專利名稱：應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其涉及一種應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體制造工藝中，光刻工序通常采用光學(xué)光刻(optical lithogr即hy)工藝 來完成。在光刻工藝中，首先將具有光敏性質(zhì)的光刻膠(Photoresist)涂敷在晶圓上。光 通過掩膜照射到光刻膠上，使需要在后續(xù)工藝中被移去的某些金屬電阻層所對應(yīng)的晶圓區(qū) 域上的光刻膠被曝光。在被曝光區(qū)域，光刻膠發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)，它使得光刻膠很容易溶 解在顯影溶液中。在顯影之后，光刻膠只是在希望有電阻的區(qū)域上保留。接著，晶圓被浸泡 在酸槽中以溶解被曝光區(qū)域的金屬層，但酸槽中的酸不會對光刻膠及其下金屬層產(chǎn)生明顯 的傷害。這一刻蝕完成后，晶圓從酸槽中取出，漂洗，并去除光刻膠。 現(xiàn)有的儲存顯影溶液的顯影罐結(jié)構(gòu)如下，請參閱圖l所示該顯影罐l上設(shè)有供顯 影溶液流入的入口 ll和供顯影溶液流出的出口 12，在顯影罐1的一側(cè)設(shè)有一水位管2，所 述水位管2自下而上依次設(shè)有超低位傳感器41 、低位傳感42器、高位傳感器43和超高位傳 感器44，且所述水位管2的下端通過一個水平方向的連接管3接入顯影罐1側(cè)壁下部的接 口 ，該接口設(shè)置在靠近顯影罐底部的位置。但是，這種結(jié)構(gòu)的水位管，顯影罐內(nèi)顯影溶液中 的氣泡容易通過該連接管3進入水位管2，進而引發(fā)如下情況當(dāng)超低位傳感器41由于受 到氣泡的影響而未探測倒顯影溶液的時候，其上方的低位傳感器42已經(jīng)探測到顯影溶液 的存在。 由于現(xiàn)在通常采用機械自動化流水線生產(chǎn)，一旦處于高位的傳感器(比如低位傳 感器42)比處于更低位的傳感器(比如超低位傳感器41)先探測到顯影溶液，系統(tǒng)會認(rèn)為 出錯而發(fā)出警報。接著，鎖定裝置也將被觸發(fā)，工藝生產(chǎn)線上的所有晶圓將因此停頓下來， 進而容易引發(fā)這些晶圓在一起碰撞甚至碰碎的情況。而且，這些晶圓由于過長時間停留在 潮濕的酸性環(huán)境中，容易被侵蝕損壞?；谏鲜鲞@些原因，由誤報警引起的晶圓被廢棄比例 非常高，生產(chǎn)成本驟升。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提供一種應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐，不僅結(jié)構(gòu)簡單、 使用方便，而且避免氣泡流進水位管而影響工藝生產(chǎn)線。 為了達到上述的目的，本實用新型提供一種應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐，所述 顯影罐上設(shè)有供顯影溶液流入的入口和供顯影溶液流出的出口，在顯影罐的一側(cè)設(shè)有一水 位管，所述水位管至下而上依次設(shè)有若干傳感器，所述水位管的下端通過一連接管與所述 顯影罐側(cè)壁的下部接口連通，所述連接管與顯影罐的接口位置比所述連接管與水位管的接 口位置高。由于氣泡只會向上逸出，不會向下運動流進水位管。 在上述的應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐中所述連接管是一根斜管，該斜管的上端 與顯影罐的接口連通，該斜管的下端與水位管的接口連通。即使氣泡進入了斜管式連接管也不可能通過連接管向下運動進入水位管。 在上述的應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐中，所述連接管由一下水平管、一豎直管和一上水平管連接組成，且所述上、下水平管的一端分別與所述豎直管的上、下端連接，所述下水平管的另一端與所述水位管的下端連接，所述上水平管的另一端與顯影罐側(cè)壁的下部接口連通。采用Z字形的設(shè)計更能起到阻擋氣泡的作用，即使氣泡進入了連接管也不可能通過豎直管向下運動進入水位管。 在上述的應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐中，所述水位管的下端與所述顯影罐底部平齊。 在上述的應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐中，所述傳感器有四個，至下而上依次是超低位傳感器、低位傳感器、高位傳感器和超高位傳感器。 本實用新型通過將水位管下端與顯影罐之間的水平方向的連接管改裝成斜管或彎折型的連接管，使得連接管與顯影罐的接口相對于連接管與水位管的接口位置較高。由于所述連接管與顯影罐的接口相對于其與水位管的接口位置高，而且氣泡只能向上或水平方向運動，不會沿著連接管向下運動而進入水位管。同時，采用此種結(jié)構(gòu)的連接管，在水位管下端的水平高度不變的情況下，由于兩接口之間有個高度差，即連接管與顯影罐的接口相對于其與水位管的接口位置高，則顯影罐下部的接口位置必然需要比原先的接口位置高。當(dāng)顯影罐內(nèi)產(chǎn)生氣泡時，氣泡最初只能向上跑，在慣性力作用下，氣泡不容易改變方向而進入水位管，而是直接向上逸出。即便不慎使氣泡進入到連接管一端，由于彎折部分的存在，可有效阻擋氣泡進一步向連接管的另一端移動，從而更好地防止了氣泡進入水位管。因此，本實用新型可以有效避免顯影溶液中的氣泡流入水位管，從而避免了由于氣泡的存在而影響傳感器的判斷，以致觸發(fā)警報器及鎖定裝置，使得整個工藝生產(chǎn)線停頓。因而，本實用新型有效避免了晶圓由于生產(chǎn)線突然停頓而引發(fā)的碰撞。同時也可以有效避免晶圓由于過長時間處在潮濕的酸性環(huán)境中易被侵蝕的風(fēng)險。因此，提高了生產(chǎn)線的效率，有效減少了晶圓的不合格率，降低了生產(chǎn)成本。

本實用新型的應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐由以下的實施例及附圖給出。
圖1是現(xiàn)有的應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2是本實用新型應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖中，1-顯影罐，11-入口 ， 12-出口 ， 2-水位管，3-連接管，31-上水平管，32-豎直
管，33-上水平管，41-超低位傳感放棄，42-低位傳感器，43-高位傳感器，44-超高位傳感器。
具體實施方式以下將對本實用新型應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐作進一步的詳細(xì)描述。[0017] 請參閱圖2，這種應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐上設(shè)有供顯影溶液流入的入口 11和供顯影溶液流出的出口 12，在顯影罐1的一側(cè)設(shè)有一水位管2，所述水位管自下而上依次設(shè)有若干傳感器，所述水位管2的下端通過一連接管3與所述顯影罐1側(cè)壁的下部接口 13連接，所述連接管3與顯影罐1的接口比所述連接管3與水位管的接口位置高。所述水位管的下端與所述顯影罐1底部平齊。 所述連接管3的具體結(jié)構(gòu)如下其由一下水平管31、一豎直管32和一上水平管33連接組成。所述上、下水平管33、31的一端分別與所述豎直管32的上、下端連接，且所述下水平管31的另一端與所述水位管2的下端連接，所述上水平管33的另一端與顯影罐1側(cè)壁的下部接口連通。如此，使得所述連接管3與顯影罐1的接口相對于其與水位管2的接口位置高。由于所述連接管3與顯影罐1的接口相對于其與水位管2的接口位置高，而且氣泡只能向上或水平方向運動，不會沿著連接管向下運動而進入水位管。另外，由于水位管1的下端的水平高度通常與顯影罐1的底部齊平，是不變的。而連接管3與顯影罐1的接口位置比連接管3與水位管2的接口位置高，則顯影罐1下部的接口位置必然需要比圖1中現(xiàn)有技術(shù)的接口位置高。故當(dāng)顯影罐l內(nèi)產(chǎn)生氣泡時，氣泡最初只能向上跑，在慣性力作用下，氣泡不容易改變方向而進入水位管2，而是直接向上逸出。即便不慎使氣泡進入到連接管3 —端即與顯影罐1連接的那一端，由于彎折部分的存在，可有效阻擋氣泡進一步向連接管3的另一端即與水位管2連接的那一端移動，從而更好地防止了氣泡進入水位管2。因此，采用這種連接管可以有效避免顯影罐1內(nèi)顯影溶液中的氣泡流入水位管，從而避免了由于氣泡的存在而影響傳感器41-42的判斷，以致觸發(fā)警報器及鎖定裝置，使得整個工藝生產(chǎn)線停頓。 在上述的應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐1中，所述傳感器有四個，自下而上依次是超低位傳感器41、低位傳感器42、高位傳感器43和超高位傳感器44。以上四個傳感器的正確的工作狀態(tài)是當(dāng)顯影罐1內(nèi)的水位上升時，處于低位的傳感器比處于高位的傳感器先探測到顯影溶液。當(dāng)顯影罐l內(nèi)的水位上降時，處于高位的傳感器比處于低位的傳感器先探測不到顯影溶液。 另外，連接管也可以直接采用一斜管，該斜管的上端與顯影罐的接口連通，該斜管的下端與水位管的接口連通。該方案結(jié)構(gòu)簡單，加工方便。當(dāng)然，連接管還可以采用其他形式，只要所述連接管與顯影罐的接口比所述連接管與水位管的接口位置高即可。由于氣泡不會通過連接管向下運動進入水位管。因此可以有效避免氣泡流入水位管，從而有效避免了由于氣泡的存在而影響傳感器的判斷，以致觸發(fā)警報器及鎖定裝置，使得整個工藝生產(chǎn)線停頓。 本實用新型通過將水位管下端與顯影罐之間的水平方向的連接管此種連接管，即與顯影罐的接口相對于水位管的接口位置高的連接管，有效避免了顯影罐中的氣泡流入水位管，從而避免了由于氣泡的存在而影響傳感器的判斷，進而觸發(fā)警報器及鎖定裝置，使得整個工藝生產(chǎn)線停頓。因此，避免了晶圓由于生產(chǎn)線突然停頓而引發(fā)的碰撞。同時也可以有效避免晶圓由于過長時間處在潮濕的酸性環(huán)境中易被侵蝕的風(fēng)險。因此，提高了生產(chǎn)線的效率，有效減少了晶圓的不合格率，降低了生產(chǎn)成本。 雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本實用新型。本實用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，在不脫離本實用新型的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動與潤飾。因此本實用新型的保護范圍當(dāng)視權(quán)利要求書所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求一種應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐，所述顯影罐上設(shè)有供顯影溶液流入的入口和供顯影溶液流出的出口，在顯影罐的一側(cè)設(shè)有一水位管，所述水位管自下而上依次設(shè)有若干傳感器，所述水位管的下端通過一連接管與所述顯影罐側(cè)壁的下部接口連通，其特征在于所述連接管與顯影罐的接口位置比所述連接管與水位管的接口位置高。
2. 如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐，其特征在于所述連接是一根斜管，該斜管的上端與顯影罐的接口連通，該斜管的下端與水位管的接口連通。
3. 如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐，其特征在于所述連接管由一下水平管、一豎直管和一上水平管連接組成，且所述上、下水平管的一端分別與所述豎直管的上、下端連接，所述下水平管的另一端與所述水位管的下端連接，所述上水平管的另一端與顯影罐側(cè)壁的下部接口連通。
4. 如權(quán)利要求1或2或3所述的應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐，其特征在于所述水位管的下端與所述顯影罐底部平齊。
5. 如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐，其特征在于所述傳感器有四個，自下而上依次是超低位傳感器、低位傳感器、高位傳感器和超高位傳感器。
專利摘要本實用新型公開了一種應(yīng)用于涂敷顯影裝置的顯影罐，所述顯影罐上設(shè)有供顯影溶液流入的入口和供顯影溶液流出的出口，在顯影罐的一側(cè)設(shè)有一水位管，所述水位管自下而上依次設(shè)有若干傳感器，所述水位管的下端通過一連接管與所述顯影罐側(cè)壁的下部接口連通，所述連接管與顯影罐的接口位置比所述連接管與水位管的接口位置高。本實用新型將現(xiàn)有水位管下端與顯影罐之間的水平方向的連接管改裝成本實用新型所述形式，可以避免顯影罐內(nèi)顯影溶液中氣泡流入水位管而引起傳感器錯誤判斷，以致系統(tǒng)觸發(fā)警報器及鎖定裝置，使得整個工藝生產(chǎn)線停頓。同時也有效避免晶圓由于過長時間處在潮濕的酸性環(huán)境中易被侵蝕的風(fēng)險。提高了生產(chǎn)效率，降低了成本。
文檔編號H01L21/02GK201438260SQ20092007252
公開日2010年4月14日 申請日期2009年5月19日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月19日
發(fā)明者劉景華, 胡曉明 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司