罩上的對(duì)比度的最大值獲得對(duì)比度分組間隔按下述公式計(jì)算獲得 所述將對(duì)比度分組間隔=(小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖中圖形的個(gè)數(shù)/版圖中圖 形的總數(shù))x對(duì)比度標(biāo)稱值x版圖中最大對(duì)比度。下面以一個(gè)計(jì)算分組間隔的具體例子來(lái)使得說(shuō)明更加清楚。假設(shè)經(jīng)X極 方向分解后的光罩上的圖形的總數(shù)量為264000,而符合光刻工藝設(shè)計(jì)要求的
最小對(duì)比度值，即對(duì)比度標(biāo)稱值為6,最佳對(duì)比度值為22。經(jīng)X極方向曝光 后，光罩上圖形對(duì)比度值小于6的圖形的數(shù)量為4000,則分組間隔根據(jù)上述 公式即為4000/264000x 6x22 = 2。而由于最大對(duì)比度值為22,所以總共分 為11組，即各對(duì)比度分組值為0、 2、 4、 6、 8、 10、 12、 14、 16、 18、 20、 22。應(yīng)用同樣的方法，還能得到Y(jié)極方向的對(duì)比度分組。繼續(xù)參照?qǐng)Dl所示，執(zhí)行步驟s4:設(shè)置對(duì)應(yīng)于每一對(duì)比度分組的修正值， 并分別調(diào)試各分組修正值，使得各對(duì)比度分組所對(duì)應(yīng)的版形經(jīng)修正寫入 光罩后，在曝光后的對(duì)比度達(dá)到光刻工藝設(shè)計(jì)要求。當(dāng)將對(duì)比度分組之后，設(shè)置對(duì)應(yīng)于每一對(duì)比度分組的修正值，下述的例 子僅為使得所述步驟更加清楚，并非對(duì)于所述步驟進(jìn)行限定。例如，參照上述計(jì)算分組間隔的例子，設(shè)置對(duì)應(yīng)于對(duì)比度值為2的分組 的修正值為al,設(shè)置對(duì)應(yīng)于對(duì)比度值為4的分組的修正值為a2,設(shè)置對(duì)應(yīng)于 對(duì)比度值為6的分組的修正值為a3。。。。設(shè)置對(duì)應(yīng)于對(duì)比度值為22的分組的 修正值為all。接著，設(shè)置所有的修正值的初值為0,即先假設(shè)所有對(duì)比度分組先不需要 修正。然后，開始分別調(diào)試各修正值，所述調(diào)試各修正值的方法參照?qǐng)D4所 示,執(zhí)行步驟s41,改變所需要調(diào)試的修正值的值，并保持其他修正值為初始值；執(zhí)行步驟s42;判斷所述修正值是否能夠使得應(yīng)用該修正值的版圖達(dá)到對(duì) 比度的要求，如果不能達(dá)到對(duì)比度要求，則返回步驟s41;如果能達(dá)到對(duì)比度 要求，則執(zhí)行步驟s43;執(zhí)行步驟s43,將能夠使得應(yīng)用該修正值的版圖達(dá)到對(duì)比度要求的值作為 該修正值的定值。
例如對(duì)于al,首先改變修正值al的值，而保持其他修正值為0，并將al 應(yīng)用到al所在的對(duì)比度分組的分組值所對(duì)應(yīng)的版圖上的圖形上。之后，采用 光學(xué)鄰近修正工具來(lái)得到應(yīng)用al后的版形在寫入光罩，并經(jīng)曝光后的對(duì) 比度，若所得的對(duì)比度不符合光刻工藝的設(shè)計(jì)要求，則繼續(xù)改變al的值，并 且仍然保持其他修正值為0,并同樣采用光學(xué)鄰近修正工具來(lái)再次得到對(duì)比 度。所述過程反復(fù)進(jìn)行，直到所述版形經(jīng)al的值修正后，在寫入光罩并 經(jīng)曝光后的對(duì)比度達(dá)到光刻工藝的設(shè)計(jì)要求，則確定al的值。所述光刻工藝 的設(shè)計(jì)要求即是al所在的對(duì)比度分組的分組值所對(duì)應(yīng)的版圖上的圖形的設(shè)計(jì) 要求。并且，所確定的al的值是使得對(duì)比度達(dá)到光刻工藝的設(shè)計(jì)要求的最小 值。此處要說(shuō)明的是，X極方向和Y極方向上的調(diào)試修正值的過程是分別進(jìn) 行的。并且，由于X才及方向和Y極方向上的調(diào)試^奮正值的方法均如上所述， 這里就不再展開——敘述了 。當(dāng)確定了 al的值之后，與上述方法相同，在11組修正值中僅改變a2的 值，并使剩余的修正值為0,并將a2應(yīng)用到a2所在的對(duì)比度分組的分組所對(duì) 應(yīng)的版圖上的圖形上。之后，采用光學(xué)鄰近修正工具來(lái)得到應(yīng)用a2后的版圖 圖形在寫入光罩，并經(jīng)曝光后的對(duì)比度，若所得的對(duì)比度不符合光刻工藝的 設(shè)計(jì)要求，則繼續(xù)改變a2的值，并仍然保持其他修正值為0,并同樣采用光 學(xué)鄰近修正工具來(lái)再次對(duì)比度，直到所述版圖經(jīng)a2的值修正后，在寫入光罩 并經(jīng)曝光后的對(duì)比度達(dá)到光刻工藝的設(shè)計(jì)要求，則確定a2的值。所述光刻工 藝的設(shè)計(jì)要求即是a2所在的對(duì)比度分組的分組值所對(duì)應(yīng)的版圖上的圖形的設(shè) 計(jì)要求。并且，所確定的a2的值是使得對(duì)比度達(dá)到光刻工藝的設(shè)計(jì)要求的最 小值。同樣，X極方向和Y極方向上的調(diào)試修正值的過程是分別進(jìn)行的。依此類推，每確定一個(gè)修正值，就調(diào)試下一個(gè)修正值，并且在調(diào)試該修 正值時(shí)，使其他修正值為0。直至最終所有X才及方向和Y極方向上的修正值 調(diào)試完畢。
繼續(xù)參照?qǐng)D1所示，執(zhí)行步驟s5:將所述修正值應(yīng)用于版圖上。當(dāng)?shù)玫綄?duì)應(yīng)于所有對(duì)比度分組的修正值之后，將所述修正值應(yīng)用于版圖上，來(lái)對(duì)所 述版圖進(jìn)行修正。綜上所述，上述所公開的曝光修正方法通過采集根據(jù)版圖形成的光罩經(jīng) 曝光后的光強(qiáng)分布來(lái)得到對(duì)比度分布，并且才艮據(jù)對(duì)比度分布來(lái)將對(duì)比度分組， 再通過對(duì)應(yīng)于每一對(duì)比度分組的修正值來(lái)對(duì)于版圖進(jìn)行修正，這樣就可以對(duì)版圖上任一角度的圖形進(jìn)行修正，進(jìn)而彌補(bǔ)了分別應(yīng)用X極和Y極兩套規(guī)則 進(jìn)行修正的局限性，因而避免了曝光后實(shí)際器件圖形與原版形存在誤差， 影響光刻精度的問題。雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例披露如上，但本發(fā)明并非限定于此。任何本 領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動(dòng)與修改， 因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1. 一種曝光修正方法，其特征在于，包括，對(duì)根據(jù)版圖形成的光罩分別進(jìn)行X極曝光和Y極曝光；采集所述光罩的對(duì)比度分布；根據(jù)所述對(duì)比度分布獲得對(duì)比度分組間隔，并以對(duì)比度分組間隔將對(duì)比度數(shù)據(jù)分組；設(shè)置對(duì)應(yīng)于每一對(duì)比度分組的修正值，并分別調(diào)試各分組修正值，使得各對(duì)比度分組所對(duì)應(yīng)的版形經(jīng)修正寫入光罩后，在曝光后的對(duì)比度達(dá)到光刻工藝設(shè)計(jì)要求。
2. 如權(quán)利要求1所述的曝光修正方法，其特征在于，采集所述對(duì)比度的方法 包括下列步驟，采集所述光罩的最大光強(qiáng)和最小光強(qiáng)；并根據(jù)最大光強(qiáng)和最 小光強(qiáng)來(lái)獲得所述對(duì)比度的值。
3. 如權(quán)利要求2所述的曝光修正方法，其特征在于，所述根據(jù)最大光強(qiáng)和最 小光強(qiáng)獲得對(duì)比度值按下述公式計(jì)算所述對(duì)比度=(最大光強(qiáng)-最小光強(qiáng)) / (最大光強(qiáng)+最小光強(qiáng))。
4. 如權(quán)利要求1所述的曝光修正方法，其特征在于，所述獲得對(duì)比度分組間 隔包括下列步驟，采集符合光刻工藝設(shè)計(jì)要求的最小對(duì)比度值作為對(duì)比度標(biāo) 稱值；根據(jù)對(duì)比度標(biāo)稱值，計(jì)算光罩上對(duì)比度值小于對(duì)比度標(biāo)稱值的點(diǎn)所對(duì) 應(yīng)的版圖中圖形的個(gè)數(shù)；采集光罩上對(duì)比度的最大值；根據(jù)所得到的對(duì)比度 標(biāo)稱值、小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖中圖形的個(gè)數(shù)以及光罩上的對(duì)比度的最大 值獲得對(duì)比度分組間隔。
5. 如權(quán)利要求4所述的曝光修正方法，其特征在于，所述根據(jù)所得到的對(duì)比 度標(biāo)稱值、小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖中圖形的個(gè)數(shù)以及光罩上的對(duì)比度的最 大值獲得對(duì)比度分組間隔按下述公式計(jì)算獲得所述將對(duì)比度分組間隔=(小于對(duì)比度標(biāo)稱值的版圖中圖形的個(gè)數(shù)/版圖中圖形的總數(shù))x對(duì)比度標(biāo)稱值x 版圖中最大對(duì)比度。
6. 如權(quán)利要求1所述的曝光修正方法，其特征在于，所述調(diào)試各分組修正值 的方法包括下列步驟，首先改變所需要調(diào)試的修正值的值，并保持其他修正 值為初始值；判斷所述修正值是否能夠使得應(yīng)用該修正值的版圖達(dá)到對(duì)比度的要求，如果不能達(dá)到對(duì)比度要求，則繼續(xù)修改；如果能達(dá)到對(duì)比度要求，則將能夠使得應(yīng)用該修正值的版圖達(dá)到對(duì)比度要求的值作為該修正值的定 值。
7. 如權(quán)利要求6所述的曝光修正方法，其特征在于，所述使得曝光后對(duì)比度 達(dá)到光刻工藝設(shè)計(jì)要求的各分組修正值是使得曝光后對(duì)比度達(dá)到光刻工藝設(shè) 計(jì)要求的最小修正值。
8. 如權(quán)利要求1所述的曝光修正方法，其特征在于，還包括將所述修正值應(yīng) 用于版圖上。
全文摘要
一種曝光修正方法，包括對(duì)根據(jù)版圖形成的光罩分別進(jìn)行X極曝光和Y極曝光；采集所述光罩的對(duì)比度分布；根據(jù)所述對(duì)比度分布獲得對(duì)比度分組間隔，并以對(duì)比度分組間隔將對(duì)比度數(shù)據(jù)分組；設(shè)置對(duì)應(yīng)于每一對(duì)比度分組的修正值，并分別調(diào)試各分組修正值，使得各對(duì)比度分組所對(duì)應(yīng)的版形經(jīng)修正寫入光罩后，在曝光后的對(duì)比度達(dá)到光刻工藝設(shè)計(jì)要求，將所述修正值應(yīng)用于版圖上。所述曝光修正方法彌補(bǔ)了現(xiàn)有技術(shù)修正的局限性，因而避免了曝光后實(shí)際器件圖形與原版形存在誤差，影響光刻精度的問題。
文檔編號(hào)H01L21/02GK101398629SQ200710046798
公開日2009年4月1日 申請(qǐng)日期2007年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月30日
發(fā)明者青 楊 申請(qǐng)人:中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司