專(zhuān)利名稱(chēng)：多工件處理室以及包括該多工件處理室的工件處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
與本發(fā)明相符的設(shè)備和方法涉及一種多工件室以及包括該多工件室的工件處理
系統(tǒng)，更具體地，涉及一種具有多個(gè)內(nèi)部處理空間的多工件處理室以及包括該多工件處理 室的工件處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，用于制造液晶顯示(LCD)裝置、等離子體顯示面板(PDP)和半導(dǎo)體裝置的 工件處理系統(tǒng)采用集群系統(tǒng)來(lái)同時(shí)處理多個(gè)工件。該集群系統(tǒng)指的是一種多室型工件處理 系統(tǒng)，其包括傳送機(jī)械手(或裝卸器)以及設(shè)置在該機(jī)械手周?chē)亩鄠€(gè)工件處理模塊。一 般地，該集群系統(tǒng)包括傳送室以及設(shè)置為在該傳送室內(nèi)自由旋轉(zhuǎn)的傳送機(jī)械手。工件處理 室安裝在傳送室的每一側(cè)上以執(zhí)行工件的處理。這種集群系統(tǒng)可同時(shí)處理多個(gè)工件或連續(xù) 執(zhí)行若干處理，從而提高了工件的處理速度。在另一提高工件的每小時(shí)處理速度的嘗試中， 在多工件處理室中同時(shí)處理多個(gè)工件。 US專(zhuān)利No.US6077157公開(kāi)了一種同時(shí)處理多個(gè)工件的多工件處理室。該多工件 處理室具有這樣的構(gòu)造，即空間被整體形成在所述室中的分隔件分開(kāi)并且所分開(kāi)的空間中
的每一個(gè)均在其內(nèi)包括工件處理站。因而，兩個(gè)工件處理站可同時(shí)處理工件。然而，所公開(kāi) 的多工件處理室具有作為單體的壁，并出現(xiàn)這樣的問(wèn)題兩個(gè)工件處理站和內(nèi)部空間難以 清洗和維護(hù)。 同時(shí)，US專(zhuān)利公布No. US2007/0281085公開(kāi)了一種多工件處理室，該多工件處理 室的內(nèi)部空間被可分離的分隔構(gòu)件隔開(kāi)并且這些隔開(kāi)的空間通過(guò)單一排氣通道排氣。在被 分隔構(gòu)件隔開(kāi)的兩個(gè)內(nèi)部處理空間的每一個(gè)內(nèi)存在有單個(gè)工件處理站，以便同時(shí)處理兩個(gè) 工件。 所公開(kāi)的多工件處理室的分隔構(gòu)件是可分離的并且易于清洗和維護(hù)。但是，被分
隔構(gòu)件隔開(kāi)的處理空間的形狀自其中心部是不對(duì)稱(chēng)的。也就是說(shuō)，所述處理空間具有非對(duì)
稱(chēng)的D形而不是對(duì)稱(chēng)的圓形。結(jié)果，取決于距該中心部的位置，出現(xiàn)電勢(shì)的不平衡并且所產(chǎn)
生的用于處理工件的等離子體的密度是不均勻的。由于等離子體的此密度隨著壓力變高而
加劇，所以，所公開(kāi)的多工件處理室不在高壓下而在低壓下使用，用途受到限制。 此外，所公開(kāi)的多工件處理室具有垂直于公共排氣路徑的形狀，從而降低了排氣
的導(dǎo)率。 同時(shí)，圖1是具有多個(gè)內(nèi)部處理空間的傳統(tǒng)多工件處理室800的供氣流的示意圖。 如圖中所示，該傳統(tǒng)多工件處理室800包括供應(yīng)處理氣體的供氣源810、處理工件的第一內(nèi) 部處理空間830和第二內(nèi)部處理空間840、分配由供氣源810供應(yīng)的處理氣體并分別向第一 內(nèi)部處理空間830和第二內(nèi)部處理空間840供應(yīng)所分配氣體的流速控制器(FRC)820以及 公共排氣通道850，處理氣體在第一和第二內(nèi)部處理空間830和840內(nèi)完成處理反應(yīng)之后通 過(guò)該公共排氣通道850排出。這里，F(xiàn)RC820以相同的比率分配由供氣源810供應(yīng)的處理氣 體，以分別供應(yīng)到第一內(nèi)部處理空間830和第二內(nèi)部處理空間840。
然而，即使在僅第一和第二內(nèi)部處理空間830和840之一執(zhí)行工件處理過(guò)程的情 況下，傳統(tǒng)的多工件處理室800也允許處理氣體供應(yīng)到多個(gè)內(nèi)部處理空間。
此外，處理氣體供應(yīng)到傳統(tǒng)多工件處理室800的內(nèi)部處理空間的一部分，而等離 子體反應(yīng)集中在內(nèi)部處理空間的供應(yīng)有氣體的該部分上。因而，出現(xiàn)這樣的問(wèn)題所產(chǎn)生的 等離子體的密度在整個(gè)內(nèi)部處理空間上是不均勻的。 圖2是傳統(tǒng)多工件處理室800的公共排氣通道850的示意圖。如圖中所示，該傳 統(tǒng)多工件處理室800包括打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件860，該打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件860設(shè)置在公共排氣通道 850上以打開(kāi)和關(guān)閉公共排氣通道850。這里，打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件860可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在公共排 氣通道850上，并打開(kāi)和關(guān)閉公共排氣通道850。 然而，該打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件860具有這樣的問(wèn)題當(dāng)沿旋轉(zhuǎn)軸870旋轉(zhuǎn)時(shí)，其打開(kāi)/ 關(guān)閉比率對(duì)于每個(gè)內(nèi)部處理空間830和840不同。也就是說(shuō)，如圖中所示，當(dāng)打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu) 件860旋轉(zhuǎn)時(shí)，在第一內(nèi)部處理空間830的打開(kāi)面積m與第二內(nèi)部處理空間的打開(kāi)面積n 之間出現(xiàn)顯著差別。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題 如上所述，如果通過(guò)該打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件860而使得多個(gè)內(nèi)部處理空間830與840
之間的打開(kāi)/關(guān)閉比率具有顯著差別，則在等效時(shí)間內(nèi)也出現(xiàn)氣體排放速度與排氣壓力之
間的差別。 技術(shù)方案 因此，本發(fā)明的一方面是提供一種具有處理空間的多工件處理室以及包括該多工 件處理室的工件處理系統(tǒng)，該處理空間被可分離的分隔構(gòu)件分成對(duì)稱(chēng)空間，允許在其中均 勻地(uniformly)產(chǎn)生電勢(shì)和等離子體，從而提高處理工件的再現(xiàn)性和產(chǎn)量并且在低壓和 高壓下都可使用。 此外，本發(fā)明的另一方面是提供一種多工件處理室以及包括該多工件處理室的工 件處理系統(tǒng)，該多工件處理室在所述室與公共排氣構(gòu)造之間具有適當(dāng)?shù)耐ǖ罉?gòu)造，從而提 高排氣的導(dǎo)率。 另外，本發(fā)明的另一方面是提供一種多工件處理室及其氣流控制方法，如果多個(gè) 內(nèi)部處理空間中的任一個(gè)不處理工件，則該方法控制氣體不供應(yīng)到該未使用的內(nèi)部處理空 間。 另外，本發(fā)明的另一方面是分配氣體并將該氣體供應(yīng)到內(nèi)部處理空間的中心部和 圓周部，以便在該內(nèi)部處理空間內(nèi)均勻地發(fā)生等離子體反應(yīng)。 另外，本發(fā)明的另一方面是相對(duì)于多個(gè)內(nèi)部處理空間以幾乎相等的打開(kāi)/關(guān)閉比 率來(lái)打開(kāi)和關(guān)閉設(shè)置在公共排氣通道中的打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件。 將在下文的描述中部分地闡明本發(fā)明的其它方面和/或優(yōu)點(diǎn)，并且根據(jù)該描述， 所述其它方面和/或優(yōu)點(diǎn)將部分地變得明顯，或者可通過(guò)本發(fā)明的實(shí)施而得知。
本發(fā)明的前述和/或其它方面還通過(guò)提供一種多工件處理室來(lái)實(shí)現(xiàn)，該多工件處 理室包括室外殼，在該室外殼中形成有至少兩個(gè)內(nèi)部處理空間；至少一個(gè)分隔構(gòu)件，該至 少一個(gè)分隔構(gòu)件設(shè)置在該室外殼中并將該室外殼隔成至少兩個(gè)內(nèi)部處理空間；以及各個(gè)內(nèi)部處理空間，該各個(gè)內(nèi)部處理空間與該分隔構(gòu)件聯(lián)接并具有對(duì)稱(chēng)形狀，以均勻地產(chǎn)生處理 反應(yīng)。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該室外殼包括具有預(yù)定曲率的第一彎曲面，該分隔構(gòu)件 包括第二彎曲面，該第二彎曲面與第一彎曲面具有相同的曲率，并且該第一彎曲面和第二 彎曲面彼此聯(lián)接并形成對(duì)稱(chēng)圓。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該室外殼包括彼此聯(lián)接的多個(gè)外殼。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該室外殼包括中間外殼，該中間外殼具有工件支撐站； 上外殼，該上外殼聯(lián)接到該中間外殼的上部并形成第一彎曲面；以及下外殼，該下外殼聯(lián)接 到中間外殼的下部。 本發(fā)明的前述和/或其它方面還通過(guò)提供一種多工件處理系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)，該多工件 處理系統(tǒng)包括至少一個(gè)多工件處理室，該至少一個(gè)多工件處理室具有被分隔構(gòu)件隔開(kāi)的 多個(gè)內(nèi)部處理空間；傳送室，至少一個(gè)多工件處理室布置在該傳送室的周邊區(qū)域中；以及 工件傳送單元，該工件傳送單元設(shè)置在該傳送室中并將工件傳送到多工件處理室的內(nèi)部處 理空間。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該內(nèi)部處理空間與分隔構(gòu)件聯(lián)接并具有對(duì)稱(chēng)形狀，以產(chǎn) 生均勻的反應(yīng)。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該傳送室包括多邊形形狀，并且多工件處理室設(shè)置在該 傳送室的每一側(cè)。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該工件傳送單元包括主軸，該主軸可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置；傳送 臂，該傳送臂聯(lián)接到該主軸并且可折疊以在備用位置與將工件裝載到多工件處理室的傳送 位置之間移動(dòng)；以及末端執(zhí)行器單元，該末端執(zhí)行器單元聯(lián)接到該傳送臂的端部并包括多 個(gè)末端執(zhí)行器，在傳送位置上，所述末端執(zhí)行器分別設(shè)置在多工件處理室的多個(gè)內(nèi)部處理 空間中。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該傳送臂設(shè)置為將末端執(zhí)行器單元從備用位置移動(dòng)到傳 送室的中心部。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該末端執(zhí)行器單元可旋轉(zhuǎn)地聯(lián)接到傳送臂。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該工件傳送單元包括將工件裝載到多工件處理室的僅用
于裝載的工件傳送單元以及從該多工件處理室卸載工件的僅用于卸載的工件傳送單元。 本發(fā)明的前述和/或其它方面還通過(guò)提供一種多工件處理室來(lái)實(shí)現(xiàn)，該多工件處
理室包括多個(gè)內(nèi)部處理空間，所述多個(gè)內(nèi)部處理空間包括工件支架；第一供氣比率控制
器，該第一供氣比率控制器控制從供氣源供應(yīng)到多個(gè)內(nèi)部處理空間的氣體的供應(yīng)比率；以
及第二供氣比率控制器，該第二供氣比率控制器設(shè)置在該第一供氣比率控制器與各個(gè)內(nèi)部
處理空間之間并且分配供應(yīng)到內(nèi)部處理空間的氣體并將該氣體供應(yīng)到內(nèi)部處理空間的至
少兩個(gè)分開(kāi)的部分。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該第二供氣比率控制器分配氣體并將氣體供應(yīng)到內(nèi)部處 理空間的中心部和圓周部。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該第二供氣比率控制器控制供氣比率，使得供應(yīng)到中心 部和圓周部的氣體量不同。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該多工件處理室還包括公共排氣通道，氣體通過(guò)該公共排氣通道從多個(gè)內(nèi)部處理空間排出；以及旁通控制器，該旁通控制器設(shè)置在第一供氣比率 控制器與第二供氣比率控制器之間并將供應(yīng)到內(nèi)部處理空間的氣體的路徑旁通到公共排 氣通道。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，該旁通控制器包括第一打開(kāi)/關(guān)閉閥，該第一打開(kāi)/關(guān) 閉閥設(shè)置在第一供氣比率控制器與第二供氣比率控制器之間并且控制是否向內(nèi)部處理空 間供應(yīng)氣體；以及第二打開(kāi)/關(guān)閉閥，該第二打開(kāi)/關(guān)閉閥設(shè)置在第一供氣比率控制器與公 共排氣通道之間并且控制是否向公共排氣通道供應(yīng)氣體。
有利效果 如上所述，根據(jù)本發(fā)明的多工件處理系統(tǒng)包括具有多個(gè)內(nèi)部處理空間的多個(gè)多工 件處理室。因而，可對(duì)多個(gè)工件進(jìn)行處理。 如上所述，根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室被分隔構(gòu)件隔成多個(gè)內(nèi)部處理空間，通過(guò) 分隔構(gòu)件和所述室的聯(lián)接，所述內(nèi)部處理空間是對(duì)稱(chēng)的。因而，在整個(gè)內(nèi)部處理空間上均勻 地產(chǎn)生電勢(shì)和等離子體，從而提高了處理工件的均勻性。 由于均勻地產(chǎn)生等離子體，所以該多工件處理室不僅可在低壓下而且可在高壓下 使用。 多工件處理室包括公共排氣通道以共同排出多個(gè)內(nèi)部處理空間內(nèi)的處理氣體，并 且該公共排氣通道被適當(dāng)?shù)卦O(shè)置，從而提高了排氣的導(dǎo)率。 根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的室外殼和分隔構(gòu)件聯(lián)接，因而易于清洗和維護(hù)。
由于根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的第二供氣比率控制器分配氣體并將該氣體供 應(yīng)到內(nèi)部處理空間的中心部和圓周部，所以可在內(nèi)部處理空間內(nèi)均勻地產(chǎn)生等離子體反應(yīng)。 如果多個(gè)內(nèi)部處理空間之一不處理工件，則多個(gè)打開(kāi)/關(guān)閉閥可將氣體直接旁通 到公共排氣通道而不是將氣體供應(yīng)到內(nèi)部處理空間。 第一打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件和第二打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件設(shè)置在公共排氣通道的排氣路徑上， 使得各個(gè)內(nèi)部處理空間在空間上隔離并且可使排氣的速度和壓力保持均勻。


通過(guò)以下結(jié)合附圖進(jìn)行的對(duì)實(shí)施例的描述，本發(fā)明的上述和/或其它方面將變得 顯而易見(jiàn)且更容易理解，在附圖中 圖1是簡(jiǎn)要地示出傳統(tǒng)多工件處理室的供氣過(guò)程的示意圖； 圖2是簡(jiǎn)要地示出傳統(tǒng)多工件處理室的公共排氣通道的打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件的構(gòu)造的 示意圖； 圖3是簡(jiǎn)要地示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的多工件處理系統(tǒng)的構(gòu)造的示意圖； 圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的構(gòu)造的透視圖； 圖5是示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的平面構(gòu)造的平面圖； 圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的分解構(gòu)造的分解透視圖； 圖7是示出圖2中的多工件處理室的局部構(gòu)造的局部剖面透視圖； 圖8是沿圖5中的線(xiàn)V-V截取的多工件處理室的剖面構(gòu)造的剖視圖； 圖9是示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的公共排氣通道的構(gòu)造的剖面 圖10是根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的多工件處理室的剖面圖；
圖11是根據(jù)本發(fā)明的與等離子體源單元聯(lián)接的多工件處理室的剖面圖；
圖12A是示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件的構(gòu)造的示意圖；
圖12B是示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件的變形例的示意圖；
圖13是示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的公共排氣通道的第二打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件 的構(gòu)造的剖面圖； 圖14是簡(jiǎn)要地示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件調(diào)節(jié)器的構(gòu)造 的示意圖； 圖15是示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件調(diào)節(jié)器的變形例的示 意圖； 圖16是簡(jiǎn)要地示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的氣流構(gòu)造的框圖； 圖17是簡(jiǎn)要地示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的氣流構(gòu)造的變形例的框圖； 圖18是示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的氣流過(guò)程的流程圖； 圖19是根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的變形例的透視圖； 圖20是示出根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的多工件處理室的公共排氣通道的剖 面圖； 圖21是簡(jiǎn)要地示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的內(nèi)部處理空間內(nèi)的電勢(shì)分布的 示意圖； 圖22是示出圖20中的內(nèi)部處理室內(nèi)的電勢(shì)的分布狀態(tài)的圖表；
圖23示出了根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室的工件傳送過(guò)程； 圖24是示出根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的工件傳送單元的構(gòu)造的示意圖；
圖25是示出根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的工件傳送單元的構(gòu)造的示意圖；以 及 圖26是示出根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的工件傳送單元的構(gòu)造的示意圖。
具體實(shí)施例方式
在下文中，將參照附圖對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施例進(jìn)行描述，其中相同的附圖標(biāo)記 指示相同的元件并將盡量避免重復(fù)描述。本發(fā)明的示例性實(shí)施例可以各種形式改變，并且 不應(yīng)理解為本發(fā)明的范圍限于下文詳細(xì)描述的示例性實(shí)施例。提供這些示例性實(shí)施例用于 向本領(lǐng)域技術(shù)人員充分說(shuō)明本發(fā)明。因此，附圖中元件的形狀可被夸大以提供更精確的說(shuō) 明。省略對(duì)確定可能使本發(fā)明的關(guān)鍵點(diǎn)模糊的已知功能和構(gòu)造的詳細(xì)描述。
圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明的多工件處理系統(tǒng)的構(gòu)造的示意圖。根據(jù)本發(fā)明示例性 實(shí)施例的多工件處理系統(tǒng)1包括多工件處理室10a、10b和10c中的至少一個(gè)，所述多工件 處理室具有多個(gè)被分隔構(gòu)件200隔開(kāi)的內(nèi)部處理空間A和B，而傳送室20保持在多工件處 理室10a、10b與10c之間。工件傳送單元30設(shè)置在傳送室20中以將工件傳送到多個(gè)多 工件處理室10a、10b和10c。緩沖室40設(shè)置在傳送室20的橫向側(cè)并與進(jìn)片室(loadlock chamber)50相連。索引件(index)60設(shè)置在進(jìn)片室50中并安裝有載體61 。
如圖3中所示，多個(gè)多工件處理室10a、10b和10c設(shè)置在傳送室20的周?chē)?。根?jù) 本發(fā)明示例性實(shí)施例的多工件處理室10a、10b和10c沿著傳送室20可包括第一、第二和第三多工件處理室10a、10b和10c。 圖4是根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的多工件處理室10a、10b和10c的構(gòu)造的透視 圖。圖5是示出了多工件處理室10a、10b和10c的分解構(gòu)造的分解透視圖。
如圖中所示，根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室10a、10b和10c包括室外殼100，該室 外殼100具有多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B ;分隔構(gòu)件200，該分隔構(gòu)件200聯(lián)接到室外殼100 以隔開(kāi)內(nèi)部處理空間A和B并使內(nèi)部處理空間A和B具有對(duì)稱(chēng)的形狀；以及公共排氣通道 300，該公共排氣通道300同時(shí)聯(lián)接到多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B并自此排出各個(gè)內(nèi)部處理空 間A和B的處理氣體。根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室10a、10b和10c可包括除去光致抗蝕劑 的灰化室、構(gòu)造為沉積絕緣層的化學(xué)氣相沉積(CVD)室或構(gòu)造為在絕緣層中蝕刻孔或開(kāi)口 以形成互連構(gòu)造的蝕刻室。此外，根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室10a、10b和10c可包括構(gòu)造 為沉積阻擋層的物理氣相沉積(PVD)室或構(gòu)造為沉積金屬層的PVD室。
室外殼100包括多個(gè)彼此連通的內(nèi)部處理空間A和B。連通區(qū)與分隔構(gòu)件200聯(lián) 接，從而將室外殼100分成多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B。多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B設(shè)置為具有 相同的體積，并且每個(gè)單工件處理站145設(shè)置在內(nèi)部處理空間A和B中。
如圖4和圖5中所示，室外殼100具有第一彎曲面110以形成內(nèi)部處理空間A和B 中的每一個(gè)，同時(shí)分隔構(gòu)件200包括第二彎曲面120，該第二彎曲面120與第一彎曲面110 具有相同的曲率。如果室外殼100與分隔構(gòu)件200聯(lián)接，則第一彎曲面110與第二彎曲面 120聯(lián)接而分別形成獨(dú)立的內(nèi)部處理空間A和B。與分隔構(gòu)件200聯(lián)接的內(nèi)部處理空間A 和B形成從中心對(duì)稱(chēng)的圓。工件處理站145設(shè)置在內(nèi)部處理空間A和B的中心部。因此， 形成在工件處理站145與內(nèi)部處理空間A和B之間的間距(pitch)d在內(nèi)部處理空間A和 B上彼此相等并對(duì)稱(chēng)。 在具有此對(duì)稱(chēng)形狀的內(nèi)部處理空間A和B內(nèi)，在反應(yīng)過(guò)程期間均勻地形成電勢(shì)，并
且可在整個(gè)內(nèi)部處理空間A和B上均勻地產(chǎn)生工件處理反應(yīng)，例如等離子體。因此，不僅可
在低壓下而且可在高壓下對(duì)工件進(jìn)行處理，并且可提高再現(xiàn)性和產(chǎn)量。 如圖6中所示，根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的室外殼100通過(guò)多個(gè)彼此聯(lián)接的外殼
130、140和150來(lái)體現(xiàn)。室外殼IOO包括具有上方第一彎曲面132的上外殼130、包括工件
處理站145的中間外殼140和與公共排氣通道300聯(lián)接的下外殼150。 上外殼130包括上外殼主體131、形成在該上外殼主體131中的上方第一彎曲面
132、布置在所述上方第一彎曲面132之間并與上分隔構(gòu)件200聯(lián)接的上分隔件容納器134、
工件入口 135以及設(shè)置為監(jiān)測(cè)在內(nèi)部處理空間A和B中發(fā)生的反應(yīng)的監(jiān)測(cè)單元137，工件通
過(guò)該工件入口 135進(jìn)入。 上外殼主體131設(shè)置在中間外殼140的上部并形成多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B，工件 在所述多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B中進(jìn)行處理。根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的上外殼主體131 包括兩個(gè)內(nèi)部處理空間A和B，所述兩個(gè)內(nèi)部處理空間A和B相對(duì)于上分隔件容納器134設(shè) 置在左右兩側(cè)。這里，設(shè)置在左右兩側(cè)上的各個(gè)內(nèi)部處理空間A和B包括具有預(yù)定半徑的 上方第一彎曲面132。該上方第一彎曲面132的形狀類(lèi)似于預(yù)定的圓弧，從而距內(nèi)部處理空 間A和B的中心具有相同的半徑。 上分隔件容納器134在其內(nèi)容納上分隔件210，該上分隔件210具有上方第二彎曲 面213 (將在下文描述)。上分隔件容納器134在其內(nèi)容納上分隔件210并允許上方第一彎曲面132與上方第二彎曲面213聯(lián)接，從而形成在室外殼100內(nèi)分成左側(cè)和右側(cè)的多個(gè)內(nèi) 部處理空間A和B。 同時(shí)，兩個(gè)工件入口 135設(shè)置在上外殼主體131的前表面中，工件W通過(guò)所述工件 入口 135進(jìn)入。因而，工件W可通過(guò)工件入口 135進(jìn)入內(nèi)部處理空間A和B。兩個(gè)工件入口 135分別連接到兩個(gè)分開(kāi)的內(nèi)部處理空間A和B，并通過(guò)切口閥(未示出)等打開(kāi)和關(guān)閉。
這里，具有預(yù)定面積的監(jiān)測(cè)單元137設(shè)置在上外殼主體131中以從外部監(jiān)測(cè)在內(nèi) 部處理空間A和B內(nèi)發(fā)生的工件處理反應(yīng)。監(jiān)測(cè)單元137包括諸如石英或玻璃的透明材料， 使得用戶(hù)可監(jiān)測(cè)在內(nèi)部處理空間A和B內(nèi)發(fā)生的處理反應(yīng)的進(jìn)展。沿上方室外殼100的壁 面可設(shè)置多個(gè)監(jiān)測(cè)單元137。 同時(shí)，上外殼130還包括與等離子體源單元500(參照?qǐng)D11)聯(lián)接的源聯(lián)接器(未 示出)，將在下文對(duì)等離子體源單元500進(jìn)行描述。該源聯(lián)接器設(shè)置為使與上外殼130聯(lián)接 的等離子體源單元500打開(kāi)和關(guān)閉或者可根據(jù)等離子體源510的形狀設(shè)置成其它形狀。
中間外殼140設(shè)置在上外殼130的下部中并包括工件處理站145。中間外殼140 包括中間外殼主體141、聯(lián)接到該中間外殼主體141的連通壁146的工件處理站145、設(shè)置 在工件處理站145的周邊部中的氣體排放路徑148以及中間分隔件容納器144。
中間外殼主體141與工件處理站145整體形成并包括中間第一彎曲面142，該中間 第一彎曲面142形成在工件處理站145的周邊部中并與上外殼主體131的上方第一彎曲面 132具有相同的曲率。中間第一彎曲面142設(shè)置在中間外殼主體141的相對(duì)側(cè)中。中間分 隔件容納器144設(shè)置在一對(duì)中間第一彎曲面142之間。中間分隔件容納器144在其內(nèi)容納 具有中間第二彎曲面223的中間分隔構(gòu)件200，該中間第二彎曲面223與中間第一彎曲面 142聯(lián)接并完成內(nèi)部處理空間A和B的對(duì)稱(chēng)形狀。 如圖6到圖8中所示，工件處理站145通過(guò)與中間外殼主體141的連通壁146聯(lián) 接而形成。工件處理站145與室外殼100的底面以預(yù)定高度隔開(kāi)。工件處理站145形成在 中間外殼主體141的連通壁146中并具有獨(dú)立于內(nèi)部處理空間A和B的空間。由于工件處 理站145與室外殼100的底面隔開(kāi)，而不是聯(lián)接到室外殼100的底面，所以將在下文描述的 公共排氣通道300可充分設(shè)置在室外殼100的底面中。 工件支架170與工件處理站145的上部聯(lián)接并將工件處理站145的內(nèi)部與內(nèi)部處
理空間A和B阻斷。結(jié)果，工件處理站145的內(nèi)部保持與處于真空的內(nèi)部處理空間A和B
獨(dú)立的大氣壓力。工件處理站145可通過(guò)形成在中間外殼主體141的連通壁146中的開(kāi)口
147與諸如工件舉升裝置(未示出)和供電裝置(未示出)的實(shí)用裝置相連。 氣體排放路徑148形成在工件處理站145與中間外殼主體141之間的周邊部中，
在工件處理反應(yīng)結(jié)束之后，處理氣體通過(guò)該氣體排放路徑148從內(nèi)部處理空間A和B中排
出。氣體排放路徑148與工件處理站145下方的公共排氣通道300相連。 這里，將具有多孔構(gòu)造的排氣擋板(未示出)設(shè)置在氣體排放路徑148中以在工
件處理之后將氣體垂直地排放到公共排氣通道300。該排氣擋板設(shè)置為與工件處理站145聯(lián)接。 工件處理站145設(shè)置在中間外殼主體141的中心部中，以具有與中間外殼主體141 相同的間距d。 下外殼150設(shè)置在中間外殼140的下部并與公共排氣通道300相連。結(jié)果，處理氣體在通過(guò)中間外殼140的氣體排放路徑148之后排放到公共排氣通道300。下外殼150 包括形成室外殼100的底面的下外殼主體151和設(shè)置在該下外殼主體151中并與公共排氣 通道300聯(lián)接的排氣通道聯(lián)接器153。排氣通道聯(lián)接器153對(duì)應(yīng)于公共排氣通道300的尺 寸。排氣通道聯(lián)接器153優(yōu)選具有與公共排氣通道300的傾斜面的傾斜角相對(duì)應(yīng)的傾角以 提高排氣的導(dǎo)率。 同時(shí)，設(shè)置有聯(lián)接裝置(未示出)用以聯(lián)接上外殼130、中間外殼140和下外殼 150。該聯(lián)接裝置可包括已知的聯(lián)接裝置，包括銷(xiāo)、螺栓/螺母、鉤聯(lián)接等。
至少一個(gè)密封構(gòu)件(未示出)設(shè)置在上外殼130、中間外殼140和下外殼150的聯(lián) 接區(qū)域中以使內(nèi)部處理空間A和B保持密封。 上內(nèi)襯160和中間內(nèi)襯180分別設(shè)置在上外殼130和中間外殼140中以覆蓋內(nèi)部 處理空間A和B的內(nèi)表面。上內(nèi)襯160與通過(guò)聯(lián)接上外殼主體131的上方第一彎曲面132 和上分隔件210的上方第二彎曲面213而形成的內(nèi)部處理空間A和B的內(nèi)表面聯(lián)接。上內(nèi) 襯160包括聯(lián)接到中間內(nèi)襯180(將在下文描述)的中間內(nèi)襯聯(lián)接器161和對(duì)應(yīng)于上外殼 130的監(jiān)測(cè)單元137的監(jiān)測(cè)窗口 163。 中間內(nèi)襯聯(lián)接器161在其內(nèi)表面中包括臺(tái)階，從而通過(guò)該臺(tái)階來(lái)保持中間內(nèi)襯 180。 中間內(nèi)襯180與通過(guò)聯(lián)接中間外殼主體141的中間第一彎曲面142和中間分隔件 220的中間第二彎曲面223而形成的內(nèi)部處理空間A和B的內(nèi)表面聯(lián)接。中間內(nèi)襯180被 裝載到上內(nèi)襯160的中間內(nèi)襯聯(lián)接器161上以固定其位置。 上內(nèi)襯160和中間內(nèi)襯180設(shè)置在內(nèi)部處理空間A和B的內(nèi)表面中以防止內(nèi)部處 理空間A和B的內(nèi)表面因等離子體的離子碰撞而損壞或磨損。如果上內(nèi)襯160和中間內(nèi)襯 180的內(nèi)表面被多個(gè)處理反應(yīng)損壞或磨損，則可利用新的內(nèi)襯來(lái)替換上內(nèi)襯160和中間內(nèi) 襯180。 同時(shí)，為了便于組裝和維護(hù)，根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的多工件處理室10a、10b 和10c包括諸如上內(nèi)襯和中間內(nèi)襯的多個(gè)內(nèi)襯，但不限于此?？商娲?，多工件處理室10a、 10b和10c可包括單個(gè)內(nèi)襯。 分隔構(gòu)件200與室外殼100聯(lián)接并將該室外殼100分成兩個(gè)內(nèi)部處理空間A和B。 分隔構(gòu)件200與室外殼100的第一彎曲面110聯(lián)接以完成具有對(duì)稱(chēng)形狀的內(nèi)部處理空間A 和B。 通過(guò)聯(lián)接多個(gè)分隔件210、220和230來(lái)提供分隔構(gòu)件200。分隔構(gòu)件200包括聯(lián) 接到上外殼130的上分隔件210、聯(lián)接到中間外殼140的中間分隔件220以及貫穿并聯(lián)接到 中間分隔件220的暴露分隔件230。分隔構(gòu)件200連接到接地端子(未示出)，使得各個(gè)內(nèi) 部處理空間A和B形成均勻的電勢(shì)。 上分隔件210包括容納在上外殼主體131中并聯(lián)接到該上外殼主體131的上分隔 件主體211以及形成在該上分隔件主體211并與上外殼主體131的上方第一彎曲面132聯(lián) 接的上方第二彎曲面213。上分隔件主體211對(duì)應(yīng)于上外殼主體131的上分隔件容納器134 的形狀并裝配到該上分隔件容納器134中。上方第二彎曲面213設(shè)置在上分隔件主體211 的相對(duì)側(cè)中。上方第二彎曲面213與上方第一彎曲面132具有相同的曲率，從而通過(guò)聯(lián)接 上方第一彎曲面132和上方第二彎曲面213而形成的內(nèi)部處理空間A和B具有距中心具有
11相同半徑的圓形形狀。上分隔件210可通過(guò)已知的聯(lián)接裝置強(qiáng)制裝配或聯(lián)接到上外殼主體 131。 同時(shí)，如圖11中所示，根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的上分隔件主體211可包括 具有預(yù)定長(zhǎng)度的狹縫215。該狹縫215減小了在多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B中發(fā)生的靜電、電 勢(shì)等的相互干擾。也就是說(shuō)，如果將不同的電勢(shì)施加到多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B，則內(nèi)部處 理空間A和B的相鄰電勢(shì)可能影響所施加的電勢(shì)。這里，狹縫215可通過(guò)隔離內(nèi)部處理空 間A和B來(lái)減小這種干擾和影響。 中間分隔件220容納在中間外殼140中并聯(lián)接到該中間外殼140。中間分隔件220 包括具有中間第二彎曲面223的中間分隔件主體221以及形成在該中間分隔件主體221中 并與暴露分隔件230聯(lián)接的暴露分隔件容納孔225。中間分隔件主體221容納在中間外殼 主體141的中間分隔件容納器144中并聯(lián)接到該中間分隔件容納器144。中間第二彎曲面 223與中間外殼140的中間第一彎曲面142聯(lián)接并完成具有對(duì)稱(chēng)形狀的內(nèi)部處理空間A和 B。 暴露分隔件容納孔225具有與插入到該暴露分隔件容納孔225中的暴露分隔件 230的厚度相對(duì)應(yīng)的寬度。同時(shí)，與上分隔件210相似，中間分隔件220也可包括連通孔(未 示出)和狹縫(未示出)。 暴露分隔件230插入到中間分隔件220中并將公共排氣通道500分成兩部分。暴 露分隔件230包括容納在中間分隔件220中的容納區(qū)域231以及暴露到中間分隔件220的 外部并與公共排氣通道300聯(lián)接的暴露區(qū)域233。暴露區(qū)域233可具有與公共排氣通道300 的形狀相對(duì)應(yīng)的傾斜面或彎曲面。鉤聯(lián)接器135設(shè)置在暴露分隔件230中以在該暴露分隔 件230插入到暴露分隔件容納孔225中時(shí)固定其位置。鉤聯(lián)接器135從容納區(qū)域231延伸 并聯(lián)接到暴露分隔件容納孔225。 如圖5和圖6中所示，暴露分隔件230容納在中間分隔件220中，而上分隔件210 堆疊在中間分隔件220上。分隔件210、220和230的長(zhǎng)度可與室外殼100的長(zhǎng)度相應(yīng)地調(diào) 整。 這里，暴露于中間分隔件220的下部的暴露分隔件230的暴露長(zhǎng)度是可調(diào)節(jié)的。通 過(guò)對(duì)暴露長(zhǎng)度L進(jìn)行調(diào)節(jié)，可控制排放到公共排氣通道300的處理氣體的體積和速度。
至少一個(gè)連通孔(未示出)可設(shè)置在分隔構(gòu)件200中以連接通過(guò)分隔構(gòu)件200隔 開(kāi)的兩個(gè)內(nèi)部處理空間A和B。該連通孔的截面形狀可改變，包括圓形、橢圓形、具有圓角的 矩形、圓弧形等。該連通孔可形成在水平或垂直狹縫中。該連通孔可設(shè)置在上分隔件210 或下分隔件220中。此外，在上分隔件210的上部、中部和下部中可設(shè)置多個(gè)連通孔。
每個(gè)連通孔可優(yōu)選設(shè)置為不彼此面向。也就是說(shuō)，每個(gè)連通孔設(shè)置在不同的位置 中，使得兩個(gè)分開(kāi)的內(nèi)部處理空間A和B不直接彼此面向。 該連通孔在空間上連接被分隔構(gòu)件200隔開(kāi)的兩個(gè)內(nèi)部處理空間A和B并允許兩 個(gè)內(nèi)部處理空間A和B保持相同的壓力和氣壓。由于連通孔設(shè)置在分隔構(gòu)件200中，所以 可容易地對(duì)它進(jìn)行維護(hù)。 同時(shí)，根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例，設(shè)置多個(gè)分隔構(gòu)件200，用于容易的清洗和維護(hù)， 但不限于此?？商娲?，分隔構(gòu)件200可設(shè)置為單一構(gòu)件，其具有與室外殼100的第一彎曲 面IIO相對(duì)應(yīng)的第二彎曲面120。在某些情形中，分隔構(gòu)件200可分成至少四部分。
公共排氣通道300設(shè)置在室外殼100下方并提供用于在完成處理反應(yīng)之后排出處 理氣體的流動(dòng)路徑。公共排氣通道300設(shè)置在多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B的中心部中并被暴 露分隔件230分成第一排氣通道D和第二排氣通道E。 如圖9中所示，根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的公共排氣通道300包括向下外殼150 傾斜的傾斜面310。因而，與公共排氣通道300垂直于傳統(tǒng)室外殼的情形相比，可提高排氣 在真空中的導(dǎo)率。 返回到圖8，公共排氣通道300可包括彎曲面320，該彎曲面320相對(duì)于下外殼150 具有適當(dāng)?shù)那省?如圖9和圖10中所示，公共排氣通道300可與下外殼150的一部分聯(lián)接，或者如 圖20中所示，公共排氣通道300可包括充分形成在整個(gè)中間外殼140上的總體傾斜面330。
在被暴露分隔件230分成第一排氣通道D和第二排氣通道E的公共排氣通道300 中可設(shè)置第一打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件400以分別選擇性地打開(kāi)和關(guān)閉排氣通道D和E。第一打開(kāi) /關(guān)閉構(gòu)件400選擇性地打開(kāi)和關(guān)閉排氣通道D和E以在空間上將第一排氣通道D和第二 排氣通道E分開(kāi)。如圖12A中所示，第一打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件400可包括第一旋轉(zhuǎn)構(gòu)件420和 第二旋轉(zhuǎn)構(gòu)件430，所述第一旋轉(zhuǎn)構(gòu)件420和第二旋轉(zhuǎn)構(gòu)件430設(shè)置為以設(shè)置在暴露分隔 件230的中心的旋轉(zhuǎn)軸410為中心旋轉(zhuǎn)。這里，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件420和430優(yōu)選旋轉(zhuǎn)到氣體流動(dòng) 方向的前表面以免干擾處理氣體的流動(dòng)。 如果多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B中的一個(gè)可不使用或不需要使用，則第一打開(kāi)/關(guān) 閉構(gòu)件400可用于關(guān)閉排氣通道D和E中的一個(gè)，從而防止有關(guān)內(nèi)部處理空間的不必要使 用。 如圖12B中所示，第一打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件400a可包括一對(duì)打開(kāi)/關(guān)閉門(mén)420a和 430a，所述打開(kāi)/關(guān)閉門(mén)420a和430a設(shè)置為相對(duì)于排氣通道D和E的軸向方向沿橫向方 向滑動(dòng)，從而選擇性地打開(kāi)和關(guān)閉排氣通道D和E。 除了前述示例性實(shí)施例之外，打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件400和400a可通過(guò)已知技術(shù)實(shí)現(xiàn)， 以選擇性地打開(kāi)和關(guān)閉所述路徑。 如圖13中所示，公共排氣通道300通過(guò)排氣路徑350與排氣泵700相連。這里， 從第一和第二排氣通道D和E排出的排氣流過(guò)第一打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件400與排氣泵700之間 的排氣路徑350。第二打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件450設(shè)置在排氣路徑350中，以通過(guò)控制排氣路徑 350的打開(kāi)/關(guān)閉比率來(lái)控制排氣的流速，該排氣路徑350鄰近排氣泵700。第二打開(kāi)/關(guān) 閉構(gòu)件450的打開(kāi)/關(guān)閉操作被控制為使得通過(guò)打開(kāi)/關(guān)閉調(diào)節(jié)器460，相對(duì)于多個(gè)內(nèi)部處 理空間A和B的打開(kāi)/關(guān)閉比率在0. 7到1的范圍內(nèi)。 如圖14中所示，當(dāng)?shù)诙蜷_(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件450可旋轉(zhuǎn)地聯(lián)接到排氣路徑350時(shí)，根 據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的打開(kāi)/關(guān)閉調(diào)節(jié)器460調(diào)節(jié)打開(kāi)/關(guān)閉范圍。要支持此功能，打 開(kāi)/關(guān)閉調(diào)節(jié)器460包括旋轉(zhuǎn)軸461和連桿構(gòu)件463，該連桿構(gòu)件463聯(lián)接在旋轉(zhuǎn)軸461與 第二打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件450之間并將旋轉(zhuǎn)軸461的旋轉(zhuǎn)力傳遞到第二打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件450。 這里，旋轉(zhuǎn)軸461和連桿構(gòu)件463設(shè)置為使得通過(guò)第二打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件450的旋轉(zhuǎn)，第一內(nèi) 部處理空間A的打開(kāi)面積X相對(duì)于第二處理空間B的打開(kāi)面積Y的比率在0. 7到1的范圍 內(nèi)。具體地，旋轉(zhuǎn)軸461和連桿構(gòu)件463設(shè)置為使得當(dāng)?shù)诙蜷_(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件450打開(kāi)排氣 路徑350的20%到30%時(shí)，第一內(nèi)部處理空間A的打開(kāi)面積X相對(duì)于第二內(nèi)部處理區(qū)域B的打開(kāi)面積Y的比率是1 : 1。旋轉(zhuǎn)軸461設(shè)置在排氣路徑350的外側(cè)，并且連桿構(gòu)件463 從旋轉(zhuǎn)軸461延伸并可旋轉(zhuǎn)地支撐第二打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件450。 如圖15中所示，根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件調(diào)節(jié)器460a調(diào) 節(jié)第二打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件450的移動(dòng)，使得第二打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件450沿排氣路徑350的橫向 方向直線(xiàn)移動(dòng)并且第一內(nèi)部處理空間A的打開(kāi)面積X和第二內(nèi)部處理空間B的打開(kāi)面積Y 變成相等。這里，打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件調(diào)節(jié)器460a具有這樣的長(zhǎng)處，即與第二打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件 450旋轉(zhuǎn)時(shí)相比，當(dāng)?shù)诙蜷_(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件450沿打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件調(diào)節(jié)器460a的軸向方向直 線(xiàn)移動(dòng)時(shí)，多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B的打開(kāi)面積保持相等。 圖16是簡(jiǎn)要示出根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室10a、10b和10c的供氣構(gòu)造的示意 圖。如圖中所示，多工件處理室10a、10b和lOc包括設(shè)置在室外殼100的橫向側(cè)中并向室 外殼100的內(nèi)部供應(yīng)氣體的供氣源600。供氣源600包括氣體存儲(chǔ)單元(未示出)和供給 泵(未示出)，該氣體存儲(chǔ)單元在其內(nèi)存儲(chǔ)氣體，而該供給泵將氣體從氣體存儲(chǔ)單元供應(yīng)到 室外殼100的內(nèi)部。 在供氣源600的橫向側(cè)中設(shè)置有第一供氣比率控制器610和一對(duì)第二供氣比率控 制器620，該第一供氣比率控制器610以預(yù)定比率分配由供氣源600供應(yīng)的氣體并將該氣 體供應(yīng)到多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B，而該第二供氣比率控制器620根據(jù)內(nèi)部處理空間A和B 來(lái)重新分配和供應(yīng)由第一供氣比率控制器610分配并供應(yīng)到各個(gè)內(nèi)部處理空間A和B的氣 體。 第一供氣比率控制器610以與多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B的數(shù)量相對(duì)應(yīng)的預(yù)定比率 分配氣體并將所分配的氣體供應(yīng)到多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B。如果如本發(fā)明的示例性實(shí)施 例中那樣將室外殼100分成兩個(gè)內(nèi)部處理空間A和B，則第一供氣比率控制器610以5 : 5 的比率分配所供應(yīng)的氣體并將該氣體供應(yīng)到兩個(gè)內(nèi)部處理空間A和B。分配氣體的比率可 確定為相等或不同。這里，由單一供氣源600供應(yīng)的氣體在通過(guò)第一供氣比率控制器610 之后分別通過(guò)兩個(gè)第一供氣路徑611供應(yīng)到內(nèi)部處理空間A和B。 該對(duì)第二供氣比率控制器620以預(yù)定比率分配氣體并將氣體供應(yīng)到內(nèi)部處理空 間A和B，其中氣體已由第一供氣比率控制器610分配并分別供應(yīng)到內(nèi)部處理空間A和B。 這里，第二供氣比率控制器620可根據(jù)內(nèi)部處理空間A和B來(lái)分配將要供應(yīng)到其中的氣體。
—般地，該氣體包括活性氣體以通過(guò)等離子體源510(參見(jiàn)圖11)來(lái)誘發(fā)等離子體 反應(yīng)。氣體通過(guò)設(shè)置在內(nèi)部處理空間A和B的上部中的多孔淋浴頭640供應(yīng)到內(nèi)部處理空 間A和B。第二供氣比率控制器620通過(guò)分配用于多孔淋浴頭640的中心部641和圓周部 643的氣體來(lái)供應(yīng)氣體。這里，等離子體源510可根據(jù)類(lèi)型獨(dú)立設(shè)置在中心部641和圓周部 643中或者可作為單一等離子體源510設(shè)置。 這里，第二供氣比率控制器620不同地控制供應(yīng)到內(nèi)部處理空間A和B的中心部 641的氣體和供應(yīng)到內(nèi)部處理空間A和B的圓周部643的氣體的比率?？紤]到等離子體源 的類(lèi)型和位置、多孔淋浴頭640的供氣孔的密度、室外殼100的內(nèi)部形狀等，執(zhí)行此過(guò)程以 在整個(gè)內(nèi)部處理空間A和B上均勻地產(chǎn)生等離子體反應(yīng)。根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的第二 供氣比率控制器620控制供氣比率以將更多的氣體供應(yīng)到圓周部643而不是中心部641，但 不限于此?？商娲兀诙獗嚷士刂破?20可獨(dú)立地向中心部的三個(gè)部分、中心部和圓 周部供應(yīng)氣體以均勻地產(chǎn)生等離子體反應(yīng)并不同地控制供氣比率。這里，第二供氣比率控制器620通過(guò)一對(duì)第二供氣路徑621向內(nèi)部處理空間A和B供應(yīng)氣體。
如圖17中所示，根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的多工件處理室10a、10b和10c包 括設(shè)置在第一供氣比率控制器610和第二供氣比率控制器620之間的第一打開(kāi)/關(guān)閉閥 AVI和第二打開(kāi)/關(guān)閉閥AV2。如果多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B中的一個(gè)不處理工件，則第一 和第二打開(kāi)/關(guān)閉閥AVI和AV2使氣體旁通公共排氣通道300，而不是將氣體供應(yīng)到不處理 工件的內(nèi)部處理空間。第三打開(kāi)/關(guān)閉閥AV3和第四打開(kāi)/關(guān)閉閥AV4設(shè)置在位于第一和 第二打開(kāi)/關(guān)閉閥AVI和AV2與公共排氣通道300之間的第三供氣路徑631上，以控制向 公共排氣通道300的氣體供應(yīng)。 多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B每次處理多個(gè)工件。然而，在某些情形中，可能僅內(nèi)部處 理空間A和B之一處理工件。例如，如果內(nèi)部處理空間A和B之一出錯(cuò)或者工件僅傳送到 多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B中的一個(gè)，則可通過(guò)內(nèi)部處理空間A和B中的唯一一個(gè)來(lái)對(duì)該工 件進(jìn)行處理。在此情形中，第一和第二打開(kāi)/關(guān)閉閥AVI和AV2控制氣體不供應(yīng)到不處理 工件的內(nèi)部處理空間A和B。如果第一內(nèi)部處理空間A不處理工件，則第一打開(kāi)/關(guān)閉閥 AVI切斷向第一內(nèi)部處理空間A供應(yīng)的氣體。通過(guò)第一打開(kāi)/關(guān)閉閥AVI而不供應(yīng)到第一 內(nèi)部處理空間A的氣體沿氣體路徑被引向公共排氣通道300，同時(shí)第三打開(kāi)/關(guān)閉閥AV3打 開(kāi)并允許該氣體排放到公共排氣通道300。 這里，通過(guò)控制器(未示出)的控制信號(hào)來(lái)控制多個(gè)打開(kāi)/關(guān)閉閥AV1、 AV2、 AV3 和AV4是否打開(kāi)或關(guān)閉。也就是說(shuō)，取決于多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B是否使用，各個(gè)打開(kāi)/ 關(guān)閉閥AV1、 AV2、 AV3和AV4通過(guò)接收打開(kāi)/關(guān)閉信號(hào)而打開(kāi)或關(guān)閉。 圖18是描述多個(gè)打開(kāi)/關(guān)閉閥AV1、 AV2、 AV3和AV4的打開(kāi)/關(guān)閉操作的流程 圖。如圖中所示，如果工件處理過(guò)程開(kāi)始，則供氣源600供應(yīng)氣體。然后，第一供氣比率控 制器610分配所供應(yīng)的氣體并將所分配的氣體分別供應(yīng)到第一內(nèi)部處理空間A和第二內(nèi)部 處理空間B(SllO)。這里，控制器判定是否在多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B中處理工件。更具體 地，控制器檢查多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B的功能以判定是否在其中處理工件，并將由傳送室 20(將在下文描述)傳送的工件的數(shù)量與多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B的數(shù)量進(jìn)行比較以判定 是否有不需要處理工件的內(nèi)部處理空間(S120)。 如果判定全部的多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B都處理工件，則控制器將第一和第二打 開(kāi)/關(guān)閉閥AVI和AV2全部打開(kāi)以分別向第一內(nèi)部處理空間A和第二內(nèi)部處理空間B供 應(yīng)氣體。這里，第三和第四打開(kāi)/關(guān)閉閥AV3和AV4關(guān)閉以不使氣體流向公共排氣通道 300(S140)。 如果判定僅使用第一內(nèi)部處理空間A而不是使用多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B(S130)， 則控制器控制氣體供應(yīng)到第一內(nèi)部處理空間A而不供應(yīng)到第二內(nèi)部處理空間B。因而，第一 打開(kāi)/關(guān)閉閥AVI打開(kāi)以向第一內(nèi)部處理空間A供應(yīng)氣體，同時(shí)第二打開(kāi)/關(guān)閉閥AV2關(guān) 閉以不向第二內(nèi)部處理空間B供應(yīng)氣體，而是使氣體旁通到公共排氣通道300。這里，第三 打開(kāi)/關(guān)閉閥AV3關(guān)閉以不向公共排氣通道300供應(yīng)氣體，同時(shí)第四打開(kāi)/關(guān)閉閥AV4打 開(kāi)以將被第二打開(kāi)/關(guān)閉閥AV2切斷的氣體供應(yīng)到公共排氣閥300(S150)。
同時(shí)，在僅使用第二內(nèi)部處理空間B而不是使用全部的多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B 的情形中(S130)，控制器控制氣體供應(yīng)到第二內(nèi)部處理空間B而不供應(yīng)到第一內(nèi)部處理空 間A。因而，第一打開(kāi)/關(guān)閉閥AVI關(guān)閉以不向第一內(nèi)部處理空間A供應(yīng)氣體，同時(shí)第二打開(kāi)/關(guān)閉閥AV2打開(kāi)以向第二內(nèi)部處理空間B供應(yīng)氣體。這里，第四打開(kāi)/關(guān)閉閥AV4關(guān)閉以不向公共排氣通道300供應(yīng)氣體，同時(shí)第三打開(kāi)/關(guān)閉閥AV3打開(kāi)以將被第一打開(kāi)/關(guān)閉閥AV1切斷的氣體供應(yīng)到公共排氣通道300 (S150)。 如果將氣體供應(yīng)到每個(gè)內(nèi)部處理空間A和B，則第二供氣比率控制器620分配氣體并將氣體供應(yīng)到中心部641和圓周部643。因此，在整個(gè)中心部641和圓周部643上均勻地發(fā)生等離子體反應(yīng)，并且在等離子體反應(yīng)完成之后，氣體通過(guò)內(nèi)部處理空間A和B內(nèi)的氣體排放路徑148，然后通過(guò)公共排氣通道300供應(yīng)到排氣泵700。 如上所述，在根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室10a、10b和10c中，第二供氣比率控制器620分配氣體并將氣體供應(yīng)到內(nèi)部處理空間A和B的中心部和圓周部，從而使等離子體反應(yīng)能在整個(gè)內(nèi)部處理空間A和B內(nèi)均勻地發(fā)生。 此外，如果多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B之一不處理工件，則多個(gè)打開(kāi)/關(guān)閉閥可將氣體直接旁通到公共排氣通道，而不是將氣體供應(yīng)到內(nèi)部處理空間。 由于第一和第二打開(kāi)/關(guān)閉構(gòu)件設(shè)置在公共排氣通道的排氣路徑上，所以將每個(gè)內(nèi)部處理空間隔離，并且可使排氣的流速和壓力保持均勻。 參照?qǐng)D6到圖8和圖20，將對(duì)根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室10a、10b和10c的組裝
方法和多工件處理方法進(jìn)行描述。 首先，將下外殼150聯(lián)接到中間外殼140，然后將中間外殼140的中間分隔件容納器144聯(lián)接到中間分隔件220。將暴露分隔件230插入到所聯(lián)接的中間分隔件220。
然后將中間外殼140聯(lián)接到上外殼130，然后將上外殼130與上分隔件210聯(lián)接。將上方第一彎曲面132和上方第二彎曲面213聯(lián)接以完成對(duì)稱(chēng)的內(nèi)部處理空間A和B。將上內(nèi)襯160聯(lián)接到所完成的內(nèi)部處理空間A和B的內(nèi)壁面。將上內(nèi)襯160的中間內(nèi)襯聯(lián)接器161與中間內(nèi)襯180聯(lián)接。然后，將上外殼130與等離子體源單元500聯(lián)接。
等離子體源單元500包括向每個(gè)內(nèi)部處理空間A和B供應(yīng)等離子體的等離子體源510。等離子體源510產(chǎn)生等離子體用以處理工件。等離子體源510可包括電容耦合的等離子體源、電感耦合的等離子體源、變壓器耦合的等離子體源等。等離子體源510可根據(jù)由該等離子體源510處理的工件類(lèi)型來(lái)確定。 等離子體源單元500可與用以供應(yīng)反應(yīng)氣體的供氣源600聯(lián)接，從而產(chǎn)生等離子體。 如果多工件處理室10a、10b和10c的組裝完成，則通過(guò)工件入口 135將工件W裝載到工件支架170上。等離子體源510產(chǎn)生等離子體以處理工件W的表面。由于內(nèi)部處理空間A和B通過(guò)第一和第二彎曲面110和120形成對(duì)稱(chēng)的圓，所以等離子體的密度在整個(gè)內(nèi)部處理空間A和B上變成均勻的。因此，可在工件W的所有區(qū)域中對(duì)工件W進(jìn)行均勻地處理。如果等離子體反應(yīng)結(jié)束，則處理氣體通過(guò)氣體排放路徑148和公共排氣通道300排到外部。 通過(guò)聯(lián)接室外殼和分隔件，根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的多工件處理室具有圓形的
對(duì)稱(chēng)形狀，但不限于此?？商娲?，在某些情形中，多工件處理室可包括矩形形狀。 根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的多工件處理室具有兩個(gè)內(nèi)部處理空間，但不限于此。
可替代地，根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的多工件處理室可包括三個(gè)或三個(gè)以上的內(nèi)部處理空間。
圖21示出了在根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室中，在通過(guò)聯(lián)接第一和第二彎曲面110和120而形成的內(nèi)部處理空間A和B的外壁與工件處理站170之間產(chǎn)生的電勢(shì)。由于通過(guò)聯(lián)接第一和第二彎曲面IIO和120使得內(nèi)部處理空間A和B的外壁形如對(duì)稱(chēng)圓并且分隔構(gòu)件200連接到地，所以該電勢(shì)的值為零。由于內(nèi)部處理空間的對(duì)稱(chēng)形狀，與外壁以預(yù)定間隔隔開(kāi)的工件處理站170在任何區(qū)域中都具有相同的電勢(shì)。也就是說(shuō)，如圖22中所示，在相對(duì)于基線(xiàn)的角度9為90度的區(qū)域中的電勢(shì)的值與在角度e為180度的區(qū)域中的電勢(shì)的值是相同的，即為VI ，其均勻施加在整個(gè)區(qū)域上。 圖23示出了工件傳送單元30的工件傳送操作。工件傳送單元30從緩沖室40接收工件并將該工件傳送到多工件處理室10a、10b和10c的工件支架170。工件傳送單元30可通過(guò)傳送室20的第二工件入口 21a和21b以及多工件處理室10a、10b和10c的工件入口 135進(jìn)入內(nèi)部處理空間A和B。這里，通過(guò)切口閥來(lái)控制工件入口 135以及第二工件入口21a和21b是打開(kāi)還是關(guān)閉。 根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的工件傳送單元30從緩沖室40同時(shí)接收多個(gè)工件并將工件傳送到多工件處理室10a、10b和10c。工件傳送單元30旋轉(zhuǎn)并將多個(gè)工件依次傳送到多個(gè)多工件處理室10a、10b和10c。 工件傳送單元30包括可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在傳送室20的中心部中的主軸31、可折疊地聯(lián)接到該主軸31的傳送臂33以及聯(lián)接到該傳送臂33的端部并包括支撐工件的多個(gè)末端執(zhí)行器35a和35b的末端執(zhí)行器單元36。主軸31可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在傳送室20的中心部中。主軸31旋轉(zhuǎn)并使與其聯(lián)接的傳送臂33將工件傳送到第一、第二和第三多工件處理室10a、10b和10c。 傳送臂33可折疊地聯(lián)接到主軸31。如圖1中所示，傳送臂33在裝載工件的備用模式中保持折疊狀態(tài)，從而末端執(zhí)行器單元36在傳送室20的中心部中備用。如圖15中所示，如果將工件傳送到多工件傳送室20，則傳送臂33展開(kāi)并延伸，從而末端執(zhí)行器單元35a和35b定位在內(nèi)部處理空間A和B中。要支持此功能，至少兩個(gè)連桿構(gòu)件可旋轉(zhuǎn)地聯(lián)結(jié)到傳送臂33。 根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的傳送臂33作為單一臂可折疊地支撐末端執(zhí)行器單元36，但不限于此?？商娲兀瑐魉捅?3可包括雙臂，該雙臂包括一對(duì)傳送臂，以便在工件較大時(shí)穩(wěn)定地傳送工件。 末端執(zhí)行器單元36聯(lián)接到傳送臂33，并將工件裝載在其上。末端執(zhí)行器單元36包括在左右兩側(cè)分開(kāi)的一對(duì)末端執(zhí)行器35a和35b。末端執(zhí)行器單元36整體聯(lián)接到傳送臂33的端部，從而如果傳送臂33折疊或展開(kāi)，則多個(gè)末端執(zhí)行器35a和35b相對(duì)于設(shè)置在多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B中的工件支架170同時(shí)裝載和卸載工件。末端執(zhí)行器單元36從中心向左右兩側(cè)以預(yù)定長(zhǎng)度彎曲并且包括形成在其端部中的末端執(zhí)行器35a和35b。
末端執(zhí)行器35a和35b設(shè)置在末端執(zhí)行器單元36的相對(duì)側(cè)中，而工件由末端執(zhí)行器35a和35b的上表面支撐。末端執(zhí)行器35a和35b具有開(kāi)口 ，該開(kāi)口的第一側(cè)打開(kāi)，并形如蹄鐵以將工件的側(cè)面放在該上表面上。該開(kāi)口設(shè)置用于使安裝在工件支架170中的頂桿(未示出)由此進(jìn)入。 利用前述構(gòu)造，根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的工件傳送單元30從緩沖室40同時(shí)接收兩個(gè)工件并在傳送室20中備用，如圖3中所示。如果第一多工件處理室10a、10b和10c的第二工件入口 21a和21b打開(kāi)，則主軸31旋轉(zhuǎn)并對(duì)齊末端執(zhí)行器35a和35b以及第二工件入口 21a和21b的位置。然后，傳送臂33展開(kāi)并將末端執(zhí)行器35a和35b引入到多個(gè)內(nèi)部處理空間A和B并將工件裝載到多個(gè)工件支架170上，如圖23中所示。返回到圖3，工件傳送單元30旋轉(zhuǎn)并面向緩沖室40并且從緩沖室40接收工件。然后，工件傳送單元30將工件依次傳送到第二多工件處理室10b和第三多工件處理室10c。同時(shí)，如果工件處理過(guò)程在第一多工件處理室10a處完成，則工件傳送單元30促使末端執(zhí)行器35a和35b進(jìn)入內(nèi)部處理空間A和B以卸載并傳送已處理的工件。 這里，根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的工件傳送單元30以主軸為中心旋轉(zhuǎn)，并依次相對(duì)于多個(gè)多工件處理室10a、10b和10c裝載和卸載工件，但不限于此?？商娲兀煞謩e設(shè)置僅用于裝載的工件傳送單元和僅用于卸載的工件傳送單元。也就是說(shuō)，當(dāng)僅用于裝載的工件傳送單元將工件依次裝載到多個(gè)多工件處理室10a、10b和10c時(shí)，僅用于卸載的工件傳送單元可在處理完成之后依次卸載工件。 在根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的工件傳送單元30中，末端執(zhí)行器單元36固定地聯(lián)接到傳送臂33，但不限于此?？商娲兀鐖D16中所示，在根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的工件傳送單元30a中，末端執(zhí)行器單元36a可旋轉(zhuǎn)地聯(lián)接到傳送臂33。也就是說(shuō)，末端執(zhí)行器單元36a以旋轉(zhuǎn)軸34為中心可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在傳送臂33中。這里，如果末端執(zhí)行器單元36如本發(fā)明示例性實(shí)施例中那樣固定地聯(lián)接到傳送臂33，則工件傳送單元30具有單一自由度，但是如果末端執(zhí)行器單元36a如變形的示例性實(shí)施例中那樣可旋轉(zhuǎn)地聯(lián)接到傳送臂33，則包括兩個(gè)自由度。因此，可更精確地控制工件的傳送。 如圖25中所示，根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例，可與多工件處理室10a、 10b和10c的數(shù)量相對(duì)應(yīng)地設(shè)置多個(gè)工件傳送單元30b。也就是說(shuō)，如果設(shè)置三個(gè)多工件處理室10a、10b和lOc，則可設(shè)置三個(gè)傳送單元37a、37b和37c以相對(duì)于各個(gè)多工件處理室10a、10b和10c裝載/卸載工件。在此情形中，與單一工件傳送單元旋轉(zhuǎn)并將工件傳送到三個(gè)多工件處理室10a、10b和10c時(shí)相比，可提高工件傳送速度。 如圖26中所示，工件傳送單元30c的一對(duì)傳送臂33a和33b可相對(duì)于主軸31可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置。也就是說(shuō)，每個(gè)末端執(zhí)行器38a和38b均可通過(guò)另外的傳送臂33a和33b操作。在此情形中，該對(duì)傳送臂33a和33b可將多個(gè)工件同時(shí)傳送到多工件處理室10a、10b和10c，或以預(yù)定的時(shí)間間隔將工件傳送到多工件處理室10a、10b和10c。
由于該對(duì)傳送臂33a和33b在操作上是獨(dú)立控制的，所以可僅將一個(gè)工件傳送到多工件處理室10a、10b和10c。當(dāng)多個(gè)內(nèi)部處理空間之一出錯(cuò)并且不能處理工件時(shí)或當(dāng)將奇數(shù)個(gè)工件傳送到緩沖室時(shí)，可使用此功能。 也就是說(shuō)，如果第一多工件處理室10a的第二內(nèi)部處理空間B不可處理工件，則僅將工件裝載到要傳送到第一內(nèi)部處理空間A的工件支架170的該對(duì)末端執(zhí)行器35a和35b中的一個(gè)。 緩沖室40在傳送室20與進(jìn)片室50之間從大氣壓力變?yōu)檎婵栈驈恼婵兆優(yōu)榇髿鈮毫?。緩沖室40裝載由進(jìn)片室50傳送的多個(gè)工件，并使工件傳送單元30裝載工件。要支持此功能，緩沖室40包括用以裝載多個(gè)工件的工件裝載器(未示出)。
進(jìn)片室50從索引件60接收工件并將工件供應(yīng)到緩沖室40的工件裝載器。氣動(dòng)傳送機(jī)械手(未示出)設(shè)置在進(jìn)片室50中以將工件從索引件60傳送到緩沖室40。
索引件60稱(chēng)為設(shè)備前端模塊(下文EFEM)或者在某些情形中可包括進(jìn)片室。索引件60包括安裝在前部的盒子(裝載口)以及存儲(chǔ)裝載在該盒子上的多個(gè)工件的載體61。載體61是包括可分離蓋的封閉容器。 利用前述構(gòu)造，將參照?qǐng)D3和圖23對(duì)根據(jù)本發(fā)明的多工件處理系統(tǒng)1的工件處理過(guò)程進(jìn)行描述。 首先，進(jìn)片室50的氣動(dòng)傳送機(jī)械手(未示出)將工件從載體61傳送到緩沖室40。工件傳送單元30將被裝載在緩沖室40中的兩個(gè)工件同時(shí)裝載并在傳送室20處備用，如圖3中所示。如果第二工件入口 21a和21b打開(kāi)，則裝載在多個(gè)末端執(zhí)行器35a和35b上的工件被裝載到第一多工件處理室10a的多個(gè)工件支架170。工件傳送單元30再次從緩沖室40接收工件并將工件依次傳送到第二和第三多工件處理室10b和10c。
具有裝載在工件支架170上的工件的多工件處理室10a、10b和10c通過(guò)從等離子體源單元500產(chǎn)生的等離子體來(lái)處理工件。這里，由于各個(gè)處理空間A和B通過(guò)分隔構(gòu)件200而具有對(duì)稱(chēng)的形狀，所以在整個(gè)內(nèi)部處理空間上均勻地產(chǎn)生等離子體，并且也均勻地產(chǎn)生電勢(shì)。因此，可對(duì)工件的表面均勻地進(jìn)行處理。在該處理之后，氣體通過(guò)公共排氣通道300排到外部。 如果工件的處理完成，則第二工件入口 21a和21b打開(kāi)，并且在該處理之后，工件
傳送單元30從工件支架170上卸載工件。所卸載的工件被裝載到緩沖室40。 盡管已示出并描述了本發(fā)明的若干示例性實(shí)施例，但本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)理解，
在不偏離本發(fā)明的原理和精神的情況下，可在這些示例性實(shí)施例中作出改變，本發(fā)明的范
圍限定在所附權(quán)利要求及其等同物中。 工業(yè)適用性 如上所述，根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室及其氣流控制方法可有效用于等離子體處理過(guò)程以形成各種層，例如用于半導(dǎo)體集成電路的制造、平板顯示器的制造以及太陽(yáng)能電池的制造。
19
權(quán)利要求
一種多工件處理室，包括室外殼，在所述室外殼中形成有至少兩個(gè)內(nèi)部處理空間；至少一個(gè)分隔構(gòu)件，所述至少一個(gè)分隔構(gòu)件設(shè)置在所述室外殼中并將所述室外殼隔成至少兩個(gè)內(nèi)部處理空間；以及所述各個(gè)內(nèi)部處理空間與所述分隔構(gòu)件聯(lián)接并具有對(duì)稱(chēng)形狀，以均勻地產(chǎn)生處理反應(yīng)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多工件處理室，其中所述室外殼包括具有預(yù)定曲率的第一彎 曲面，所述分隔構(gòu)件包括第二彎曲面，所述第二彎曲面與所述第一彎曲面具有相同的曲率，并且所述第一彎曲面和所述第二彎曲面彼此聯(lián)接并形成對(duì)稱(chēng)圓。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多工件處理室，其中所述室外殼包括彼此聯(lián)接的多個(gè)外殼。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的多工件處理室，其中所述室外殼包括 中間外殼，所述中間外殼具有工件支撐站；上外殼，所述上外殼聯(lián)接到所述中間外殼的上部并形成第一彎曲面；以及 下外殼，所述下外殼聯(lián)接到所述中間外殼的下部。
5. —種多工件處理系統(tǒng)，包括至少一個(gè)多工件處理室，所述至少一個(gè)多工件處理室具有被分隔構(gòu)件隔開(kāi)的多個(gè)內(nèi)部 處理空間；傳送室，至少一個(gè)多工件處理室布置在所述傳送室的周邊區(qū)域中；以及 工件傳送單元，所述工件傳送單元設(shè)置在所述傳送室中并將工件傳送到所述多工件處 理室的所述內(nèi)部處理空間。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的多工件處理系統(tǒng)，其中所述內(nèi)部處理空間與所述分隔構(gòu)件聯(lián) 接并具有對(duì)稱(chēng)形狀，以產(chǎn)生均勻的反應(yīng)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的多工件處理系統(tǒng)，其中所述傳送室包括多邊形形狀，并且 所述多工件處理室設(shè)置在所述傳送室的每一側(cè)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的多工件處理系統(tǒng)，其中所述工件傳送單元包括 主軸，所述主軸可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置；傳送臂，所述傳送臂聯(lián)接到所述主軸并且可折疊以在備用位置與將所述工件裝載到所 述多工件處理室的傳送位置之間移動(dòng)；以及末端執(zhí)行器單元，所述末端執(zhí)行器單元聯(lián)接到所述傳送臂的端部并且包括多個(gè)末端執(zhí) 行器，在所述傳送位置上，所述多個(gè)末端執(zhí)行器分別設(shè)置在所述多工件處理室的多個(gè)內(nèi)部 處理空間中。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的多工件處理系統(tǒng)，其中所述傳送臂設(shè)置為將所述末端執(zhí)行器 單元從所述備用位置移動(dòng)到所述傳送室的中心部。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的多工件處理系統(tǒng)，其中所述末端執(zhí)行器單元可旋轉(zhuǎn)地聯(lián)接 到所述傳送臂。
11. 根據(jù)權(quán)利要求io所述的多工件處理系統(tǒng)，其中所述工件傳送單元包括僅用于裝載的工件傳送單元以及僅用于卸載的工件傳送單元，僅用于裝載的工件傳送單元將所述工 件裝載到所述多工件處理室，僅用于卸載的工件傳送單元從所述多工件處理室卸載所述工 件。
12. —種多工件處理室，包括多個(gè)內(nèi)部處理空間，所述多個(gè)內(nèi)部處理空間包括工件支架；第一供氣比率控制器，所述第一供氣比率控制器控制從供氣源供應(yīng)到所述多個(gè)內(nèi)部處 理空間的氣體的供應(yīng)比率；以及第二供氣比率控制器，所述第二供氣比率控制器設(shè)置在所述第一供氣比率控制器與各 個(gè)內(nèi)部處理空間之間，并分配供應(yīng)到所述內(nèi)部處理空間的氣體，將所述氣體供應(yīng)到內(nèi)部處 理空間的至少兩個(gè)分開(kāi)的部分。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的多工件處理室，其中所述第二供氣比率控制器分配氣體并 將所述氣體供應(yīng)到所述內(nèi)部處理空間的中心部和圓周部。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的多工件處理室，其中所述第二供氣比率控制器控制供氣比率，使得供應(yīng)到所述中心部和所述圓周部的氣體量不同。
15. 根據(jù)權(quán)利要求12到15中的任一項(xiàng)所述的多工件處理室，還包括 公共排氣通道，氣體通過(guò)所述公共排氣通道從所述多個(gè)內(nèi)部處理空間排出；以及 旁通控制器，所述旁通控制器設(shè)置在所述第一供氣比率控制器與所述第二供氣比率控制器之間并將供應(yīng)到所述內(nèi)部處理空間的氣體的路徑旁通到所述公共排氣通道。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的多工件處理室，其中所述旁通控制器包括第一打開(kāi)/關(guān)閉閥，所述第一打開(kāi)/關(guān)閉閥設(shè)置在所述第一供氣比率控制器與所述第 二供氣比率控制器之間并且控制是否向所述內(nèi)部處理空間供應(yīng)氣體；以及第二打開(kāi)/關(guān)閉閥，所述第二打開(kāi)/關(guān)閉閥設(shè)置在所述第一供氣比率控制器與所述公 共排氣通道之間并且控制是否向所述公共排氣通道供應(yīng)氣體。
全文摘要
根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室包括室外殼，在該室外殼中形成有至少兩個(gè)內(nèi)部處理空間；至少一個(gè)分隔構(gòu)件，該至少一個(gè)分隔構(gòu)件設(shè)置在該室外殼中并將該室外殼隔成至少兩個(gè)內(nèi)部處理空間；以及各個(gè)內(nèi)部處理空間，該各個(gè)內(nèi)部處理空間與該分隔構(gòu)件聯(lián)接并具有對(duì)稱(chēng)形狀，以均勻地產(chǎn)生處理反應(yīng)。根據(jù)本發(fā)明的多工件處理室具有內(nèi)部處理空間，所述內(nèi)部處理空間通過(guò)與分隔構(gòu)件聯(lián)接而具有對(duì)稱(chēng)形狀。因而，在整個(gè)內(nèi)部處理區(qū)域上均勻地發(fā)生處理反應(yīng)并且可提高工件處理過(guò)程的再現(xiàn)性和均勻性。
文檔編號(hào)H01L21/00GK101779269SQ200980000397
公開(kāi)日2010年7月14日 申請(qǐng)日期2009年4月2日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月23日
發(fā)明者南昌佑, 魏淳任 申請(qǐng)人:新動(dòng)力等離子體株式會(huì)社