專利名稱：熔斷器滅弧砂測實計的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及制作熔斷器的輔助工作，特別是涉及一種熔斷器滅弧砂測實計。
背景技術(shù)：
填料熔斷器有一個填充滅弧砂的填充空間，滅弧砂通過熔斷器上的一個小孔注入 到熔斷器內(nèi)。但由于小孔很小，操作人員無法看到填充空間內(nèi)的滅弧砂是否已注滿，也無輕 易地判斷出滅弧砂的實度是否符合產(chǎn)品的要求。目前，填料熔斷器內(nèi)填充滅弧砂后滅弧砂 的實度的檢測方法，主要是通過操作人員憑著自己的實際經(jīng)驗進(jìn)行主觀判斷來檢測的，但 此種檢測方法缺少量化的控制手段，使滅弧砂的實度難以確保在一定的控制范圍內(nèi)，一旦 滅弧砂的實度不夠，會直接影響產(chǎn)品的特性，使其滅弧效果不好。

實用新型內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題是，提供一種能探測熔斷器滅弧砂實度，并方便操 作人員控制熔斷器滅弧砂實度的熔斷器滅弧砂測實計。 本實用新型的技術(shù)解決方案是，提供一種具有以下結(jié)構(gòu)的熔斷器滅弧砂測實計， 它包括探針、彈簧、螺塞、標(biāo)桿、標(biāo)尺及殼體；所述的探針的右端安裝在殼體的左端內(nèi)，所述 的探針的左端露于殼體外；所述的標(biāo)桿的左端與所述的探針的右端相固定；所述的標(biāo)桿外 套合有彈簧，所述的彈簧的左端限位在所述的標(biāo)桿的左端上；所述的螺塞設(shè)有中心通孔，該 螺塞旋合在所述的殼體內(nèi)，且所述的彈簧的右端抵在螺塞的左端面上，所述的標(biāo)桿滑動套 合在所述的螺塞的中心通孔內(nèi)；所述的標(biāo)尺固定在所述的殼體的右端，且所述的標(biāo)桿的自 由端套合在所述的標(biāo)尺內(nèi)。 采用以上結(jié)構(gòu)后，本實用新型熔斷器滅弧砂測實計與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu) 點 由于本實用新型熔斷器滅弧砂測實計包括殼體、探針、彈簧、螺塞、標(biāo)桿及標(biāo)尺，所 述的探針部分安裝在所述的殼體內(nèi)，部分露置在所述的殼體外，所述的標(biāo)桿與所述的探針 相連接，所述的螺塞旋合在所述的殼體內(nèi)，所述的彈簧套合在所述的標(biāo)桿外，且位于所述的 標(biāo)桿的左端部與螺塞之間，所述的標(biāo)尺安裝在殼體的右端部上，所述的標(biāo)桿的自由端套合 在所述的標(biāo)尺內(nèi)。使用時，將探針露置在殼體外的部分插入熔斷器的小孔內(nèi)，探針露置在殼 體外的部分的長度要大于熔斷器填充空間的深度，所述的殼體端部的外壁緊靠于熔斷器小 孔周圍的外壁，由于熔斷器填充空間內(nèi)填有滅弧砂，滅弧砂會克服彈簧力使探針和標(biāo)桿上 升，標(biāo)桿上升便會到達(dá)標(biāo)尺內(nèi)的一個位置，標(biāo)桿頂端指示的標(biāo)尺上的數(shù)值就是熔斷器滅弧 砂的實度。滅弧砂越少，克服彈簧的力就越小，標(biāo)桿上升的幅度就越小，標(biāo)桿在標(biāo)尺上指示 的數(shù)值就越小，滅弧砂的實度也就越小。通過此種檢測方法，可以精確地控制滅弧砂的實 度，使產(chǎn)品的充砂量實度可以確保在一定的控制范圍內(nèi)，可以提高產(chǎn)品的性能，也能提高產(chǎn) 品的生產(chǎn)效率。 作為本實用新型的一種改進(jìn)，所述的標(biāo)桿包括限位臺階及桿體，所述的限位臺階
3與所述的桿體相連接，所述的限位臺階的左端與所述的探針的右端相固定，所述的彈簧套 合在桿體上且限位在所述的限位臺階的右端。由于所述的標(biāo)桿包括限位臺階，該限位臺階 可以將彈簧限位在其右端。

附圖是本實用新型熔斷器滅弧砂測實計的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖中所示:1、探針，2、彈簧，3、螺塞，3. 1、中心通孔，4、標(biāo)桿，4. 1、限位臺階，4.2、桿 體，5、標(biāo)尺，5. 1、尺度，6、限位塊，6. 1、中心孔，7、殼體。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型作進(jìn)一步說明。 請參閱附圖所示，本實用新型滅弧砂測實計包括探針1、彈簧2、螺塞3、標(biāo)桿4、標(biāo) 尺5、殼體7及限位塊6。所述的螺塞3設(shè)有中心通孔3. 1。所述的標(biāo)桿4包括限位臺階4. 1 及桿體4. 2，所述的限位臺階4. 1與所述的桿體4. 2相連接。所述的標(biāo)尺5是個透明套體， 所述的透明套體的側(cè)壁上標(biāo)有尺度5. 1。所述的殼體7是個管狀殼體，其左右兩端均開口。 所述的限位塊6設(shè)有中心孔6. 1。 所述的限位塊6安裝在所述的殼體7的左端，封住所述的殼體7的左端開口。所 述的探針1的右端與所述的標(biāo)桿4的限位臺階4. 1的自由端相固定，所述的探針1活動套 合在所述的限位塊6的中心孔6. 1內(nèi)，且有部分探針1露置在所述的殼體7外，所述的探針 1露置在殼體7外的部分的長度大于熔斷器填充空間的深度，所述的限位臺階4. 1被限位 在所述的限位塊6的右端。所述的彈簧2套合在所述的標(biāo)桿4的桿體4. 2上，且被限位臺 階4. 1限位。所述的螺塞3旋合在所述的殼體7內(nèi)，且所述的彈簧2的右端抵在螺塞3的 左端面上，所述的標(biāo)桿4滑動套合在所述的螺塞3的中心通孔3.1內(nèi)。所述的標(biāo)尺5的開 口端固定在所述的殼體7的外端，所述的標(biāo)桿4的自由端套合在所述的標(biāo)尺5內(nèi)。 使用時，將露置在殼體7外的探針1插入熔斷器的小孔內(nèi)，由于露置在殼體7外的 探針1的長度大于熔斷器填充空間的深度，而且填充空間又填充有滅弧砂，此時，給測實計 一個向下的壓力，使限位塊6的外壁緊貼于熔斷器小孔周圍的外壁，滅弧砂會克服彈簧力 給探針1 一個向上的力，使探針1和標(biāo)桿4上升，標(biāo)桿4上升便會改變其端部在標(biāo)尺5內(nèi)的 位置，標(biāo)桿4頂端所指示的標(biāo)尺5上的數(shù)值就是熔斷器滅弧砂的實度。滅弧砂越少，克服彈 簧2的力就越小，標(biāo)桿4上升的幅度就越小，標(biāo)桿4在標(biāo)尺5上指示的數(shù)值就越小，相對應(yīng) 的滅弧砂的實度就越小。與之相反實度就越大。
權(quán)利要求一種熔斷器滅弧砂測實計，其特征在于它包括探針(1)、彈簧(2)、螺塞(3)、標(biāo)桿(4)、標(biāo)尺(5)及殼體(7)；所述的探針(1)的右端安裝在殼體(7)的左端內(nèi)，所述的探針(1)的左端露于殼體(7)外；所述的標(biāo)桿(4)的左端與所述的探針(1)的右端相固定；所述的標(biāo)桿(4)外套合有彈簧(2)，所述的彈簧(2)的左端限位在所述的標(biāo)桿(4)的左端上；所述的螺塞(3)設(shè)有中心通孔(3.1)，該螺塞(3)旋合在所述的殼體(7)內(nèi)，且所述的彈簧(2)的右端抵在螺塞(3)的左端面上，所述的標(biāo)桿(4)滑動套合在所述的螺塞(3)的中心通孔(3.1)內(nèi)；所述的標(biāo)尺(5)固定在所述的殼體(7)的右端，且所述的標(biāo)桿(4)的自由端套合在所述的標(biāo)尺(5)內(nèi)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔斷器滅弧砂測實計，其特征在于所述的標(biāo)桿(4)包括限 位臺階(4. 1)及桿體(4. 2)，所述的限位臺階(4. 1)與所述的桿體(4. 2)相連接，所述的限 位臺階(4. 1)的左端與所述的探針(1)的右端相固定，所述的彈簧(2)套合在桿體(4)上 且限位在所述的限位臺階(4. 1)的右端。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的熔斷器滅弧砂測實計，其特征在于所述的殼體(7)的左端 安裝有限位塊(6)，所述的限位塊(6)上設(shè)有中心孔(6. l)，所述的限位塊(6)將所述的標(biāo) 桿(4)的限位臺階(4. 1)限位在所述的殼體(7)的左端內(nèi)，所述的探針(1)滑動套合在所 述的中心孔(6. 1)內(nèi)。
專利摘要本實用新型公開了一種熔斷器滅弧砂測實計，它包括探針(1)、彈簧(2)、螺塞(3)、標(biāo)桿(4)、標(biāo)尺(5)及殼體(7)；探針(1)右端安裝在殼體(7)左端內(nèi)，探針(1)左端露于殼體(7)外；標(biāo)桿(4)左端與探針(1)右端相固定；標(biāo)桿(4)外套合有彈簧(2)，彈簧(2)左端限位在標(biāo)桿(4)左端上；螺塞(3)設(shè)有中心通孔(3.1)，該螺塞(3)旋合在殼體(7)內(nèi)，彈簧(2)右端抵在螺塞(3)左端面上，標(biāo)桿(4)滑動套合在螺塞(3)中心通孔(3.1)內(nèi)；標(biāo)尺(5)固定在殼體(7)右端，且標(biāo)桿(4)自由端套合在標(biāo)尺(5)內(nèi)。本實用新型熔斷器滅弧砂測實計能探測熔斷器滅弧砂實度，并方便操作人員控制熔斷器滅弧砂實度。
文檔編號H01H85/18GK201514918SQ20092019839
公開日2010年6月23日 申請日期2009年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月13日
發(fā)明者周惠萍, 張寅 , 江振宇 申請人:曹偉國