專利名稱：集成電路的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種集成電路。
技術(shù)背景現(xiàn)有的集成電路一般都是分層設(shè)計的，設(shè)計人員會在每個層上設(shè)計 該層的電子器件排布，并在該層上的冗余區(qū)(沒有電子器件的空白區(qū))填 充大量容易辨識的標(biāo)示圖形。集成電路中各層電路排布并不相同， 一層中 排布的冗余區(qū)在另外一層電路中可能成為電路分布區(qū)，由于目前設(shè)計人員 會將各層的所有冗余區(qū)選用同一種標(biāo)示圖形，該標(biāo)示圖形在冗余區(qū)內(nèi)大量 重復(fù)排布，造成需要觀測該區(qū)域其它層電路、尋找某個目標(biāo)器件或?qū)δ硞€ 目標(biāo)器件定位時，帶來很多不便。在集成電路制備工藝中，通過電性分析結(jié)論找到需要進行物理分析 的目標(biāo)器件之后，工程師經(jīng)常需要通過光學(xué)顯微鏡以及激光打標(biāo)機(集成 在光學(xué)顯微鏡上)甚至電子顯微鏡來觀察一個精確位置。在這個過程中， 工程師需要不斷的放大鏡頭倍率來增加對目標(biāo)區(qū)域的分辨率，進行更加仔 細的觀察、或進行激光標(biāo)注。而作為光學(xué)機械設(shè)備，在鏡頭倍率的切換過 程中，不可避免的會導(dǎo)致光學(xué)中心的偏移，或者樣品的位置偏移，讓觀察 者容易丟失關(guān)注對象。所以往往需要反復(fù)確認(rèn)而浪費了大量的時間。其中 主要原因就是因為集成電路的版圖采用了大量完全重復(fù)的標(biāo)示圖形進行 填充，從而在鏡頭切換到一定倍率以上之后，視野范圍內(nèi)往往全部是毫無區(qū)別的標(biāo)示圖形，當(dāng)觀察者在視野范圍內(nèi)無法觀測到目標(biāo)圖形時，根本無 法辨識目標(biāo)圖形所在發(fā)方位，也無法得知如何進行移動調(diào)整，通常都是往 各個方向偏移多次尋找，或者改變倍率重新尋找目標(biāo)對象，這樣增加了尋 找區(qū)別目標(biāo)的難度。 發(fā)明內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種集成電路，它可以使觀 測者方便的査找目標(biāo)器件，并容易對該器件進行分辨和定位。為了解決以上技術(shù)問題，本實用新型提供了一種集成電路，包括至 少一個布線層，在布線層中，有電子器件或電路連線排布的區(qū)域為電路分 布區(qū)，沒有電子器件和電路連線排布的空白區(qū)為冗余區(qū)，冗余區(qū)內(nèi)填充有 大量的標(biāo)示圖形，該大量的標(biāo)示圖形為多種不同的標(biāo)示圖形。因為本實用新型用不同的標(biāo)示圖形對集成電路中各層電路的冗余區(qū) 進行填充，可以使觀測者方便的查找目標(biāo)器件，并容易對該器件進行分辨 和定位。


以下結(jié)合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進一步詳細說明。圖1是本發(fā)明的標(biāo)示圖形的一個實施例； 圖2是本發(fā)明的標(biāo)示圖形的另一個實施例。
具體實施方式
本發(fā)明的集成電路，包括至少一個布線層，在布線層中，有電子器 件或電路連線排布的區(qū)域為電路分布區(qū)，沒有電子器件和電路連線排布的 空白區(qū)為冗余區(qū)，冗余區(qū)內(nèi)填充有大量的標(biāo)示圖形，該大量的標(biāo)示圖形為多種不同的標(biāo)示圖形。如圖l所示是本發(fā)明的一個實施例，所示了15種 不同的標(biāo)示圖形。本發(fā)明所提不同的標(biāo)示圖形可以是完全不同的圖形，也 可以是相似但有差異的圖形，也可以是同一圖形的變形，包括將該圖形旋轉(zhuǎn)、縮放或是鏡像后的圖形。圖1所示的15種標(biāo)示圖形摻雜排布在各個布線層的冗余區(qū)內(nèi)，對于面積越大的冗余區(qū)其填充的標(biāo)示圖形種類越多， 反之對于面積越小的冗余區(qū)其標(biāo)示圖形種類越少。冗余區(qū)所在的布線層的 特征尺寸越大其填充的所述標(biāo)示圖形的面積越大，反之其填充的標(biāo)示圖形 的面積越小。如圖2是本發(fā)明的另一個實施例，所示為另外10種不同的標(biāo)示圖形， 其填充的方式與上述實施例中相同。對于面積較大的集成電路，其冗余區(qū) 內(nèi)的標(biāo)示圖形的種類可以是幾十種甚至幾百種，由此，當(dāng)工程師需要通過 光學(xué)顯微鏡以及激光打標(biāo)機(集成在光學(xué)顯微鏡上)甚至電子顯微鏡來查 找一個精確位置或者對其觀察的目標(biāo)器件進行定位時就會非常容易，可以 根據(jù)該目標(biāo)器件在其視野范圍內(nèi)周圍的不同標(biāo)示圖形確定其所在的位置。
權(quán)利要求1、一種集成電路，包括至少一個布線層，在所述布線層中，有電子器件或電路連線排布的區(qū)域為電路分布區(qū)，沒有電子器件和電路連線排布的空白區(qū)為冗余區(qū)，所述的冗余區(qū)內(nèi)填充有大量的標(biāo)示圖形；其特征在于，所述大量的標(biāo)示圖形為多種不同的標(biāo)示圖形。
2、 如權(quán)利要求1所述的集成電路，其特征在于，所述不同的標(biāo)示圖 形包括一個標(biāo)示圖形和該標(biāo)示圖形旋轉(zhuǎn)、縮放或鏡像后的圖形。
3、 如權(quán)利要求l所述的集成電路，其特征在于，所述冗余區(qū)的面積 越大其填充的所述標(biāo)示圖形的種類越多。
4、 如權(quán)利要求1所述的集成電路，其特征在于，所述冗余區(qū)所在的 布線層的特征尺寸越大其填充的所述標(biāo)示圖形的面積越大。
專利摘要本實用新型公開了一種集成電路，包括至少一個布線層，在布線層中，有電子器件或電路連線排布的區(qū)域為電路分布區(qū)，沒有電子器件和電路連線排布的空白區(qū)為冗余區(qū)，冗余區(qū)內(nèi)填充有大量的標(biāo)示圖形，該大量的標(biāo)示圖形為多種不同的標(biāo)示圖形。因為本實用新型用不同的標(biāo)示圖形對集成電路中各層電路的冗余區(qū)進行填充，可以使觀測者方便的查找目標(biāo)器件，并容易對該器件進行分辨和定位。
文檔編號H01L27/02GK201122601SQ20072014431
公開日2008年9月24日 申請日期2007年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月28日
發(fā)明者張雨田 申請人:上海華虹Nec電子有限公司