專利名稱：一種氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種刻蝕裝置，特別涉及一種氧化物薄膜絨面的濕法刻蝕裝置。
背景技術(shù)：
目前，在太陽能電池的生產(chǎn)中，通常將太陽能電池的入射面制備成類似 "金字塔"式的絨面結(jié)構(gòu)，使同一束光在絨面之間多次反射，提高入射光的 散射，絨面起到了 "陷光"的作用，有效降低入射光的反射，延長光線在電 池有源層的度越時間，增強了光的吸收,增加電池的光電轉(zhuǎn)換效率。所以在晶 硅電池制備過程中，需要對硅片表面進行氫氟酸蝕刻制絨；在第二代薄膜電 池中，前電極氧化物薄膜也需進行絨面處理， 一般使用稀鹽酸溶液對其進行 酸刻制絨。不過，傳統(tǒng)制絨工藝在批量生產(chǎn)、流水作業(yè)及絨面均勻度上都存在弊端， 如常用的薄膜電池的前電極制絨方式是將盛放鍍有透明導電膜的基片的盛放 架從下而上置入酸液槽中，靜置一段時間后，再將架子取出。這種制絨方式 存在兩個問題其一，最上面的基片最后進入酸液槽，最先從酸液槽中出來， 因而會造成基片間刻蝕的不均勻性；其二，由于基片在蝕刻過程中處于靜置 狀態(tài)，刻蝕導致局部溶液酸性降低會使得對氧化物薄膜刻蝕的速度下降。這 些制絨工藝均難以達到預期快速，均勻的刻蝕效果。所以，現(xiàn)有技術(shù)的缺點是1. 由于基片先后進入酸液槽，浸在酸液槽中的時間長短不同，造成基片 之間的受刻蝕成度不均勻，產(chǎn)品質(zhì)量不高。2. 每次放置基片的架子從進入到取出酸液槽的過程都造成了后一個架 子的等待時間，生產(chǎn)效率低下。3.由于基片在刻蝕過程中處于靜止狀態(tài)，酸液被反應而稀釋，造成基片 蝕刻過程的過程中基片附近的酸液濃度不斷下降，延長了生產(chǎn)周期。發(fā)明內(nèi)容針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足之處，本發(fā)明提供一種氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，它能夠保證每一片基片的受反應時間相同，刻蝕均勻；保證基片蝕刻 過程的局部酸液濃度，提高了酸液的利用率。為了達到上述目的，本發(fā)明提供一種薄膜基片的濕法刻蝕裝置，包括一 刻蝕槽和一裝載薄膜基片的載體，所述刻蝕槽底部是弧形；所述載體設(shè)有車 輪，沿刻蝕槽底部運動。所述刻蝕槽底部設(shè)有軌道，車輪沿軌道運動。所述載體上設(shè)有基片夾，固定薄膜基片。所述載體底部兩側(cè)各設(shè)有兩個車輪;沿刻蝕槽的底部設(shè)有兩條弧形軌道。 所述刻蝕槽的出入口分別設(shè)有水平軌道，水平軌道與弧形軌道相接。 所述刻蝕槽上有蓋板，蓋板不干涉載體進出刻蝕槽。 所述載體的高度小于刻蝕槽的深度。所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，還包括一控制單元，控制單元控制 載體運動。本發(fā)明由于采用了以上技術(shù)方案，使之與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點 和積極效果1. 保證基片浸在酸液槽中的時間相同，基片之間的受刻蝕程度均勻，提咼產(chǎn)品質(zhì)量。2. 使用了流水線生產(chǎn)的設(shè)計理念，取消了等待時間，加快了生產(chǎn)效率。3. 在小車的帶動下，基片在刻蝕過程中處于運動狀態(tài)，保證了酸液的濃 度波動范圍較小，縮短了生產(chǎn)周期。
此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的 不當限定。在附圖中圖l是本發(fā)明中小車的主意圖。 圖2是本發(fā)明中小車的側(cè)視圖。 圖3是本發(fā)明中弧形刻蝕槽的示意圖。圖4是本發(fā)明中小車駛?cè)肟涛g槽的示意圖。圖5是本發(fā)明中小車在刻蝕槽中運動的示意圖。圖6是本發(fā)明中小車駛出刻蝕槽的示意圖。附圖標號[1]輪子 [2]基片 [3]后側(cè)面[5]蓋板 [6]弧形軌道 [7]水平軌道[9]載體 [h]小車高度 [H]刻蝕槽深度[4]基片夾 [8]刻蝕槽
圓心具體實施方式
下面結(jié)合說明書附圖l一6來介紹本發(fā)明的一種較佳實施例。 如圖1和2所示，本發(fā)明使用帶有4個輪子1的小車作為裝載基片2的 載體9，小車高為h，小車底部兩邊各裝有2個車輪，上部的層疊放置了50 片薄膜基片2，并通過基片夾4固定，使基片2在小車的運動中不會掉落。 控制單元通過傳動裝置連接在小車的后側(cè)面3，控制小車的運動。如圖3所示，以0點為圓心的圓弧底刻蝕槽8，刻蝕槽8深度為H， H大 于h，酸液能完全浸沒小車。在刻蝕槽8底部沿圓弧布設(shè)兩條弧形軌道6，在 刻蝕槽8的進出口兩端架設(shè)水平軌道7，弧形軌道6與水平軌道7接軌，使 小車能自如地進出刻蝕槽8，同時有利于控制小車在刻蝕槽8的行進速度和 浸泡時間，在刻蝕槽8的上部設(shè)置了蓋板5，蓋板5的兩端與刻蝕槽8的進 出口保持一定距離，不干涉小車的進出刻蝕槽8，同時也減緩了酸液的揮發(fā)，提高了酸液有效利用率，節(jié)約了成本。如圖4、 5、 6所示，小車在控制單元的控制下，水平軌道7駛向弧形軌道6，進入刻蝕槽8，通過基片夾4的夾持，使50片薄膜基片2在小車沿圓 弧的運動中和被酸液刻蝕的過程中保持固定。小車裝載著薄膜基片2進入刻 蝕槽8后，酸液開始對所有的基片進行刻蝕，基片2附近的酸液急劇下降， 但是小車通過不斷的前進，駛離上一時刻酸液濃度降低的區(qū)域，直到小車駛 出刻蝕槽8。整個過程中，小車的運動也是對酸液的一種攪拌，加快了被稀 釋部分的酸液濃度的恢復速度，縮短了生產(chǎn)周期。放置在小車前部的薄膜基 片2先進先出，放置在小車后部的薄膜基片2后進后出，保證了整車的薄膜 基片2在刻蝕槽8中的反應時間一致，自然基片之間的受刻蝕成度均勻，產(chǎn) 品質(zhì)量也就得到了提高。顯而易見，在使用這種方法的過程中，不必等前一 輛小車駛出刻蝕槽8，小車可以一輛接著一輛裝載著薄膜基片2進入刻蝕槽8， 這種流水線使的刻蝕操作方式大大提高了生產(chǎn)效率。最后應當說明的是以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非對其 限制；盡管參照較佳實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，所屬領(lǐng)域的普通技 術(shù)人員應當理解依然可以對本發(fā)明的具體實施方式
進行修改或者對部分技 術(shù)特征進行等同替換；而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神，其均應涵蓋在本發(fā) 明請求保護的技術(shù)方案范圍當中。
權(quán)利要求
1、一種薄膜基片的濕法刻蝕裝置，包括一刻蝕槽(8)和一裝載薄膜基片(2)的載體(9)，其特征在于所述刻蝕槽(8)底部是弧形；所述載體(9)設(shè)有車輪(1)，沿刻蝕槽(8)底部運動。
2、 如權(quán)利要求l所述的薄膜基片的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述刻 蝕槽(8)底部設(shè)有軌道，車輪(1)沿軌道運動。
3、 如權(quán)利要求2所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述載體(9)上設(shè)有基片夾(4)，固定薄膜基片(2)。
4、 如權(quán)利要求3所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述 載體(9)底部兩側(cè)各設(shè)有兩個車輪(1);沿刻蝕槽(8)的底部設(shè)有兩條弧 形軌道(6)。
5、 如權(quán)利要求4所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述 刻蝕槽(8)的出入口分別設(shè)有水平軌道(7)，水平軌道(7)與弧形軌道(6) 相接。
6、 如權(quán)利要求5所述的薄膜基片的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述刻 蝕槽(8)上有蓋板(5)，蓋板(5)不干涉載體(9)進出刻蝕槽(8)。
7、 如權(quán)利要求6所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述 載體(9)的高度小于刻蝕槽(8)的深度。
8、 如權(quán)利要求5或6所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，其特征在于 還包括一控制單元，所述控制單元控制載體(9)運動。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，包括一刻蝕槽和一放置薄膜基片的載體，所述刻蝕槽底部是弧形；所述載體底部設(shè)有車輪，刻蝕槽內(nèi)設(shè)有軌道，車輪沿軌道進出刻蝕槽，刻蝕槽上有蓋板，蓋板不干涉載體進出刻蝕槽，該裝置還包括一控制單元，控制單元控制載體運動，所述載體上設(shè)有基片夾，固定薄膜基片。通過載體在刻蝕槽中的運動的流水線生產(chǎn)設(shè)計理念，使得每一片在酸液槽中的時間相同，同時保證了酸液的濃度波動范圍較小，提高了酸液的利用率，提升了產(chǎn)品的質(zhì)量，加快了生產(chǎn)效率。
文檔編號H01L31/18GK101404303SQ20081004266
公開日2009年4月8日 申請日期2008年9月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月9日
發(fā)明者劉古巖, 芃 夏, 鄭飛璠 申請人:上海拓引數(shù)碼技術(shù)有限公司