專利名稱：具有真空滅弧室的開關(guān)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種按權(quán)利要求1的前序部分所述的具有真空滅弧室 的開關(guān)裝置，在該真空滅弧室中設(shè)置至少一個可運動的接觸件。
背景技術(shù)：
通常已知對每個分離行程(斷路間隔)具有驅(qū)動或驅(qū)動可能性的 真空滅弧室。因此接觸件處于真空滅弧室內(nèi)，其中一個接觸件固定地 安裝在真空滅弧室內(nèi)，其中一個接觸件可運動地設(shè)置在輸入導(dǎo)體上。 設(shè)置在真空滅弧室中的接觸件的運動通過輸入導(dǎo)體和波紋管實現(xiàn)。另
外在開關(guān)裝置的要求的免復(fù)燃性(Neuztindungsfreiheit)的情況下按 有利的方式兩個觸點間隙(Schaltstrecke )(在此為兩個真空滅弧室) 串聯(lián)。
已知的通常的真空滅弧室配備有一個觸點間隙，并且基本上被標(biāo) 準(zhǔn)化。
如果按負載電路或功率電路需要具有提高的介電強度的真空滅弧 室，那么在滅弧室內(nèi)需要非常大的間距，這當(dāng)然也對于在接觸件之間 的距離(分離行程)有效。
如果要求開關(guān)裝置的免復(fù)燃性，那么 一方面兩個觸點間隙串聯(lián)。 但是兩個真空滅弧室必須分開地驅(qū)動。這可以通過兩個開關(guān)裝置或一 個具有杠桿系統(tǒng)(傳動機構(gòu))的開關(guān)裝置實現(xiàn)。
如果例如選擇兩個真空滅弧室，那么用于整個單元的技術(shù)耗費是 大的并且與高成本有關(guān)。另一限制是相比較大的體積，該體積當(dāng)時對 于雙真空滅弧室結(jié)構(gòu)是必需的。如果開關(guān)裝置要求用于負荷開關(guān)的領(lǐng) 域或用于電容開關(guān)，那么可靠的切斷是必要的(少量的復(fù)燃)。

發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的目的在于，明顯提高斷流容量和介電強度。
該目的在同類方式的開關(guān)裝置中通過權(quán)利要求1特征部分解決。
其他有利的結(jié)構(gòu)在從屬權(quán)利要求中得到。
在此本發(fā)明的核心是在真空滅弧室內(nèi)實現(xiàn)結(jié)構(gòu)上的串聯(lián)接觸部， 使得在一個真空滅弧室內(nèi)設(shè)置兩個串聯(lián)的具有總共兩個可打開的接觸 平面的接觸結(jié)構(gòu)。在此兩個串聯(lián)接觸部設(shè)置在正好一個真空滅弧室內(nèi)。 因此尤其在介電強度方向明顯提高開關(guān)性能。
在其它有利的結(jié)構(gòu)中給出，兩個接觸部通過一個共同的驅(qū)動裝置 力口載。
同樣有利的是，兩個接觸部通過三個接觸件構(gòu)成。
在其他有利的結(jié)構(gòu)中給出，其中一個接觸件通過驅(qū)動裝置直接強 迫地進行驅(qū)動，而另一個接觸件通過彈簧力間接驅(qū)動并且在至少一個 操作方向上同步或跟蹤運動。
在其他尤其有利的結(jié)構(gòu)中給出，同步或跟蹤運動的接觸件是無電 勢的。從而鑒于可靠的滅弧提供大的改善。
在其他有利的結(jié)構(gòu)中給出，同步或跟蹤運動的接觸件由杯形結(jié)構(gòu) 包圍。
另外設(shè)計，杯形結(jié)構(gòu)與接觸件一體地或至少固定地連接。 一種結(jié)構(gòu)是尤其有利的，即杯形結(jié)構(gòu)設(shè)有開口，接觸件設(shè)置得穿 過該開口，該接觸件在兩面具有有效的接觸面。
另外有利的是，具有相對于銅較低的導(dǎo)電性的材料用于輸入導(dǎo)體。 在此所述兩個輸入導(dǎo)體中的至少一個由銅制成。
在一種特別的結(jié)構(gòu)中給出，在外部的真空滅弧室的內(nèi)部還有另一 內(nèi)部的滅弧室，該內(nèi)部的滅弧室這樣設(shè)置在其內(nèi)，使得兩個得到的接 觸部在觸點間隙中串聯(lián)。
對于各接觸件不同的材料組合是有利的。例如至少一個接觸件由 銅鉻合金構(gòu)成。
一種特別的彼此協(xié)調(diào)的材料組合是，接觸部之一或這一個接觸部的各接觸面由鵠銅合金或由碳化鴒一銀合金構(gòu)成，而另 一接觸部的各 接觸件由銅鉻合金構(gòu)成。


在附圖中的實施例中描述并且下面詳細說明本發(fā)明。其中 圖l顯示第一實施形式的負荷開關(guān)。 圖2顯示第二實施形式的負荷開關(guān)。
具體實施例方式
為了使兩個觸點間隙集成在僅一個真空滅弧室和集成僅一個從外 部驅(qū)動的輸入導(dǎo)體中，另一可運動的構(gòu)件處于真空滅弧室的內(nèi)部。在 切斷時通過輸入導(dǎo)體(開關(guān)側(cè))實現(xiàn)到真空滅弧室中的運動導(dǎo)入。首 先在切斷時一個接觸位置打開并且在超過第一分離行程之后在真空滅
弧室中在可運動的構(gòu)件上方實現(xiàn)第二分離行程，見圖1和圖2。如果 達到整個分離行程，那么打開兩個觸點間隙。在這個結(jié)構(gòu)中當(dāng)然開關(guān) 裝置(并且可運動的輸入導(dǎo)體)的較高的觸點行程(兩個分離間隙之 和)是必要的。
如果采用兩個分開的真空滅弧室，那么可以在每個真空滅弧室上 施加必要的接觸力，從而必需雙倍的接觸擠壓力。在集成的觸點間隙 中兩個觸點間隙串聯(lián)，需要由開關(guān)裝置施加標(biāo)準(zhǔn)的接觸壓力，即用于 真空滅弧室的力。
這種結(jié)構(gòu)不僅在熄滅電弧方面而且在從而實現(xiàn)的介電強度方面具 有顯著的優(yōu)點，在該結(jié)構(gòu)中，中間的接觸區(qū)域通過杯形的結(jié)構(gòu)構(gòu)成或 者由該結(jié)構(gòu)包圍，并且在此該杯形結(jié)構(gòu)無電勢地保持。
圖l顯示負荷開關(guān)，即真空滅弧室3，包括兩個在接觸件7與8 和8與9之間的集成的觸點間隙。真空滅弧室的一側(cè)配備有可運動的 輸入導(dǎo)體2。通過波紋管1使輸入導(dǎo)體2和接觸件7可在真空滅弧室 內(nèi)運動。絕緣體6承擔(dān)在構(gòu)件4與真空滅弧室的構(gòu)件10(固定觸點側(cè)) 之間的絕緣。在切斷時首先輸入導(dǎo)體2與可運動地設(shè)置在真空滅弧室。預(yù)緊力允許觸點行程8-9。在達到觸點間隙8-9的預(yù)調(diào)節(jié)的 觸點行程之后，觸點間隙7-8打開，這使得第二觸點間隙打開。構(gòu)件 8的行程限定可以通過所述邊緣突起或另一邊緣突起實現(xiàn)(在此未詳 細描述)。
在圖2中相對于圖l有較小的改變，其描述一種類似的負荷開關(guān)。 因此圖2同樣顯示負荷開關(guān)，即真空滅弧室3，包括兩個在接觸件7 與8和8與9之間的集成的觸點間隙。真空滅弧室的一側(cè)配備有可運 動的輸入導(dǎo)體2。通過波紋管1使輸入導(dǎo)體2和接觸件7可在真空滅 弧室內(nèi)運動。絕緣體6承擔(dān)在構(gòu)件4與真空滅弧室的構(gòu)件10 (包括蓋 和固定觸點支承件的固定觸點側(cè))之間的絕緣。在切斷時首先輸入導(dǎo) 體2與可運動地設(shè)置在真空滅弧室中的構(gòu)件8—起運動。構(gòu)件8通過 在絕緣體6上的邊緣突起與彈簧構(gòu)件5連接。預(yù)緊力允許觸點行程8-9 。 在達到觸點間隙8-9的預(yù)調(diào)節(jié)的觸點行程之后觸點間隙7-8打開，這 使得第二觸點間隙打開。
權(quán)利要求
1.開關(guān)裝置，其具有真空滅弧室，在該真空滅弧室內(nèi)設(shè)置至少一個可運動的接觸件，其特征在于在真空滅弧室內(nèi)設(shè)置兩個串聯(lián)的、具有總共兩個能打開的接觸平面的接觸結(jié)構(gòu)。
2. 按權(quán)利要求l所述的開關(guān)裝置，其特征在于所述兩個接觸部 通過一個共同的驅(qū)動裝置加載。
3. 按權(quán)利要求1或2所述的開關(guān)裝置，其特征在于所述兩個接 觸部通過三個接觸件構(gòu)成。
4. 按權(quán)利要求2所述的開關(guān)裝置，其特征在于所述接觸件之一 通過驅(qū)動裝置直接強迫地驅(qū)動，而另一個接觸件通過彈簧力間接驅(qū)動 并且沿至少一個操作方向同步運動或跟蹤運動。
5. 按上述權(quán)利要求任一項所述的開關(guān)裝置，其特征在于同步運 動或跟蹤運動的接觸件是無電勢的。
6. 按上述權(quán)利要求任一項所述的開關(guān)裝置，其特征在于同步運 動或跟蹤運動的接觸件由杯形結(jié)構(gòu)包圍。
7. 按權(quán)利要求6所述的開關(guān)裝置，其特征在于杯形結(jié)構(gòu)與接觸 件一體地連接或至少固定地連接。
8. 按權(quán)利要求6所述的開關(guān)裝置，其特征在于杯形結(jié)構(gòu)設(shè)有開 口，接觸件穿過該開口固定，該接觸件在兩面具有有效的接觸面。
9. 按上述權(quán)利要求1至8任一項所迷的開關(guān)裝置，其特征在于 具有比銅小的導(dǎo)電性的材料用于所述輸入導(dǎo)體。
10. 按上述權(quán)利要求1至8任一項所述的開關(guān)裝置，其特征在于 兩個輸入導(dǎo)體中的至少一個由銅制成。
11. 按上述權(quán)利要求任一項所述的開關(guān)裝置，其特征在于在外 部的真空滅弧室內(nèi)有另一內(nèi)部的滅弧室，而且該內(nèi)部的滅弧室這樣設(shè) 置在外部的真空滅弧室內(nèi)，使得兩個產(chǎn)生的接觸部在觸點間隙中串聯(lián)。
12. 按上述權(quán)利要求1至11任一項所述的開關(guān)裝置，其特征在于 所述接觸件中的至少一個由銅鉻合金構(gòu)成。
13.按上述權(quán)利要求1至11任一項所述的開關(guān)裝置，其特征在于 所述接觸部之一或這一個接觸部的各接觸面由鵠銅合金或碳化鴒一銀 合金構(gòu)成，而另一接觸部的各接觸件由銅鉻合金構(gòu)成。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種按權(quán)利要求1前序部分所述的開關(guān)裝置，其具有真空滅弧室，在該真空滅弧室內(nèi)設(shè)置至少一個可運動的接觸件。為了明顯提高斷流容量和介電強度，按本發(fā)明建議，在真空滅弧室內(nèi)設(shè)置兩個串聯(lián)的、具有總共兩個可打開的接觸平面的接觸結(jié)構(gòu)。
文檔編號H01H33/66GK101675491SQ200880014633
公開日2010年3月17日 申請日期2008年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月3日
發(fā)明者D·根奇 申請人:Abb技術(shù)股份公司