專利名稱：真空傳輸系統(tǒng)及其實(shí)現(xiàn)壓力控制的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體加工技術(shù)，尤其涉及一種真空傳輸系統(tǒng)及其實(shí)現(xiàn)壓力控制的方法。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體的基片傳輸過(guò)程中，機(jī)械手把基片從真空傳輸平臺(tái)腔室搬運(yùn)到真空反應(yīng)腔 室。為了減少顆粒污染要求真空傳輸平臺(tái)腔室壓力與真空反應(yīng)腔室壓力應(yīng)當(dāng)匹配。 一般通 過(guò)控制真空傳輸平臺(tái)腔室壓力來(lái)實(shí)現(xiàn)與真空反應(yīng)腔室的壓力匹配，進(jìn)而達(dá)到顆?？刂频哪?的。
如圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)中，在真空傳輸平臺(tái)腔室和真空泵連接的真空管路之間安裝了 一個(gè)針闊，在真空傳輸平臺(tái)的氮?dú)鈿饴废到y(tǒng)中，靠近真空傳輸平臺(tái)腔室的管路中安裝一個(gè) 控制閥。在手動(dòng)調(diào)節(jié)針閥的配合下，控制器依據(jù)通過(guò)調(diào)節(jié)控制閥來(lái)實(shí)現(xiàn)真空腔室壓力控 制，使其與真空反應(yīng)腔室的壓力匹配，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)顆?？刂频哪康摹?br>
上述現(xiàn)有技術(shù)至少存在以下缺點(diǎn)
在使用中對(duì)于真空傳輸平臺(tái)腔室本身及管路的控制模型依賴度較大，模型建立不準(zhǔn) 確，不便于實(shí)現(xiàn)真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力控制。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種真空傳輸系統(tǒng)及其實(shí)現(xiàn)壓力控制的方法，該系統(tǒng)和方法能簡(jiǎn) 便、精確的控制真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力。
本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的.-
本發(fā)明的真空傳輸系統(tǒng)，包括真空傳輸平臺(tái)腔室，所述真空傳輸平臺(tái)腔室連接有進(jìn)氣 管路，所述的進(jìn)氣管路上設(shè)有質(zhì)量流量控制器，用于調(diào)節(jié)進(jìn)入所述真空傳輸平臺(tái)腔室的氣 體流量。
本發(fā)明的上述的真空傳輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)壓力控制的方法，通過(guò)控制進(jìn)氣管路上的質(zhì)量流量 控制器的開(kāi)度，調(diào)節(jié)進(jìn)入真空傳輸平臺(tái)腔室的氣體流量，實(shí)現(xiàn)對(duì)真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力 控制。
由上述本發(fā)明提供的技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明所述的真空傳輸系統(tǒng)及其實(shí)現(xiàn)壓力控 制的方法，由于真空傳輸平臺(tái)腔室的進(jìn)氣管路上設(shè)有質(zhì)量流量控制器，通過(guò)控制質(zhì)量流量 控制器的開(kāi)度，調(diào)節(jié)進(jìn)入真空傳輸平臺(tái)腔室的氣體流量，實(shí)現(xiàn)對(duì)真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力 控制。能簡(jiǎn)便、精確的控制真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力。
圖l為現(xiàn)有技術(shù)中真空傳輸系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本發(fā)明的真空傳輸系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的真空傳輸系統(tǒng)，其較佳的具體實(shí)施方式
，包括真空傳輸平臺(tái)腔室，所述真空 傳輸平臺(tái)腔室連接有進(jìn)氣管路，進(jìn)氣管路上設(shè)有質(zhì)量流量控制器，用于調(diào)節(jié)進(jìn)入所述真空 傳輸平臺(tái)腔室的氣體流量。進(jìn)氣管路上也可以設(shè)置壓力控制器代替質(zhì)量流量控制器，也能 夠?qū)崿F(xiàn)同樣的目的。質(zhì)量流量控制器與真空傳輸平臺(tái)腔室之間的連接管路的長(zhǎng)度小于等于 1.5米。進(jìn)氣管路上還可以設(shè)有調(diào)壓閥、手動(dòng)開(kāi)關(guān)閥等。
真空傳輸系統(tǒng)還包括傳輸平臺(tái)控制器，真空傳輸平臺(tái)腔室設(shè)有壓力檢測(cè)裝置，壓力檢 測(cè)裝置可以為真空規(guī)等。壓力檢測(cè)裝置檢測(cè)真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力信號(hào)，并將該信號(hào)輸 入給傳輸平臺(tái)控制器，傳輸平臺(tái)控制器根據(jù)該信號(hào)控制所述質(zhì)量流量控制器的開(kāi)度。
真空傳輸平臺(tái)腔室的抽氣管路上設(shè)有開(kāi)關(guān)閥，開(kāi)關(guān)閥可以為氣動(dòng)閥。傳輸平臺(tái)控制器 可以根據(jù)壓力信號(hào)控制所述開(kāi)關(guān)閥的開(kāi)關(guān)，也可以根據(jù)指令控制開(kāi)關(guān)閥的開(kāi)關(guān)。
本發(fā)明的上述的真空傳輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)壓力控制的方法，可以通過(guò)控制進(jìn)氣管路上的質(zhì)量 流量控制器的開(kāi)度，調(diào)節(jié)進(jìn)入真空傳輸平臺(tái)腔室的氣體流量，實(shí)現(xiàn)對(duì)真空傳輸平臺(tái)腔室的 壓力控制?？梢愿鶕?jù)真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力信號(hào)控制質(zhì)量流量控制器的開(kāi)度。還可以根 據(jù)真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力信號(hào)控制抽氣管路的開(kāi)關(guān)。
如圖2所示，具體實(shí)施例
在真空傳輸系統(tǒng)的氮?dú)鈿饴废到y(tǒng)中，靠近真空傳輸平臺(tái)的管路中安裝一個(gè)質(zhì)量流量控 制器。通過(guò)質(zhì)量流量控制器調(diào)節(jié)進(jìn)入真空腔室的氮?dú)饬髁縼?lái)實(shí)現(xiàn)真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力 控制，使其與真空反應(yīng)腔室的壓力匹配，進(jìn)而達(dá)到顆?？刂频哪康?。
具體包括真空傳輸平臺(tái)腔室、氮?dú)鈿饴贰⒄婵諝饴?、控制電路。另外真空傳輸平臺(tái)腔 室的還連接有快速充氣、快速抽真空氣路(圖中未示出)。其中，
真空傳輸腔室 一般來(lái)講至少包含兩個(gè)門闊連接反應(yīng)腔室(刻蝕、物理汽相沉積、化 學(xué)汽相沉積等)和真空大氣互鎖腔室，至少一個(gè)機(jī)械手進(jìn)行基片傳輸，包括一個(gè)氮?dú)饨?口、 一個(gè)抽真空接口，這兩個(gè)接口應(yīng)當(dāng)放置在真空傳輸腔室相反的位置上(比如一個(gè)在真 空傳輸腔室的頂部一個(gè)在真空傳輸腔室的底部，或者在在真空傳輸腔室的底部的相反兩 側(cè)，又或者分別在真空傳輸腔室的兩側(cè)墻壁等)。
氮?dú)鈿饴钒üS氮?dú)饨涌?，手?dòng)開(kāi)關(guān)閥、調(diào)壓閥(安裝在手動(dòng)開(kāi)關(guān)閥與質(zhì)量流量 控制器之間)、質(zhì)量流量控制器(距離真空傳輸腔室安裝管路長(zhǎng)度小于等于1.5米)。
真空氣路包括氣動(dòng)開(kāi)關(guān)閥、真空泵(干泵、分子泵、冷凝泵等)。
控制電路包括傳輸平臺(tái)控制器(包含處理器、存儲(chǔ)單元以及相應(yīng)的支持電路)、真 空規(guī)(數(shù)字壓力變送器、模擬壓力變送器等)、電磁閥等。 本發(fā)明中的真空傳輸系統(tǒng)按照以下方式進(jìn)行工作 系統(tǒng)工作之前應(yīng)使氮?dú)鈿饴分械氖謩?dòng)開(kāi)關(guān)閥處于打開(kāi)狀態(tài)。
首先，傳輸平臺(tái)控制器輸出信號(hào)控制真空泵工作，并打開(kāi)真空氣路中的開(kāi)關(guān)閥。在此 過(guò)程中，控制器通過(guò)安裝在真空傳輸腔室真空規(guī)不斷監(jiān)視真空傳輸腔室的壓力，當(dāng)壓力接 近預(yù)先設(shè)定值的時(shí)候，控制器輸出信號(hào)讓質(zhì)量流量控制器以一定的設(shè)定點(diǎn)投入工作，通過(guò) 質(zhì)量流量控制器的調(diào)節(jié)使得真空傳輸腔室達(dá)到一個(gè)動(dòng)態(tài)的平衡，控制壓力到預(yù)先設(shè)定值， 以期與反應(yīng)腔室的壓力相匹配，進(jìn)而達(dá)到顆?？刂频哪康?。
本發(fā)明通過(guò)控制質(zhì)量流量控制器，實(shí)現(xiàn)真空傳輸腔室壓力控制，以便減少基片傳輸中 的顆粒污染，進(jìn)而達(dá)到顆?？刂频哪康?，簡(jiǎn)化了傳輸控制平臺(tái)控制器的工作，使得系統(tǒng)架 構(gòu)趨于分布式架構(gòu)，減少系統(tǒng)升級(jí)改造的繁雜程度。同時(shí)避免了過(guò)分依賴控制系統(tǒng)模型的 缺陷。
以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式
，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任 何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都 應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種真空傳輸系統(tǒng)，包括真空傳輸平臺(tái)腔室，所述真空傳輸平臺(tái)腔室連接有進(jìn)氣管路，其特征在于，所述的進(jìn)氣管路上設(shè)有質(zhì)量流量控制器，用于調(diào)節(jié)進(jìn)入所述真空傳輸平臺(tái)腔室的氣體流量。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的真空傳輸系統(tǒng)，其特征在于，還包括傳輸平臺(tái)控制器，所述 的真空傳輸平臺(tái)腔室設(shè)有壓力檢測(cè)裝置，所述壓力檢測(cè)裝置檢測(cè)所述真空傳輸平臺(tái)腔室的 壓力信號(hào)，并將該信號(hào)輸入給所述傳輸平臺(tái)控制器，所述傳輸平臺(tái)控制器根據(jù)該信號(hào)控制 所述質(zhì)量流量控制器的開(kāi)度。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述的壓力檢測(cè)裝置為真空規(guī)。
4、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述的真空傳輸平臺(tái)腔室連接 有抽氣管路，所述抽氣管路上設(shè)有開(kāi)關(guān)閥，所述傳輸平臺(tái)控制器根據(jù)所述壓力信號(hào)控制所 述開(kāi)關(guān)閥的開(kāi)關(guān)。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述的開(kāi)關(guān)閥為氣動(dòng)閥。
6、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的真空傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述的質(zhì)量流量控制器與所述 真空傳輸平臺(tái)腔室之間的連接管路的長(zhǎng)度小于等于l. 5米。
7、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的真空傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述的進(jìn)氣管路上還設(shè)有調(diào)壓閥。
8、 一種權(quán)利要求1至7所述的真空傳輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)壓力控制的方法，其特征在于，通過(guò) 控制進(jìn)氣管路上的質(zhì)量流量控制器的開(kāi)度，調(diào)節(jié)進(jìn)入真空傳輸平臺(tái)腔室的氣體流量，實(shí)現(xiàn) 對(duì)真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力控制。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的實(shí)現(xiàn)壓力控制的方法，其特征在于，根據(jù)所述真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力信號(hào)控制所述質(zhì)量流量控制器的開(kāi)度。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的實(shí)現(xiàn)壓力控制的方法，其特征在于，根據(jù)所述真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力信號(hào)控制抽氣管路的開(kāi)關(guān)。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種真空傳輸系統(tǒng)及其實(shí)現(xiàn)壓力控制的方法，包括真空傳輸平臺(tái)腔室，真空傳輸平臺(tái)腔室的進(jìn)氣管路上設(shè)有質(zhì)量流量控制器，通過(guò)控制進(jìn)氣管路上的質(zhì)量流量控制器的開(kāi)度，調(diào)節(jié)進(jìn)入真空傳輸平臺(tái)腔室的氣體流量，實(shí)現(xiàn)對(duì)真空傳輸平臺(tái)腔室的壓力控制，使其與真空反應(yīng)腔室的壓力匹配，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)硅片傳輸過(guò)程中的顆?？刂频哪康?。
文檔編號(hào)H01L21/67GK101383312SQ20071012134
公開(kāi)日2009年3月11日 申請(qǐng)日期2007年9月4日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月4日
發(fā)明者曉 魏 申請(qǐng)人:北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司