專利名稱：共通線結(jié)構(gòu)與顯示面板及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種共通線結(jié)構(gòu)與顯示面板及其制作方法，尤其涉及一種利用一連接 線段經(jīng)由接觸洞連接兩共通線段的共通線結(jié)構(gòu)、具有上述共通線結(jié)構(gòu)的顯示面板，以及上 述共通線結(jié)構(gòu)及顯示面板的制作方法。
背景技術(shù)：
顯示面板的陣列基板，例如液晶顯示面板的陣列基板，通常形成有由不同層導(dǎo)電 圖案層所構(gòu)成的導(dǎo)線或電極，例如柵極線、數(shù)據(jù)線、共通線與像素電極等，且在不同層的導(dǎo) 電圖案層之間會設(shè)置有絕緣層以發(fā)揮絕緣效果。當(dāng)不同層的導(dǎo)電圖案層之間需要電性連接 時，例如像素電極與薄膜晶體管的漏極之間需要電性連接時，會于絕緣層中形成穿孔(接 觸洞)，以使位于絕緣層上像素電極得以通過穿孔搭接在漏極上。然后，有鑒于顯示面板 的開口率的規(guī)格不斷提升，穿孔的尺寸必須縮小，但穿孔的縮小會使得其深寬比加大，而造 成了不同層的導(dǎo)電圖案層在搭接時的可靠度下降，進(jìn)而使得顯示面板的良率無法進(jìn)一步提 升。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種共通線結(jié)構(gòu)、一種顯示面板，以及共通線結(jié)構(gòu)與顯示 面板的制作方法，以提升共通線結(jié)構(gòu)與顯示面板的可靠度。本發(fā)明的一較佳實(shí)施例提供一種制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，包括下列步驟。提供一 基板，其中基板上設(shè)置有至少一第一共通線段與至少一第二共通線段。接著于基板、第一共 通線段與第二共通線段上形成一保護(hù)層。隨后，形成至少一接觸洞貫穿保護(hù)層，以部分暴露 出第一共通線段與第二共通線段。之后，于保護(hù)層上形成一連接線段，并使連接線段電性連 接接觸洞所暴露出的第一共通線段與第二共通線段。其中，該第一共通線段與該第二共通線段由一相同的導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。其中，該至少一接觸洞包括一第一接觸洞與一第二接觸洞，該第一接觸洞部分暴 露出該第一共通線段，且該第二接觸洞部分暴露出該第二共通線段。其中，另包括于形成該保護(hù)層之前，先于該基板、該第一共通線段與該第二共通線 段上形成一絕緣層，該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第一共通線 段，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第二共通線段。其中，該第一接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該 絕緣層的一側(cè)壁分別具有一階梯結(jié)構(gòu)，且各該階梯結(jié)構(gòu)包括一第一傾斜面、一平面與一第 二傾斜面。其中，形成該第一接觸洞與該第二接觸洞的步驟包括于該保護(hù)層上形成一光刻 膠圖案，該光刻膠圖案包括一開口、一第一區(qū)域與一第二區(qū)域，其中該開口在一垂直投影方 向與該第一共通線段以及該第二共通線段部分重迭，該第一區(qū)域與該開口鄰接且在該垂直 投影方向未與該第一共通線段以及該第二共通線段重迭，該第二區(qū)域環(huán)繞該第一區(qū)域與該開口，且該第一區(qū)域的厚度小于該第二區(qū)域的厚度；以及利用該光刻膠圖案作為一蝕刻屏 蔽對該保護(hù)層及該絕緣層進(jìn)行蝕刻，以形成該第一接觸洞、該第二接觸洞以及該絕緣層的 該階梯結(jié)構(gòu)。其中，該光刻膠圖案利用一半色調(diào)光掩?；蛞换译A光掩模加以形成。其中，該第一共通線段由一第一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該第二共通線段由一第二 導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。其中，該至少一接觸洞包括一第一接觸洞與一第二接觸洞，該至少一第一共通線 段包括兩第一共通線段，該至少一第二共通線段包括兩第二共通線段，該第一接觸洞部分 暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞部 分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。其中，另包括于形成該保護(hù)層與該兩第二共通線段之前，先于該基板與該兩第一 共通線段上形成一絕緣層，該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一 共通線段的其中一者與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該 絕緣層以部分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。其中，該第一接觸洞所暴露的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕 緣層的一側(cè)壁分別具有一第一斜率，該第一接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁與 該第二接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁分別具有一第二斜率，且該第二斜率小 于該第一斜率。其中，形成該第一接觸洞與該第二接觸洞的步驟包括于該保護(hù)層上形成一光刻 膠圖案，該光刻膠圖案包括一開口、一第一區(qū)域與一第二區(qū)域，其中該開口在一垂直投影方 向與該兩第一共通線段但未與該兩第二共通線段重迭，該第一區(qū)域與該開口鄰接且在該垂 直投影方向與該兩第二共通線段部分重迭但未與該兩第一共通線段重迭，該第二區(qū)域環(huán)繞 該第一區(qū)域與該開口，且該第一區(qū)域的厚度小于該第二區(qū)域的厚度；以及利用該光刻膠圖 案作為一蝕刻屏蔽對該保護(hù)層及該絕緣層進(jìn)行蝕刻，以形成該第一接觸洞與該第二接觸 洞。其中，該光刻膠圖案利用一半色調(diào)光掩?；蛞换译A光掩模加以形成。其中，該連接線段由一透明導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。本發(fā)明的另一較佳實(shí)施例提供一種制作顯示面板的方法，包括下列步驟。首先提 供一基板，其中基板上設(shè)置有一柵極線、一柵極與柵極線電性連接、一數(shù)據(jù)線、一源極與數(shù) 據(jù)線電性連接、一漏極、至少一第一共通線段與至少一第二共通線段。接著于基板、柵極線、 柵極、數(shù)據(jù)線、源極、漏極、第一共通線段與第二共通線段上形成一保護(hù)層。隨后，形成至少 一接觸洞貫穿保護(hù)層，以部分暴露出第一共通線段與第二共通線段。之后，于保護(hù)層上形成 一連接線段，并使連接線段電性連接接觸洞所暴露出的第一共通線段與第二共通線段。其中，該柵極線、該柵極、該至少一第一共通線段與該至少一第二共通線段由一第 一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該數(shù)據(jù)線、該源極與該漏極由一第二導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。其中，該至少一接觸洞包括一第一接觸洞與一第二接觸洞，該第一接觸洞部分暴 露出該第一共通線段，且該第二接觸洞部分暴露出該第二共通線段。其中，另包括于形成該保護(hù)層與該第二導(dǎo)電圖案層之前，先于該基板與該第一導(dǎo) 電圖案層上形成一絕緣層，該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第一共
9通線段，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第二共通線段。其中，該第一接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該 絕緣層的一側(cè)壁分別具有一階梯結(jié)構(gòu)，且各該階梯結(jié)構(gòu)包括一第一傾斜面、一平面與一第 二傾斜面。其中，形成該第一接觸洞與該第二接觸洞的步驟包括于該保護(hù)層上形成一光刻 膠圖案，該光刻膠圖案包括一開口、一第一區(qū)域與一第二區(qū)域，其中該開口在一垂直投影方 向與該第一共通線段以及該第二共通線段部分重迭，該第一區(qū)域與該開口鄰接且在該垂直 投影方向未與該第一共通線段以及該第二共通線段重迭，該第二區(qū)域環(huán)繞該第一區(qū)域與該 開口，且該第一區(qū)域的厚度小于該第二區(qū)域的厚度；以及利用該光刻膠圖案作為一蝕刻屏 蔽對該保護(hù)層及該絕緣層進(jìn)行蝕刻，以形成該第一接觸洞、該第二接觸洞以及該絕緣層的 該階梯結(jié)構(gòu)。其中，該光刻膠圖案利用一半色調(diào)光掩模或一灰階光掩模加以形成。其中，該柵極線、該柵極與該至少一第一共通線段由一第一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且 該數(shù)據(jù)線、該源極、該漏極與該至少一第二共通線段由一第二導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。其中，該至少一接觸洞包括一第一接觸洞與一第二接觸洞，該至少一第一共通線 段包括兩第一共通線段，該至少一第二共通線段包括兩第二共通線段，該第一接觸洞部分 暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞部 分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。其中，另包括于形成該保護(hù)層與該第二導(dǎo)電圖案層之前，先于該基板與該第一導(dǎo) 電圖案層上形成一絕緣層，該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一 共通線段的其中一者與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該 絕緣層以部分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。其中，該第一接觸洞所暴露的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕 緣層的一側(cè)壁分別具有一第一斜率，該第一接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁與 該第二接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁分別具有一第二斜率，且該第二斜率小 于該第一斜率。其中，形成該第一接觸洞與該第二接觸洞的步驟包括于該保護(hù)層上形成一光刻 膠圖案，該光刻膠圖案包括一開口、一第一區(qū)域與一第二區(qū)域，其中該開口在一垂直投影方 向與該兩第一共通線段但未與該兩第二共通線段重迭，該第一區(qū)域與該開口鄰接且在該垂 直投影方向與該兩第二共通線段部分重迭但未與該兩第一共通線段重迭，該第二區(qū)域環(huán)繞 該第一區(qū)域與該開口，且該第一區(qū)域的厚度小于該第二區(qū)域的厚度；以及利用該光刻膠圖 案作為一蝕刻屏蔽對該保護(hù)層及該絕緣層進(jìn)行蝕刻，以形成該第一接觸洞與該第二接觸 洞。其中，該光刻膠圖案利用一半色調(diào)光掩?；蛞换译A光掩模加以形成。其中，該連接線段由一透明導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該透明導(dǎo)電圖案層另包括一像 素電極，該像素電極與該漏極電性連接且與該連接線段電性分離。本發(fā)明的又一較佳實(shí)施例提供一種共通線結(jié)構(gòu)。上述共通線結(jié)構(gòu)布設(shè)于一基板 上，且共通線結(jié)構(gòu)包括至少一第一共通線段、至少一第二共通線段、一保護(hù)層與一連接線 段。第一共通線段與第二共通線段系設(shè)置于基板上。保護(hù)層系設(shè)置于第一共通線段與第二共通線段上，其中保護(hù)層具有至少一接觸洞，部分暴露出第一共通線段與第二共通線段。連 接線段系設(shè)置于保護(hù)層上，其中連接線段電性連接接觸洞暴露出的第一共通線段與第二共 通線段。其中，該第一共通線段與該第二共通線段由一相同的導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。其中，該至少一接觸洞包括一第一接觸洞與一第二接觸洞，該第一接觸洞部分暴 露出該第一共通線段，且該第二接觸洞部分暴露出該第二共通線段。其中，另包括一絕緣層設(shè)置于該第一共通線段與該第二共通線段以及該保護(hù)層之 間，該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第一共通線段，且該第二接觸 洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第二共通線段。其中，該第一接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該 絕緣層的一側(cè)壁分別具有一階梯結(jié)構(gòu)，且各該階梯結(jié)構(gòu)包括一第一傾斜面、一平面與一第 二傾斜面。其中，該第一共通線段由一第一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該第二共通線段由一第二 導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。其中，該至少一接觸洞包括一第一接觸洞與一第二接觸洞，該至少一第一共通線 段包括兩第一共通線段，該至少一第二共通線段包括兩第二共通線段，該第一接觸洞部分 暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞部 分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。其中，另包括一絕緣層設(shè)置于該兩第一共通線段與該兩第二共通線段之間，其中 該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該 兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩 第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。其中，該第一接觸洞所暴露的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕 緣層的一側(cè)壁分別具有一第一斜率，該第一接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁與 該第二接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁分別具有一第二斜率，且該第二斜率小 于該第一斜率。其中，該連接線段由一透明導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。本發(fā)明的另一較佳實(shí)施例提供一種顯示面板。上述顯示面板包括一基板、一柵極 線、一柵極、一數(shù)據(jù)線、一源極、一漏極、一共通線結(jié)構(gòu)與一共通線結(jié)構(gòu)。柵極線、柵極、數(shù)據(jù) 線、源極、漏極、共通線結(jié)構(gòu)與保護(hù)層設(shè)置于基板上。共通線結(jié)構(gòu)設(shè)置于基板上，其中共通線 結(jié)構(gòu)包括至少一第一共通線段以及至少一第二共通線段。保護(hù)層設(shè)置于柵極線、柵極、數(shù)據(jù) 線、源極、漏極、第一共通線段與第二共通線段上，其中保護(hù)層具有至少一接觸洞，部分暴露 出第一共通線段與第二共通線段。連接線段設(shè)置于保護(hù)層上，其中連接線段電性連接接觸 洞暴露出的第一共通線段與第二共通線段。其中，該柵極線、該柵極、該至少一第一共通線段與該至少一第二共通線段由一第 一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該數(shù)據(jù)線、該源極與該漏極由一第二導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。其中，該至少一接觸洞包括一第一接觸洞與一第二接觸洞，該第一接觸洞部分暴 露出該第一共通線段，且該第二接觸洞部分暴露出該第二共通線段。其中，另包括一絕緣層設(shè)置于該第一共通線段與該第二共通線段以及該保護(hù)層之
11間，其中該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第一共通線段，且該第二 接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第二共通線段。其中，該第一接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該 絕緣層的一側(cè)壁分別具有一階梯結(jié)構(gòu)，且各該階梯結(jié)構(gòu)包括一第一傾斜面、一平面與一第 二傾斜面。其中，該柵極線、該柵極與該至少一第一共通線段由一第一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且 該數(shù)據(jù)線、該源極、該漏極與該第二共通線段由一第二導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。其中，該至少一接觸洞包括一第一接觸洞與一第二接觸洞，該至少一第一共通線 段包括兩第一共通線段，該至少一第二共通線段包括兩第二共通線段，該第一接觸洞部分 暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞部 分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。其中，另包括一絕緣層設(shè)置于該兩第一共通線段與該兩第二共通線段之間，其中 該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該 兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩 第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。其中，該第一接觸洞所暴露的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕 緣層的一側(cè)壁分別具有一第一斜率，該第一接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁與 該第二接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁分別具有一第二斜率，且該第二斜率小 于該第一斜率。其中，該連接線段由一透明導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，該透明導(dǎo)電圖案層另包括一像素 電極，該像素電極與該漏極電性連接且與該連接線段電性分離。本發(fā)明的顯示面板利用連接線段分別填入兩接觸洞以電性連接兩共通線段而形 成一共通線結(jié)構(gòu)，且接觸洞的側(cè)壁具有一階梯結(jié)構(gòu)或是接觸洞的側(cè)壁具有兩種以上的斜 率，因此可避免連接線段因接觸洞的側(cè)壁過于陡直而產(chǎn)生斷線，故可增加可靠度。以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對本發(fā)明的限定。


圖1至圖8繪示了本發(fā)明的第一較佳實(shí)施例制作顯示面板及其共通線結(jié)構(gòu)的方法 示意圖。圖9至圖16繪示了本發(fā)明的第二較佳實(shí)施例制作顯示面板及其共通線結(jié)構(gòu)的方 法示意圖。其中，附圖標(biāo)記10，50:基板 12，52:第-12G，52G:柵極CLl 第一共通線段14，54:圖案化半導(dǎo)體層18，58 第二導(dǎo)電圖案層18D，58D:漏極20，60:保護(hù)層
-導(dǎo)電圖案層 GL 柵極線 CL2 第二共通線段 16，56 絕緣層 18S，58S 源極 DL 數(shù)據(jù)線 201，601 第一接觸洞
202，602 第二接觸洞2011,2021 第一傾斜面2013，2023 第二傾斜面22T，72T:開口301，701:第一區(qū)303，703:半透光區(qū)241，741:像素電極Sl 第一斜率
201Τ，202Τ 階梯結(jié)構(gòu)
2012,2022 平面 22，72 光刻膠圖案 30，70 光掩模 302，702 第二區(qū)
24,74 透明導(dǎo)電圖案層
242，742 連接線段 S2 第二斜率
具體實(shí)施例方式為使本領(lǐng)域技術(shù)人員能更進(jìn)一步了解本發(fā)明，下文特列舉本發(fā)明的較佳實(shí)施例， 并配合所附圖式，詳細(xì)說明本發(fā)明的構(gòu)成內(nèi)容及所欲達(dá)成的功效。請參考圖1至圖8。圖1至圖8繪示了本發(fā)明的第一較佳實(shí)施例制作顯示面板及 其共通線結(jié)構(gòu)的方法示意圖，其中圖1、圖2與圖7是以上視圖繪示，而圖3至圖6以及圖8 是沿剖線Α-Α’繪示的剖面示意圖。如圖1所示，首先，提供一基板10。接著于基板10上形 成一第一導(dǎo)電圖案層12，例如一金屬圖案層。第一導(dǎo)電圖案層12可由鋁、鉻、鉬、鎢、鉭、銅、 上述金屬的合金或是上述材料的組合所組成，但不以此為限。例如在本實(shí)施例中，第一導(dǎo)電 圖案層12為鉬/鋁/鉬組成的復(fù)合金屬層。在本實(shí)施例中，第一導(dǎo)電圖案層12包括一柵 極線GL、一柵極12G、至少一第一共通線段CLl與至少一第二共通線段CL2，即至少一第一共 通線段CLl與至少一第二共通線段CL2由一相同的導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。其中柵極12G與柵 極線GL電性連接，而于本步驟中，第一共通線段CLl與第二共通線段CL2電性分離。隨后， 于柵極12G上形成一圖案化半導(dǎo)體層14，例如一圖案化非晶硅層。之后，于基板10、第一導(dǎo) 電圖案層12與圖案化半導(dǎo)體層14上形成一絕緣層16。如圖2與圖3所示，接著于絕緣層16上形成一第二導(dǎo)電圖案層18 (圖3未示)，例 如一金屬圖案層。第二導(dǎo)電圖案層18可由鋁、鉻、鉬、鎢、鉭、銅、上述金屬的合金或是上述 材料的組合所組成，但不以此為限。例如在本實(shí)施例中，第二導(dǎo)電圖案層18為鉬/鋁/鉬 組成的復(fù)合金屬層。在本實(shí)施例中，第二導(dǎo)電圖案層18包括一數(shù)據(jù)線DL、一源極18S與一 漏極18D，其中源極18S與數(shù)據(jù)線DL電性連接。隨后，于絕緣層16與第二導(dǎo)電圖案層18上 形成一保護(hù)層20，其中保護(hù)層20可為一單層保護(hù)層或一復(fù)合層保護(hù)層。接著對保護(hù)層20進(jìn)行圖案化，于保護(hù)層20中形成多個接觸洞貫穿保護(hù)層20，以 部分暴露出第一共通線段CLl與第二共通線段CL2。在本實(shí)施例中，如圖4所示，圖案化保 護(hù)層20的步驟利用半色調(diào)光掩?；蚧译A光掩模并配合微影暨蝕刻技術(shù)加以形成，但不以 此為限。圖案化保護(hù)層20包括下列步驟。首先提供一光掩模30，其中光掩模30較佳為半 色調(diào)光掩?；蚧译A光掩模。光掩模30具有一第一區(qū)301、一第二區(qū)302與一半透光區(qū)303。 接著于保護(hù)層20上形成一光刻膠層(圖未示)，并利用光掩模30對光刻膠層進(jìn)行曝光暨顯 影，以形成一光刻膠圖案22。在本實(shí)施例中，光刻膠層可選用正型光刻膠，且在此狀況下，光 掩模30的第一區(qū)301為一透光區(qū)，而第二區(qū)302則為一不透光區(qū)，但若光刻膠層選用負(fù)型 光刻膠，則光掩模30的第一區(qū)301為一不透光區(qū)，而第二區(qū)302則為一透光區(qū)。于曝光顯 影后，光刻膠圖案22包括一開口 22Τ、一第一區(qū)域221與一第二區(qū)域222。開口 22Τ對應(yīng)于光掩模30的第一區(qū)301，且在垂直投影方向與第一共通線段CLl以及第二共通線段CL2部 分重迭，第一區(qū)域221對應(yīng)于光掩模30的半透光區(qū)303，且第一區(qū)域221與開口 22T鄰接并 在垂直投影方向未與第一共通線段CLl以及第二共通線段CL2重迭。第二區(qū)域222對應(yīng)于 光掩模30的第二區(qū)302，并環(huán)繞第一區(qū)域221與開口 22T，且第一區(qū)域221的厚度小于第二 區(qū)域222的厚度。如圖5所示，接著利用光刻膠圖案22作為蝕刻屏蔽以蝕刻光刻膠圖案22的開口 22T曝露出的保護(hù)層20，并一并蝕刻保護(hù)層20下方的絕緣層16。如圖6所示，隨后，可通過 一灰化制程或通過控制蝕刻工藝的參數(shù)，移除光刻膠圖案22的第一區(qū)域221并縮減光刻膠 圖案22的第二區(qū)域222的厚度，接著再蝕刻光刻膠圖案22曝露出的保護(hù)層20與部分的絕 緣層16，以形成至少一第一接觸洞201與至少一第二接觸洞202。第一接觸洞201部分暴露 出第一共通線段CL1，而第二接觸洞202部分暴露出第二共通線段CL2。通過上述兩段式蝕 刻方式，第一接觸洞201所暴露出的絕緣層16的側(cè)壁與第二接觸洞202所暴露出的絕緣層 16的側(cè)壁分別具有一階梯結(jié)構(gòu)201T、202T，其中階梯結(jié)構(gòu)201Τ包括一第一傾斜面2011、一 平面2012與一第二傾斜面2013，且階梯結(jié)構(gòu)202Τ包括一第一傾斜面2021、一平面2022與 一第二傾斜面2023。第一接觸洞201至少暴露出第一共通線段CLl的側(cè)壁，甚至可暴露出 第一共通線段CLl的部分上表面。第二接觸洞202至少暴露出第二共通線段CL2的側(cè)壁， 甚至可暴露出第二共通線段CL2的部分上表面。如圖7與圖8所示，移除光刻膠圖案22。接著于保護(hù)層20上形成一透明導(dǎo)電圖案 層24。透明導(dǎo)電圖案層24包括至少一像素電極241(圖8未示)與至少一連接線段242， 其中像素電極241與漏極18D電性連接，像素電極241可與部份第一共通線段CLl與/或 第二共通線段CL2重迭，但不局限于此。在本實(shí)施例中，視設(shè)計(jì)者需求，透明導(dǎo)電圖案層24 可以使用非透明導(dǎo)電材料替換，譬如為金屬導(dǎo)電材料，但并不局限于此。而連接線段242則 透過第一接觸洞201與第二接觸洞202將第一共通線段CLl與第二共通線段CL2電性連 接，而形成本實(shí)施例的共通線結(jié)構(gòu)。由于第一接觸洞201具有階梯結(jié)構(gòu)201Τ，且第二接觸 洞202具有階梯結(jié)構(gòu)202Τ，因此當(dāng)連接線段242填入第一接觸洞201與第二接觸洞202內(nèi) 時，可確保連接線段242不會因?yàn)榈谝唤佑|洞201與第二接觸洞202的側(cè)壁過于陡直而產(chǎn) 生斷線。另外，基板10可進(jìn)一步與另一基板(圖未示)組裝，并于兩基板之間形成液晶分 子(圖未示)，即可形成本實(shí)施例的顯示面板。由上述可知，本實(shí)施例的共通線結(jié)構(gòu)利用連接線段242跨接第一共通線段CLl與 第二共通線段CL2所形成，而由于第一接觸洞201與第二接觸洞202的側(cè)壁具有階梯結(jié)構(gòu) 的設(shè)計(jì)，因此可減少連接線段242的斷線機(jī)率，進(jìn)而提升可靠度。請參考圖9至圖16。圖9至圖16繪示了本發(fā)明的第二較佳實(shí)施例制作顯示面板 及其共通線結(jié)構(gòu)的方法示意圖，其中圖9、圖10與圖15以上視圖繪示，而圖11至圖14以及 圖16沿剖線Α-Α’繪示的剖面示意圖。為了簡化說明，在下文的實(shí)施例中主要針對各實(shí)施 例的相異處進(jìn)行說明，而不再對重復(fù)部分進(jìn)行贅述。如圖9所示，首先，提供一基板50。接 著于基板50上形成一第一導(dǎo)電圖案層52。在本實(shí)施例中，第一導(dǎo)電圖案層52包括一柵極 線GL、一柵極52G、兩第一共通線段CL1，其中柵極52G與柵極線GL電性連接。隨后，于柵極 52G上形成一圖案化半導(dǎo)體層54。之后，于基板50、第一導(dǎo)電圖案層52與圖案化半導(dǎo)體層 54上舉例全面性形成一絕緣層56。
如圖10與圖11所示，接著于絕緣層56上形成一第二導(dǎo)電圖案層58。在本實(shí)施例 中，第二導(dǎo)電圖案層58包括一數(shù)據(jù)線DL、一源極58S、一漏極58D以及兩第二共通線段CL2， 其中源極58S與數(shù)據(jù)線DL電性連接，而在此步驟中，兩第二共通線段CL2電性分離且第二 共通線段CL2亦與第一共通線段CLl電性分離。隨后，于絕緣層56與第二導(dǎo)電圖案層58 上舉例全面性形成一保護(hù)層60。如圖12所示，接著對保護(hù)層60進(jìn)行圖案化，于保護(hù)層60中形成多個接觸洞貫穿 保護(hù)層60，以部分暴露出兩第一共通線段CLl與兩第二共通線段CL2。在本實(shí)施例中，圖案 化保護(hù)層60的步驟利用半色調(diào)光掩?；蚧译A光掩模并配合微影暨蝕刻技術(shù)加以形成，但 不以此為限。圖案化保護(hù)層60包括下列步驟。首先提供一光掩模70，其中光掩模70較佳 為半色調(diào)光掩?；蚧译A光掩模。光掩模70具有一第一區(qū)701、一第二區(qū)702與一半透光區(qū) 703。接著于保護(hù)層60上形成一光刻膠層(圖未示)，并利用光掩模70對光刻膠層進(jìn)行曝 光暨顯影，以形成一光刻膠圖案72。在本實(shí)施例中，光刻膠層可選用正型光刻膠，且在此狀 況下，光掩模70的第一區(qū)701為一透光區(qū)，而第二區(qū)702則為一不透光區(qū)，但若光刻膠層選 用負(fù)型光刻膠，則光掩模70的第一區(qū)701為一不透光區(qū)，而第二區(qū)702則為一透光區(qū)。光 刻膠圖案72包括一開口 72T、一第一區(qū)域721與一第二區(qū)域722。開口 72T對應(yīng)于光掩模 70的第一區(qū)701，且在垂直投影方向與兩第一共通線段CLl部分重迭但未與兩第二共通線 段CL2部分重迭，第一區(qū)域721對應(yīng)于光掩模70的半透光區(qū)703，且第一區(qū)域721與開口 72T鄰接并在垂直投影方向與兩第二共通線段CL2部分重迭但未與兩第一共通線段CLl重 迭。第二區(qū)域722對應(yīng)于光掩模70的第二區(qū)702，并環(huán)繞第一區(qū)域721與開口 72T，且第一 區(qū)域721的厚度小于第二區(qū)域722的厚度。如圖13所示，接著利用光刻膠圖案72作為蝕刻屏蔽蝕刻光刻膠圖案72的開口 72T曝露出的保護(hù)層70，并一并蝕刻保護(hù)層70下方的絕緣層66。如圖14所示，隨后，可通 過一灰化工藝或通過控制蝕刻工藝的參數(shù)，移除光刻膠圖案72的第一區(qū)域721并縮減光刻 膠圖案72的第二區(qū)域722的厚度，接著再蝕刻光刻膠圖案72曝露出的保護(hù)層70與部分的 絕緣層66，以形成至少一第一接觸洞701與至少一第二接觸洞702。第一接觸洞701貫穿保 護(hù)層70與絕緣層66而部分暴露出兩第一共通線段CLl的其中一者與兩第二共通線段CL2 的其中一者，而第二接觸洞702貫穿保護(hù)層70與絕緣層66而部分暴露出兩第一共通線段 CLl的其中另一者與兩第二共通線段CL2的其中另一者。通過上述兩段式蝕刻方式，第一接 觸洞701所暴露的絕緣層66的側(cè)壁與第二接觸洞702所暴露出的絕緣層66的側(cè)壁分別具 有一第一斜率Si，第一接觸洞701所暴露出的第二共通線段CL2的側(cè)壁與第二接觸洞702 所暴露出的第二共通線段CL2的側(cè)壁分別具有一第二斜率S2，且第二斜率S2小于第一斜 率Si。如圖13所示，第一接觸洞701至少暴露出第一共通線段CLl的側(cè)壁，甚至可暴露出 第一共通線段CLl的部分上表面。第一接觸洞701至少暴露出第二共通線段CL2的側(cè)壁， 甚至可暴露出第二共通線段CL2的部分上表面。第二接觸洞702至少暴露出第一共通線段 CLl的側(cè)壁，甚至可暴露出第一共通線段CLl的部分上表面。第二接觸洞702至少暴露出第 二共通線段CL2的側(cè)壁，甚至可暴露出第二共通線段CL2的部分上表面。如圖15與圖16所示，移除光刻膠圖案72。接著于保護(hù)層70上形成一透明導(dǎo)電 圖案層74。透明導(dǎo)電圖案層74包括至少一像素電極741 (圖16未示)與至少一連接線段 742，其中像素電極741與漏極58D電性連接，而連接線段742則通過第一接觸洞701與第
15二接觸洞702將兩第一共通線段CLl與兩第二共通線段CL2電性連接，而形成本實(shí)施例的 共通線結(jié)構(gòu)。由于在第一接觸洞701與第二接觸洞702內(nèi)，第二共通線段CL2的側(cè)壁的第 二斜率S2小于位于其下方的絕緣層66的側(cè)壁的第一斜率Si，因此當(dāng)連接線段742填入第 一接觸洞701與第二接觸洞702內(nèi)時，可確保連接線段742不會因?yàn)榈谝唤佑|洞701與第 二接觸洞702的側(cè)壁過于陡直而產(chǎn)生斷線。另外，基板50可進(jìn)一步與另一基板(圖未示) 組裝，并于兩基板之間形成液晶分子(圖未示)，即可形成本實(shí)施例的顯示面板。在本實(shí)施 例中，視設(shè)計(jì)者需求，透明導(dǎo)電圖案層74可以使用非透明導(dǎo)電材料替換，譬如為金屬導(dǎo)電 材料，但并不局限于此。綜上所述，本發(fā)明的顯示面板利用連接線段分別填入兩接觸洞以電性連接兩共通 線段而形成一共通線結(jié)構(gòu)，且接觸洞的側(cè)壁具有一階梯結(jié)構(gòu)或是兩種以上的斜率，因此可 避免連接線段產(chǎn)生斷線，而增加可靠度。當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟 悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形 都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
一種制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，包括提供一基板，其中該基板上設(shè)置有至少一第一共通線段與至少一第二共通線段；于該基板、該至少一第一共通線段與該至少一第二共通線段上形成一保護(hù)層；形成至少一接觸洞貫穿該保護(hù)層，以部分暴露出該至少一第一共通線段與該至少一第二共通線段；以及于該保護(hù)層上形成一連接線段，并使該連接線段電性連接該接觸洞所暴露出的該至少一第一共通線段與該至少一第二共通線段。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，該第一共通線段與該 第二共通線段由一相同的導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，該至少一接觸洞包括 一第一接觸洞與一第二接觸洞，該第一接觸洞部分暴露出該第一共通線段，且該第二接觸 洞部分暴露出該第二共通線段。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，另包括于形成該保護(hù) 層之前，先于該基板、該第一共通線段與該第二共通線段上形成一絕緣層，該第一接觸洞貫 穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第一共通線段，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該 絕緣層以部分暴露出該第二共通線段。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，該第一接觸洞所暴露 出的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁分別具有一階梯結(jié) 構(gòu)，且各該階梯結(jié)構(gòu)包括一第一傾斜面、一平面與一第二傾斜面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，形成該第一接觸洞與 該第二接觸洞的步驟包括于該保護(hù)層上形成一光刻膠圖案，該光刻膠圖案包括一開口、一第一區(qū)域與一第二區(qū) 域，其中該開口在一垂直投影方向與該第一共通線段以及該第二共通線段部分重迭，該第 一區(qū)域與該開口鄰接且在該垂直投影方向未與該第一共通線段以及該第二共通線段重迭， 該第二區(qū)域環(huán)繞該第一區(qū)域與該開口，且該第一區(qū)域的厚度小于該第二區(qū)域的厚度；以及利用該光刻膠圖案作為一蝕刻屏蔽對該保護(hù)層及該絕緣層進(jìn)行蝕刻，以形成該第一接 觸洞、該第二接觸洞以及該絕緣層的該階梯結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，該光刻膠圖案利用一 半色調(diào)光掩?；蛞换译A光掩模加以形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，該第一共通線段由一 第一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該第二共通線段由一第二導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，該至少一接觸洞包括 一第一接觸洞與一第二接觸洞，該至少一第一共通線段包括兩第一共通線段，該至少一第 二共通線段包括兩第二共通線段，該第一接觸洞部分暴露出該兩第一共通線段的其中一者 與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞部分暴露出該兩第一共通線段的其中另 一者與該兩第二共通線段的其中另一者。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，另包括于形成該保護(hù) 層與該兩第二共通線段之前，先于該基板與該兩第一共通線段上形成一絕緣層，該第一接 觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一共通 線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，該第一接觸洞所暴 露的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁分別具有一第一斜 率，該第一接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該第二 共通線段的一側(cè)壁分別具有一第二斜率，且該第二斜率小于該第一斜率。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，形成該第一接觸洞 與該第二接觸洞的步驟包括于該保護(hù)層上形成一光刻膠圖案，該光刻膠圖案包括一開口、一第一區(qū)域與一第二區(qū) 域，其中該開口在一垂直投影方向與該兩第一共通線段但未與該兩第二共通線段重迭，該 第一區(qū)域與該開口鄰接且在該垂直投影方向與該兩第二共通線段部分重迭但未與該兩第 一共通線段重迭，該第二區(qū)域環(huán)繞該第一區(qū)域與該開口，且該第一區(qū)域的厚度小于該第二 區(qū)域的厚度；以及利用該光刻膠圖案作為一蝕刻屏蔽對該保護(hù)層及該絕緣層進(jìn)行蝕刻，以形成該第一接 觸洞與該第二接觸洞。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，該光刻膠圖案利用 一半色調(diào)光掩模或一灰階光掩模加以形成。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，該連接線段由一透明 導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。
15.一種制作顯示面板的方法，其特征在于，包括提供一基板，其中該基板上設(shè)置有一柵極線、一柵極與該柵極線電性連接、一數(shù)據(jù)線、 一源極與該數(shù)據(jù)線電性連接、一漏極、至少一第一共通線段與至少一第二共通線段；于該基板、該柵極線、該柵極、該數(shù)據(jù)線、該源極、該漏極、該第一共通線段與該第二共 通線段上形成一保護(hù)層；形成至少一接觸洞貫穿該保護(hù)層，以部分暴露出該第一共通線段與該第二共通線段；以及于該保護(hù)層上形成一連接線段，并使該連接線段電性連接該接觸洞所暴露出的該第一 共通線段與該第二共通線段。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，該柵極線、該柵極、該 至少一第一共通線段與該至少一第二共通線段由一第一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該數(shù)據(jù)線、 該源極與該漏極由一第二導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，該至少一接觸洞包括 一第一接觸洞與一第二接觸洞，該第一接觸洞部分暴露出該第一共通線段，且該第二接觸 洞部分暴露出該第二共通線段。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，另包括于形成該保護(hù) 層與該第二導(dǎo)電圖案層之前，先于該基板與該第一導(dǎo)電圖案層上形成一絕緣層，該第一接 觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第一共通線段，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù) 層與該絕緣層以部分暴露出該第二共通線段。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，該第一接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁分別具有一階梯結(jié) 構(gòu)，且各該階梯結(jié)構(gòu)包括一第一傾斜面、一平面與一第二傾斜面。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，形成該第一接觸洞與 該第二接觸洞的步驟包括于該保護(hù)層上形成一光刻膠圖案，該光刻膠圖案包括一開口、一第一區(qū)域與一第二區(qū) 域，其中該開口在一垂直投影方向與該第一共通線段以及該第二共通線段部分重迭，該第 一區(qū)域與該開口鄰接且在該垂直投影方向未與該第一共通線段以及該第二共通線段重迭， 該第二區(qū)域環(huán)繞該第一區(qū)域與該開口，且該第一區(qū)域的厚度小于該第二區(qū)域的厚度；以及利用該光刻膠圖案作為一蝕刻屏蔽對該保護(hù)層及該絕緣層進(jìn)行蝕刻，以形成該第一接 觸洞、該第二接觸洞以及該絕緣層的該階梯結(jié)構(gòu)。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，該光刻膠圖案利用一 半色調(diào)光掩?；蛞换译A光掩模加以形成。
22.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，該柵極線、該柵極與該 至少一第一共通線段由一第一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該數(shù)據(jù)線、該源極、該漏極與該至少一 第二共通線段由一第二導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，該至少一接觸洞包括 一第一接觸洞與一第二接觸洞，該至少一第一共通線段包括兩第一共通線段，該至少一第 二共通線段包括兩第二共通線段，該第一接觸洞部分暴露出該兩第一共通線段的其中一者 與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞部分暴露出該兩第一共通線段的其中另 一者與該兩第二共通線段的其中另一者。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，另包括于形成該保護(hù) 層與該第二導(dǎo)電圖案層之前，先于該基板與該第一導(dǎo)電圖案層上形成一絕緣層，該第一接 觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第二共 通線段的其中一者，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一共通 線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，該第一接觸洞所暴露 的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁分別具有一第一斜率， 該第一接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該第二共 通線段的一側(cè)壁分別具有一第二斜率，且該第二斜率小于該第一斜率。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，形成該第一接觸洞與 該第二接觸洞的步驟包括于該保護(hù)層上形成一光刻膠圖案，該光刻膠圖案包括一開口、一第一區(qū)域與一第二區(qū) 域，其中該開口在一垂直投影方向與該兩第一共通線段但未與該兩第二共通線段重迭，該 第一區(qū)域與該開口鄰接且在該垂直投影方向與該兩第二共通線段部分重迭但未與該兩第 一共通線段重迭，該第二區(qū)域環(huán)繞該第一區(qū)域與該開口，且該第一區(qū)域的厚度小于該第二 區(qū)域的厚度；以及利用該光刻膠圖案作為一蝕刻屏蔽對該保護(hù)層及該絕緣層進(jìn)行蝕刻，以形成該第一接 觸洞與該第二接觸洞。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，該光刻膠圖案利用一半色調(diào)光掩模或一灰階光掩模加以形成。
28.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制作顯示面板的方法，其特征在于，該連接線段由一透明 導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該透明導(dǎo)電圖案層另包括一像素電極，該像素電極與該漏極電性連 接且與該連接線段電性分離。
29.一種共通線結(jié)構(gòu)，布設(shè)于一基板上，其特征在于，該共通線結(jié)構(gòu)包括至少一第一共通線段，設(shè)置于該基板上；至少一第二共通線段，設(shè)置于該基板上；一保護(hù)層，設(shè)置于該至少一第一共通線段與該至少一第二共通線段上，該保護(hù)層具有 至少一接觸洞，部分暴露出該至少一第一共通線段與該至少一第二共通線段；以及一連接線段，設(shè)置于該保護(hù)層上，其中該連接線段電性連接該接觸洞暴露出的該至少 一第一共通線段與該至少一第二共通線段。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的共通線結(jié)構(gòu)，其特征在于，該第一共通線段與該第二共通 線段由一相同的導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。
31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的共通線結(jié)構(gòu)，其特征在于，該至少一接觸洞包括一第一接 觸洞與一第二接觸洞，該第一接觸洞部分暴露出該第一共通線段，且該第二接觸洞部分暴 露出該第二共通線段。
32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的共通線結(jié)構(gòu)，其特征在于，另包括一絕緣層設(shè)置于該第一 共通線段與該第二共通線段以及該保護(hù)層之間，該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以 部分暴露出該第一共通線段，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第 二共通線段。
33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的共通線結(jié)構(gòu)，其特征在于，該第一接觸洞所暴露出的該絕 緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁分別具有一階梯結(jié)構(gòu)，且各該 階梯結(jié)構(gòu)包括一第一傾斜面、一平面與一第二傾斜面。
34.根據(jù)權(quán)利要求29所述的共通線結(jié)構(gòu)，其特征在于，該第一共通線段由一第一導(dǎo)電 圖案層所構(gòu)成，且該第二共通線段由一第二導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。
35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的共通線結(jié)構(gòu)，其特征在于，該至少一接觸洞包括一第一接 觸洞與一第二接觸洞，該至少一第一共通線段包括兩第一共通線段，該至少一第二共通線 段包括兩第二共通線段，該第一接觸洞部分暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第 二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞部分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該 兩第二共通線段的其中另一者。
36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的共通線結(jié)構(gòu)，其特征在于，另包括一絕緣層設(shè)置于該兩第 一共通線段與該兩第二共通線段之間，其中該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分 暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞貫 穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線 段的其中另一者。
37.根據(jù)權(quán)利要求36所述的共通線結(jié)構(gòu)，其特征在于，該第一接觸洞所暴露的該絕緣 層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁分別具有一第一斜率，該第一接 觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該第二共通線段的 一側(cè)壁分別具有一第二斜率，且該第二斜率小于該第一斜率。
38.根據(jù)權(quán)利要求29所述的共通線結(jié)構(gòu)，其特征在于，該連接線段由一透明導(dǎo)電圖案 層所構(gòu)成。
39.一種顯示面板，其特征在于，包括一基板；一柵極線、一柵極、一數(shù)據(jù)線、一源極，以及一漏極設(shè)置于該基板上；一共通線結(jié)構(gòu)，設(shè)置于該基板上，其中該共通線結(jié)構(gòu)包括至少一第一共通線段以及至 少一第二共通線段；一保護(hù)層，設(shè)置于該柵極線、該柵極、該數(shù)據(jù)線、該源極、該漏極、該第一共通線段與該 第二共通線段上，其中該保護(hù)層具有至少一接觸洞，部分暴露出該第一共通線段與該第二 共通線段；以及一連接線段，設(shè)置于該保護(hù)層上，其中該連接線段電性連接該接觸洞暴露出的該第一 共通線段與該第二共通線段。
40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的顯示面板，其特征在于，該柵極線、該柵極、該至少一第一 共通線段與該至少一第二共通線段由一第一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該數(shù)據(jù)線、該源極與該 漏極由一第二導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。
41.根據(jù)權(quán)利要求40所述的顯示面板，其特征在于，該至少一接觸洞包括一第一接觸 洞與一第二接觸洞，該第一接觸洞部分暴露出該第一共通線段，且該第二接觸洞部分暴露 出該第二共通線段。
42.根據(jù)權(quán)利要求41所述的顯示面板，其特征在于，另包括一絕緣層設(shè)置于該第一共 通線段與該第二共通線段以及該保護(hù)層之間，其中該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層 以部分暴露出該第一共通線段，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該 第二共通線段。
43.根據(jù)權(quán)利要求42所述的顯示面板，其特征在于，該第一接觸洞所暴露出的該絕緣 層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁分別具有一階梯結(jié)構(gòu)，且各該階 梯結(jié)構(gòu)包括一第一傾斜面、一平面與一第二傾斜面。
44.根據(jù)權(quán)利要求39所述的顯示面板，其特征在于，該柵極線、該柵極與該至少一第一 共通線段由一第一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該數(shù)據(jù)線、該源極、該漏極與該第二共通線段由一 第二導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。
45.根據(jù)權(quán)利要求44所述的顯示面板，其特征在于，該至少一接觸洞包括一第一接觸 洞與一第二接觸洞，該至少一第一共通線段包括兩第一共通線段，該至少一第二共通線段 包括兩第二共通線段，該第一接觸洞部分暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第二 共通線段的其中一者，且該第二接觸洞部分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該兩 第二共通線段的其中另一者。
46.根據(jù)權(quán)利要求45所述的顯示面板，其特征在于，另包括一絕緣層設(shè)置于該兩第一 共通線段與該兩第二共通線段之間，其中該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴 露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞貫穿 該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線段 的其中另一者。
47.根據(jù)權(quán)利要求46所述的顯示面板，其特征在于，該第一接觸洞所暴露的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁分別具有一第一斜率，該第一接觸 洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一 側(cè)壁分別具有一第二斜率，且該第二斜率小于該第一斜率。
48.根據(jù)權(quán)利要求39所述的顯示面板，其特征在于，該連接線段由一透明導(dǎo)電圖案層 所構(gòu)成，該透明導(dǎo)電圖案層另包括一像素電極，該像素電極與該漏極電性連接且與該連接 線段電性分離。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種共通線結(jié)構(gòu)與顯示面板及其制作方法，該方法包括下列步驟。提供一基板，其中基板上設(shè)置有至少一第一共通線段與至少一第二共通線段。接著于基板、第一共通線段與第二共通線段上形成一保護(hù)層。隨后，形成至少一接觸洞貫穿保護(hù)層，以部分暴露出第一共通線段與第二共通線段。之后，于保護(hù)層上形成一連接線段，并使連接線段電性連接接觸洞所暴露出的第一共通線段與第二共通線段。
文檔編號H01L21/77GK101950731SQ20101023053
公開日2011年1月19日 申請日期2010年7月15日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月15日
發(fā)明者蔡東璋 申請人:友達(dá)光電股份有限公司