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      微波低波段超微型3dB交指電橋的制作方法

      文檔序號(hào):7233581閱讀:253來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:微波低波段超微型3dB交指電橋的制作方法
      微波低波段超微型3dB交指電橋
      所屬技術(shù)領(lǐng)域-
      本發(fā)明涉及一種微波集成電路的3dB電橋,特別是一種微波低波段超微型3dB交指電橋。
      背景技術(shù)
      3dB電橋廣泛應(yīng)用于微波集成電路,比如移相器,平衡放大器,功率合成,功率分 配,調(diào)制器,混頻器等多種電路。3dB正交電橋是個(gè)四端口網(wǎng)絡(luò),它具有輸入端、耦合 端、直通端、隔離端,其耦合端與直通端相互隔離,各輸出輸入口輸入功率的50%,并 且輸出信號(hào)相位相差90度,電路組成包括信號(hào)直通帶線和信號(hào)耦合帶線。傳統(tǒng)的工藝使 用兩個(gè)8. 34dB的鋸齒耦合器串接成一體,實(shí)現(xiàn)3dB的緊耦合,這樣就導(dǎo)致電橋的體積大, 插入損耗大;現(xiàn)在市場(chǎng)上使用的3dB電橋常采用分支電橋,要增加分支電橋的帶寬,就 必須增加其節(jié)數(shù),這就使電橋的體積增大。有的電路采用外接3dB電橋的方法,這就不 利于電路的集成化。理論上要實(shí)現(xiàn)兩條耦合線之間3dB的緊耦合,必須使耦合線之間的 縫隙達(dá)到幾個(gè)微米的工藝精度,使得工藝實(shí)現(xiàn)難度大,若釆用納米級(jí)的半導(dǎo)體工藝來(lái)實(shí) 現(xiàn)微米級(jí)的工藝,其制造設(shè)備成本過(guò)高,也不現(xiàn)實(shí)。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是,克服現(xiàn)有3dB電橋的缺點(diǎn),提供一種小體積、高集 成度、低插入損耗、低成本的微波低波段超微型3dB交指電橋。本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案是 一種微波低波段超微型3dB交指電橋,具有 輸入端、耦合端、直通端、隔離端四個(gè)端口,電路組成包括信號(hào)直通帶線和信號(hào)耦合帶 線,其特征是所述兩條帶線各自分成兩條細(xì)線,其中一條帶線的兩條細(xì)線端部相連,中
      部扭轉(zhuǎn)180度,另一條帶線的兩條細(xì)線端部分離,中部斷丌,兩條帶線的細(xì)線呈交指形
      狀相間排列相互耦合,通過(guò)金屬線以橋的形式對(duì)應(yīng)連接斷開(kāi)細(xì)線的中部及兩端,以上電 路通過(guò)超微細(xì)微帶薄膜工藝制作在陶瓷基片上。
      本發(fā)明的有益效果如下信號(hào)直通帶線與信號(hào)耦合帶線采用交指式相間排列相互 耦合的方式,增加了耦合面積,使得耦合線和直通線的縫隙只需要達(dá)到幾十微米就能夠
      實(shí)現(xiàn)3dB的緊耦合,降低了工藝加工精度和對(duì)設(shè)備性能的要求,降低了加工成本,加之 本電橋的電路通過(guò)超微細(xì)微帶薄膜工藝制作在陶瓷基片上,更使本電橋產(chǎn)品具有體積 小、易于集成化、插入損耗小、高方向性和易于達(dá)到一個(gè)倍頻程以上帶寬等優(yōu)點(diǎn),作為 微波集成電路廣泛使用的部件,本發(fā)明具有很強(qiáng)的實(shí)用性。


      圖l為本發(fā)明的電路原理圖。
      具體實(shí)施例方式
      下面參照附圖并結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述。但是本發(fā)明不限于所給出的實(shí)施例。
      如圖1所示,實(shí)施例中,本發(fā)明微波低波段超微型3dB交指電橋具有輸入端IN、耦 合端OH、直通端ZT、隔離端ISO四個(gè)端口,電路組成包括信號(hào)直通帶線MS1和信號(hào)耦合帶線MS2,所述兩條帶線各自分成兩條細(xì)線MSla、 MSlb、 MS2a、 MS2b,其中帶線MS1的兩條 細(xì)線MSla、 MSlb端部相連,中部扭轉(zhuǎn)180度,帶線MS2的兩條細(xì)線MS2a、 MS2b端部分離, 中部斷開(kāi),兩條帶線的四條細(xì)線MSla、 MSlb、 MS2a、 MS2b呈交指形狀相間排列相互耦合, 通過(guò)金屬線W以橋的形式對(duì)應(yīng)連接斷開(kāi)細(xì)線MS2a、 MS2b的中部及兩端,以上電路通過(guò)超 微細(xì)微帶薄膜工藝制作在陶瓷基片(圖中未畫(huà)出)上。
      實(shí)施例中,陶瓷基片為介電常數(shù)9.9、厚度0.5mm的三氧化二鋁陶瓷基片。
      權(quán)利要求
      1、微波低波段超微型3dB交指電橋,具有輸入端、耦合端、直通端、隔離端四個(gè)端口,電路組成包括信號(hào)直通帶線和信號(hào)耦合帶線,其特征是所述兩條帶線各自分成兩條細(xì)線,其中一條帶線的兩條細(xì)線端部相連,中部扭轉(zhuǎn)180度,另一條帶線的兩條細(xì)線端部分離,中部斷開(kāi),兩條帶線的細(xì)線呈交指形狀相間排列相互耦合,通過(guò)金屬線以橋的形式對(duì)應(yīng)連接斷開(kāi)細(xì)線的中部及兩端,以上電路通過(guò)超微細(xì)微帶薄膜工藝制作在陶瓷基片上。
      2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的微波低波段超微型3dB交指電橋,其特征是 陶瓷基片為介電常數(shù)9.9、厚度0.5mm的三氧化二鋁陶瓷基片。
      全文摘要
      微波低波段超微型3dB交指電橋,具有四個(gè)端口,信號(hào)直通帶線和信號(hào)耦合帶線各自分成兩條細(xì)線,其中一條帶線的兩條細(xì)線端部相連,中部扭轉(zhuǎn)180度,另一條帶線的兩條細(xì)線端部分離,中部斷開(kāi),兩條帶線的細(xì)線呈交指形狀相間排列相互耦合,通過(guò)金屬線以橋的形式對(duì)應(yīng)連接斷開(kāi)細(xì)線的中部及兩端,以上電路通過(guò)超微細(xì)微帶薄膜工藝制作在陶瓷基片上。采用交指式相間排列耦合方式,使得耦合線和直通線的縫隙只需要達(dá)到幾十微米就能夠?qū)崿F(xiàn)3dB的緊耦合,降低了加工精度和對(duì)設(shè)備性能的要求,電路通過(guò)超微細(xì)微帶薄膜工藝制作在陶瓷基片上,體積小、集成度高、插入損耗低,用于微波低波段集成電路。
      文檔編號(hào)H01P5/12GK101436704SQ200710135209
      公開(kāi)日2009年5月20日 申請(qǐng)日期2007年11月14日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月14日
      發(fā)明者傅陽(yáng)波, 莊昆杰 申請(qǐng)人:深圳國(guó)人通信有限公司;泉州雷克微波有限公司
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