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      一種用于電容器的純鋁鋅加厚金屬化薄膜的制作方法

      文檔序號(hào):6915233閱讀:573來源:國知局
      專利名稱:一種用于電容器的純鋁鋅加厚金屬化薄膜的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及一種金屬化薄膜,特別是涉及一種用于電容器的純鋁鋅加厚 金屬化薄膜。
      背景技術(shù)
      電容器是電子設(shè)備中大量使用的電子元件之一,廣泛應(yīng)用于隔直,耦合,旁 路,濾波,調(diào)諧回路,能量轉(zhuǎn)換,控制電路等方面。薄膜電容器是電容器的一種, 由于其體積小容量大,有著較為廣泛的用途,可以形成不同的系列產(chǎn)品,如高比
      能儲(chǔ)能電容器、抗電磁干擾電容器、抗輻射電容器、安全膜電容器、長(zhǎng)壽命電容 器、高可靠電容器、髙壓全膜電容器等。薄膜電容器從加工方式上可以分為巻繞 式和疊片式二種,無論是巻繞式薄膜電容器還是疊片式薄膜電容器,都是需要采 用金屬化薄膜來制作而成,該金屬化薄膜則通常包括有金屬層和薄膜介質(zhì)層,在 制作時(shí),是將金屬層鍍膜在薄膜介質(zhì)層上從而形成了金屬化薄膜。采用金屬化薄 膜來制作電容器時(shí),通常要在金屬化薄膜的金屬化端邊噴金,為了達(dá)到較好的噴 金效果,現(xiàn)有技術(shù)的一種金屬化薄膜是在該金屬化薄膜的金屬化端邊加厚,這種 加厚模式的金屬化薄膜其金屬層一般采用鋁層,加厚層也采用鋁層,即純鋁鋁加 厚模式,隨著噴金工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,噴金金屬用鋅和錫鋅合金的越來越多, 因而存在著噴金效果不佳的弊端。

      實(shí)用新型內(nèi)容
      本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)之不足,提供一種用于電容器的純鋁鋅 加厚金屬化薄膜,使得噴金金屬與金屬化邊的加厚端具有結(jié)合更好的效果,同時(shí), 還具有工藝簡(jiǎn)單,制作成本低的特點(diǎn)。
      本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是 一種用于電容器的純鋁鋅 加厚金屬化薄膜,包括一薄膜介質(zhì)層;
      一鋁金屬化膜層,為采用鋁金屬材料鍍膜在薄膜介質(zhì)層上形成;該鋁金屬化 膜層與薄膜介質(zhì)層相結(jié)合后設(shè)有留邊
      一鋅金屬加厚層,為采用鋅金屬材料鍍膜在鋁金屬化膜層上形成;該鋅金屬 加厚層設(shè)在所述的鋁金屬化膜層與薄膜介質(zhì)層相結(jié)合后的金屬化端邊。
      本實(shí)用新型的一種用于電容器的純鋁鋅加厚金屬化薄膜,是在薄膜介質(zhì)層上 鍍膜鋁金屬化膜層而構(gòu)成基本的金屬化薄膜,并在該金屬化薄膜的金屬化端邊加 鍍一小段的鋅金屬加厚層,從而構(gòu)成了純鋁鋅加厚金屬化薄膜,采用該純鋁鋅加 厚金屬化薄膜來制作電容器時(shí),噴金金屬用鋅和錫鋅合金,使噴金結(jié)合效果更好。
      本實(shí)用新型的有益效果是,由于采用了一薄膜介質(zhì)層、 一鋁金屬化膜層、一 鋅金屬加厚層來構(gòu)成純鋁鋅加厚金屬化薄膜,且鋁金屬化膜層為采用鋁金屬材料 鍍膜在薄膜介質(zhì)層上形成,該鋁金屬化膜層與薄膜介質(zhì)層相結(jié)合后設(shè)有留邊,鋅 金屬加厚層為采用鋅金屬材料鍍膜在鋁金屬化膜層上形成,該鋅金屬加厚層設(shè)在 所述的鋁金屬化膜層與薄膜介質(zhì)層相結(jié)合后的金屬化端邊,該結(jié)構(gòu)的純鋁鋅加厚 金屬化薄膜,在制作電容器時(shí),適應(yīng)于目前噴金無鉛化工藝的趨勢(shì),噴金金屬用 鋅和錫鋅合金其噴金結(jié)合效果更好,同時(shí),從蒸鍍工藝角度出發(fā),還具有工藝簡(jiǎn) 單,制作成本低的優(yōu)點(diǎn)。
      以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明但本實(shí)用新型的一 種用于電容器的純鋁鋅加厚金屬化薄膜不局限于實(shí)施例。

      圖1是本實(shí)用新型的構(gòu)造示意圖。
      具體實(shí)施方式

      參見附圖所示,本實(shí)用新型的一種用于電容器的純鋁鋅加厚金屬化薄膜,包

      一薄膜介質(zhì)層l;
      一鋁金屬化膜層2,為釆用鋁金屬材料鍍膜在薄膜介質(zhì)層1上形成;該鋁金
      4屬化膜層2與薄膜介質(zhì)層1相結(jié)合后設(shè)有留邊12;
      一鋅金屬加厚層3,為采用鋅金屬材料鍍膜在鋁金屬化膜層2上形成;該鋅
      金屬加厚層3設(shè)在所述的鋁金屬化膜層2與薄膜介質(zhì)層1相結(jié)合后的金屬化端邊。
      本實(shí)用新型的一種用于電容器的純鋁鋅加厚金屬化薄膜,是在薄膜介質(zhì)層1
      上鍍膜鋁金屬化膜層2而構(gòu)成基本的金屬化薄膜,并在該金屬化薄膜的金屬化端 邊加鍍一小段的鋅金屬加厚層3,從而構(gòu)成了純鋁鋅加厚金屬化薄膜,采用該純 鋁鋅加厚金屬化薄膜來制作電容器時(shí),噴金金屬用鋅和錫鋅合金,使噴金結(jié)合效 果更好。
      上述實(shí)施例僅用來進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的一種用于電容器的純鋁鋅加厚 金屬化薄膜,但本實(shí)用新型并不局限于實(shí)施例,凡是依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì) 對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾,均落入本實(shí)用新型技術(shù)方 案的保護(hù)范圍內(nèi)。
      權(quán)利要求1. 一種用于電容器的純鋁鋅加厚金屬化薄膜,其特征在于包括一薄膜介質(zhì)層;一鋁金屬化膜層,為采用鋁金屬材料鍍膜在薄膜介質(zhì)層上形成;該鋁金屬化膜層與薄膜介質(zhì)層相結(jié)合后設(shè)有留邊;一鋅金屬加厚層,為采用鋅金屬材料鍍膜在鋁金屬化膜層上形成;該鋅金屬加厚層設(shè)在所述的鋁金屬化膜層與薄膜介質(zhì)層相結(jié)合后的金屬化端邊。
      專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于電容器的純鋁鋅加厚金屬化薄膜,包括一薄膜介質(zhì)層、一鋁金屬化膜層、一鋅金屬加厚層,鋁金屬化膜層為采用鋁金屬材料鍍膜在薄膜介質(zhì)層上形成,該鋁金屬化膜層與薄膜介質(zhì)層相結(jié)合后設(shè)有留邊,鋅金屬加厚層為采用鋅金屬材料鍍膜在鋁金屬化膜層上形成,該鋅金屬加厚層設(shè)在所述的鋁金屬化膜層與薄膜介質(zhì)層相結(jié)合后的金屬化端邊,該結(jié)構(gòu)的純鋁鋅加厚金屬化薄膜,在制作電容器時(shí),適應(yīng)于目前噴金無鉛化工藝的趨勢(shì),噴金金屬用鋅和錫鋅合金其噴金結(jié)合效果更好,同時(shí),從蒸鍍工藝角度出發(fā),還具有工藝簡(jiǎn)單,制作成本低的優(yōu)點(diǎn)。
      文檔編號(hào)H01G4/33GK201256081SQ20082014522
      公開日2009年6月10日 申請(qǐng)日期2008年8月13日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月13日
      發(fā)明者蔡仔彬, 黃代軍 申請(qǐng)人:廈門法拉電子股份有限公司
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