專利名稱：氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，更具體地涉及一種設(shè)于兩個(gè)不同氣體環(huán) 境設(shè)備之間以將基片從第一氣體環(huán)境設(shè)備過(guò)渡到第二氣體環(huán)境設(shè)備的氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備。
背景技術(shù)：
OLED的基本結(jié)構(gòu)是由一薄而透明具半導(dǎo)體特性之銦錫氧化物(ITO)，與正極相 連，再加上另一個(gè)金屬陰極，如三明治的結(jié)構(gòu)。其中還包括有機(jī)薄膜。與IXD相比，有機(jī)材料 及金屬對(duì)氧氣及水氣比較敏感，如何最大程度避免有機(jī)薄膜和金屬被空氣氧化是OLED制 造過(guò)程中的技術(shù)難點(diǎn)之一。在OLED制造的過(guò)程中，基板在不同的工序過(guò)程中需要在不同的氣體環(huán)境下進(jìn)行， 若基板從一種氣體環(huán)境直接進(jìn)入另一種氣體環(huán)境中，會(huì)導(dǎo)致下一氣體環(huán)境潔凈度降低，從 而影響基板的制造環(huán)境。例如，在OLED制造過(guò)程中，有的工序需要在惰性氣體(如氮?dú)? 的環(huán)境下進(jìn)行的，如基板從大氣環(huán)境進(jìn)入氮?dú)猸h(huán)境，很容易把氧氣和水一同帶到氮?dú)猸h(huán)境 中，造成在制造或者使用的過(guò)程中有機(jī)材料和金屬電極容易被氧化，從而降低OLED的使用 壽命和影響質(zhì)量。因此，有必要提供一種兩個(gè)不同氣體環(huán)境的工序之間添加了一個(gè)氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè) 備來(lái)克服上述缺陷。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，能夠有效保證工序在所需的氣 體環(huán)境下進(jìn)行，避免受到其他氣體干擾，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，設(shè)于兩個(gè)不同氣體環(huán) 境設(shè)備之間以將基片從第一氣體環(huán)境設(shè)備過(guò)渡到第二氣體環(huán)境設(shè)備，包括控制裝置、傳感 器、真空室、連接所述真空室與第一氣體環(huán)境設(shè)備的第一間閥、連接所述真空室與第二氣體 環(huán)境設(shè)備的第二閘閥、設(shè)于所述真空室內(nèi)的傳輸機(jī)構(gòu)及與所述真空室連通的抽氣充氣機(jī) 構(gòu)，所述控制裝置分別與所述第一間閥、第二間閥、傳感器及抽氣充氣機(jī)構(gòu)電連接，所述控 制裝置控制所述第一閘閥打開(kāi)并控制所述傳輸機(jī)構(gòu)將所述基片送入所述真空室，所述傳感 器檢測(cè)所述基片完全進(jìn)入所述真空室內(nèi)并通過(guò)所述控制裝置控制所述第一間閥關(guān)閉及所 述傳輸機(jī)構(gòu)停止傳輸所述基片，同時(shí)所述控制裝置控制所述抽氣充氣機(jī)構(gòu)對(duì)所述真空室依 次進(jìn)行抽氣和充氣，直到所述真空室的氣壓與所述第二氣體環(huán)境設(shè)備內(nèi)的壓力相同后，所 述控制裝置控制所述第二閘閥打開(kāi)并控制所述傳輸機(jī)構(gòu)將所述基片送出所述真空室。較佳地，所述傳感器包括第一傳感器和第二傳感器，所述第一傳感器用于檢測(cè)出 所述基片完全進(jìn)入所述真空室，所述第二傳感器用于檢測(cè)出所述基片完全送出所述真空 室。較佳地，所述傳輸機(jī)構(gòu)主要由排列在所述真空室內(nèi)的若干滾輪組成，所述第一傳 感器固定于所述真空室內(nèi)并靠近所述第一閘閥，所述第二傳感器固定于所述真空室內(nèi)并靠近所述第二閘閥。較佳地，所述抽氣充氣機(jī)構(gòu)包括抽氣裝置、充氣裝置、連接所述抽氣裝置與所述真 空室的第一閥門、連接所述充氣裝置與所述真空室的第二閥門及真空規(guī)，所述控制裝置控 制所述第一閥門打開(kāi)以使所述抽氣裝置對(duì)所述真空室進(jìn)行抽氣；當(dāng)所述真空規(guī)檢測(cè)到所述 真空室為本底真空時(shí)，所述控制裝置控制所述第一閥門關(guān)閉及同時(shí)控制所述第二閥門打開(kāi) 以使所述充氣裝置對(duì)所述真空室進(jìn)行充氣；當(dāng)所述真空規(guī)檢測(cè)到所述真空室的氣壓與所述 第二氣體環(huán)境設(shè)備沒(méi)的壓力相同后，所述控制裝置控制所述第二閥門關(guān)閉。較佳地，所述真空室設(shè)有頂蓋，所述頂蓋上設(shè)有第一觀察窗；所述真空室的側(cè)部設(shè) 有第二觀察窗。較佳地，所述第一觀察窗包括觀察窗玻璃、承載所述觀察窗玻璃的觀察窗固定座、 設(shè)于所述觀察窗玻璃與所述觀察窗固定座之間的觀察窗墊片、設(shè)于所述觀察窗玻璃與所述 頂蓋之間的密封0圈及支撐所述密封0圈的支撐座。較佳地，所述第一閘閥與第二閘閥均包括插板槽和設(shè)于所述插板槽內(nèi)的插板，且 所述插板槽和插板之間設(shè)有密封圈。較佳地，所述第一閥門與所述第二閥門均為氣動(dòng)閥門，且所述抽氣裝置為干泵，所 述充氣裝置向所述真空室充入的氣體與所述第二氣體環(huán)境設(shè)備的氣體相同。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備采用真空室與抽氣充氣機(jī)構(gòu)的 配合，使離開(kāi)第一氣體環(huán)境設(shè)備的基片完全進(jìn)入該氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備得真空室后，啟動(dòng)所 述抽氣充氣機(jī)構(gòu)先對(duì)所述真空室進(jìn)行抽氣以抽走在基片運(yùn)輸過(guò)程中一起帶過(guò)來(lái)的氣體，再 向該真空室充入第二氣體環(huán)境設(shè)備所需的氣體，從而有效保證基片進(jìn)入第二氣體環(huán)境設(shè)備 時(shí)該第二氣體環(huán)境設(shè)備的純凈度，能夠有效保證工序在所需的氣體環(huán)境下進(jìn)行，避免受到 其他氣體干擾，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量。而且，整個(gè)氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備都按照預(yù)設(shè)的程序控制進(jìn) 行，自動(dòng)化程度高，保證整條生產(chǎn)線的連貫性，提高生產(chǎn)效率。通過(guò)以下的描述并結(jié)合附圖，本實(shí)用新型將變得更加清晰，這些附圖用于解釋本 實(shí)用新型的實(shí)施例。

圖1為本實(shí)用新型氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為基片準(zhǔn)備輸入本實(shí)用新型氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備的狀態(tài)示意圖。圖3為基片部分輸入本實(shí)用新型氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備的狀態(tài)示意圖。圖4為基片全部輸入本實(shí)用新型氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備的狀態(tài)示意圖。圖5為基片輸出本實(shí)用新型氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備的狀態(tài)示意圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在參考附圖描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，附圖中類似的元件標(biāo)號(hào)代表類似的元 件。如上所述，本實(shí)用新型提供了一種氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，該氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備能夠有效保 證工序在所需的氣體環(huán)境下進(jìn)行，避免受到其他氣體干擾，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量。請(qǐng)參考圖1，為本實(shí)用新型氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。所述氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè) 備設(shè)于兩個(gè)不同氣體環(huán)境設(shè)備之間以將基片90從第一氣體環(huán)境設(shè)備100過(guò)渡到第二氣體環(huán)境設(shè)備200，包括真空室10、第一間閥20、第二間閥30、傳輸機(jī)構(gòu)40、抽氣充氣機(jī)構(gòu)50、控 制裝置(圖未示)、第一傳感器60及第二傳感器70，所述第一間閥20連接所述真空室10 與第一氣體環(huán)境設(shè)備100，所述第二間閥30連接所述真空室10與第二氣體環(huán)境設(shè)備200， 所述傳輸機(jī)構(gòu)40容設(shè)于所述真空室10內(nèi)以將基片90從第一氣體環(huán)境設(shè)備經(jīng)過(guò)真空室10 傳送到第二氣體環(huán)境設(shè)備，所述抽氣充氣機(jī)構(gòu)50與所述真空室10連通并對(duì)所述真空室10 抽氣和充氣，所述控制裝置分別與所述第一間閥20、第二間閥30、第一傳感器60、第二傳感 器70及抽氣充氣機(jī)構(gòu)50電連接。在本實(shí)施例中，所述第一氣體環(huán)境設(shè)備100為大氣環(huán)境設(shè)備，所述第二氣體環(huán)境 設(shè)備200為純氮?dú)猸h(huán)境設(shè)備?？梢岳斫獾?，所述第一氣體環(huán)境設(shè)備100與第二氣體環(huán)境設(shè) 備200并不局限于本實(shí)施例的大氣環(huán)境設(shè)備和純氮?dú)猸h(huán)境設(shè)備。請(qǐng)繼續(xù)參考圖1，所述傳輸機(jī)構(gòu)40主要由排列在所述真空室10內(nèi)的若干滾輪組 成，所述若干滾輪用于將所述基片90送入或送出所述真空室10。所述第一傳感器60固定 于所述真空室10內(nèi)并靠近所述第一閘閥20，所述第二傳感器70固定于所述真空室10內(nèi) 并靠近所述第二間閥30，所述第一傳感器60用于檢測(cè)出所述基片90完全進(jìn)入所述真空室 10，所述第二傳感器70用于檢測(cè)出所述基片90完全送出所述真空室10。所述抽氣充氣機(jī)構(gòu)50包括抽氣裝置51、充氣裝置52、連接所述抽氣裝置51與所 述真空室10的第一閥門53、連接所述充氣裝置52與所述真空室10的第二閥門54及真空 規(guī)55，所述第一閥門53與所述第二閥門54均為氣動(dòng)閥門，且所述抽氣裝置51為干泵，所 述充氣裝置52向所述真空室10充入的氣體為純氮?dú)狻Ｋ隹刂蒲b置通過(guò)控制所述第一閥 門53的打開(kāi)或關(guān)閉而控制所述抽氣裝置51對(duì)真空室10進(jìn)行抽氣或停止，及通過(guò)控制所述 第二閥門54的打開(kāi)或關(guān)閉而控制所述充氣裝置52對(duì)真空室10進(jìn)行充氣或停止；所述真空 規(guī)55用于檢測(cè)所述真空室10的氣壓狀態(tài)，當(dāng)所述真空規(guī)55檢測(cè)到所述真空室10為本底 真空時(shí)，所述控制裝置控制所述第一閥門53關(guān)閉以停止抽氣裝置51對(duì)真空室10抽氣并同 時(shí)控制所述第二閥門54打開(kāi)以使所述充氣裝置52對(duì)所述真空室10進(jìn)行充氣；當(dāng)所述真空 規(guī)55檢測(cè)到所述真空室10的氣壓與所述第二氣體環(huán)境設(shè)備200內(nèi)的壓力相同時(shí)，控制所 述第二閥門54關(guān)閉以停止充氣裝置52對(duì)所述真空室10充氣。所述第一閘閥20為氣動(dòng)插板閥，包括插板槽21和設(shè)于所述插板槽21內(nèi)的插板 22，且在所述第一間閥20與所述大氣環(huán)境設(shè)備的連接處設(shè)有第一密封圈23a，所述所述第 一閘閥20與所述真空室10的連接處設(shè)有第二密封圈23b，安裝于所述插板槽21內(nèi)的插板 22閉合處設(shè)有第三密封圈23c，所述第一密封圈23a、第二密封圈23b和第三密封圈23c用 于保證所述真空室10的氣密性。所述第二閘閥30的結(jié)構(gòu)與所述第一閘閥20相對(duì)應(yīng)，在此 不再詳述。較佳地，為了方便維修，所述真空室10設(shè)有頂蓋21，所述頂蓋21可以打開(kāi)，若關(guān) 閉時(shí)則用螺釘?shù)裙潭C(jī)構(gòu)固定。為了隨時(shí)監(jiān)測(cè)設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)情況，所述頂蓋21設(shè)有第一觀察 窗22，所述第一觀察窗22包括觀察窗玻璃221、承載所述觀察窗玻璃221的觀察窗固定座 222、設(shè)于所述觀察窗玻璃221與所述觀察窗固定座222之間的觀察窗墊片223、設(shè)于所述觀 察窗玻璃與所述頂蓋之間的密封0圈224及支撐所述密封0圈224的支撐座225。所述真 空室10的側(cè)部還設(shè)有第二觀察窗28。下面具體描述本實(shí)用新型氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備的具體工作過(guò)程。首先，請(qǐng)參考圖2，此時(shí)基片90準(zhǔn)備從所述第一氣體環(huán)境設(shè)備100進(jìn)入本實(shí)用新型的氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備；接 著，請(qǐng)參考圖3，當(dāng)所述控制裝置控制所述第一間閥20打開(kāi)并控制所述傳輸機(jī)構(gòu)40啟動(dòng)，所 述基片90在所述傳輸機(jī)構(gòu)40的作用下送入所述真空室10 (所述傳輸機(jī)構(gòu)40的滾輪沿圖 中箭頭a方向轉(zhuǎn)動(dòng)，所述傳輸機(jī)構(gòu)40帶動(dòng)所述基片90的前進(jìn)方向如圖中箭頭b所示)；然 后，請(qǐng)參考圖4，當(dāng)所述第一傳感器60檢測(cè)到所述基片90完全進(jìn)入所述真空室20內(nèi)，通過(guò) 所述控制裝置控制所述第一間閥20關(guān)閉及所述傳輸機(jī)構(gòu)40停止傳輸所述基片90，同時(shí)所 述控制裝置控制所述抽氣充氣機(jī)構(gòu)50第一閥門53打開(kāi)以使所述抽氣裝置51對(duì)真空室10 進(jìn)行抽氣，直到所述真空規(guī)55檢測(cè)到真空室10內(nèi)的真空度為本底真空(如lE-lPa)時(shí)， 所述真空規(guī)55通過(guò)傳遞信號(hào)使所述控制裝置控制第一閥門53關(guān)閉以控制所述抽氣裝置51 停止抽氣，并同時(shí)控制所述第二閥門54打開(kāi)以使所述充氣裝置52對(duì)所述真空室10開(kāi)始充 入純氮?dú)?純氮?dú)獬淙敕较蛉鐖D中箭頭c所示)；當(dāng)所述真空規(guī)55檢測(cè)到所述真空室10的 氣壓與所述第二氣體環(huán)境設(shè)備200內(nèi)的壓力相同時(shí)，通過(guò)控制裝置控制所述第二閥門54關(guān) 閉以停止充氣裝置52對(duì)所述真空室10充氣，并同時(shí)控制所述第二間閥30打開(kāi)及控制所述 傳輸機(jī)構(gòu)40帶動(dòng)所述基片90繼續(xù)前進(jìn)(前進(jìn)方向如圖箭頭b所示)；最后，請(qǐng)參考圖5，當(dāng) 所述第二傳感器70檢測(cè)到所述基片90完全離開(kāi)真空室10并而進(jìn)入到所述第二氣體環(huán)境 設(shè)備200內(nèi)，通過(guò)所述控制裝置控制所述第二間閥30關(guān)閉，并同時(shí)控制所述第一間閥20打 開(kāi)，以傳輸下一基片。 以上結(jié)合最佳實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了描述，但本實(shí)用新型并不局限于以上揭 示的實(shí)施例，而應(yīng)當(dāng)涵蓋各種根據(jù)本實(shí)用新型的本質(zhì)進(jìn)行的修改、等效組合。
權(quán)利要求一種氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，設(shè)于兩個(gè)不同氣體環(huán)境設(shè)備之間以將基片從第一氣體環(huán)境設(shè)備過(guò)渡到第二氣體環(huán)境設(shè)備，其特征在于包括控制裝置、傳感器、真空室、連接所述真空室與第一氣體環(huán)境設(shè)備的第一閘閥、連接所述真空室與第二氣體環(huán)境設(shè)備的第二閘閥、設(shè)于所述真空室內(nèi)的傳輸機(jī)構(gòu)及與所述真空室連通的抽氣充氣機(jī)構(gòu)，所述控制裝置分別與所述第一閘閥、第二閘閥、傳感器及抽氣充氣機(jī)構(gòu)電連接，所述控制裝置控制所述第一閘閥打開(kāi)并控制所述傳輸機(jī)構(gòu)將所述基片送入所述真空室，所述傳感器檢測(cè)所述基片完全進(jìn)入所述真空室內(nèi)并通過(guò)所述控制裝置控制所述第一閘閥關(guān)閉及所述傳輸機(jī)構(gòu)停止傳輸所述基片，同時(shí)所述控制裝置控制所述抽氣充氣機(jī)構(gòu)對(duì)所述真空室依次進(jìn)行抽氣和充氣，直到所述真空室的氣壓與所述第二氣體環(huán)境設(shè)備內(nèi)的壓力相同后，所述控制裝置控制所述第二閘閥打開(kāi)并控制所述傳輸機(jī)構(gòu)將所述基片送出所述真空室。
2.如權(quán)利要求1所述的氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，其特征在于所述傳感器包括第一傳感器 和第二傳感器，所述第一傳感器用于檢測(cè)出所述基片完全進(jìn)入所述真空室，所述第二傳感 器用于檢測(cè)出所述基片完全送出所述真空室。
3.如權(quán)利要求2所述的氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，其特征在于所述傳輸機(jī)構(gòu)主要由排列在 所述真空室內(nèi)的若干滾輪組成，所述第一傳感器固定于所述真空室內(nèi)并靠近所述第一閘 閥，所述第二傳感器固定于所述真空室內(nèi)并靠近所述第二閘閥。
4.如權(quán)利要求1所述的氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，其特征在于所述抽氣充氣機(jī)構(gòu)包括抽氣 裝置、充氣裝置、連接所述抽氣裝置與所述真空室的第一閥門、連接所述充氣裝置與所述真 空室的第二閥門及真空規(guī)，所述控制裝置控制所述第一閥門打開(kāi)以使所述抽氣裝置對(duì)所述 真空室進(jìn)行抽氣；當(dāng)所述真空規(guī)檢測(cè)到所述真空室為本底真空時(shí)，所述控制裝置控制所述 第一閥門關(guān)閉及同時(shí)控制所述第二閥門打開(kāi)以使所述充氣裝置對(duì)所述真空室進(jìn)行充氣；當(dāng) 所述真空規(guī)檢測(cè)到所述真空室的氣壓與所述第二氣體環(huán)境設(shè)備沒(méi)的壓力相同后，所述控制 裝置控制所述第二閥門關(guān)閉。
5.如權(quán)利要求1所述的氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，其特征在于所述真空室設(shè)有頂蓋，所述頂 蓋上設(shè)有第一觀察窗；所述真空室的側(cè)部設(shè)有第二觀察窗。
6.如權(quán)利要求5所述的氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，其特征在于所述第一觀察窗包括觀察窗 玻璃、承載所述觀察窗玻璃的觀察窗固定座、設(shè)于所述觀察窗玻璃與所述觀察窗固定座之 間的觀察窗墊片、設(shè)于所述觀察窗玻璃與所述頂蓋之間的密封0圈及支撐所述密封0圈的 支撐座。
7.如權(quán)利要求1所述的氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，其特征在于所述第一閘閥與第二閘閥均 包括插板槽和設(shè)于所述插板槽內(nèi)的插板，且所述插板槽和插板之間設(shè)有密封圈。
8.如權(quán)利要求4所述的氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，其特征在于所述第一閥門與所述第二閥 門均為氣動(dòng)閥門，且所述抽氣裝置為干泵，所述充氣裝置向所述真空室充入的氣體與所述 第二氣體環(huán)境設(shè)備的氣體相同。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種氣體環(huán)境過(guò)渡設(shè)備，設(shè)于兩個(gè)不同氣體環(huán)境設(shè)備之間以將基片從第一氣體環(huán)境設(shè)備過(guò)渡到第二氣體環(huán)境設(shè)備，包括控制裝置、傳感器、真空室、連接所述真空室與第一氣體環(huán)境設(shè)備的第一閘閥、連接真空室與第二氣體環(huán)境設(shè)備的第二閘閥、設(shè)于真空室內(nèi)的傳輸機(jī)構(gòu)及與真空室連通的抽氣充氣機(jī)構(gòu)，該控制裝置分別與第一閘閥、第二閘閥、傳感器及抽氣充氣機(jī)構(gòu)電連接，該控制裝置控制第一閘閥打開(kāi)并控制傳輸機(jī)構(gòu)將基片送入真空室，傳感器檢測(cè)基片完全進(jìn)入真空室內(nèi)并通過(guò)控制裝置控制第一閘閥關(guān)閉及傳輸機(jī)構(gòu)停止傳輸所述基片，同時(shí)控制裝置控制抽氣充氣機(jī)構(gòu)對(duì)真空室依次進(jìn)行抽氣和充氣，直到真空室的氣壓與第二氣體環(huán)境設(shè)備內(nèi)的壓力相同后，控制裝置控制第二閘閥打開(kāi)并控制傳輸機(jī)構(gòu)將所述基片送出真空室。
文檔編號(hào)H01L21/00GK201689873SQ201020188748
公開(kāi)日2010年12月29日 申請(qǐng)日期2010年5月6日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月6日
發(fā)明者劉惠森, 張華 , 楊明生, 王勇, 王曼媛, 王銀果, 范繼良 申請(qǐng)人:東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司