專利名稱：一種離子接地裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種在電力、通訊、石化、民航、通訊等行業(yè)電氣施工過程中使用的離 子接地裝置。
背景技術(shù)：
接地裝置是填埋在土壤中的，其作用是將故障電流、雷電流、靜電等有效導(dǎo)入大地，減 小跨步電壓、接觸電壓和反擊電壓，以保障設(shè)備正常運(yùn)行和人身安全，以及為保障精密設(shè)備 正常運(yùn)行，提供基準(zhǔn)電位。離子接地裝置包括電極單元和引出線，安裝時(shí)在外圍回填以火山 灰為主的高能回填料，其中電極單元是金屬制品，其抗腐蝕性能優(yōu)劣直接影響到接地裝置的 使用壽命。
現(xiàn)有技術(shù)的鋼質(zhì)離子接地裝置中，其電極單元包括空心和實(shí)心兩種。其中空心結(jié)構(gòu)電極 單元的鋼管內(nèi)具有內(nèi)填料層，可填裝各種離子劑或復(fù)合離子劑(如氯化鈉、氯化鉀、氯化鈣 、硫酸鈉、膨潤(rùn)土、羥乙基纖維、黃原膠等)，具有吸水、保濕和導(dǎo)電作用；鋼管外包覆有 覆蓋層， 一般為鋅層，其厚度一般小于O. 2mm，抗腐蝕性能較差，不能滿足較長(zhǎng)的使用壽命 要求；此外，電極單元上設(shè)置有孔且孔位于電極的上下兩端；只能垂直安裝，施工操作不便。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種新的離子接地裝置，提高接 地裝置的耐腐蝕能力，以增加其使用壽命。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是
一種離子接地裝置，包括電極單元和引出線，電極單元包括鋼管和鋼管外表面包覆的金 屬保護(hù)層，鋼管為具有內(nèi)填料層的空心結(jié)構(gòu)，電極單元上設(shè)置有孔，使內(nèi)填料層與外界連通 ，其中鋼管外表面包覆的金屬保護(hù)層厚度為lmm 10mm (通過大大增加金屬層厚度，可明 顯提高接地裝置的耐腐蝕能力；并且，該層材料除采用鋅之外，還可采用其它電極電位較鋼 鐵負(fù)的金屬如鋁、鎂等，而不僅限于鋅，拓展了金屬保護(hù)層材料的選擇范圍)。
優(yōu)選的，鋼管內(nèi)表面可附著有非金屬材料層，該非金屬材料層可選用環(huán)氧煤瀝青防腐涂 料、聚胺酯防腐涂料等材料，具有防腐作用，可有效避免內(nèi)填料層中的離子劑、及外部環(huán)境 逐漸滲透物質(zhì)等對(duì)鋼管的腐蝕影響。
非金屬材料層的厚度可優(yōu)選為O. 05mm 5mm。電極單元上的孔的形狀可不受限制，其大小、數(shù)量和開孔位置等可根據(jù)整個(gè)離子接地裝 置的大小規(guī)格、對(duì)離子劑滲透速度的需要、以及安裝方式等情況靈活設(shè)置。可優(yōu)選為至少2 個(gè)孔；孔可位于電極單元的兩端或者兩端之間的任意位置。
本實(shí)用新型可垂直安裝，也可以水平安裝。
安裝時(shí)，與現(xiàn)有技術(shù)離子接地裝置的安裝相同的，可在接地裝置周圍回填以火山灰等為 主的高能回填料，能迅速滲透到周圍土壤空隙中，擴(kuò)大與土壤的接觸面，達(dá)到降阻泄流目的。
安裝后，土壤中的水分通過電極單元上的孔進(jìn)入到鋼管內(nèi)腔，溶解其中的復(fù)合離子劑， 然后滲透到周圍土壤中，以持續(xù)改善土壤環(huán)境。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是
本實(shí)用新型離子接地裝置在具有內(nèi)填料層的電極單元鋼管外表面包覆厚度為lmm 10mm 的金屬保護(hù)層，通過大大增加金屬層的厚度，可明顯提高接地裝置的耐腐蝕能力，增加其使 用壽命；并且，該層材料除采用鋅之外，還可采用其它電極電位較鋼鐵負(fù)的金屬如鋁、鎂等 ，而不僅限于鋅，拓展了金屬保護(hù)層材料的選擇范圍。


圖l是本實(shí)用新型離子接地裝置的一種電極單元截面結(jié)構(gòu)(包括非金屬材料層)示意圖； 圖2是本實(shí)用新型離子接地裝置的另一種電極單元截面結(jié)構(gòu)(不包括非金屬材料層)示意
圖3是本實(shí)用新型離子接地裝置的一種剖面結(jié)構(gòu)示意圖； 圖4是本實(shí)用新型離子接地裝置的一種垂直安裝(剖面)結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5是本實(shí)用新型離子接地裝置的一種水平安裝(剖面)結(jié)構(gòu)示意圖。 圖l-5中，l是電極單元，2是回填料層，3是金屬保護(hù)層，4是鋼管，5是非金屬材料層， 6是內(nèi)填料層，7是引出線，8是第一孔，9是第二孔，IO是第三孔，ll是原土壤，12是地坪。
具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
但不應(yīng)將此理解為本實(shí)用新型上述主題的范圍僅限于下述實(shí)施例。
實(shí)施例l
如圖1和圖3所示，本實(shí)施例的離子接地裝置包括電極單元l和位于電極單元表面的引出 線7，電極單元1包括具有內(nèi)填料層6的鋼管4和鋼管4外表面包覆的鋅金屬保護(hù)層3，鋅金屬保 護(hù)層3的厚度為2. 5mm;鋼管4內(nèi)表面附著有聚胺酯防腐涂料非金屬材料層5，其厚度為O. 05mm ;電極單元l的兩端，分別設(shè)置有第一孔8和第二孔9，使內(nèi)填料層6兩端分別與外界連通。內(nèi)填料層6中，填裝有復(fù)合離子劑氯化鈉、膨潤(rùn)土。安裝后，可通過電極單元上的孔吸 收環(huán)境中的水，溶解其中的復(fù)合離子劑后，再滲透到周圍土壤中，以持續(xù)改善土壤環(huán)境。
本實(shí)施例離子接地裝置可垂直也可水平安裝，以圖4的垂直安裝為例，安裝時(shí)，可在接 地裝置外圍裝填回填料層2，可回填以火山灰為主的高能回填料，以迅速滲透到周圍土壤空 隙中，擴(kuò)大與土壤的接觸面，達(dá)到降阻泄流目的。
實(shí)施例2
如圖1和圖3所示，本實(shí)施例的離子接地裝置包括電極單元l和位于電極單元表面的引出 線7，電極單元1包括具有內(nèi)填料層6的鋼管4和鋼管4外表面包覆的鋁金屬保護(hù)層3，鋁金屬保 護(hù)層3的厚度為lmm;鋼管4內(nèi)表面附著有環(huán)氧煤瀝青非金屬材料層5，其厚度為5mm;電極單 元1的兩端，分別設(shè)置有第一孔8和第二孔9，電極單元的中部還設(shè)置有第三孔IO，使內(nèi)填料 層6兩端及中部均分別與外界連通。
內(nèi)填料層6中，填裝有復(fù)合離子劑氯化鈣、黃原膠。
本實(shí)施例離子接地裝置可垂直也可水平安裝，以圖5的水平安裝為例，安裝時(shí)，可在接 地裝置外圍裝填回填料層2，回填以火山灰為主的高能回填料。 實(shí)施例3
如圖2和圖3所示，本實(shí)施例的離子接地裝置包括電極單元l和位于電極單元表面的引出 線7，電極單元1包括具有內(nèi)填料層6的鋼管4和鋼管4外表面包覆的鎂金屬保護(hù)層3，鎂金屬保 護(hù)層3的厚度為10mm;電極單元l的兩端，分別設(shè)置有第一孔8和第二孔9，使內(nèi)填料層6兩端 分別與外界連通。
內(nèi)填料層6中，填裝有復(fù)合離子劑硫酸鈉、羥乙基纖維。
本實(shí)施例離子接地裝置可垂直也可水平安裝，以圖5的水平安裝為例，安裝時(shí)，可在接 地裝置外圍裝填回填料層2，回填以火山灰為主的高能回填料。
以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新 型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范 圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種離子接地裝置，包括電極單元和引出線，電極單元包括鋼管和鋼管外表面包覆的金屬保護(hù)層，鋼管為具有內(nèi)填料層的空心結(jié)構(gòu)，電極單元上設(shè)置有孔，使內(nèi)填料層與外界連通，其特征在于鋼管外表面包覆的金屬保護(hù)層厚度為1mm～10mm。
2 根據(jù)權(quán)利要求l所述的離子接地裝置，其特征在于 所述的鋼管內(nèi)表面附著有非金屬材料層。
3 根據(jù)權(quán)利要求2所述的離子接地裝置，其特征在于 所述的非金屬材料層的厚度為O. 05mm 5mm。
4 根據(jù)權(quán)利要求l所述的離子接地裝置，其特征在于 所述的電極單元上的孔至少有2個(gè)。
5 根據(jù)權(quán)利要求4所述的離子接地裝置，其特征在于 所述的電極單元上的孔位于電極單元的兩端或者兩端之間的任意位置。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種離子接地裝置，包括電極單元和引出線，電極單元包括鋼管和鋼管外表面包覆的金屬保護(hù)層，鋼管為具有內(nèi)填料層的空心結(jié)構(gòu)，電極單元上設(shè)置有孔，使內(nèi)填料層與外界連通，其中，鋼管外表面包覆的金屬保護(hù)層厚度為1mm～10mm。該離子接地裝置通過大大增加金屬層的厚度，可明顯提高接地裝置的耐腐蝕能力，增加其使用壽命；并且，該保護(hù)層材料除采用鋅之外，還可采用其它電極電位較鋼鐵負(fù)的金屬如鋁、鎂等，而不僅限于鋅，拓展了金屬保護(hù)層材料的選擇范圍。
文檔編號(hào)H01R4/66GK201408852SQ20092030236
公開日2010年2月17日 申請(qǐng)日期2009年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月20日
發(fā)明者勇 代, 李仁俊 申請(qǐng)人:成都桑萊特科技股份有限公司