專利名稱：防彈跳的真空滅弧室縱磁觸頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型特別涉及一種防彈跳的真空滅弧室縱磁觸頭。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的真空滅弧室縱磁觸頭一般是觸頭與線圈直接焊接，觸頭下面直接焊有支撐 盤。在真空開關(guān)高速合閘過程中，兩個觸頭間由于鋼性碰撞而產(chǎn)生彈跳，彈跳時間長，彈跳 幅度大，無法滿足真空斷路器的機(jī)械參數(shù)要求。改進(jìn)后的縱磁觸頭是在觸頭下面通過墊片 焊接支撐盤，該結(jié)構(gòu)盡管與傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)相比彈跳有所減小，但仍不能滿足高壓真空斷路器對 真空滅弧室彈跳的更高要求。

實用新型內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種能夠吸收觸頭碰撞而產(chǎn)生的彈跳力，彈 跳時間短，彈跳幅度小，滿足真空斷路器的機(jī)械參數(shù)要求的防彈跳的真空滅弧室縱磁觸頭。本實用新型的技術(shù)解決方案是它包括線圈和觸頭片，在線圈的圓周壁上均布有斜 槽，在線圈內(nèi)固設(shè)有支撐盤，在觸頭片上均布有與斜槽對應(yīng)的槽口，其特殊之處是在線圈上 口固接有無氧銅制成的托盤，所述的觸頭片固定在托盤上表面，在托盤上均布有與斜槽對應(yīng) 的槽口，托盤上的槽口與觸頭片上的槽口分別重合，所述的支撐盤上表面與托盤固接。上述的防彈跳的真空滅弧室縱磁觸頭，其特殊之處是在托盤上表面設(shè)有凹槽，所 述的觸頭片下部嵌入凹槽內(nèi)。本實用新型的優(yōu)點(diǎn)是由于在線圈和觸頭片之間設(shè)有無氧銅制成的托盤，在真空 開關(guān)高速合閘過程中，可吸收因觸頭間的鋼性碰撞而產(chǎn)生的彈跳力，從而大大縮短了彈跳 時間，降低了彈跳幅度，完全滿足了真空斷路器的機(jī)械參數(shù)要求和對真空滅弧室彈跳的要 求。

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖1的俯視圖；圖中觸頭片1，托盤2，支撐盤3，凹槽4，線圈5，斜槽6，槽口 7，槽口 8。
具體實施方式
如圖所示，本實用新型有一個杯狀的線圈5，在線圈5的圓周壁上均布有斜槽6，在 線圈5內(nèi)焊接有無磁不銹鋼制成的支撐盤3，在線圈5上口密封焊接有無氧銅制成的托盤 2，在托盤2上表面中心設(shè)有凹槽4，在托盤2上表面設(shè)有觸頭片1，所述的觸頭片1下部嵌 入并焊接在凹槽4內(nèi)。在觸頭片1和托盤2上分別均布有與斜槽6上口相對應(yīng)的槽口 7、 8，托盤2上的槽口 8與觸頭片1上的槽口 7分別對應(yīng)重合，所述的支撐盤3上表面與托盤 2下表面焊接。
權(quán)利要求一種防彈跳的真空滅弧室縱磁觸頭，包括線圈和觸頭片，在線圈的圓周壁上均布有斜槽，在線圈內(nèi)固設(shè)有支撐盤，在觸頭片上均布有斜槽對應(yīng)的槽口，其特征是在線圈上口固接有無氧銅制成的托盤，所述的觸頭片固定在托盤上表面，在托盤上均布有與斜槽對應(yīng)的槽口，托盤上的槽口與觸頭片上的槽口分別重合，所述的支撐盤上表面與托盤固接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防彈跳的真空滅弧室縱磁觸頭，其特征是在托盤上表面設(shè) 有凹槽，所述的觸頭片下部嵌入凹槽內(nèi)。
專利摘要一種防彈跳的真空滅弧室縱磁觸頭，包括線圈和觸頭片，在線圈的圓周壁上均布有斜槽，在線圈內(nèi)固設(shè)有支撐盤，在觸頭片上均布有斜槽對應(yīng)的槽口，其特殊之處是在線圈上口固接有無氧銅制成的托盤，所述的觸頭片固定在托盤上表面，在托盤上均布有與斜槽對應(yīng)的槽口，托盤上的槽口與觸頭片上的槽口分別重合，所述的支撐盤上表面與托盤固接。優(yōu)點(diǎn)是由于在線圈和觸頭片之間設(shè)有無氧銅制成的托盤，在真空開關(guān)高速合閘過程中，可吸收因觸頭間的剛性碰撞而產(chǎn)生的彈跳力，從而大大縮短了彈跳時間，降低了彈跳幅度，完全滿足了真空斷路器的機(jī)械參數(shù)要求和對真空滅弧室彈跳的要求。
文檔編號H01H33/664GK201622971SQ201020010249
公開日2010年11月3日 申請日期2010年1月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月13日
發(fā)明者張建華, 杜艷, 武宏杰 申請人:錦州華光玻璃開關(guān)管有限公司