專利名稱：一種開關(guān)氣室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種開關(guān)氣室，尤其是一種開關(guān)氣室的結(jié)構(gòu)改良，屬于電氣設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
在電氣領(lǐng)域中，有些開關(guān)上設(shè)置有內(nèi)存絕緣氣體的開關(guān)氣室，所述開關(guān)氣室包含上部1、下部2 ；所述上部1與下部2通過螺栓3固定；所述上部1與下部2形成一個(gè)能容納絕緣氣體的空間(見附圖1)；這種結(jié)構(gòu)的開關(guān)氣室，密封性不佳。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述存在的技術(shù)問題，本發(fā)明的目的是提出了一種密封性好的開關(guān)氣室。本發(fā)明的技術(shù)解決方案是這樣實(shí)現(xiàn)的一種開關(guān)氣室，包含上部、下部；所述上部、下部通過一次注塑成型；所述上部與下部形成一個(gè)能容納絕緣氣體的空間。優(yōu)選的，所述上部、下部采用環(huán)氧樹脂注塑而成。由于上述技術(shù)方案的運(yùn)用，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)本發(fā)明的開關(guān)氣室；所述上部、下部采用環(huán)氧樹脂通過一次注塑成型；大大減少了密封面積；保障了開關(guān)氣室內(nèi)的絕緣氣體的泄露率少于千分之一，使其能夠達(dá)到30年免維護(hù)。


下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案作進(jìn)一步說明附圖1為現(xiàn)有技術(shù)的開關(guān)氣室的立體圖；附圖2為本發(fā)明的開關(guān)氣室的立體圖；其中1、上部分；2、下部分；3、螺栓；10、上部分；20、下部分。
具體實(shí)施例方式如附圖2所示為本發(fā)明的一種開關(guān)氣室，包含上部10、下部20 ；所述上部10、下部 20通過一次注塑成型；所述上部10與下部20形成一個(gè)能容納絕緣氣體的空間；所述上部 10、下部20采用環(huán)氧樹脂注塑而成。由于上述技術(shù)方案的運(yùn)用，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)本發(fā)明的開關(guān)氣室；所述上部、下部采用環(huán)氧樹脂通過一次注塑成型；大大減少了密封面積；保障了開關(guān)氣室內(nèi)的絕緣氣體的泄露率少于千分之一，使其能夠達(dá)到30年免維護(hù)。上述實(shí)施例只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種開關(guān)氣室，包含上部、下部；其特征在于所述上部、下部通過一次注塑成型；所述上部與下部形成一個(gè)能容納絕緣氣體的空間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的開關(guān)氣室，其特征在于所述上部、下部采用環(huán)氧樹脂注塑而成。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種開關(guān)氣室，包含上部、下部；所述上部、下部通過一次注塑成型；所述上部與下部形成一個(gè)能容納絕緣氣體的空間；所述上部、下部采用環(huán)氧樹脂注塑而成；本發(fā)明的開關(guān)氣室；所述上部、下部采用環(huán)氧樹脂通過一次注塑成型；大大減少了密封面積；保障了開關(guān)氣室內(nèi)的絕緣氣體的泄露率少于千分之一，使其能夠達(dá)到30年免維護(hù)。
文檔編號(hào)H01H33/56GK102237221SQ20101016267
公開日2011年11月9日 申請(qǐng)日期2010年5月5日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月5日
發(fā)明者蔡玉明 申請(qǐng)人:蘇州市吳中區(qū)東方成套電器設(shè)備有限公司