專(zhuān)利名稱(chēng)：光阻取樣裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種裝置，具體地說(shuō)，涉及一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的光阻取樣裝置。
背景技術(shù)：
涂布顯影機(jī)用于對(duì)硅片表面進(jìn)行噴涂，并進(jìn)行曝光、顯影，從而將設(shè)計(jì)的電路映射 到硅片表面上。在噴涂的過(guò)程中，為了保證噴涂的質(zhì)量，需要經(jīng)常將噴出的光阻材料進(jìn)行抽 樣分析和檢測(cè)。為了取得光阻材料樣品，傳統(tǒng)的方法需要用手將位于涂布顯影機(jī)內(nèi)的承載小車(chē)上 的噴嘴摘下，并手持噴嘴在涂布顯影機(jī)外面，再將燒杯放置到噴嘴口下取樣，這樣才能消除 涂布顯影機(jī)自鎖并操作光阻噴嘴噴出取樣，對(duì)于放置在涂布顯影機(jī)內(nèi)部深處的噴嘴，甚至 需要將承載小車(chē)?yán)霾拍懿僮鳎捎趪娮煳挥谕坎硷@影機(jī)內(nèi)部深處，而且空間比較小，操作 十分困難，容易碰到光阻噴嘴，造成對(duì)光阻噴嘴的損傷。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種光阻取樣裝置，操作簡(jiǎn)單，避免碰及 光阻噴嘴造成的損傷。為解決以上技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供的一種光阻取樣裝置，所述光阻取樣裝置 包含承載面，所述承載面的正面中心位置處設(shè)有承載部件，所述承載面的反面上設(shè)有卡持 機(jī)構(gòu)，優(yōu)選地，所述承載面的反面為平面，所述承載面呈圓形。進(jìn)一步的，所述承載部件為突出塊，所述突出塊內(nèi)部設(shè)有凹槽，所述凹槽的中心與 所述承載面同心，優(yōu)選的，所述防漏圈為圓環(huán)。進(jìn)一步的，所述承載面的正面上還設(shè)有防漏圈，所述承載部件位于所述防漏圈內(nèi)。進(jìn)一步的，所述卡持機(jī)構(gòu)呈圓環(huán)狀，與所述承載面同心。進(jìn)一步的，所述卡持機(jī)構(gòu)包括若干卡持塊，所述卡持塊以所述承載面的圓心為中 心，呈圓狀分布。進(jìn)一步的，所述卡持機(jī)構(gòu)包括若干卡持塊，所述卡持塊以所述承載面的圓心為中 心，呈對(duì)稱(chēng)分布。進(jìn)一步的，所述承載面、卡持機(jī)構(gòu)、防漏圈以及承載部件一體成型。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型提出的光阻取樣裝置，通過(guò)在所述光阻取樣裝置的 正面中心位置處設(shè)有一承載部件，并在該突出塊上放置一取樣用的燒杯，配合對(duì)機(jī)器的操 作即可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化取樣，從而避免了人工在取樣的過(guò)程中操作困難及容易碰傷光阻噴嘴的 問(wèn)題。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例的光阻取樣裝置正面的立體示意3[0014]圖2為本發(fā)明實(shí)施例的光阻取樣裝置反面的立體示意圖；圖3為本發(fā)明的卡持機(jī)構(gòu)一種實(shí)施例的平面示意圖；圖4為本發(fā)明的卡持機(jī)構(gòu)另一種實(shí)施例的平面示意圖；圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例的光阻取樣裝置應(yīng)用的分解示意圖。
具體實(shí)施方式
為使本實(shí)用新型的技術(shù)特征更明顯易懂，
以下結(jié)合附圖與實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型 做進(jìn)一步的描述。請(qǐng)參閱圖1，圖1為本發(fā)明實(shí)施例的光阻取樣裝置正面的立體示意圖，本實(shí)施例的 光阻取樣裝置2包含承載面24，所述承載面2呈圓形，在該承載面1的正面中心位置處設(shè) 有一承載部件21，所述承載部件21為突出塊，其內(nèi)部設(shè)有凹槽22，所述凹槽22的中心與 所述承載面24同心，用以放置對(duì)光阻進(jìn)行采樣的燒杯，其尺寸在設(shè)計(jì)時(shí)與燒杯的外徑相適 應(yīng)，在所述承載面24的正面上還設(shè)置有防漏圈20，從而可以防止噴出或取出光阻時(shí)的意外 灑出液體污染機(jī)器內(nèi)環(huán)境，所述承載部件21位于所述防漏圈20內(nèi)。請(qǐng)參閱圖2，圖2為本發(fā)明實(shí)施例的光阻取樣裝置反面的立體示意圖，所述承載面 24的反面為平面，便于在將所述承載面24的反面固定在旋轉(zhuǎn)吸盤(pán)時(shí)，采用真空吸住。在所 述承載面24的反面上設(shè)有卡持機(jī)構(gòu)23，該卡持機(jī)構(gòu)23呈圓環(huán)狀，與所述承載面24同心。 所述承載面24、卡持機(jī)構(gòu)23、防漏圈20以及承載部件21 —體加工成型制成。請(qǐng)參閱圖3以及圖4，所述卡持機(jī)構(gòu)并不僅僅局限上述結(jié)構(gòu)，如圖3所示，圖3為本 發(fā)明的卡持機(jī)構(gòu)一種實(shí)施例的平面示意圖，所述卡持機(jī)構(gòu)包括六塊卡持塊23，所述卡持塊 23以所述承載面24的圓心為中心，呈圓狀分布。如圖4所示，圖4為本發(fā)明的卡持機(jī)構(gòu)另一種實(shí)施例的平面示意圖，所述卡持機(jī)構(gòu) 包括二塊卡持塊23，所述卡持塊23以所述承載面24的圓心為中心，呈對(duì)稱(chēng)分布。請(qǐng)參閱圖5，圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例的光阻取樣裝置應(yīng)用的分解示意圖，在生產(chǎn) 時(shí)，涂布顯影機(jī)的機(jī)械手臂(未標(biāo)示)將晶圓(未標(biāo)示)放置到旋轉(zhuǎn)吸盤(pán)3上，旋轉(zhuǎn)吸盤(pán)3 再提供真空將晶圓吸緊固定，噴涂時(shí)，機(jī)械手臂將光阻噴嘴提起并移動(dòng)至晶圓中心上方，啟 動(dòng)機(jī)器，光阻噴嘴1噴涂出光阻，噴涂的同時(shí)，旋轉(zhuǎn)吸盤(pán)3帶動(dòng)晶圓旋轉(zhuǎn)，在離心力的作用 下，噴涂在晶圓上的光阻均勻散開(kāi)，在晶圓的表面上形成一層光阻層(未標(biāo)示)，為了防止 由光阻飛濺引起的污染，通常在承載小車(chē)5上設(shè)置有一外罩4，該外罩4高出所述旋轉(zhuǎn)吸盤(pán) 3，從而可以防止光阻飛濺出去。為了取得噴嘴1上的光阻樣品來(lái)進(jìn)行分析，取出晶圓之后，本實(shí)施例中，將光阻取 樣裝置2反面的卡持機(jī)構(gòu)23與旋轉(zhuǎn)吸盤(pán)3相卡持進(jìn)行定位，待定位好后，旋轉(zhuǎn)吸盤(pán)3提供真 空才將光阻取樣裝置2吸緊固定，并在所述承載部件21內(nèi)設(shè)置的凹槽22放置有燒杯(未 標(biāo)示)，再操作機(jī)械手臂將噴嘴1移動(dòng)至燒杯正上方，光阻噴嘴1噴涂出光阻在小燒杯內(nèi)，再 將機(jī)械手臂移動(dòng)噴嘴回原位，即可取出光阻樣品，整個(gè)過(guò)程不需要拉出承載小車(chē)，也不需要 接觸光阻噴嘴，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化方式取得光阻樣品，避免了傳統(tǒng)方法取樣時(shí)人工摘下噴嘴過(guò)程 中操作困難以及容易碰傷光阻噴嘴1的問(wèn)題。以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理、主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行 業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，上述實(shí)施例和說(shuō)明書(shū)中描述的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn) 都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。
權(quán)利要求一種光阻取樣裝置，其特征在于所述光阻取樣裝置包含承載面，所述承載面的正面中心位置處設(shè)有承載部件，所述承載面的反面上設(shè)有卡持機(jī)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的光阻取樣裝置，其特征在于所述承載面的反面為平面。
3.如權(quán)利要求1所述的光阻取樣裝置，其特征在于所述承載面呈圓形。
4.如權(quán)利要求1所述的光阻取樣裝置，其特征在于所述承載部件為突出塊，所述突出 塊內(nèi)部設(shè)有凹槽，所述凹槽的中心與所述承載面同心。
5.如權(quán)利要求1所述的光阻取樣裝置，其特征在于所述承載面的正面上還設(shè)有防漏 圈，所述承載部件位于所述防漏圈內(nèi)。
6.如權(quán)利要求5所述的光阻取樣裝置，其特征在于所述防漏圈為圓環(huán)。
7.如權(quán)利要求1所述的光阻取樣裝置，其特征在于所述卡持機(jī)構(gòu)呈圓環(huán)狀，與所述承 載面同心。
8.如權(quán)利要求1所述的光阻取樣裝置，其特征在于所述卡持機(jī)構(gòu)包括若干卡持塊，所 述卡持塊以所述承載面的圓心為中心，呈圓狀分布。
9.如權(quán)利要求1所述的光阻取樣裝置，其特征在于所述卡持機(jī)構(gòu)包括若干卡持塊，所 述卡持塊以所述承載面的圓心為中心，呈對(duì)稱(chēng)分布。
10.如權(quán)利要求5所述的光阻取樣裝置，其特征在于所述承載面、卡持機(jī)構(gòu)、防漏圈以 及承載部件一體成型。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種光阻取樣裝置，所述光阻取樣裝置包含承載面，所述承載面的正面中心位置處設(shè)有承載部件，所述承載面的反面為平面，所述承載面的反面上設(shè)有卡持機(jī)構(gòu)，所述承載面呈圓形。所述承載部件為突出塊，所述突出塊內(nèi)部設(shè)有凹槽，所述凹槽的中心與所述承載面同心，優(yōu)選的，所述防漏圈為圓環(huán)，進(jìn)一步的，所述承載面的正面上還設(shè)有防漏圈，所述承載部件位于所述防漏圈內(nèi)。本實(shí)用新型提出的光阻取樣裝置，通過(guò)在所述光阻取樣裝置的正面中心位置處設(shè)有一承載部件，并在該突出塊上放置一取樣用的燒杯，配合對(duì)機(jī)器的操作即可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化取樣，從而避免了人工在取樣的過(guò)程中操作困難及容易碰傷光阻噴嘴的問(wèn)題。
文檔編號(hào)H01L21/66GK201681799SQ20102018076
公開(kāi)日2010年12月22日 申請(qǐng)日期2010年4月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月29日
發(fā)明者蔣國(guó)偉, 袁剛 申請(qǐng)人:中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司;武漢新芯集成電路制造有限公司