專利名稱：：一種平面光源器件及其制備方法一種平面光源器件及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及有機(jī)光電領(lǐng)域，特別是一種平面光源器件及其制備方法。
背景技術(shù)：
：平面光源被廣泛地應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域，例如，作為液晶顯示器的背光源。平面光源通常由線性光源如冷陰極熒光(CCFL)管與平面(二維)光引導(dǎo)/擴(kuò)散層一起制成，以便在一個(gè)可以散射出光的平面內(nèi)散射光。點(diǎn)光源，例如小型燈或者其它光源如發(fā)光二極管的二維陣列在一定程度上也被認(rèn)為是平面光源，但成本較高；利用真空管內(nèi)部的電子束激發(fā)熒光層的場(chǎng)致發(fā)射裝置(FED)也可以認(rèn)為是一種平面光源的顯示器件，然而，對(duì)于場(chǎng)致發(fā)射裝置而言，需要具有高電子發(fā)光效率的優(yōu)良電極和高真空，故此，場(chǎng)致發(fā)射裝置中的熒光體需要高效率地把電子轟擊能量轉(zhuǎn)換成可見光；由二維氣體放電和熒光層組成的真實(shí)平面光源，例如采用惰性氣體交叉放電，激發(fā)熒光體發(fā)光的平面介質(zhì)阻擋放電的光源?，F(xiàn)在引起較為廣泛關(guān)注的有機(jī)電致發(fā)光二極管(0LED)的平面光源具有諸多優(yōu)點(diǎn)，例如少陰影，能耗低、工作電壓低，使用與維護(hù)安全，均勻發(fā)光、不閃爍等，但因?yàn)椴牧习l(fā)光亮度較低而沒有得到廣泛的商業(yè)化應(yīng)用。鑒于以上問題，實(shí)有必要針對(duì)以上技術(shù)進(jìn)行改進(jìn)，以利于廣泛應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種平面光源器件及其制備方法，其不但發(fā)光均勻而且亮度得到提高。為解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種平面光源器件的制備方法，包括以下步驟第一步稱取5g乙基纖維素和45g松油醇，置于干凈的燒杯中，在7(TC-S(TC下恒溫?cái)嚢?h-3h，配制成載體后，轉(zhuǎn)移到研缽中；第二步稱取50g的CCFL熒光粉，熒光粉顆粒粒徑為6.8ym，0.3g作為分散劑的BYK171，0.4g作為消泡劑的羥基二甲基硅氧烷，以及l(fā)g二氧化硅，其中，二氧化硅粒徑小于1Pm，放入盛有載體的研缽中共同研磨半小時(shí)，配成熒光粉漿料，備用；第三步取下玻璃基板，用洗潔精清洗干凈吹干后，在其上用絲網(wǎng)印刷方法印刷第二步中配成的熒光粉漿料，從而形成熒光粉層；第四步A)將帶有銦錫氧化物的上玻璃基板，清洗干凈并吹干，將上玻璃基板的下表面封接框和印刷有熒光粉層的下玻璃基板的封接框內(nèi)均勻地涂覆一層低玻粉；B)在燒結(jié)爐中37(TC脫氣15min;C)通入氮?dú)獗Ｗo(hù)氣，在46(TC保溫20min，從而完成上玻璃基板和下玻璃基板的封接，待用；第五步在氮?dú)夥諊氖痔紫渲蟹謩e將聚(甲基-苯基硅烷)(PMPS)禾P2，5-雙(4-聯(lián)苯)-1，3，4-嗯二唑(BBD)溶解于甲苯溶液中，并在40°C-5(TC加熱攪拌3h，從而得到攪拌均勻的聚(甲基-苯基硅烷)聚合物溶液和2，5-雙(4-聯(lián)苯)-l，3，4-嗯二唑聚合物溶液，以備后用；第六步將第四步中封接好的上玻璃基板和下玻璃基板轉(zhuǎn)移到氮?dú)夥諊氖痔紫渲胁⒐潭ㄔ趧蚰z機(jī)上，用帶有濾頭的注射器將聚(甲基-苯基硅烷)聚合物溶液涂滿整個(gè)上玻璃基板具有銦錫氧化物導(dǎo)電層的表面，使勻膠機(jī)以2500r/min旋轉(zhuǎn)60s，然后移轉(zhuǎn)到加熱臺(tái)上在8(TC加熱退火30min，從而，在銦錫氧化物導(dǎo)電層表面形成一層聚(甲基-苯基硅烷)薄膜，即PMPS層；第七步用帶有濾頭的注射器將2，5-雙(4-聯(lián)苯)-l，3，4-嗯二唑聚合物溶液涂滿整個(gè)PMPS層，使勻膠機(jī)以2000r/min旋轉(zhuǎn)60s，然后，移轉(zhuǎn)到加熱臺(tái)上在8(TC加熱退火30min，從而在PMPS層形成一層2，5-雙(4-聯(lián)苯)-1，3，4-嗯二唑薄膜，即BBD層(6);第八步將上述第七步中得到的器件轉(zhuǎn)移到真空鍍膜機(jī)的腔體中進(jìn)行蒸鍍，即得到金屬陰極層。第九步將上玻璃基板的銦錫氧化物導(dǎo)電層和金屬陰極層分別連接直流電源的正極和負(fù)極引線，再在氮?dú)夥諊氖痔紫渲?，用背板將陰極和由PMPS層和BBD層組成的有機(jī)功能層用紫外固化膠，在紫外燈下照射12min封裝起來，從而得到平面光源器件。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明進(jìn)一步提供了一種平面光源器件，其采用上述制備方法制備。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明平面光源器件及其制備方法至少具有以下優(yōu)點(diǎn)由于本發(fā)明的熒光粉層中加入有氧化硅微粒，因此可以提高熒光粉與玻璃基板的粘結(jié)力和增加光散射，提高光源亮度。圖1是本發(fā)明第一實(shí)施例中的平面光源器件的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本發(fā)明第二實(shí)施例中的平面光源器件的結(jié)構(gòu)示意圖。所述附圖中的標(biāo)號(hào)與元件的對(duì)應(yīng)關(guān)系如下<table>tableseeoriginaldocumentpage4</column></row><table>具體實(shí)施方式下面結(jié)合附圖詳細(xì)介紹本發(fā)明平面光源器件的制備方法實(shí)施例一，請(qǐng)參見圖l:第一步稱取5g乙基纖維素和45g松油醇，置于干凈的燒杯中，在7(TC-8(TC下恒溫?cái)嚢?-3h，配制成載體后，轉(zhuǎn)移到研缽中；第二步稱取50g的CCFL熒光粉，熒光粉顆粒粒徑為6.8ym，O.3g的BYK171分散劑，O.4g作為消泡劑的羥基二甲基硅氧烷，以及l(fā)g二氧化硅，其中，二氧化硅粒徑小于1Pm，放入盛有上述載體的研缽中共同研磨半小時(shí)，配成熒光粉漿料，備用；第三步將下玻璃基板2，本實(shí)施例中用的是超白玻璃，用洗潔精清洗干凈并吹干后，在其上用絲網(wǎng)印刷方法印刷第二步中配成的10m厚的熒光粉漿料，從而形成熒光粉層3;第四步A)將帶有銦錫氧化物(ITO)的上玻璃基板l，在本實(shí)施例中用的是石英導(dǎo)電玻璃，其一個(gè)表面帶有ITO導(dǎo)電層4，清洗干凈并吹干，將上玻璃基板1的下表面封接框和印刷有熒光粉層3的下玻璃基板2的封接框內(nèi)均勻地涂覆一層低玻粉9，低玻粉9的厚度在100-200iim;B)在燒結(jié)爐中370。C脫氣15min;C)通入氮?dú)獗Ｗo(hù)氣，在460。C保溫20min，從而完成上玻璃基板1和下玻璃基板2的封接，待用；第五步在氮?dú)夥諊氖痔紫渲蟹謩e將20mg固態(tài)的聚(甲基_苯基硅烷)(PMPS)和20mg的2，5-雙(4-聯(lián)苯)-l，3，4-嗯二唑(BBD)溶解于1ml甲苯溶液中，并在40°C-S(TC加熱攪拌3h，從而得到攪拌均勻的PMPS聚合物溶液和BBD聚合物溶液，以備后用；第六步將第四步中封接好的上玻璃基板和下玻璃基板轉(zhuǎn)移到氮?dú)夥諊氖痔紫渲胁⒐潭ㄔ趧蚰z機(jī)上，用帶有濾頭的注射器將PMPS聚合物溶液涂滿整個(gè)上玻璃基板1的ITO導(dǎo)電層4表面，使勻膠機(jī)以2500r/min旋轉(zhuǎn)60s，然后移轉(zhuǎn)到加熱臺(tái)上在8(TC加熱退火30min，從而，在ITO導(dǎo)電層4表面形成一層lOOnm厚的PMPS薄膜，即PMPS層5;第七步用帶有濾頭的注射器將第六步的BBD聚合物溶液涂滿整個(gè)PMPS薄膜表面，使勻膠機(jī)以2000r/min旋轉(zhuǎn)60s，然后，移轉(zhuǎn)到加熱臺(tái)上在8(TC加熱退火30min，從而在PMPS薄膜表面形成一層60nm厚的BBD薄膜，即BBD層6;第八步將第七步中得到的器件轉(zhuǎn)移到真空鍍膜機(jī)的腔體中進(jìn)行蒸鍍，其中，真空鍍膜機(jī)的下部放置有架在架子上的電阻絲，電阻絲上放置有金屬鋁，且電阻絲兩端加有電壓，第七步得到的器件放置于真空鍍膜機(jī)的上部，當(dāng)腔體中真空度在高于2*10—4Pa時(shí)，金屬鋁蒸發(fā)，附在BBD層表面，從而形成厚度為150nm的金屬陰極層。第九步將ITO導(dǎo)電層4和金屬陰極層7分別連接直流電源的正極和負(fù)極引線，再在氮?dú)夥諊氖痔紫渲?，用背?將金屬陰極層7和由PMPS層5和BBD層6組成的有機(jī)功能層用紫外固化膠，在紫外燈下照射12min封裝起來，從而得到平面光源器件。實(shí)施例二，請(qǐng)參閱圖2所示本實(shí)施例與實(shí)施例一的區(qū)別在于熒光粉層3制備在上玻璃基板1的下表面，即將帶有銦錫氧化物(ITO)的上玻璃基板1清洗干凈并吹干后在上玻璃基板1沒有ITO導(dǎo)電層的一面用絲網(wǎng)印刷方法印刷一層熒光粉漿料，從而，形成熒光粉層3，熒光粉層3的厚度為lOym。其他制作過程均相同，在此不做贅述。表1為本發(fā)明光源器件和傳統(tǒng)的光源器件的相關(guān)數(shù)據(jù)對(duì)比，其中，A1-A3為傳統(tǒng)光源，即平面介質(zhì)阻擋放電光源，Bl-B3為本發(fā)明的平面光源表1<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>以上所述僅為本發(fā)明的一種實(shí)施方式，不是全部或唯一的實(shí)施方式，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員通過閱讀本發(fā)明說明書而對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案采取的任何等效的變換，均為本發(fā)明的權(quán)利要求所涵蓋。權(quán)利要求一種平面光源器件的制備方法，包括以下步驟第一步稱取5g乙基纖維素和45g松油醇，置于干凈的燒杯中，在70℃-80℃下恒溫?cái)嚢?h-3h，配制成載體后，轉(zhuǎn)移到研缽中；第二步稱取50g的CCFL熒光粉，熒光粉顆粒粒徑為6.8μm，0.3g作為分散劑的BYK171，0.4g作為消泡劑的羥基二甲基硅氧烷，以及1g二氧化硅，其中，二氧化硅粒徑小于1μm，放入盛有載體的研缽中共同研磨半小時(shí)，配成熒光粉漿料，備用；第三步取下玻璃基板(2)，用洗潔精清洗干凈吹干后，在其上用絲網(wǎng)印刷方法印刷第二步中配成的熒光粉漿料，從而形成熒光粉層(3)；第四步A)將帶有銦錫氧化物的上玻璃基板(1)清洗干凈并吹干，將上玻璃基板(1)的下表面封接框和印刷有熒光粉層(3)的下玻璃基板(2)的封接框內(nèi)均勻地涂覆一層低玻粉(9)；B)在燒結(jié)爐中370℃脫氣15min；C)通入氮?dú)獗Ｗo(hù)氣，在460℃保溫20min，從而完成上玻璃基板(1)和下玻璃基板(2)的封接，待用；第五步在氮?dú)夥諊氖痔紫渲蟹謩e將聚(甲基-苯基硅烷)和2，5-雙(4-聯(lián)苯)-1，3，4-噁二唑溶解于甲苯溶液中，并在40℃-50℃加熱攪拌3h，從而得到攪拌均勻的聚(甲基-苯基硅烷)聚合物溶液和2，5-雙(4-聯(lián)苯)-1，3，4-噁二唑聚合物溶液，以備后用；第六步將第四步中封接好的上玻璃基板和下玻璃基板轉(zhuǎn)移到氮?dú)夥諊氖痔紫渲胁⒐潭ㄔ趧蚰z機(jī)上，用帶有濾頭的注射器將聚(甲基-苯基硅烷)聚合物溶液涂滿整個(gè)上玻璃基板(1)上具有銦錫氧化物導(dǎo)電層的面，然后，使勻膠機(jī)以2500r/min旋轉(zhuǎn)60s，然后移轉(zhuǎn)到加熱臺(tái)上在80℃加熱退火30min，從而，在銦錫氧化物導(dǎo)電層表面形成一層聚(甲基-苯基硅烷)薄膜，即PMPS層(5)；第七步用帶有濾頭的注射器將2，5-雙(4-聯(lián)苯)-1，3，4-噁二唑聚合物溶液涂滿整個(gè)PMPS層，使勻膠機(jī)以2000r/min旋轉(zhuǎn)60s，然后，移轉(zhuǎn)到加熱臺(tái)上在80℃加熱退火30min，從而在PMPS層形成一層2，5-雙(4-聯(lián)苯)-1，3，4-噁二唑薄膜，即BBD層(6)；第八步將上述第七步中得到的器件轉(zhuǎn)移到真空鍍膜機(jī)的腔體中進(jìn)行蒸鍍，即得到金屬陰極層(7)；第九步將上玻璃基板的ITO導(dǎo)電層和金屬陰極層(7)分別連接直流電源的正極和負(fù)極引線，再在氮?dú)夥諊氖痔紫渲?，用背?8)將陰極和由PMPS層和BBD層組成的有機(jī)功能層用紫外固化膠，在紫外燈下照射12min封裝起來，從而得到平面光源器件。2.—種平面光源器件，其特征在于包括上玻璃基板(1)、與上玻璃基板(1)相對(duì)的下玻璃基板(2)、置于上玻璃基板(1)和下玻璃基板(2)之間的熒光粉層(3)、依次置于上玻璃基板(1)上的聚(甲基-苯基硅烷)薄膜層(5)、聚2，5-雙(4-聯(lián)苯)-l，3，4-噁二唑薄膜層(6)，以及置于聚2，5-雙(4-聯(lián)苯)-l，3，4-噁二唑薄膜層(6)上的金屬陰極層(7)，其中，上玻璃基板(1)上表面設(shè)有ITO導(dǎo)電層(4)，所述金屬陰極層(7)和由聚(甲基-苯基硅烷)薄膜層和聚2，5-雙(4-聯(lián)苯)-l，3，4-噁二唑薄膜層組成的有機(jī)功能層被紫外固化膠用背板(8)封裝。全文摘要本發(fā)明公開了一種平面光源器件及其制備方法，其中，本發(fā)明制備方法由于在制備熒光粉漿料中，增加了二氧化硅微粒，如此，可以提高熒光粉與玻璃基板的粘結(jié)力，提高光源的亮度。文檔編號(hào)H01L51/52GK101794867SQ20101012428公開日2010年8月4日申請(qǐng)日期2010年3月15日優(yōu)先權(quán)日2010年3月15日發(fā)明者王香申請(qǐng)人:彩虹集團(tuán)公司