專(zhuān)利名稱(chēng):一種用于等離子體蝕刻制程的墊板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種墊板,具體涉及一種用于等離子體蝕刻制程的墊板。
背景技術(shù):
太陽(yáng)能電池是一種半導(dǎo)體器件,其能夠?qū)⑻?yáng)光的光能轉(zhuǎn)換成電能,堪稱(chēng)當(dāng)代清 潔、無(wú)污染的可再生能源,備受人們的青睞。太陽(yáng)能電池主要以半導(dǎo)體材料為基礎(chǔ)制作,其 工作原理是光電材料吸收光能后發(fā)生光電子轉(zhuǎn)換反應(yīng)而產(chǎn)生電流。 目前廣泛采用的是硅太陽(yáng)能電池,其制造工藝也已經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)化,主要步驟為化學(xué)清 洗及表面結(jié)構(gòu)化處理(制絨)-擴(kuò)散制結(jié)-周邊刻蝕-沉積減反射膜-印刷電極-燒結(jié)。其 中,周邊刻蝕步驟一般采用等離子體蝕刻的方法,以去除上一步擴(kuò)散制結(jié)得到的硅片邊緣 中多余的擴(kuò)散磷。 在實(shí)際應(yīng)用中,通常是將幾百片硅片重疊在一起組成硅片組,然后在硅片組的上 下兩個(gè)面(頂面和底面)上設(shè)置墊板,再使用夾具上下夾持住,并用螺桿將夾具加緊,以達(dá) 到緊固的目的;然后即可對(duì)硅片組進(jìn)行等離子體蝕刻步驟。 然而,目前的墊板都是平板式結(jié)構(gòu),且一般由環(huán)氧樹(shù)脂、聚丙烯或聚四氟乙烯制 成。為了避免等離子體蝕刻過(guò)程中出現(xiàn)邊緣夾不緊的情況,必須要求夾具、墊板和硅片同時(shí) 具有很高的平整度,如果其中一項(xiàng)出現(xiàn)異常,必然導(dǎo)致蝕刻的產(chǎn)品蝕刻效果不均勻,以及出 現(xiàn)鉆刻現(xiàn)象,影響產(chǎn)品表面,這就給墊板的制作提出了很高的要求;此外,由于硅片本身存 在不可預(yù)料的厚薄不均,這就直接導(dǎo)致夾具、墊板和硅片組三者之間連接不夠緊密,中心和 四周的受力不均勻,蝕刻完畢之后,產(chǎn)品會(huì)受到不可恢復(fù)的損傷。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種用于等離子體蝕刻制程的墊板,以提高夾具、墊板 和硅片之間的緊密性,防止鉆刻現(xiàn)象。 為達(dá)到上述發(fā)明目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種用于等離子體蝕刻制 程的墊板,包括一本體,所述本體的上下兩個(gè)面中至少一面的邊緣四周設(shè)有連續(xù)閉合的凸 筋,所述凸筋和本體是一體結(jié)構(gòu)。 上文中,所述連續(xù)閉合的凸筋的形狀與硅片的外形匹配,一般為長(zhǎng)方形,也可以是 其他閉合形狀,閉合凸筋壓在硅片組的四周邊緣,起到封閉硅片表層或底層的作用;同時(shí)由 于凸筋和墊板本體均具有一定得塑性,可以使夾具、墊板和硅片組三者之間連接緊密,防止 鉆刻現(xiàn)象。 上述技術(shù)方案中,所述凸筋的寬度為1 10mm,厚度為0. 5 10mm。優(yōu)選的技術(shù)方案是,所述凸筋的寬度為2 5mm,厚度為0. 5 2mm。 由于上述技術(shù)方案運(yùn)用,本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的優(yōu)點(diǎn)是 1、本實(shí)用新型在墊板上設(shè)置連續(xù)閉合的凸筋,使閉合凸筋壓緊于硅片組上,利用
凸筋和墊板本體的塑性使夾具、墊板和硅片組三者之間連接緊密;同時(shí)也提高了墊板與相
3鄰硅片之間的密封性,從而防止了鉆刻現(xiàn)象。 2、本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,易于加工制作,適于推廣應(yīng)用。
圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例一的俯視圖 圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例一的主視圖 圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例一的剖視圖 圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例一的使用狀態(tài)示意圖。
其中1、凸筋;2、墊板;3、夾具;4、硅片組;5、螺桿:
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述 實(shí)施例一 參見(jiàn)圖1 4所示,一種用于等離子體蝕刻制程的墊板,包括一本體,所述本體的 上下兩個(gè)面中至少一面的邊緣四周設(shè)有連續(xù)閉合的凸筋1,所述凸筋和本體是一體結(jié)構(gòu)。所 述凸筋的寬度為1 10mm,厚度為0. 5 10mm。 上文中,所述連續(xù)閉合的凸筋的形狀與硅片的外形相似,大致為長(zhǎng)方形,閉合凸筋
壓在硅片組的四周邊緣,起到封閉硅片表層或底層的作用;同時(shí)由于凸筋和墊板本體均具
有一定得塑性,可以使夾具、墊板和硅片組三者之間連接緊密,防止鉆刻現(xiàn)象。 使用時(shí),先將幾百片硅片重疊在一起組成硅片組4,然后在硅片組4的上下兩個(gè)面
(頂面和底面)上設(shè)置墊板2,再使用夾具3上下夾持住,并用螺桿5將夾具加緊,以達(dá)到緊
固的目的;然后即可進(jìn)行上述的等離子體蝕刻步驟。
權(quán)利要求一種用于等離子體蝕刻制程的墊板,包括一本體,其特征在于所述本體的上下兩個(gè)面中至少一面的邊緣四周設(shè)有連續(xù)閉合的凸筋(1),所述凸筋和本體是一體結(jié)構(gòu)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于等離子體蝕刻制程的墊板,其特征在于所述凸筋的寬度為1 10mm,厚度為0. 5 10mm。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于等離子體蝕刻制程的墊板,其特征在于所述凸筋的寬 度為2 5mm,厚度為0. 5 2mm。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于等離子體蝕刻制程的墊板,包括一本體,所述本體的上下兩個(gè)面中至少一面的邊緣四周設(shè)有連續(xù)閉合的凸筋,所述凸筋和本體是一體結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型提高了夾具、墊板和硅片之間的緊密性,可以防止鉆刻現(xiàn)象,有利于等離子體蝕刻的順利進(jìn)行。
文檔編號(hào)H01L21/687GK201478286SQ20092023352
公開(kāi)日2010年5月19日 申請(qǐng)日期2009年8月3日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月3日
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