專利名稱：一種光電開關(guān)動態(tài)調(diào)整硅片偏差的方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及硅片調(diào)整技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光電開關(guān)動態(tài)調(diào)整 硅片偏差的方法及裝置。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)代硅片制作工藝中，由于涉及不同的加工程序以及加工環(huán) 境，需要對硅片進(jìn)行傳送。硅片傳輸過程中，常常由于控制等方面的問題，使得硅片不能傳輸?shù)街付ㄎ恢?。特別在300毫米硅片的傳輸過 程中，需要把硅片從傳輸腔室搬運到反應(yīng)腔室內(nèi)，機(jī)械手在運送過程 中有時會出現(xiàn)硅片中心位置偏差或掉片的情況，從而無法保證硅片是 否能準(zhǔn)確中心定位在反應(yīng)式靜電卡盤上，這將嚴(yán)重影響硅片后續(xù)工 序。在傳統(tǒng)的解決方案中，通常在起始傳輸端設(shè)置一個定位調(diào)整裝置， 該裝置主要由視頻裝置，電機(jī)和控制器構(gòu)成，在傳輸腔室和反應(yīng)腔室 的連接處的中心位置安裝一個普通的光電傳感器來檢測硅片的有無， 或者在傳輸腔室和反應(yīng)腔室的連接處安裝兩個傳感器來進(jìn)行硅片有 無探測和偏差計算，此種方法在實際運用中操作程序較為復(fù)雜，而且 容易出現(xiàn)偏差。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于彌補(bǔ)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種光電開關(guān) 動態(tài)調(diào)整硅片偏差的方法及裝置，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案一種光電開關(guān)動態(tài)控制硅片的方法，用于機(jī)械手從傳輸腔室運送 硅片到反應(yīng)腔室過程中調(diào)整控制硅片偏差，該方法包括如下步驟步驟l:在傳輸腔室和反應(yīng)腔室連接處偏離中心的位置設(shè)置一光 電開關(guān)傳感器；步驟2:在機(jī)械手把硅片從傳輸腔室運送到反應(yīng)腔室的過程中，光電開關(guān)傳感器判斷出硅片傳送時間，并根據(jù)機(jī)械手的平均運動速度得出運行的距離；步驟3:通過運行距離得出機(jī)械手上硅片的中心坐標(biāo)，用此值與 沒有偏差時硅片中心坐標(biāo)值進(jìn)行比較，所得的差值即所需要的偏差調(diào) 整值。步驟4:根據(jù)所要調(diào)整的偏差值，機(jī)械手執(zhí)行下一步動作放片前 作相應(yīng)的偏差校正。硅片在機(jī)械手上傳送時，會遮擋位于傳輸腔室和反應(yīng)腔室連接處 偏離中心的位置的光電開關(guān)傳感器的發(fā)射光線，光電開關(guān)傳感器隨即 判定硅片存在并且正在傳送，遮擋結(jié)東時表示傳送停止，從開始遮擋 到結(jié)束遮擋的這個期間即為硅片傳送時間。機(jī)械手調(diào)整偏差范圍在2mm到6mm之間。機(jī)械手內(nèi)部裝有觸發(fā)器和運動控制卡，當(dāng)光電開關(guān)傳感器的信號 一觸發(fā)，機(jī)械手內(nèi)部的編碼器便開始記數(shù)，到傳感器信號觸發(fā)完畢， 通過機(jī)械手的內(nèi)部運動控制卡的電機(jī)參數(shù)可以計算出機(jī)械手這段時 間的運動距離。一種光電開關(guān)動態(tài)控制硅片的裝置，用于將硅片從傳輸腔室運送 到反應(yīng)腔室過程中調(diào)整硅片的偏差，該裝置包括光電開關(guān)傳感器和機(jī) 械手，機(jī)械手用于把硅片從傳輸腔室運送到反應(yīng)腔室，光電開關(guān)傳感 器位于傳輸腔室和反應(yīng)腔室連接處偏離中心的位置。本發(fā)明的優(yōu)點及有益效果是可以準(zhǔn)確計算硅片的偏離位置，指導(dǎo) 機(jī)械手自動調(diào)整偏差放片。


圖l為本發(fā)明工作流程示意圖； 圖2為本發(fā)明觸發(fā)原理演示圖；圖3為本發(fā)明計算原理演示圖； 圖4為本發(fā)明裝置布置圖。圖中1、光電開關(guān)傳感器。
具體實施方式
以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。 基本檢測原理如圖l所示，機(jī)械手把硅片從傳輸腔室運送到反 應(yīng)腔室的過程中，通過光電開關(guān)傳感器l判斷出硅片傳送時間，并結(jié) 合機(jī)械手的平均運動速度計算出運行的距離從而得到當(dāng)前機(jī)械手上 硅片的中心坐標(biāo)，用此值與沒有偏差時硅片中心坐標(biāo)值進(jìn)行比較，所 得的差值即所需要的偏差調(diào)整值。裝置布置如圖2、圖4所示，其中光電開關(guān)傳感器l位于傳輸腔 室和反應(yīng)腔室連接處偏離中心的位置，機(jī)械手用于把硅片從傳輸腔室 運送到反應(yīng)腔室。當(dāng)機(jī)械手上有硅片時，在傳送中會遮擋光電開關(guān)傳 感器l的發(fā)射光線，從而判定硅片存在并且正在傳送，遮擋結(jié)東時表 示傳送停止，從開始遮擋到結(jié)束遮擋的這個期間即為硅片傳送時間。具體實施過程如圖2所示，在傳輸腔室和反應(yīng)腔室連接處的偏離 中心位置安裝一個普通的光電開關(guān)傳感器1。當(dāng)機(jī)械手搬運硅片放置 到反映室的過程中，只要機(jī)械手上有硅片，將會遮擋光電開關(guān)傳感器 1的發(fā)射光線，這樣就實現(xiàn)了機(jī)械手上硅片有無的判定功能。從開始遮擋到結(jié)東遮擋的這個期間，可以通過機(jī)械手的運動平均 速度乘以遮擋時間得出L的距離。如圖2和圖3所示，光電傳感器在 傳輸腔室的坐標(biāo)是一定的，調(diào)整偏差范圍在2mm到6mm之間，硅片 的直徑為300mm,這樣可以計算出機(jī)械手上硅片的中心坐標(biāo)值。該 值與沒有偏差時的中心坐標(biāo)值之間的差值即為機(jī)械手需要調(diào)整的偏 差。根據(jù)所要調(diào)整的偏差值(AX， AY)，機(jī)械手執(zhí)行下一步動作， 在放片前作相應(yīng)的偏差校正。為了計算和調(diào)整偏差值，可以在機(jī)械手內(nèi)部安裝觸發(fā)器和運動控制卡；當(dāng)光電開關(guān)傳感器l的信號一觸發(fā)，機(jī)械手內(nèi)部的編碼器便開 始記數(shù)，到傳感器信號觸發(fā)完畢，通過機(jī)械手的內(nèi)部運動控制卡的電機(jī)參數(shù)可以計算出機(jī)械手這段時間的運動距離。雖然本發(fā)明是具體結(jié)合一個優(yōu)選實施例示出和說明的，但熟悉該 技術(shù)領(lǐng)域的人員可以理解，其中無論在形式上還是在細(xì)節(jié)上都可以做 出各種改變，這并不背離本發(fā)明的精神實質(zhì)和專利保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1. 一種光電開關(guān)動態(tài)控制硅片的方法，用于機(jī)械手從傳輸腔室運送硅片到反應(yīng)腔室過程中調(diào)整控制硅片偏差，其特征在于該方法包括如下步驟步驟1在傳輸腔室和反應(yīng)腔室連接處偏離中心的位置設(shè)置一光電開關(guān)傳感器；步驟2在機(jī)械手把硅片從傳輸腔室運送到反應(yīng)腔室的過程中，光電開關(guān)傳感器判斷出硅片傳送時間，并根據(jù)機(jī)械手的平均運動速度得出運行的距離；步驟3通過運行距離得出機(jī)械手上硅片的中心坐標(biāo)，用此值與沒有偏差時硅片中心坐標(biāo)值進(jìn)行比較，所得的差值即所需要的偏差調(diào)整值；步驟4根據(jù)所要調(diào)整的偏差值，機(jī)械手執(zhí)行下一步動作，在放片前作相應(yīng)的偏差校正。
2、 如權(quán)利要求1所述的光電開關(guān)動態(tài)控制硅片的方法，其特征 在于硅片在機(jī)械手上傳送時，會遮擋位于傳輸腔室和反應(yīng)腔室連接處 偏離中心的位置的光電開關(guān)傳感器的發(fā)射光線，光電開關(guān)傳感器隨即 判定硅片存在并且正在傳送，遮擋結(jié)束時表示傳送停止，從開始遮擋 到結(jié)束遮擋的這個期間即為硅片傳送時間。
3、 如權(quán)利要求1所述的光電開關(guān)動態(tài)控制硅片的方法，其特征 在于所述機(jī)械手調(diào)整偏差范圍在2mm到6mm之間。
4、 如權(quán)利要求1~3中任一項所述的光電開關(guān)動態(tài)控制硅片的方 法，其特征在于機(jī)械手內(nèi)部裝有觸發(fā)器和運動控制卡，當(dāng)光電開關(guān)傳 感器的信號一觸發(fā)，機(jī)械手內(nèi)部的編碼器便開始記數(shù)，到傳感器信號 觸發(fā)完畢，通過機(jī)械手的內(nèi)部運動控制卡的電機(jī)參數(shù)可以計算出機(jī)械手這段時間的運動距離。
5、 一種光電開關(guān)動態(tài)控制硅片的裝置，用于將硅片從傳輸腔室運送到反應(yīng)腔室過程中調(diào)整硅片的偏差，該裝置包括光電開關(guān)傳感器 (l)和機(jī)械手，所述機(jī)械手用于把硅片從傳輸腔室運送到反應(yīng)腔室， 其特征在于所述光電開關(guān)傳感器(1)位于傳輸腔室和反應(yīng)腔室連接 處偏離中心的位置。
全文摘要
本發(fā)明涉及硅片調(diào)整技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種光電開關(guān)動態(tài)調(diào)整硅片偏差的方法及裝置。該方法基本檢測原理機(jī)械手把硅片從傳輸腔室運送到反應(yīng)腔室的過程中，通過光電開關(guān)傳感器判斷出硅片傳送時間，并結(jié)合機(jī)械手的平均運動速度計算出運行的距離從而得到當(dāng)前機(jī)械手上硅片的中心坐標(biāo)，用此值與沒有偏差時硅片中心坐標(biāo)值進(jìn)行比較，所得的差值即所需要的偏差調(diào)整值。本發(fā)明的優(yōu)點及有益效果是可以準(zhǔn)確計算硅片的偏離位置，指導(dǎo)機(jī)械手自動調(diào)整偏差放片。
文檔編號H01L21/68GK101217127SQ20071006322
公開日2008年7月9日 申請日期2007年1月4日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月4日
發(fā)明者李永軍 申請人:北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司