專利名稱：一種用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種推頂系統(tǒng)，尤其是指用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)。
技術(shù)背景固晶機(jī)是生產(chǎn)發(fā)光二極管過程中必不可少的設(shè)備，固晶的目的在于利用粘 接劑將晶圓(芯片)l占著于LED支架碗杯底面，使其固著于基座上，利于焊線及壓模。由于晶圓吸附在聚酯薄膜層上，因此，使用傳統(tǒng)的裝置取晶固晶，晶圓不 易被分離并吸取，造成工作效率下降。 實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，本實(shí)用新型的目的在于解決上述問題，提供一種晶圓推頂系統(tǒng)， 將晶圓向上頂起，使晶圓與聚酯薄膜層脫離。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是 一種用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于 包括推頂針、推頂軸、基座、動(dòng)力裝置，推頂軸固定安裝在基座上，推頂軸中 空并且底部設(shè)孔，推頂針底部插在推頂軸底部孔中，推頂針頂部部分露在空中， 動(dòng)力裝置連接基座。所述晶圓推頂系統(tǒng)進(jìn)一步包括吸附膜片裝置。所述吸附膜片裝置包括真空發(fā)生器、真空管；真空管一端連接推頂軸內(nèi)部 的中空部分，另一端連接真空發(fā)生器，所述真空發(fā)生器內(nèi)設(shè)置岡。 所述晶圓推頂系統(tǒng)進(jìn)一步包括推頂帽，所述推頂帽頂部設(shè)孔，推頂針101 底部插在推頂帽頂部孔中，推頂帽底部與推頂軸頂部緊配合。所述閥是電磁閥。所述晶圓推頂系統(tǒng)進(jìn)一步包括晶圓、晶圓偏移裝置。
所述晶圓偏移裝置包括橫向?qū)к?、橫向?qū)к壗z桿、橫向?qū)к夞R達(dá)、縱向?qū)к?、縱向?qū)к壗z桿、縱向?qū)к夞R達(dá)、晶圓盤架、晶圓盤；縱向?qū)к壒潭ㄔ跈C(jī)器 臺(tái)面上，橫向?qū)к壟c縱向?qū)к壷械目v向?qū)к壗z桿相配合，晶圓盤架連接晶圓盤 臂，晶圓盤臂與橫向?qū)к壷械臋M向?qū)к壗z桿相配合，晶圓盤架在晶圓盤架上。 所述動(dòng)力裝置是步進(jìn)馬達(dá)。所述晶圓推頂系統(tǒng)的上升高度是晶圓厚度的一半。 所述晶圓推頂系統(tǒng)的上升高度是l毫米。 所述橫向?qū)к壍淖畲笮谐淌?00mm。 所述縱向?qū)к壍淖畲笮谐淌?00mm。 所述真空發(fā)生器的壓力為-630鵬Hg。本實(shí)用新型的有益效果是由于晶圓推頂系統(tǒng)能夠?qū)⒕A向上頂出，使晶 圓與聚酯薄膜層脫離，使得晶圓容易被吸取，因此，大大提高了固晶機(jī)的工作效率和質(zhì)量。

圖l是本實(shí)用新型晶圓推頂系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型晶圓及晶圓偏移裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本實(shí)用新型晶圓推頂系統(tǒng)工作過程示意圖。圖中，101:推頂針；102:推頂軸；103:基座；104:推頂帽；105:步進(jìn) 馬達(dá)；201:真空發(fā)生器；202:真空管；203:電磁閥；301:晶圓；302:橫向 導(dǎo)軌；303:橫向?qū)к壗z桿；304:橫向?qū)к夞R達(dá)；305:縱向?qū)к墸?06:縱向 導(dǎo)軌絲桿；307:縱向?qū)к夞R達(dá)；308:晶圓盤臂；309:晶圓盤架；310:晶圓 盤；311:吸嘴；312:聚酯薄膜層。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。請(qǐng)參考圖1，以進(jìn)一步描述晶圓推頂系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)。晶圃推頂系統(tǒng)包括基座103、推頂帽104、推頂軸102、推頂針I(yè)OI、步進(jìn)馬達(dá)105、真空發(fā)生器201。 晶圓推頂系統(tǒng)固定在機(jī)器臺(tái)面上，并且位于晶圓盤310底部下方，推頂針I(yè)OI 對(duì)準(zhǔn)晶圓盤310。步進(jìn)馬達(dá)105和真空發(fā)生器201位于機(jī)器內(nèi)部，步進(jìn)馬達(dá)105 為晶圓推頂系統(tǒng)提供動(dòng)力，真空發(fā)生器201通過連接真空管202連接在基座103 上，并通過電磁閥203控制工作。推頂軸102位于基座103中心，高出基座103， 推頂針101裝在推頂軸102中，推頂帽104與推頂軸102螺紋連接，將推頂針 101固定在推頂軸102中。推頂針I(yè)OI高出推頂軸102及推頂帽104,部分露于 空中。請(qǐng)參考圖2,以進(jìn)一步描述晶圓301及晶圓偏移裝置的結(jié)構(gòu)?？v向?qū)к?05 固定在機(jī)器臺(tái)面上，橫向?qū)к?02與縱向?qū)к?05中的縱向?qū)к壗z桿306相配 合，晶圓盤架309連接晶圓盤臂308,晶圓盤臂308與橫向?qū)к?02中的橫向 導(dǎo)軌絲桿303相配合。橫向?qū)к夞R達(dá)307開啟，橫向?qū)к壗z桿303旋轉(zhuǎn)，帶動(dòng) 晶圓盤架309橫向移動(dòng)；橫向?qū)к壗z桿303反向旋轉(zhuǎn)，帶動(dòng)晶圓盤架309反向 移動(dòng)?？v向?qū)к夞R達(dá)307開啟，縱向?qū)к壗z桿306旋轉(zhuǎn)，帶動(dòng)橫向?qū)к?02及 晶圓盤架309縱向移動(dòng)，縱向?qū)к壗z桿306反向旋轉(zhuǎn)，帶動(dòng)橫向?qū)к?02和晶 圓盤架309縱向反向移動(dòng)。晶圓盤310架在晶圓盤架309上。晶圓盤架309橫 向、縱向的正向最遠(yuǎn)移動(dòng)距離是100毫米，晶圓盤架309橫向、縱向的反向最 遠(yuǎn)移動(dòng)距離也是100毫米。請(qǐng)參考圖3,以進(jìn)一步描述晶圓推頂系統(tǒng)的工作過程。晶圓推頂系統(tǒng)固定 在機(jī)器臺(tái)面上，推頂針101水平位置固定不動(dòng)。工作時(shí)，通過調(diào)節(jié)縱向?qū)к?05、 橫向?qū)к?02來調(diào)節(jié)晶圓盤310的位置，使晶圓盤310上的晶圓位于推頂針101 的上方。馬達(dá)啟動(dòng)，推頂針101上升，將晶圓301頂出，并且晶圓301與聚酯 薄膜層312脫離。吸嘴311利用真空吸力將晶圓301吸走。推頂針101同時(shí)也 將晶圓盤310頂起。馬達(dá)啟動(dòng)的同時(shí)，真空發(fā)生器201工作，與真空管202相 連接的推頂軸102中腔被抽真空，推頂軸102內(nèi)外氣壓差產(chǎn)生吸引力，吸取晶
圓盤310及其他晶粒不會(huì)因自身重力作用而滑落。馬達(dá)、真空發(fā)生器201停止 工作，推頂針101、晶圓盤310恢復(fù)原位。真空發(fā)生器201的最大壓力值為 一630mmHg。為穩(wěn)定機(jī)器性能，推頂針101使用一段時(shí)間后，大約幾個(gè)月，需要更換。 更換時(shí)，卸下推頂帽，拔出推頂針101,取一支新的推頂針101插入推頂軸102， 并擰緊推頂帽即可。另外，推頂針101非常鋒利，使用時(shí)應(yīng)注意安全。
權(quán)利要求1、一種用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于包括推頂針(101)、推頂軸(102)、基座(103)、動(dòng)力裝置，推頂軸(102)固定安裝在基座(103)上，推頂軸(102)中空并且底部設(shè)孔，推頂針(101)底部插在推頂軸(102)底部孔中，推頂針(101)頂部部分露在空中，動(dòng)力裝置連接基座(103)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述晶圓推頂系統(tǒng)進(jìn)一步包括吸附膜片裝置。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述吸附膜片裝置包括真空發(fā)生器(201)、真空管(202 );真空管(202 ) —端 連接推頂軸(102)內(nèi)部的中空部分，另一端連接真空發(fā)生器(201),所述真 空發(fā)生器(201)內(nèi)設(shè)置閥。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述晶圓推頂系統(tǒng)進(jìn)一步包括推頂帽(104),所述推頂帽(104)頂部設(shè)孔，推 頂針(101 )底部插在推頂帽(104 )頂部孔中，推頂帽(104 )底部與推頂軸(102)頂部緊配合。
5、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述閥是電磁閥(203 )。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述晶圓推頂系統(tǒng)進(jìn)一步包括晶圓(301)、晶圓偏移裝置。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述晶圓偏移裝置包括橫向?qū)к?302 )、橫向?qū)к壗z桿(303 )、橫向?qū)к夞R達(dá)(304 )、縱向?qū)к?305 )、縱向?qū)к壗z桿(306 )、縱向?qū)к夞R達(dá)(307 )、晶圓200720152474.3權(quán)利要求書第2/2頁盤架(309 )、晶圓盤(310);縱向?qū)к?305 )固定在機(jī)器臺(tái)面上，橫向?qū)к?(302 )與縱向?qū)к?305 )中的縱向?qū)к壗z桿(306 )相配合，晶圓盤架(309 ) 連接晶圓盤臂(308 ),晶圓盤臂(308)與橫向?qū)к?302 )中的橫向?qū)к壗z桿 (303 )相配合，晶圓盤(310)架在晶圓盤架(309 )上。
8、根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述動(dòng)力裝置是步進(jìn)馬達(dá)(105 )。
9、.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述晶圓推頂系統(tǒng)的上升高度是晶圓(301)厚度的一半。
10、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述晶圓推頂系統(tǒng)的上升高度是l毫米。
11、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述橫向?qū)?九(302 )的最大行程是100mm。
12、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述縱向?qū)к?305 )的最大行程是IOO鵬。
13、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，其特征在于所 述真空發(fā)生器(201)的壓力為-630mmHg。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于固晶機(jī)的晶圓推頂系統(tǒng)，包括推頂針、推頂軸、基座、動(dòng)力裝置，推頂軸固定安裝在基座上，推頂軸中空并且底部設(shè)孔，推頂針底部插在推頂軸底部孔中，推頂針頂部部分露在空中，動(dòng)力裝置連接基座。本晶圓推頂系統(tǒng)進(jìn)一步包括吸附膜片裝置和晶圓水平偏移裝置。由于晶圓推頂系統(tǒng)能夠?qū)⒕A向上頂出，使晶圓與聚酯薄膜層脫離，使得晶圓容易被吸取，因此，大大提高了固晶機(jī)的工作效率和質(zhì)量。
文檔編號(hào)H01L21/00GK201054345SQ20072015247
公開日2008年4月30日 申請(qǐng)日期2007年6月4日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月4日
發(fā)明者劉義紅, 楊少辰, 羅會(huì)才, 韓金龍 申請(qǐng)人:大贏數(shù)控設(shè)備(深圳)有限公司