專利名稱：基底載體罩的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明通常涉OT于沉積空氣感應(yīng)材料的罩。
技術(shù)背景禾,有機(jī)活性物質(zhì)的電子,存在于多種不同的電子設(shè)備中。在這種， 中，有機(jī)活化層夾在兩個(gè)電tfc間。所述電子裝置的一種類型是有機(jī)發(fā)光二極管("OLED")。由于它們的高能量 轉(zhuǎn)換率和低加工成本，用于顯示用途的OLED是很有前途的。這種顯示器用于 電池供電的便攜式電子設(shè)備是特別有前途的，其中包括蜂窩電話、個(gè)人數(shù)字助 理、手持個(gè)人電腦和DVD播放器。這些應(yīng)用場(chǎng)合要求顯示器斷氐電粒外還具 有高信息容量、^fe調(diào)和快速影像比率響應(yīng)時(shí)間。當(dāng)M31液相沉積在該電子設(shè)備中形成一個(gè)或多個(gè)iM機(jī)層時(shí)能夠獲得工藝 優(yōu)勢(shì)。然而，許多有機(jī)材料對(duì)于氧和/或水分是敏感的。在印刷過(guò)程中避免污染 的通常方法是將整個(gè)印刷工作置于惰性環(huán)境中。這個(gè)方法降低了印刷相對(duì)于熱 蒸發(fā)的經(jīng)鄉(xiāng)勢(shì)。為了人員的的安全登錄和為了重新開始該工藝，由于工藝的 紊亂和設(shè)備保養(yǎng)而需要很長(zhǎng)的清潔時(shí)間來(lái)控制該工藝環(huán)境。必須處理大量的氣 體，這需要可觀的ftA。逸就需要一種沉積這種材料的新工藝。發(fā)明內(nèi)容共一種便攜式基底載體罩，它包括 載體魏件；可移動(dòng)鶴物；，件與覆蓋物之間的間隔件；和 氣體入口。在一些實(shí)施例中，該基底載體罩還包括可拆卸的蓋子。還鄉(xiāng)一種用于在基底上沉積空氣感應(yīng)材料的組件，戶; i^且件包括如上戶，的便攜式基底載體罩，具有沉積臺(tái)的材料沉積驢，戶脫沉積臺(tái)具有前沿、后沿和兩個(gè)側(cè)邊，和附著于沉積臺(tái)后沿上的該液相沉積裝置的固定覆蓋物。在某些實(shí)施例中，該組件還包括在一個(gè)或兩個(gè)沉積臺(tái)側(cè)近上的氣體屏蔽歧管。還劍共一種用于在基底上沉積空氣感應(yīng)材料的方法，戶;M方^a括a、 J^共基底載體罩，該基底載體罩包括 載體彌牛；可移動(dòng)SM物；魏件與M物之間的間隔件；禾口 氣體入口；b、 移動(dòng)該?dān)Q物并將該基底置于該載體史射牛上；c、 將該SM物移回到載體^7承件上的基底上面；d、 Mil氣體入口以基本恒定的氣M0I弓l入惰性氣體；e、 在保持惰性氣，動(dòng)的同時(shí)部分地移動(dòng)該 物以暴露該基底的第一部 分，以及將該空氣感應(yīng)材料沉積到該基底的第一部分上；f、 在基底的第2到第n部分上重復(fù)步驟e;禾口g、 在保持氣體流動(dòng)的情況下替換基底和支撐上的a^物。在一些實(shí)施例中，該基底載體罩還包括可拆卸的蓋子，以及該方法在步驟 g之后還包括h、 在保持氣^^動(dòng)的情況下將該蓋子置于該，件:ti:，以將該蓋子密封 到該，件上，隨后中斷氣流。還樹共一種在基底上沉積空氣感應(yīng)材料的方法，戶脫方細(xì)舌a、衝共組件，該組件包括便攜式基底載體罩，該便攜式基底載體罩包括載體魏件；可移動(dòng)覆蓋物；頓件與覆蓋物之間的間隔件； 氣體入口；具有沉積臺(tái)的材料沉積體，戶;M沉積臺(tái)具有前沿、后沿和兩^HI」邊；以及在沉積臺(tái)的后沿上附著于該液相沉積凝的固定歸物；b、 移動(dòng)該SM物且將該基底置于該載體^f:件上；c、 將該 物移回到載體^7剎牛上的基底上面；d、 Mil氣體入口以基本恒定的氣術(shù)臓引入惰性氣體；e、 將載體，件置于沉積臺(tái)的前沿；f、 在保錚隋性氣#^動(dòng)的同時(shí)，將該載體，件部分地移動(dòng)到沉積臺(tái)中并 部分地移動(dòng)該覆蓋物以暴露沉積臺(tái)中該基底的第一部分，以及在該基底的第一 部分上沉積該空氣感應(yīng)材料；g、 進(jìn)一步地將該載體支承件移動(dòng)到該沉積臺(tái)中并且移動(dòng)該S^物以暴,積臺(tái)中該基底的第二部分，同時(shí)移動(dòng)第一部分M:后沿且到固定覆蓋物的下方；h、 在基底的第3到第n部分上重復(fù)步驟g;和i、 保持氣術(shù)荒動(dòng)的同時(shí)替換基底和史承件上的覆蓋物。 ，一般說(shuō)明和下面的詳細(xì)說(shuō)明僅僅是示范性和說(shuō)明性的，且并沒有限制本發(fā)明，本發(fā)明在附加權(quán)利要求中謝亍限定。


在這里結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明以增加對(duì)方案的働早。 圖1包括基底載體罩的分解圖。 圖2包括固定覆蓋物的圖。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，為簡(jiǎn)單和清楚地說(shuō)明附圖中的物體，該物 體不一定按比例纟魏lj。例如，附圖中一些物體的尺寸相對(duì)于其他物體可能放大 了，以有禾盱增加對(duì)實(shí)施例的了解。
具體實(shí)施方式
上面描述的很多方面和實(shí)施例僅是示范性的而非限制性的。在閱讀本說(shuō)明 書之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是在不脫離本發(fā)明范圍下其它方面和實(shí)施 例是有可能的。從下列詳細(xì)說(shuō)明和權(quán)利要求，任意一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的其它特征和好處將 顯而易見。該詳細(xì)說(shuō)明首先確定隨后的基底載體罩、組件、方法、有機(jī)發(fā)光二 極管和最后實(shí)例的術(shù)語(yǔ)的定義和澄清。1、術(shù)語(yǔ)的定義和澄清在確定如下戶，實(shí)施例的細(xì)節(jié)之前，先確定或澄清一些術(shù)語(yǔ)當(dāng)指材料時(shí)，術(shù)語(yǔ)"空氣感應(yīng)"是指材料的性能會(huì)因Wtv或水分的存在而受到負(fù)面影響。術(shù)語(yǔ)"基底"尉旨可以是剛性或者柔性的且可以包括一種或多種材料的一個(gè) 或多個(gè)層的工件。該材料包括但是不局限于玻璃、聚合物或其它有機(jī)材料、金 屬、或陶瓷材料或其組合物。術(shù)語(yǔ)"沉積"是指包括倒可常規(guī)的沉積技術(shù)，包拾湖沉積、液相沉積(驗(yàn) 和不連續(xù)的技術(shù))和熱轉(zhuǎn)移。如這里所4頓的，術(shù)語(yǔ)"包括""包含""具有"或它們的招可其它變化是指那些 非排他的包含。例如，包括元素列表的工藝、方法、物品或裝置不一定僅限制 那些元素，還有可能包括列表或者該工藝、方法、物品或裝置中沒有明確表明 的其它元素。此外，除非明確地相反表明，"或"是指包含的或而不是指排它的或。例如，M下面的倒可一個(gè)而滿足剝牛A或B: A是真(或#^)而B是假(或 不存在)，A是假(或不存在)而B是真(或存在)，以及A和B都是真(或存在)。同樣，4頓"一"來(lái)描述這里所描述的元素和元件。這僅僅是為了方鵬見 和給出本發(fā)明范圍的一般含義。應(yīng)該將這個(gè)描述理解為包括一個(gè)或至少一個(gè)和 該單個(gè)同樣包含復(fù)數(shù)個(gè)，除非已經(jīng)明確其是另外的含義。相應(yīng)于元素周期表內(nèi)的列的族數(shù)目使用CRC Handbook of Chemistry and Physics, 8"版^(2000 - 2001)戶際的"新標(biāo)注"慣例。除非另夕卜限定，這里4頓的所有技斜n科學(xué)術(shù)語(yǔ)具有屬于本發(fā)明技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所通常理解的相同含義。雖然與這里描述的相似或相當(dāng)?shù)姆椒?和材料能夠用于本發(fā)明實(shí)施例的實(shí)施或湖賦，但是下面描述的是統(tǒng)的方法和材料。在這里結(jié)合參考的此處所提到的所有公開出版物、專利申請(qǐng)、專利和其 它參考物的全部?jī)?nèi)容，除非提到特定的段落。在發(fā)生沖突的情況下，以本說(shuō)明 書(包括其限定)為準(zhǔn)。此外，該材料、方法和實(shí)例僅僅是說(shuō)明性地且不皿 行限制。對(duì)于這里沒有描述的范圍，有關(guān)具體材料、工藝操作和電路的許多細(xì)節(jié)都 是慣用的，且能夠在教科書和有機(jī)發(fā)光二極管顯示器、光電探測(cè)器、光電和半 導(dǎo)體組件論文的其它來(lái)源中查到。2、基底載體罩該便攜式基底載體罩包括載體魏件；可移動(dòng)SM物；^f"牛與覆蓋物之間的間隔件； 氣體入口；和可選擇性地移動(dòng)的蓋子。該^f〈件是一平面的、其上能夠放置和承載基底上的基底材料。該，件 能夠由樹可穩(wěn)定的材料制成，包括但不限于玻璃、聚合物、金屬或陶瓷材料或 其組合物。術(shù)語(yǔ)"穩(wěn)定"是指在其中{頓時(shí)不會(huì)與基底或環(huán)境互相作用的材料。該 支承件可以具有一些彈性，但是一般而言，該支承件基本上是剛性的。該支承 件的尺寸招艮大禾雖上是由所4頓的液相沉積裝備來(lái)確定。在一些實(shí)施例中， 該魏件具有至少1畫的厚度；在一些實(shí)施例中，至少是lcm。該可移動(dòng)SM物是基本為平面的基底材料，其覆蓋該^7承件。"可移動(dòng)"是 指覆蓋物肖,在平行于i^7對(duì)牛平面的方向上移動(dòng)，從而暴露該^f〈件的區(qū)域。 在一些實(shí)施例中，該覆蓋物是沿該，件的長(zhǎng)度可移動(dòng)的。該覆蓋物能夠由任 何穩(wěn)定的材料制成，包括但不限于玻璃、聚合物、金屬或陶瓷材料或其組合物。 該覆蓋物可以具有一些彈性，但是一般而言，該覆蓋物基本上是剛性的。該覆 蓋物的尺寸略小于i^m件的尺寸。在一些實(shí)施例中，該MM物具有至少lmm 的厚度；在一些實(shí)施例中，至少是lcm。在一些實(shí)施例中，覆蓋物的至少一部 分透明的。設(shè)置間隔件以將該覆蓋物與該^^件隔開。可以4頓任何類型的間隔件， 只要其允許該SM物相對(duì)于il^:件移動(dòng)。在一些實(shí)施例中，該間隔件是支架。在一些實(shí)施例中，具有四個(gè)支架作為間隔件。在一些實(shí)施例中，該可移動(dòng)a^物和該支承件之間的空隙被設(shè)計(jì)，于提供來(lái)自該支承件表面的氣體的，速 度。該氣體入口允許隋性氣體被引入該載體上且沿該史承件流動(dòng)。能夠^ffl任 何常規(guī)氣體入口，例如噴頭。該氣體入口連接到惰性氣體源。惰性氣體的實(shí)例 包括但是不局限于氮、氦和氬。在一些實(shí)施例中，該基底載體罩還包括可拆卸的蓋子。當(dāng)相連時(shí)，該可選 擇的蓋子完全地包覆載體支承件的上表面的至少一部分。該蓋子嵌A^基本上 嵌入到該支承件中以包覆該載體支承件上表面的至少一部分從而在傳送過(guò)程中 保護(hù)被包覆的基底。該蓋子包括基座，該基座在其周邊具有垂直或基本垂直且 鄰接該基座的帶狀構(gòu)件。該基座通常是平面的，但是不局限于此，例如可以 是圓頂狀的。該帶狀物與該支承fH茍接，且其尺寸被設(shè)置成使其安裝或駐留在 該支承件中?？蛇x^i也，該蓋子可以在基座上包括把手以幫助握持。該基座和 帶狀組件可以由相同或不同的材料制成。使用任何傳統(tǒng)方法以在該支承件上將 該蓋子放置到位，例如使用螺釘緊固件?；蛘?，該蓋子可以包括在帶狀物上的 連接裝置或組件，以暫時(shí)地將覆蓋物連接到該支承件上。該蓋子能夠由ffi可穩(wěn) 定的材料制成，包括但不限于玻璃、聚合物、金屬或陶瓷材料或其組合物。該 蓋子可以具有一些彈性，但是一般而言，該蓋子基本上是剛性的。該蓋子的基底具有一區(qū)域和平面皿，其與受保護(hù)結(jié)構(gòu)的區(qū)i凝Qym相同或基本相同。在一些實(shí)施例中，該載體還包括將氣體從氣體入口分配到載體，件表面 上的第一氣體岐管。在一些實(shí)施例中，該載體包括多個(gè)歧管以分配惰性氣體。 氣體供應(yīng)是可控的，并且能夠因每個(gè)歧管而不同。在一些實(shí)施例中，該載體包 括第一和第二氣體岐管。第"^體岐管在該支承件的一端和第二氣體岐管在相 對(duì)端。具有氣體供應(yīng)管以將惰性氣體從氣體入口供應(yīng)到第二氣體岐管。在這些 實(shí)施例中，氣流從載體的兩端流過(guò)該支承件，在該，件上提供了較好的環(huán)境 控制。在一些實(shí)施例中，該載體還包括在i^c件上的定位銷。該定位銷育,用 于在該載體支承件上精確定位該基底。該定位銷可以是被固定在位的，或者可 平行于該載體的表面移動(dòng)以將該基底中心定位和定向。在一些實(shí)施例中，該載體還包括可移動(dòng)的提升銷，以用于將該基底抬到該載體的表面上方。該提升銷允許機(jī)器臂達(dá)到基底之下。該提飛肖還可以同時(shí)是 定位銷，由此包括在載體，件上精確定位該基底的功能。在一些實(shí)施例中，該蓋子還包括閥門。在氣^;節(jié)動(dòng)的同時(shí)，將該蓋子布置 在該支承件上并且與該閥門相連。因此保持被包覆的^7承件內(nèi)部的壓力近似相 同。只要連接i縫子，就能夠關(guān)閉氣流和關(guān)閉閥門。在圖1中示出了便攜式基底載體和罩的一實(shí)例的分解圖。基底100在載體 ^f俯200的上表面上。該，件還包括端部止檔件210?？梢苿?dòng)覆蓋物300 具有不透明部分310和透明部分320。該不透明部分位于框架330上。該透明部 分置于該不透明部分的開口中。該覆蓋物還包括端片340。當(dāng)該M物移動(dòng)M; 該支承件時(shí)這些端片用來(lái)接觸端部止檔件210，且防止覆蓋物完全從支承件移 出。間隔件400l戯爐成沿軌道410移動(dòng)，該軌道410將附著于該力承件200 的外ii^彖。在^S510處氣體入口 500附著于該，件。通)l!k累釘緊固件610， 該可選擇的蓋子600附于該M件。3、組件用于在基底上施加空氣感應(yīng)材料的組件包括 如上FM的便攜式基底載體罩，具有沉積臺(tái)的材料沉積體，戶欣沉積臺(tái)具有前沿、后沿和兩^i則邊，和 附著于、Kf只臺(tái)后沿上的該沉積^S的固定覆蓋物。該材料沉積裝置是能夠以期望的樣式沉積空氣感應(yīng)材料的樹可裝置。在一 些實(shí)施例中，該皿是液相沉積裝置且該空氣感應(yīng)材料作為液,積。術(shù)語(yǔ)"液 體"包括單一液##料和若干液^#料的組合物，這些可以是溶液、懸浮液、混懸液和乳化液。液相沉積技術(shù)包,續(xù)和不連續(xù)的技術(shù)?？梢杂糜谠谶@里所描 述的基底載體的連續(xù)沉積技術(shù)包括但是不局限于凹版涂布、幕簾涂布、縫隙模 (slot-die)涂布、噴涂和連續(xù)噴口涂布。不連續(xù)的沉積技術(shù)包括但是不局限于 墨噴印刷、凹板印刷和絲網(wǎng)印刷。該沉積體包括沉積臺(tái)。這是發(fā)生沉積的區(qū)域。它構(gòu)成 ^的主要部 分或僅僅一小部分。該沉積臺(tái)可以是任何形狀。在一些實(shí)施例中，該沉積臺(tái)基 本上是矩形。該沉積臺(tái)具有前沿和后沿。具有該基底的基底載體首先移動(dòng)到該 沉積臺(tái)的前沿，移動(dòng)穿越該沉積臺(tái)，隨后通過(guò)該后沿移動(dòng)越過(guò)該臺(tái)。該沉積臺(tái) 還具有兩個(gè)側(cè)邊。在一些實(shí)施例中，所述側(cè)邊基本上垂直于前沿和后沿。固定覆蓋物在沉積臺(tái)后沿上附著于該沉積纏。"固定'是指相對(duì)于該沉積 裝置，該覆蓋物不可移動(dòng)。它可是可拆卸的或是7JC久性連接到該裝置上的。該 固定覆蓋物的位置被設(shè)定為當(dāng)其從后沿退出該沉積臺(tái)時(shí)其位于該基底載體上 方。在一些實(shí)施例中，該固定a^物的皿被設(shè)定為使該固定M物和該載體 支7承件之間的間距與該載體上的可移動(dòng)覆蓋物和該載體支承件之間的間距基本 相同。在圖2中示出了固定覆蓋物的一個(gè)實(shí)例。該固定覆蓋物700 Mil，件710附著于沉積^g。在該固定a^物下面M該基底載體。在一些實(shí)施例中，該組件還包括在沉積臺(tái)一側(cè)或兩側(cè)上的惰性氣體屏蔽歧 管。這有助于控制沉積臺(tái)上的環(huán)境。4、方法用于在基底上沉積空氣感應(yīng)材料的該方、 跑括a、 iif共基底載體，該基底載體包括載體魏件； 可移動(dòng),物；5^:件與am物之間的間隔件； 氣體入口；和可選擇的可移動(dòng)蓋子；b、 如果有蓋子的話，除去該蓋子，移動(dòng)該覆蓋物并在該載體録件上配置 該基底；c、 移回位于載體^^件上的基底上方的覆蓋物；d、 以基本恒定的氣^^^W氣體入口引入惰性氣體；e、 在保持惰性氣體流動(dòng)的同時(shí)部分地移動(dòng)該覆蓋物以暴露該基底的第一部 分，和在該基底的第一部分上沉積該空氣感應(yīng)材料；f、 在基底的第2到第n部分上重復(fù)步驟e;和g、 在保持氣體流動(dòng)的情況下選擇性地將iM子置于該^^件^1，以將該 ，件密封到該蓋子，隨后中斷氣流。打開該載體基底和罩以允許將該基底放置到載體，件上。如果有蓋子的 話，去除該蓋子，并移動(dòng)該覆蓋物，從而可接近該，件。在一些實(shí)施例中， 通過(guò)采用定位銷或其它定位^H己來(lái)使基底對(duì)齊，從而將該基底定位于支承件上的特定位置。隨后移回支承件和基底上方的該SM物。隨后可將包含該基底的該便攜式基底載體移動(dòng)到將在其中進(jìn)行空氣感應(yīng)材 料沉積的設(shè)備上。在一些實(shí)施例中，通過(guò)墨噴印刷來(lái)沉積包含該空氣感應(yīng)材料 的液體。在一些實(shí)施例中，通,續(xù)噴口涂布來(lái)沉積包含該空氣感應(yīng)材料的液 體。以基本恒定的氣體^iiiiii氣體入口引入惰性氣體。在一些實(shí)施例中，具 有一個(gè)以上的氣體入口，且氣體M:所有的氣體入口而被引入。對(duì)于旨入口，氣體流速可能是相同或不同的，然而氣#^01保持基本恒定以使得載體支承件 和載體皿物之間的環(huán)境保持基本恒定。在一些實(shí)施例中，具有該基底的基底載體隨后穿過(guò)沉積臺(tái)。例如，可在噴 墨印刷頭下穿過(guò)。為了允許空氣感應(yīng)材料的沉積到基底上，沉積臺(tái)中的該載體 覆蓋物部分地移動(dòng)以剛好暴露該基底的第一部分。在該基底的第一部分上以期 望的樣式施加該空氣感應(yīng)材料。隨后,該載體和移動(dòng)該覆蓋物以暴露該基底 的第二部分。在該基底的第二部分上以期望的樣式施加該空氣感應(yīng)材料。在該基底的第3、第4...和第n部分上重復(fù)進(jìn)fi^—步驟，其中第一到第n部分代表 基底的整個(gè)區(qū)域，在該區(qū)域上沉積該空氣感應(yīng)材料。在該基底的第n部分上沉積該空氣感光材料之后，替換基底和^件上面 的該載fflM物。麟氣術(shù)荒動(dòng)。當(dāng)在該沉積，上存在固定覆蓋物時(shí)，在沉積之后由固定覆蓋物來(lái)覆蓋該 基底的每個(gè)部分。例如，當(dāng)暴露該基底的第二部分以進(jìn)行沉積時(shí)， 該第一 部分使其ffl31沉積臺(tái)后沿而超迚沉積臺(tái)，以使得其能夠被固定覆蓋物所覆蓋。 這樣，該基底的每鋪分首先被該載體覆蓋物覆蓋，在沉積空氣感應(yīng)材料的同 時(shí)將其暴露，隨后由固定覆蓋物來(lái)覆蓋它。固定覆蓋物和可移動(dòng)載體覆蓋物的 組合產(chǎn)生一開口，該開口具有固定寬度，基底在該寬度下移動(dòng)。具有的固定開 口寬度導(dǎo)致在基底表面上的更疸定的流速。當(dāng)在沉積臺(tái)的側(cè)處存在一個(gè)或多^體屏蔽歧管時(shí)，在沉積過(guò)程中將惰 性氣體弓l入到其中以進(jìn)一步控制環(huán)境。在一些實(shí)施例中'在沉積之后，在保持氣體流動(dòng)的同時(shí)，將蓋子布置在支 承件的上面并固定在位。如果該蓋子具有氣閥，在氣^^動(dòng)的同時(shí)使其打開。 隨后中斷氣流且閉合該蓋子上的氣閥。倉(cāng),根據(jù)需要將該基底載體罩移動(dòng)至懷同的設(shè)備上以用 —步的處理。在自動(dòng)工藝中，該可選擇的蓋子是不需要的。在這種情況下，該基底可被 輸送到隨后的處理中，停止于基底載體罩。然后可在惰性環(huán)境種將基底拆下， 以進(jìn)行進(jìn)一步的處理。在這種情況下，可選擇性地延續(xù)氣流以，該基底。在一些實(shí)施例中，使用相同的沉積設(shè)備以在該基底上沉積第二空氣感光材 料。在這種情況下，替換載體鶴物并再次開始沉積處理。如果存在載體蓋子 的話，先不施加該載體蓋子，直到所有基底都被移到不同設(shè)備上為止。4、有機(jī)發(fā)光二極管使用在這里描述的基底載體罩的一種裝置是有機(jī)發(fā)光二極管("OLED")。 按7嬌，OLED包括以下的層陽(yáng)極；艦空:A^人陽(yáng)極層注入和傳輸?shù)囊粋€(gè)或 多個(gè)空穴注A/〗專lf層；電致發(fā)光層； 一個(gè)或多個(gè)可選擇的電子注A/傳輸層；和陰極層。支承構(gòu)件可鄰接陽(yáng)極或陰極。該支承構(gòu)件通常與陽(yáng)極鄰接?？捎糜贠LED各種層的材料是公知的。在大部分鮑調(diào)OLED中，該體具有三套子像素區(qū)域。該電致發(fā)光層被 分成包括第一場(chǎng)致發(fā)光材料的第一子像素區(qū)域、包括第二場(chǎng)致發(fā)光材料的第二 子像素區(qū)域和包括第三場(chǎng)致發(fā)光材料的第三子像素區(qū)域。通過(guò)在該裝置上施加 電壓，第一子像素區(qū)域?qū)Υ绲谝活伾墓?，第二子像素區(qū)域鄉(xiāng)第二顏色的光和第三子像素區(qū)域mt第三顏色的光。在一些實(shí)施例中，在這里描述的該基底載體罩用于沉積一個(gè)或多個(gè)空穴注 A/傳輸層。在一些實(shí)施例中，該基底載體罩用于一個(gè)或多個(gè)場(chǎng)致發(fā)光材料的沉 積。在一些實(shí)施例中，在這里描述的該基底載體罩用于沉積一個(gè)或多個(gè)電子注 A/傳輸層。實(shí)例在下面的實(shí)例中夂頓描述在這里描述的方案，這些實(shí)例沒有限制本發(fā)明的 范圍，本發(fā)明的范圍在權(quán)利要求中描述。 實(shí)例1實(shí)例1說(shuō)明了用于沉積空氣感應(yīng)環(huán)金屬銥復(fù)合物的便攜式基底載體罩的應(yīng) 用。例如，這種復(fù)合吻已經(jīng)在Grushin等人的U.S專利6,670,645中描述了。使用這里所描述的便攜式基底載體來(lái)制備無(wú)源矩陣顯示器。使用標(biāo)準(zhǔn) OLED工藝在玻璃m以152mm x 152mm的尺寸形成i^S示器，其具有銦錫氧化物層。由復(fù)合有氟化磺酸聚合物的聚吡咯組成的空穴注入層被涂布在齡玻璃fch且在130攝氏度下Ti喿到180納米的厚度。由可交^S穴傳輸聚合物組 成的空穴傳輸層被涂布在空穴注入層之上，分布在^f層、并在200攝氏度下 固化到20納米的厚度。該組件是在其上沉積有空氣感光材料的基底。所述基底 被置于圖1中示出的基底罩之中，并且通過(guò)真空而被夾鉗到連續(xù)噴口印刷器 (DaNipponScreen)的行進(jìn)臺(tái)面上。用氮以15標(biāo))f^:方K/每小時(shí)的流3I^t該罩 進(jìn)行吹掃。該罩向著沉積臺(tái)的前沿移動(dòng)，在那里進(jìn)行噴墨印刷。移回該可移動(dòng) 覆蓋物以暴露該基底的第一部分。包括以甲苯和3,4-二甲基苯甲1^斤混合的場(chǎng)致發(fā)光環(huán)金屬銥復(fù)合物的所放出的墨水被印刷在第一部分的空穴傳輸層上。將該 載體向前移動(dòng)并移回該可移動(dòng)覆蓋物以暴露該基底的第二部分。同時(shí)，該基底的第一部分移動(dòng)到附著于該印刷設(shè)備的固定覆蓋物之下。反復(fù)執(zhí)行該工藝直到 印刷了該基底的所有部分。隨后在替換載體支承件上的可移動(dòng)覆蓋物的同時(shí)從 該沉積臺(tái)上移回該基底載體。隨后在該，件上放置該可拆卸的蓋子，中斷氣 流，并且閉合該蓋子閥門。包含該印刷基底的該便攜式載體罩隨后移到氮手套 箱中，在這里進(jìn)行進(jìn)一步的處理。在氮?dú)夥障乱?05'C中烘烤該顯示板30^H中。 沉積包括20納米四(8-羥 林)鋯、1.5納米LiF和350納米鋁的陰極。采用玻璃蓋和環(huán)氧樹脂來(lái)^ai寸該顯示器。需要注意的是并不是需要所有以上推M或?qū)嵗兴枋龅淖鳂I(yè)， 一部射寺 定的作業(yè)可能不需要，而且除這些描粒外還可能執(zhí)行一個(gè)或多個(gè)其它的作業(yè)。 此外，其中所列出的作業(yè)7娘也不是其中它們必然的執(zhí)行 嬌。在戰(zhàn)說(shuō)明書中，參考具體實(shí)施例己經(jīng)描述了該方案。然而， 一個(gè)本領(lǐng)域 普通技術(shù)人員可以理解的是在不脫離作為下述權(quán)禾頓求的本發(fā)明范圍的情況下 可以進(jìn)行各種改變和變化。因此，該說(shuō)明書和附圖僅是說(shuō)明性的而不是限制性 的，并J^f有的這種改進(jìn)被確定為包括在本發(fā)明的范圍內(nèi)。參考具體實(shí)施例上面已經(jīng)描述了好處、其它優(yōu)勢(shì)和針對(duì)問題的解決方法。然而，該好處、優(yōu)勢(shì)、針對(duì)問題的解決方法和其它可能導(dǎo)致樹可發(fā)生或變得更 加確定的好處、優(yōu)勢(shì)劍軍決方法的特征不被認(rèn)為是任一^^f有權(quán)利要求的決定 性的、所需要的、，素特征。為清楚起見，在這里描述的^5:實(shí)施例中的范圍，應(yīng)該理解的是可能同時(shí)在單一實(shí)施例中使用其組合。相反地，為方便起見，在描述的單個(gè)實(shí)施例的范圍中，各種特征同時(shí)也可以分另l展供或以任何再組合的方式提供。此外，參 考范圍內(nèi)的數(shù)值包括范圍內(nèi)的^數(shù)值。
權(quán)利要求
1、一種便攜式基底載體罩包括具有一表面的載體支承件；可移動(dòng)覆蓋物；支承件與覆蓋物之間的間隔件；和氣體入口。
2、 如權(quán)利要求1戶腿的載體，其特征在于，它還包括第i體岐管，以從 氣體入口穿越該載體彌牛表面分配氣體。
3、 如權(quán)利要求2戶，的載體，^tt征在于，它還包括第二氣體岐管和,AA 口到第二歧管的供氣管。
4、 如權(quán)利要求1戶腐的載體，其特征在于，該間隔件包括支架。
5、 如權(quán)利要求1所述的載體，^fT征在于，該載體^:件還包括用于在該 細(xì)牛上校準(zhǔn)基底的定位銷。
6、 如權(quán)利要求1所述的載體，其特征在于，它還包括可移動(dòng)的蓋子。
7、 如權(quán)利要求6戶脫的載體，其特征在于，該蓋子還包括閥門。
8、 一種用于在基底上沉積空氣感光材料的組件，所述組件包括 便攜式基底載體罩，它包括載體支承件； 可移動(dòng)鶴物；史承件與覆蓋物之間的間隔件； 氣體入口；具有沉積臺(tái)的材料沉積驢，戶艦沉積臺(tái)具有前沿、后沿和兩個(gè)側(cè)邊，和在沉積臺(tái)的后沿上附著于該液相沉積^s的固定a^物。
9、 如權(quán)利要求8戶，的組件，其特征在于，它包括在沉積臺(tái)偵iJ:&Jl的至少 —n體屏蔽歧管。
10、 如權(quán)利要求9戶腐的組件，其特征在于，它包括在沉積臺(tái)^Hiiih的氣體屏蔽歧管。
11、 用于在基底上沉積空氣感應(yīng)材料的方法，戶;M方、^括a、提鵬底載體罩，該基底載體罩包括載體支承件； 可移動(dòng)鶴物；^f〈件與鶴物之間的間隔件；和 氣體入口；b、 移動(dòng)該蓋子并將該基底置于該載體^^件上；c、 將 物移回到載體力承件上的基底上面；d、 Mii氣體入口以基本恒定的氣術(shù)l3I引入惰性氣體；e、 在保持惰性氣術(shù)荒動(dòng)的同時(shí)部分地移動(dòng)該覆蓋物以暴露該基底的第一部 分，以及在該基底的第一部分上沉積該空氣感應(yīng)材料；f、 在基底的第2到第n部分上重復(fù)步驟e;和g、 保持氣術(shù)荒動(dòng)的同時(shí)替換基底和支撐上的覆蓋物。
12、 如權(quán)利要求ll所述的方法，其特征在于，該基底載體罩還包括可移動(dòng) 的蓋子，JM的方法在步驟g之后還包括h、 在傲寺氣術(shù)荒動(dòng)的情況下將該蓋子置于該，件之上，以將該蓋子密封 到該5^:件上，隨后中斷氣流。
13、 用于在基底上沉積空氣感應(yīng)材料的方法，戶;f^方^a括a、 提供組件，該組件包括便攜式基底載體罩，該便攜式基底載體罩包括載體魏件'，可移動(dòng)mm物；^f〈件與覆蓋物之間的間隔件； 氣體入口；具有沉積臺(tái)的材料沉積錢，戶;f^沉積臺(tái)具有前沿、后沿和兩1M則邊，和在沉積臺(tái)的后沿上附著于該液相沉積潔置的固定am物。b、 移動(dòng)該覆蓋物且將該基底置于該載體，件上；c、 將Sm物移回到載體，件上的基底上面；d、 M氣體入口以基本恒定的氣術(shù)^I引入惰性氣體；e、 將載體，件置于沉積臺(tái)的前沿；f、 在保持隋性氣術(shù)荒動(dòng)的同時(shí)，將該載體魏件部分地移動(dòng)至(腕積臺(tái)中并 部分地移動(dòng)該覆蓋物以暴,積臺(tái)中該基底的第一部分，以及在該基底的第一部分上沉積該空氣感應(yīng)材料；g、 進(jìn)一步地將該載體^f〈件移動(dòng)到該沉積臺(tái)中并且移動(dòng)該Sm物以暴，積臺(tái)中該基底的第二部分，同時(shí)移動(dòng)第一部分S31后沿且到固定覆蓋物的下方;h、 在基底的第3到第n部分上重復(fù)步驟g;和i、 保 動(dòng)的同時(shí)替換基底和，件上的^物。
全文摘要
本發(fā)明提供一種便攜式基底載體罩。該載體罩具有載體支承件；可移動(dòng)覆蓋物；支承件與覆蓋物之間的間隔件；氣體入口；和可移動(dòng)的蓋子。還提供使用該便攜式基底載體罩用于在基底上沉積空氣感應(yīng)材料的組件和方法。
文檔編號(hào)H01L51/56GK101237027SQ20071018212
公開日2008年8月6日 申請(qǐng)日期2007年8月3日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月4日
發(fā)明者C·D·郎, J·A·佩洛托, J·N·緹爾頓, T·P·達(dá)利 申請(qǐng)人:E.I.內(nèi)穆爾杜邦公司