專利名稱：激光工藝裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種激光工藝裝置，且特別涉及一種用于激光移除工藝(laser lift off, LL0)以使一薄膜與一基板分離的激光工藝裝置。
背景技術(shù)：
由于現(xiàn)今準(zhǔn)分子激光光束的信賴度與產(chǎn)能的改良，其應(yīng)用范圍甚至已擴(kuò)張至半導(dǎo) 體材料工藝的領(lǐng)域中。特別是，在形成如發(fā)光二極體(light emitting diodes,LEDs)的組 件時(shí)，使用激光光束自 晶圓將薄膜分離的工藝已被大量應(yīng)用，且例如是激光移除工藝。圖1 是現(xiàn)有技術(shù)用以進(jìn)行激光移除工藝的激光工藝裝置的概念圖。請(qǐng)參照?qǐng)D1，激光工藝裝置9包括一具有248nm(奈米)波長(zhǎng)的氪氟(krypton fluoride,KrF)準(zhǔn)分子激光1以及由多個(gè)透鏡所形成的一光學(xué)系統(tǒng)2。以下，使用上述激光 工藝裝置9的激光移除工藝將被描述。首先，當(dāng)氪氟準(zhǔn)分子激光1射出一激光光束，激光光 束通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)2以呈現(xiàn)一適當(dāng)?shù)耐庑团c強(qiáng)度，然后照射于包括一藍(lán)寶石窗Pl與一氮化鎵 磊晶層P2的工藝物件P上。在此，若激光光束的能量低于藍(lán)寶石的能隙(約lO.OeV)，大 于氮化鎵的能隙(約3. 3eV)，以使激光光束不被藍(lán)寶石窗Pl吸收并穿透以被氮化鎵磊晶 層P2吸收。因而被吸收的激光光束能量加熱并分離藍(lán)寶石窗Pl與氮化鎵磊晶層P2的接 觸面以分離藍(lán)寶石窗Pl以及磊晶層P2。煙及顆粒形態(tài)的副產(chǎn)品0在上述激光移除工藝期間自接合表面的分離過(guò)程被產(chǎn) 生，且副產(chǎn)品0，如圖1所示，粘附在透鏡表面或是藍(lán)寶石窗的上表面上。副產(chǎn)品因而被貼 附時(shí)，朝向磊晶層P2發(fā)射的激光光束的一部分在路徑中被副產(chǎn)品0吸收所以到達(dá)磊晶層表 面的激光光束的能量剖面不均勻。因此，裂隙或是其它缺陷由在磊晶層表面上過(guò)多能量被 吸收的部位的壓力產(chǎn)生，并且藍(lán)寶石窗與磊晶層的分離在吸收少量能量位準(zhǔn)的部位處不發(fā) 生，而造成制成產(chǎn)品的品質(zhì)下降與產(chǎn)能降低的問(wèn)題。再者，在激光工藝裝置中，因副產(chǎn)品0對(duì)于其它組成對(duì)象的混染或是損壞造成激 光工藝裝置的耐受性降低的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題本發(fā)明提出一種激光工藝裝置，具有改良的結(jié)構(gòu)以避免產(chǎn)品品質(zhì)與產(chǎn)能降低，或 是避免鄰近組成物因?yàn)楣に囄锛惶幚頃r(shí)所產(chǎn)生的副產(chǎn)品而混染。技術(shù)手段根據(jù)一實(shí)施例，激光工藝裝置包括設(shè)以發(fā)射一激光光束的一激光光束光源；設(shè) 以形成自激光光束光源所發(fā)出的激光光束的能量剖面及一外型的一光學(xué)系統(tǒng)；一臺(tái)階，其 上放置一工藝物件且工藝物件被處理以透過(guò)其上的光學(xué)系統(tǒng)所形成的激光光束照射；以及 一抽吸單元配置于光學(xué)系統(tǒng)所形成的激光光束的一行進(jìn)路徑上以傳送激光光束通過(guò)，并設(shè) 以抽吸在處理工藝物件時(shí)所產(chǎn)生的多個(gè)副產(chǎn)品。
本發(fā)明的有益效果根據(jù)前述結(jié)構(gòu)，工藝對(duì)象處理期間所產(chǎn)生的副產(chǎn)品可以有效率地被抽吸至抽吸單 元中。因此，工藝條件受到副產(chǎn)品不當(dāng)?shù)挠绊懣杀槐苊?，因而提升制成產(chǎn)品的品質(zhì)且增加激 光工藝裝置的產(chǎn)率。同時(shí)，藉由避免自副產(chǎn)品對(duì)激光工藝裝置的混染及損害，激光工藝裝置的耐受性 獲改善。


圖1是現(xiàn)有技術(shù)的激光工藝裝置的概念圖。圖2為根據(jù)一實(shí)施例的激光工藝裝置的概念圖。圖3為圖2的抽吸單元的示意圖。圖4是沿圖3的IV-IV線所示的剖面圖。圖5是沿圖4的V-V線所示的激光工藝裝置的剖面圖。圖6為一對(duì)準(zhǔn)器的操作方法的方塊圖。圖7為一聚焦單元的操作方法的方塊圖。本發(fā)明的最佳模式抽吸單元可包括一殼體，其包括為使激光光束通過(guò)而定義的一穿孔，以及為使副 產(chǎn)品流過(guò)而定義的一排出孔；一光束分割器，接合至殼體以關(guān)閉穿孔；以及一風(fēng)扇，設(shè)以抽 吸副產(chǎn)品至排出孔。其中，激光制程裝置可還包括一監(jiān)視單元，設(shè)以使用被光束分割器反射 的一部份激光光束以監(jiān)視激光光束。抽吸單元包括一殼體，包括為使激光光束通過(guò)因而定義的一穿孔、連接穿孔以使 副產(chǎn)品流過(guò)的一排出孔以及與穿孔連通并設(shè)以排放由一外部朝向排出孔供應(yīng)的非揮發(fā)性 氣體的一噴嘴部；以及一風(fēng)扇，設(shè)以抽吸副產(chǎn)品至排出孔。殼體還包括接合以關(guān)閉穿孔的一光束分割器以及與穿孔連通并設(shè)以朝向光束分 割器排放非揮發(fā)性氣體的一排放部。激光制程裝置可還包括一過(guò)濾器，配置于排出孔與風(fēng)扇之間的副產(chǎn)品的流動(dòng)路徑 中以過(guò)濾副產(chǎn)品。激光制程裝置，還包括一對(duì)準(zhǔn)器，設(shè)于對(duì)準(zhǔn)制程對(duì)象以及激光光束；以及一聚焦 單元，設(shè)于將激光光束的一焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)在制程物件上。
具體實(shí)施例方式此后，具體實(shí)施例將參照附圖被詳細(xì)地描述。圖2為根據(jù)一實(shí)施例的激光工藝裝置的概念圖，圖3為圖2的抽吸單元的示意圖， 圖4是沿圖3的IV-IV線所示的剖面圖，而圖5是沿圖4的V-V線所示的激光工藝裝置的 剖面圖。請(qǐng)參照?qǐng)D2至圖5，激光工藝裝置100包括一激光光束光源10、一衰減器20、一光 學(xué)系統(tǒng)30、一臺(tái)階40、一抽吸單元50、一監(jiān)視單元60以及一影像擷取組件70。作為產(chǎn)生一激光光束的工藝組件，激光光束光源10可使用一氪氟準(zhǔn)分子激光 (KrF excimer laser)、一氬氟準(zhǔn)分子激光(argon fluoride (ArF) excimer laser)或是根據(jù)被使用的激光光束波長(zhǎng)的其它形式的激光。衰減器20配置于激光光束的行進(jìn)路徑中并控制激光光束的強(qiáng)度。由于衰減器20 為所屬領(lǐng)域中被廣泛知悉的組件，在此不多加描述。光學(xué)系統(tǒng)30沿著激光光束光源10所發(fā)出的激光光束的行進(jìn)路徑配置，并形成激 光光束的外型與能量剖面。根據(jù)部分實(shí)施例，光學(xué)系統(tǒng)30包括形成激光光束的外型的一光 束擴(kuò)展鏡31 (beam expansion telescope)、均勻地分散已成型的激光光束的能量的一光束 均勻器32以及調(diào)整激光光束的焦點(diǎn)的投影透鏡33。并且，藉由反射激光光束以改變激光光 束的行進(jìn)方向的一反射鏡34、遮蔽通過(guò)光束均勻器32的激光光束的部分邊緣的一屏蔽35 以及場(chǎng)透鏡(field lens) 36可隨所需而被提供。上述的光學(xué)系統(tǒng)30是一被公開知悉的裝 置，其被揭示于韓國(guó)專利第10-0724540號(hào)等，其相關(guān)描述在此便不詳細(xì)說(shuō)明。臺(tái)階40配置在通過(guò)光學(xué)系 統(tǒng)30的激光光束的行進(jìn)路徑中。一工藝對(duì)象P配置在 臺(tái)階40的上表面以在激光光束照射時(shí)被處理。臺(tái)階40連接至一臺(tái)階驅(qū)動(dòng)器。臺(tái)階驅(qū)動(dòng)器 電性連接至動(dòng)態(tài)控制器并根據(jù)接受到由動(dòng)態(tài)控制器所輸出的移動(dòng)信號(hào)水平地以及垂直地 移動(dòng)臺(tái)階40。作為抽吸工藝對(duì)象P處理期間所產(chǎn)生的副產(chǎn)品0之用的組件，抽吸單元50配置于 激光光束的行進(jìn)路徑上。抽吸單元50包括一殼體51、一光束分割器52、一風(fēng)扇53、一過(guò)濾 器54以及一卡匣55。殼體51配置在工藝對(duì)象P的行進(jìn)路徑中，并包括一穿孔511、一排出孔512、一噴 嘴部513以及一排放部514。穿孔511被定義為垂直地穿過(guò)殼體51的中心。激光光束通過(guò) 穿孔511。排出孔512被定義為穿過(guò)殼體51被穿孔511所定義的一內(nèi)側(cè)。排出孔512連通 穿孔511并且一排出導(dǎo)管515接合至殼體51。噴嘴部513連通穿孔511，且一第一氣體供 應(yīng)線516安裝在殼體51的一側(cè)。噴嘴部513排放自外部透過(guò)第一氣體供應(yīng)線516向排出 孔512提供的一非揮發(fā)性氣體。當(dāng)排放的非揮發(fā)氣體進(jìn)入排出孔512，副產(chǎn)品0隨著非揮發(fā) 氣體一起流入排出孔512。排放部514連通至穿孔511且一第二氣體供應(yīng)線517安裝于殼 體51的一側(cè)。排放部514排放透過(guò)第二氣體供應(yīng)線517自外部向光束分割器52(將于后 文中被描述)提供的非揮發(fā)性氣體。排放的非揮發(fā)性氣體沿著光束分割器52與穿孔511 向下流動(dòng)。據(jù)此，因?yàn)楣馐指钇?2的下表面在非揮發(fā)性氣體的大氣中，副產(chǎn)品0便隨著 非揮發(fā)氣體向下流動(dòng)。光束分割器52以板狀外型形成，且配置在激光光束的行進(jìn)路徑中與激光光束的 行進(jìn)方向呈45°的斜坡。光束分割器52接合至殼體51的上表面并阻塞穿孔511。光束分 割器52傳送并反射入射激光光束。特別的是，在部分實(shí)施例中，95%的激光光束被傳送而 5%被反射。風(fēng)扇53被安裝在排出導(dǎo)管515中。風(fēng)扇53經(jīng)由穿孔511以及排出孔512抽吸副
廣品Oo過(guò)濾器54被安裝在排出導(dǎo)管515中并配置于副產(chǎn)品0在排出孔512與風(fēng)扇53之 間的排出路徑中。過(guò)濾器54過(guò)濾經(jīng)由排出導(dǎo)管515所排出的氣體以移除包含在氣體中的 .1J廣品Oo卡匣55具有一儲(chǔ)存空間551，并且可拆卸地接合至排出導(dǎo)管515。卡匣55配置于 過(guò)濾器54之下，而無(wú)法通過(guò)過(guò)濾器的大尺寸的副產(chǎn)品0收集于卡匣55的儲(chǔ)存空間551中。同時(shí)，一由一光發(fā)射器561與一光接受器562所組成的位準(zhǔn)感測(cè)器56被安裝在卡匣55的 儲(chǔ)存空間551中。光發(fā)射器561發(fā)被配置于光發(fā)射器561對(duì)面的光接受器562接收的光 線。多于一預(yù)定數(shù)量的副產(chǎn)品O被累積于儲(chǔ)存空間551時(shí)，發(fā)射自光發(fā)射器561的光線被 副產(chǎn)品O所阻擋，而不被光接受器562接收。因此，一電性連接至位準(zhǔn)感測(cè)器56的警示單 元(未示出)發(fā)出一預(yù)定訊號(hào)以清空卡匣55。監(jiān)視單元60收集被光束分割器52反射的部份激光光束以監(jiān)視激光光束。具體而 言，根據(jù)部分實(shí)施例，監(jiān)視單元60包括一光束剖面器(beam profiler)61以及一能量計(jì)62。 光束剖面器61配置在被光束分割器52反射的激光光束的行進(jìn)路徑中以收集被反射的激光 光束。光束剖面器61量測(cè)激光光束被反射的部分激光光束的能量剖面。能量計(jì)62配置于 被光束分割器52反射的激光光束的行進(jìn)路徑中并收集反射的被激光光束。能量計(jì)62量測(cè) 被反射的激光光束的強(qiáng)度。藉由這樣的被反射激光光束的能量剖面與強(qiáng)度的量測(cè)，可以得 知通過(guò)光束分割器52被傳送的激光光束的能量剖面以及強(qiáng)度。影像擷取組件70配置于穿孔511的一頂端以擷取工藝物件P的處理。影像擷取 組件70連接至一顯示組件時(shí)，工藝對(duì)象P的處理可以即時(shí)地被檢驗(yàn)。激光工藝裝置100還包括一對(duì)準(zhǔn)器80以及一聚焦單元90。圖6為一對(duì)準(zhǔn)器的操 作方法的方塊圖，而圖7為一聚焦單元的操作方法的方塊圖。參考圖6與圖7的相關(guān)描述 將記載于下。對(duì)準(zhǔn)器80用以將工藝對(duì)象P對(duì)準(zhǔn)激光光束，特別是配置一個(gè)在激光光束的行進(jìn)路 徑中欲被處理的點(diǎn)。根據(jù)部分實(shí)施例，對(duì)準(zhǔn)器80包括一觀察器81以及一觀察器控制器82。 觀察器81配置在工藝物件P之上。工藝物件P被移動(dòng)至觀察器81下方時(shí)，觀察器81偵測(cè) 工藝對(duì)象P中的標(biāo)記并使用這些標(biāo)記以量測(cè)處理點(diǎn)的水平位置，且傳送所量測(cè)的位置至觀 察器控制器82。觀察器控制器82計(jì)算自觀察器81所傳送的處理點(diǎn)的位置與激光光束的照 射位置之間的差異并且輸出一對(duì)應(yīng)的控制訊號(hào)至動(dòng)態(tài)控制器42。接收到控制訊號(hào)的動(dòng)態(tài)控 制器42輸出一對(duì)應(yīng)的移動(dòng)訊號(hào)至臺(tái)階驅(qū)動(dòng)器41且臺(tái)階驅(qū)動(dòng)器41接收移動(dòng)訊號(hào)并據(jù)以在 水平方向上移動(dòng)臺(tái)階40。聚焦單元90用以將雷光束的焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)于工藝對(duì)象P，并且更具體而言，是用以使 激光光束的焦點(diǎn)符合一處理點(diǎn)。根據(jù)部分實(shí)施例的聚焦單元90包括一聚焦部91以及一聚 焦控制器92。聚焦部91配置于工藝物件P之上。工藝對(duì)象P移動(dòng)至聚焦部91之下時(shí)，聚 焦部91偵查工藝對(duì)象P的曲率并用上述曲率以量測(cè)一處理點(diǎn)的垂直位置，并且傳送所量測(cè) 的位置至聚焦控制器92。聚焦控制器92計(jì)算自聚焦部91所傳送的處理點(diǎn)的位置與激光光 束的焦點(diǎn)之間的差異并輸出一對(duì)應(yīng)的控制訊號(hào)至動(dòng)態(tài)控制器42。然后，接收控制訊號(hào)的動(dòng) 態(tài)控制器42輸出對(duì)應(yīng)控制訊號(hào)的一移動(dòng)訊號(hào)至臺(tái)階驅(qū)動(dòng)器41，因此臺(tái)階驅(qū)動(dòng)器41接收移 動(dòng)訊號(hào)并據(jù)以在垂直方向上移動(dòng)臺(tái)階40。以下將提出使用上述內(nèi)容所配置的激光工藝裝置100以進(jìn)行激光移除工藝的描 述。如圖4所示，通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)30傳送的激光光束向下行進(jìn)以到達(dá)光束分割器52。在 到達(dá)光束分割器52的激光光束中，5%的激光光束被反射以呈現(xiàn)水平狀而95%的激光光束 通過(guò)光束分割器 52被傳送并照射在工藝物件P上。如同在相關(guān)技術(shù)中的描述，照射在工藝 物件P上的激光光束通過(guò)一藍(lán)寶石窗P1，之后被氮化鎵磊晶層P2吸收以加熱并分離磊晶層P2的接觸面，因此將藍(lán)寶石窗Pl與磊晶層P2分離。磊晶層P2被分離時(shí)，副產(chǎn)品P以煙及 顆粒的形態(tài)產(chǎn)生。
借著風(fēng)扇53所產(chǎn)生的抽吸力以及自噴嘴部513與排放部514所排放的非揮發(fā)性 氣體以使得產(chǎn)生的副產(chǎn)品0流過(guò)穿孔511以及排出孔512 (如圖4所示)，并且被過(guò)濾器54 過(guò)濾。更進(jìn)一步而言，借著來(lái)自風(fēng)扇53的抽吸力以向下流經(jīng)穿孔511的副產(chǎn)品0大部分與 從噴嘴部513朝向排出孔512排放的非揮發(fā)性氣體一起進(jìn)入排出孔512，并在流經(jīng)排出導(dǎo) 管515時(shí)隨之被捕捉于過(guò)濾器54中。同時(shí)，藉由來(lái)自排放部514并沿光束分割器52向下 排放的非揮發(fā)性氣體使副產(chǎn)品0未進(jìn)入排出孔512但向上流經(jīng)穿孔511的一部分再次向下 流動(dòng)而后藉由風(fēng)扇53的抽吸力進(jìn)入排出孔512，再被過(guò)濾器54過(guò)濾。監(jiān)視單元60被使用時(shí)，激光光束的能量剖面以及強(qiáng)度可被量測(cè)，且激光光束可透 過(guò)對(duì)準(zhǔn)器80以及聚焦單元90的使用而照攝于一精準(zhǔn)的位置上。承上述，因?yàn)槌槲鼏卧?0在部分實(shí)施例中被提供于激光工藝裝置100中，工藝期 間所產(chǎn)生的副產(chǎn)品0可免于吸附至工藝對(duì)象或是鄰近組成物上。特別是，抽吸單元50不僅 由產(chǎn)生抽吸力的風(fēng)扇53所形成，更由排放非揮發(fā)性氣體以使副產(chǎn)品0朝向排出孔512移動(dòng) 的噴嘴部513，以及排放非揮發(fā)性氣體以避免副產(chǎn)品0流向光束分割器52的排放部514所 形成。據(jù)此，副產(chǎn)品0可有效地被抽吸至排出導(dǎo)管中以同時(shí)地避免副產(chǎn)品0吸附至光束分 割器52上。因此，可避免到達(dá)磊晶層P2的激光光束不均勻以制造品質(zhì)優(yōu)異的產(chǎn)品，且激光 工藝裝置100的工藝良率可被提升。同時(shí)，副產(chǎn)品0對(duì)激光工藝裝置所造成的混染及損害 也可被避免，且激光工藝裝置的耐受性更為提升。除此之外，光束分割器52被安裝于抽吸單元50中。如此，即使不增加獨(dú)立安裝的 組件以分離欲被量測(cè)光束剖面與強(qiáng)度的激光光束，激光光束的剖面與強(qiáng)度仍可利用照射于 光束分割器52上的激光光束在進(jìn)行激光移除工藝時(shí)被即時(shí)地量測(cè)。因此，激光工藝裝置的 空間利用率相當(dāng)良好，且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)易。根據(jù)前述結(jié)構(gòu)，工藝對(duì)象處理期間所產(chǎn)生的副產(chǎn)品可以有效率地被抽吸至抽吸單 元中。因此，工藝條件受到副產(chǎn)品不當(dāng)?shù)挠绊懣杀槐苊?，因而提升制成產(chǎn)品的品質(zhì)且增加激 光工藝裝置的產(chǎn)率。同時(shí)，藉由避免自副產(chǎn)品對(duì)激光工藝裝置的混染及損害，激光工藝裝置的耐受性 獲改善。雖然激光工藝裝置已以實(shí)施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明。因此，任何所 屬技術(shù)領(lǐng)域中的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許更動(dòng)與潤(rùn)飾，故本 發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視所附權(quán)利要求所界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種激光工藝裝置，其特征在于 一激光光束光源，設(shè)以發(fā)出一激光光束；一光學(xué)系統(tǒng)，設(shè)以形成自該激光光束光源所發(fā)出的該激光光束的能量剖面及一外型； 一臺(tái)階，其上放置有一工藝物件，該工藝物件被處理以透過(guò)其上的該光學(xué)系統(tǒng)所形成 的該激光光束照射；以及一抽吸單元，配置于該光學(xué)系統(tǒng)所形成的該激光光束的一行進(jìn)路徑上以傳送該激光光 束通過(guò)，并設(shè)以抽吸在處理該工藝物件時(shí)所產(chǎn)生的多個(gè)副產(chǎn)品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光工藝裝置，其特征在于該抽吸單元包括一殼體，包括為使該激光光束通過(guò)因而定義的一穿孔以及為使該多個(gè)副產(chǎn)品流過(guò)因而 定義的一排出孔；一光束分割器，接合至該殼體以關(guān)閉該穿孔； 一風(fēng)扇，設(shè)以抽吸該多個(gè)副產(chǎn)品至該排出孔，其中該激光工藝裝置還包括設(shè)以使用被該光束分割器反射的一部份該激光光束以監(jiān) 視該激光光束的一監(jiān)視單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光工藝裝置，其特征在于該抽吸單元包括一殼體，包括為使該激光光束通過(guò)因而定義的一穿孔，連接該穿孔以使該多個(gè)副產(chǎn)品 流過(guò)的一排出孔，以及與該穿孔連通并設(shè)以排放由一外部朝向該排出孔供應(yīng)的一非揮發(fā)性 氣體的一噴嘴部；以及一風(fēng)扇，設(shè)以抽吸該多個(gè)副產(chǎn)品至該排出孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光工藝裝置，其特征在于該殼體還包括接合以關(guān)閉該穿孔 的一光束分割器以及與該穿孔連通并設(shè)以朝向該光束分割器排放該非揮發(fā)性氣體的一排 放部。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的激光工藝裝置，其特征在于還包括一過(guò)濾器，配置于該排 出孔與該風(fēng)扇之間的該多個(gè)副產(chǎn)品的一流動(dòng)路徑中以過(guò)濾該多個(gè)副產(chǎn)品。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的激光工藝裝置，其特征在于還包括 一對(duì)準(zhǔn)器，設(shè)于對(duì)準(zhǔn)該工藝對(duì)象以及該激光光束；以及一聚焦單元，設(shè)于將該激光光束的一焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)在該工藝物件上。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種激光工藝裝置。具體而言，本發(fā)明關(guān)于用于在激光移除工藝分離一薄膜與基板的激光工藝裝置。根據(jù)本發(fā)明的激光工藝裝置包括設(shè)以發(fā)射一激光光束的一激光光束光源、設(shè)以形成自激光光束光源所發(fā)出的激光光束并用以處理能量分布的一光學(xué)系統(tǒng)、用以藉由所述光學(xué)系統(tǒng)所處理后的激光光束所照射的以及用以接受藉由所述照射的激光光束處理后的一工藝對(duì)象的一臺(tái)階以及一抽吸單元，其配置激光光束的一行進(jìn)路徑上以允許藉由所述光學(xué)系統(tǒng)處理過(guò)的激光光束通過(guò)，并且其具有抽吸在處理工藝對(duì)象時(shí)所散射的材料的工作。
文檔編號(hào)H01L21/00GK102007568SQ200980113095
公開日2011年4月6日 申請(qǐng)日期2009年2月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月18日
發(fā)明者嚴(yán)升煥, 李光在, 趙云基, 金賢中 申請(qǐng)人:Ap系統(tǒng)股份有限公司