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      半導(dǎo)體封裝裝片工藝方法

      文檔序號(hào):6903438閱讀:2074來(lái)源:國(guó)知局
      專(zhuān)利名稱(chēng):半導(dǎo)體封裝裝片工藝方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及半導(dǎo)體封裝,特別涉及半導(dǎo)體封裝裝片工藝方法。
      背景技術(shù)
      在半導(dǎo)體塑料封裝軟焊料裝片工藝中需用氮?dú)浠旌蠚鈦?lái)作 為保護(hù),以提高焊料裝片的粘潤(rùn)性能, 一般通過(guò)工業(yè)氮和氫氣經(jīng) 過(guò)混合裝置而制成混合氣體。主要缺點(diǎn)是成本高,混合比例難控 制,還必須解決運(yùn)輸和存貯的危險(xiǎn)性的問(wèn)題,在封裝工藝上,氮 氫氣體必須按比例混合均勻,由于比例不穩(wěn)定會(huì)給裝片的性能帶 來(lái)波動(dòng)。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的是針對(duì)上述專(zhuān)利,提出一種安全、低成本半導(dǎo) 體封裝裝片工藝方法。
      本發(fā)明提供半導(dǎo)體封裝裝片工藝方法,焊料裝片時(shí)采用氮、 氫混合氣,氮、氫混合氣是由液氨分解而成的,液氨分解是由鎳
      觸媒活化,升溫190-200。C,保溫1小時(shí)后,升溫490-500。C,保 溫2小時(shí)后,再升溫640-65(TC,保溫3小時(shí)后,再升溫790-800
      3。C,保溫2小時(shí),冷卻過(guò)濾。
      本發(fā)明的有益效果是,氯分解后產(chǎn)生的氮?dú)浔壤潭ň鶆颍?氨氣分解后氮和氫的比例為1: 3,其保護(hù)還原性很好,芯片沾
      潤(rùn)性更高;設(shè)備簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,能耗低,原料消
      耗也比較少,氨分解后直接生成氮?dú)浠旌蠚?,無(wú)需用專(zhuān)門(mén)的氣混 裝置對(duì)氮?dú)溥M(jìn)行混合,節(jié)約了設(shè)備成本。


      圖1是本發(fā)明半導(dǎo)體封裝裝片工藝方法流程圖。
      圖中1.液氨,2.減壓閥,3.汽化器,4.換熱器,5.分解 爐,6.冷卻塔,7.流量計(jì)8.裝片
      具體實(shí)施例方式
      實(shí)施例以液氨1為原料,經(jīng)汽化3后將氨氣逐漸加熱到一
      定溫度,升溫190-200°C,保溫1小時(shí)后,升溫490-5CXTC,保溫 2小時(shí)后,再升溫640-650。C,保溫3小時(shí)后,再升溫790-800°C , 保溫2小時(shí),氨經(jīng)分解爐5分成氫氮混合氣體,液氨氣化預(yù)熱后 進(jìn)入裝有催化劑鎳觸媒的分解爐,在一定溫度壓力和催化劑的作 用下氨即分解,產(chǎn)生含氫75%、氮25%的混合氣,并吸收一定 的熱量,分解后的氣體經(jīng)熱交換器4和冷卻塔6及流量計(jì)7后, 最后進(jìn)行純化處理后使用。
      將氨分解后的混合氣用于功率晶體管3DD13003 TO-220封 裝的裝片工藝,粘潤(rùn)性好,裝片空洞率《3%,熱阻50士5mV, Vces《0.3V。
      權(quán)利要求
      1、一種半導(dǎo)體封裝裝片工藝方法,焊料裝片時(shí)采用氮、氫混合氣,其特征在于所述的氮、氫混合氣是由液氨分解而成的。
      2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝裝片工藝方法,其特征在于所述的液氨分解是由鎳觸媒活化,升溫190-200°C,保溫1小時(shí)后,升溫 490-500°C ,保溫2小時(shí)后,再升溫640-650°C,保溫3小時(shí)后,再升溫790-800 °C,保溫2小時(shí),冷卻過(guò)濾。
      全文摘要
      一種半導(dǎo)體封裝裝片工藝方法,焊料裝片時(shí)采用氮、氫混合氣,氮、氫混合氣是由液氨分解而成的,液氨分解是由鎳觸媒活化,升溫190-200℃,保溫1小時(shí)后,升溫490-500℃,保溫2小時(shí)后,再升溫640-650℃,保溫3小時(shí)后,再升溫790-800℃,保溫2小時(shí),冷卻過(guò)濾。氨分解后產(chǎn)生的氮?dú)浔壤潭ň鶆?,氨氣分解后氮和氫的比例?∶3,其保護(hù)還原性好,芯片沾潤(rùn)性高;設(shè)備簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,能耗低,原料消耗也比較少,氨分解后直接生成氮?dú)浠旌蠚?,無(wú)需用專(zhuān)門(mén)的氣混裝置對(duì)氮?dú)溥M(jìn)行混合,節(jié)約了設(shè)備成本。
      文檔編號(hào)H01L21/56GK101494179SQ20081019629
      公開(kāi)日2009年7月29日 申請(qǐng)日期2008年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月27日
      發(fā)明者何振志, 鄭建華 申請(qǐng)人:南通華隆微電子有限公司
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