專利名稱:真空滅弧室的三工位裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種真空滅弧室,尤指一種真空滅弧室的三工位裝置。
背景技術(shù):
現(xiàn)有的真空滅弧室多為兩工位,如圖1所示的現(xiàn)有真空滅弧室的兩工位裝置結(jié)構(gòu) 示意圖,包括靜觸頭1’、靜端導(dǎo)電桿2’、動(dòng)觸頭3’和動(dòng)端導(dǎo)電桿4’,靜觸頭1’焊接于靜端 導(dǎo)電桿2’的下端,動(dòng)觸頭3’焊接于動(dòng)端導(dǎo)電桿4’上端,動(dòng)觸頭3’位于靜觸頭1’下方,該 兩工位裝置設(shè)置于真空滅弧室絕緣外殼內(nèi)腔,該真空滅弧室的兩工位裝置只能實(shí)現(xiàn)合閘和 隔離功能的轉(zhuǎn)換,即當(dāng)靜觸頭1’與動(dòng)觸頭3’接觸時(shí),實(shí)現(xiàn)合閘功能,當(dāng)靜觸頭1’與動(dòng)觸頭 3’分離時(shí)實(shí)現(xiàn)隔離功能,若實(shí)現(xiàn)三工位即合閘、隔離及接地功能轉(zhuǎn)換需用兩套兩工位裝置 通過兩套操作機(jī)構(gòu)來實(shí)現(xiàn),這樣不僅結(jié)構(gòu)復(fù)雜而且成本增加。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種真空滅弧室的三工位裝置,其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且成本低。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)解決方案為一種真空滅弧室的三工位裝置,包 括靜觸頭、靜端導(dǎo)電桿、動(dòng)觸頭和動(dòng)端導(dǎo)電桿,所述靜觸頭設(shè)于靜端導(dǎo)電桿的下端,動(dòng)觸頭 位于靜觸頭下方,其中所述動(dòng)觸頭包括動(dòng)接地觸頭和動(dòng)隔離觸頭,所述動(dòng)隔離觸頭設(shè)置于 動(dòng)接地觸頭上方,所述動(dòng)接地觸頭焊接于動(dòng)端導(dǎo)電桿上端,該裝置還包括靜接地觸頭,其位 于動(dòng)觸頭下面,所述動(dòng)端導(dǎo)電桿穿過靜接地觸頭中心。本發(fā)明真空滅弧室的三工位裝置,其中所述靜觸頭與靜端導(dǎo)電桿之間焊接有第一 銅片。本發(fā)明真空滅弧室的三工位裝置,其中所述靜接地觸頭為圓環(huán)。本發(fā)明真空滅弧室的三工位裝置,其中所述動(dòng)隔離觸頭與動(dòng)接地觸頭之間通過第 二銅片焊接在一起。本發(fā)明真空滅弧室的三工位裝置,其中所述靜觸頭和動(dòng)隔離觸頭由銅鎢合金制 成,所述靜接地觸頭和動(dòng)接地觸頭由銅鉻合金制成。采用上述方案后,本發(fā)明真空滅弧室的三工位裝置由具有較好耐高溫性能的靜觸 頭與動(dòng)隔離觸頭構(gòu)成第一觸頭組,靜觸頭與動(dòng)隔離觸頭的接觸和分離實(shí)現(xiàn)合閘與隔離功能 的轉(zhuǎn)換,而具有較好導(dǎo)電性能的動(dòng)接地觸頭與靜接地觸頭構(gòu)成第二觸頭組,靜接地觸頭與 動(dòng)接地觸頭的接觸與分離實(shí)現(xiàn)接地與隔離功能的轉(zhuǎn)換,該三工位裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單而且成本 低。
圖1是現(xiàn)有真空滅弧室的兩工位裝置結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本發(fā)明真空滅弧室的三工位裝置結(jié)構(gòu)示意圖;圖3是本發(fā)明真空滅弧室的三工位裝置的三工位示意圖剖視圖。
下面結(jié)合附圖,通過實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的說明;
具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖2所示本發(fā)明真空滅弧室的三工位裝置結(jié)構(gòu)示意圖,包括靜觸頭1、第一銅片8、靜端導(dǎo)電桿2、動(dòng)觸頭3、動(dòng)端導(dǎo)電桿4和圓環(huán)形的靜接地觸頭7,動(dòng)觸頭3位于靜觸 頭1下方,動(dòng)觸頭3包括動(dòng)接地觸頭5和動(dòng)隔離觸頭6,動(dòng)隔離觸頭6設(shè)置于動(dòng)接地觸頭5 上方,動(dòng)隔離觸頭6與動(dòng)接地觸頭5之間通過第二銅片9焊接在一起。靜觸頭1設(shè)于靜端導(dǎo)電桿2的下端,靜觸頭1與靜端導(dǎo)電桿2之間通過第一銅片 8焊接在一起,動(dòng)接地觸頭5焊接于動(dòng)端導(dǎo)電桿4上端,動(dòng)端導(dǎo)電桿4穿過靜接地觸頭7中 心。靜觸頭1和動(dòng)隔離觸頭6由具有較好耐高溫性能的銅鎢合金制成,靜接地觸頭7 和動(dòng)接地觸頭5由具有較好導(dǎo)電性能的銅鉻合金制成。使用中,靜接地觸頭7設(shè)置于真空滅弧室絕緣外殼上的固定接地環(huán)上表面。靜接 地觸頭7位于動(dòng)觸頭3下面。結(jié)合圖3所示,本發(fā)明真空滅弧室的三工位裝置動(dòng)作時(shí),動(dòng)端導(dǎo)電桿4向上運(yùn)動(dòng), 帶動(dòng)動(dòng)接地觸頭5與動(dòng)隔離觸頭6向上運(yùn)動(dòng),當(dāng)具有較好耐高溫性能的動(dòng)隔離觸頭6與靜 觸頭1接觸即到Y(jié)l位置時(shí),實(shí)現(xiàn)合閘功能,當(dāng)動(dòng)端導(dǎo)電桿4向下運(yùn)動(dòng)時(shí),此時(shí)動(dòng)隔離觸頭6 與靜觸頭1分離即到Y(jié)2位置時(shí),實(shí)現(xiàn)了隔離功能,當(dāng)動(dòng)端導(dǎo)電桿4繼續(xù)向下運(yùn)動(dòng),帶動(dòng)具有 較好導(dǎo)電性能的動(dòng)接地觸頭5與靜接地觸頭7接觸即到Y(jié)3位置時(shí),實(shí)現(xiàn)接地功能,該真空 滅弧室的三工位裝置由靜觸頭1與動(dòng)隔離觸頭6構(gòu)成第一觸頭組實(shí)現(xiàn)合閘與隔離功能的轉(zhuǎn) 換,由靜接地觸頭7與動(dòng)接地觸頭5構(gòu)成第二觸頭組實(shí)現(xiàn)隔離與接地功能的轉(zhuǎn)換,其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn) 單成本低。以上所述的實(shí)施例僅僅是對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述,并非對(duì)本發(fā)明的范 圍進(jìn)行限定,在不脫離本發(fā)明設(shè)計(jì)精神的前提下,本領(lǐng)域普通工程技術(shù)人員對(duì)本發(fā)明的技 術(shù)方案作出的各種變形和改進(jìn),均應(yīng)落入本發(fā)明的權(quán)利要求書確定的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
一種真空滅弧室的三工位裝置,包括靜觸頭(1)、靜端導(dǎo)電桿(2)、動(dòng)觸頭(3)和動(dòng)端導(dǎo)電桿(4),所述靜觸頭(1)設(shè)于靜端導(dǎo)電桿(2)的下端,動(dòng)觸頭(3)位于靜觸頭(1)下方,其特征在于所述動(dòng)觸頭(3)包括動(dòng)接地觸頭(5)和動(dòng)隔離觸頭(6),所述動(dòng)隔離觸頭(6)設(shè)置于動(dòng)接地觸頭(5)上方,所述動(dòng)接地觸頭(5)焊接于動(dòng)端導(dǎo)電桿(4)上端,該裝置還包括靜接地觸頭(7),其位于動(dòng)觸頭(3)下面,所述動(dòng)端導(dǎo)電桿(4)穿過靜接地觸頭(7)中心。
2.如權(quán)利要求1所述的真空滅弧室的三工位裝置,其特征在于所述靜觸頭(1)與靜 端導(dǎo)電桿(2)之間焊接有第一銅片(8)。
3.如權(quán)利要求2所述的真空滅弧室的三工位裝置,其特征在于所述靜接地觸頭(7) 為圓環(huán)。
4.如權(quán)利要求3所述的真空滅弧室的三工位裝置,其特征在于所述動(dòng)隔離觸頭(6) 與動(dòng)接地觸頭(5)之間通過第二銅片(9)焊接在一起。
5.如權(quán)利要求4所述的真空滅弧室的三工位裝置,其特征在于所述靜觸頭(1)和動(dòng) 隔離觸頭(6)由銅鎢合金制成,所述靜接地觸頭(7)和動(dòng)接地觸頭(5)由銅鉻合金制成。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種真空滅弧室的三工位裝置,主要應(yīng)用于中壓電力開關(guān)設(shè)備中,包括靜觸頭、靜端導(dǎo)電桿、動(dòng)觸頭和動(dòng)端導(dǎo)電桿,所述靜觸頭設(shè)置于靜端導(dǎo)電桿的下端,動(dòng)觸頭位于靜觸頭下方,其中所述動(dòng)觸頭包括動(dòng)接地觸頭和動(dòng)隔離觸頭,所述動(dòng)隔離觸頭設(shè)置于動(dòng)接地觸頭上方,所述動(dòng)接地觸頭焊接于動(dòng)端導(dǎo)電桿上端,該裝置還包括靜接地觸頭,其位于動(dòng)觸頭下面,所述動(dòng)端導(dǎo)電桿穿過靜接地觸頭中心。本發(fā)明通過靜觸頭與動(dòng)隔離觸頭實(shí)現(xiàn)合閘與隔離功能的轉(zhuǎn)換,通過靜接地觸頭與動(dòng)接地觸頭實(shí)現(xiàn)隔離與接地功能的轉(zhuǎn)換,該三工位裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且成本低。
文檔編號(hào)H01H33/664GK101807488SQ20101015188
公開日2010年8月18日 申請(qǐng)日期2010年4月21日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月21日
發(fā)明者冉隆科, 劉志遠(yuǎn), 劉永飛, 劉箭飛, 覃展現(xiàn), 謝國(guó)良 申請(qǐng)人:山東晨鴻電氣有限公司;北京雙杰電氣股份有限公司;西安交通大學(xué)