專利名稱：用于濕式制程的基材輸送載板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型是一種用于濕式制程的基材輸送載板，尤指一種用于承載玻璃等透光 基板、晶圓或其它基材，使基材可透過自動化輸送裝置輸送進行蝕刻、清洗…濕式制程的基 材輸送載板。
背景技術(shù)：
目前如應(yīng)用于觸控面板的玻璃基板、晶圓…等基材于加工制程中，通常必須經(jīng)過 蝕刻設(shè)備進行圖案化的蝕刻步驟，及清洗設(shè)備進行表面清洗步驟等濕式制程。以玻璃基板的加工制程為例，玻璃基板進行蝕刻及清洗等濕式制程前，玻璃基板 均已切割成預(yù)定尺寸的單元面積，因玻璃基板于切割后，其側(cè)邊均會產(chǎn)生銳利的毛邊，故當 具有毛邊的玻璃基板經(jīng)過蝕刻設(shè)備或清洗設(shè)備的輸送輪輸送時，玻璃基板的毛邊因與輸送 輪上的擋邊接觸摩擦，易自毛邊產(chǎn)生嚴重的破裂情形。再者，如該些玻璃基板為觸控面板用 的基板是厚度約為0. 5 0. 8mm的薄板，其厚度薄而易碎，在進行蝕刻或清洗等濕式制程 中，現(xiàn)有蝕刻設(shè)備或清洗設(shè)備等對該些玻璃基板并未提供良好的防護機制，于玻璃基板的 輸送過程，玻璃基板切割產(chǎn)生毛邊常與輸送輪擋邊接觸摩擦造成毛邊受損，并易于傷及玻 璃基板的輸出入電極的完整性，致使玻璃基板成品良率偏低。為解決上述問題，本案申請人先前曾提出一種如臺灣第M372534號新型專利案所 示的「用于濕制程的基板用輸送載板」，該輸送載板主要是于其板體中形成基板定位孔，并 于基板定位孔周邊孔壁下段形成數(shù)個止擋凸部，該數(shù)個止擋凸部頂緣至板體頂面間的間 距，用以提供基板置入基板定位孔中，并為該數(shù)個止擋凸部于基板下方支撐定位，以此，利 用該輸送載板作為基板進行蝕刻、清洗等濕式制程輸送時的載具，使基板通過該輸送載板 于輸送輪上移動，而避免基板與輸送輪直接接觸磨擦而受損的情事。前述輸送載板于實施時，確可達成前述的功效，惟該輸送載板承載基材于輸送輪 上傳送時，因濕制程中尚利用吹風(fēng)等手段使基板干燥的步驟，風(fēng)力的作用使輸送載板上的 基材易發(fā)生飄浮，或是，清洗液(如水等)采取由下往上沖洗基材下表面時，也易發(fā)生基材 于輸送載板中浮動等，因此，為降低輸送載板上的基材因外力作用而浮動的情形，實有進一 步對輸送載板再改良，使輸送載板的功能更為完備。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題是改善基材為現(xiàn)有輸送載板所承載時，基材易因 外力作用而浮動的情形。為解決前述的技術(shù)問題，本實用新型的技術(shù)解決方案是提供一種用于濕式制程 的基材輸送載板，該基材輸送載板具有一板體，板體中形成至少一基材定位空間，于基材定 位空間周邊側(cè)壁下段分布形成數(shù)個承載凸部，其特征在于，于基材定位空間一側(cè)側(cè)壁上段 分布數(shù)個限位凸部，限位凸部底緣與承載凸部頂緣間具有一插入縫，所述的插入縫足以提 供基材一側(cè)邊插入其中，使基材平置于基材定位空間中，為承載凸部共同承載，以及限位凸部于基材一側(cè)邊限位。如上所述的用于濕式制程的基材輸送載板中，每一限位凸部與承載凸部呈上下一
對一對應(yīng)。如上所述的用于濕式制程的基材輸送載板中，基材定位空間為矩形，板體于矩形 基材定位空間的四角隅處分別形成內(nèi)凹的邊角保護凹槽。如上所述的用于濕式制程的基材輸送載板中，板體于基材定位空間周邊的側(cè)壁形 成數(shù)個內(nèi)凹的取置凹槽。如上所述的用于濕式制程的基材輸送載板中，板體于基材定位空間周邊的側(cè)壁形 成數(shù)個內(nèi)凹的取置凹槽。本實用新型的優(yōu)點是以此基材輸送載板設(shè)計，提供晶圓、玻璃基板等基材置于其 上，并利用基材輸送載板中的數(shù)個承載凸部共同支撐基材，以及利用限位凸部于基材一側(cè) 頂面予以限位，如此，利用基材輸送載板承載基材進行蝕刻、清洗等濕式制程輸送時，除可 避免基材與輸送輪直接接觸磨擦而受損，更能于清洗后的吹風(fēng)干燥或噴灑沖洗等步驟中， 防止基材于基材輸送載板中移位。
圖1是本實用新型基材輸送載板的一較佳實施例的立體示意圖。圖2是圖1所示基材輸送載板較佳實施例的俯視平面示意圖。圖3是圖1所示基材輸送載板較佳實施例的局部放大示意圖。圖4是圖1所示基材輸送載板較佳實施例中板體一側(cè)上下對應(yīng)的限位凸部與承載 凸部放大示意圖。
圖5是圖1所示基材輸送載板較佳實施例中的承載凸部放大示意圖。 圖6是圖1所示基材輸送載板較佳實施例中置放基材的剖面示意圖。 圖7是圖1所示基材輸送載板承載基板進行濕式制程的實施狀態(tài)參考圖(一) 圖8是圖1所示基材輸送載板承載基板進行濕式制程的實施狀態(tài)參考圖(二) 圖9是圖1所示輸送載板承載基板承載基材于輸送輪的平面示意圖。 附圖標號說明 1基材輸送載板 10板體 12側(cè)壁 14限位凸部 16取置凹槽 2基材 3輸送輪
11基材定位空間 13承載凸部 15邊角保護凹槽 17插入縫
具體實施方式
以下配合圖式及本實用新型的較佳實施例，進一步闡述本實用新型為達成預(yù)定實 用新型目的所采取的技術(shù)手段。如圖1及圖2所示，是揭示本實用新型用于濕式制程的基材輸送載板的一較佳實施例，由圖中可以見及該基材輸送載板具有一板體10，該板體10中形成一個或復(fù)數(shù)個基材 定位空間11以及位于基材定位空間11周邊的側(cè)壁12，于本較佳實施例中，板體10是形成 復(fù)數(shù)個基材定位空間11，所述基材定位空間11的形狀是與待承載的基材2形狀相匹配，用 以提供基材2置入其中。如圖1至圖5所示，板體10于基材定位空間11周邊的側(cè)壁下段分布形成復(fù)數(shù)個 承載凸部13，于基材定位空間11 一側(cè)側(cè)壁上段分布復(fù)數(shù)個限位凸部14，如圖3及圖4所 示，限位凸部14底緣與承載凸部13頂緣間具有一插入縫17，所述的插入縫17足以提供基 材2 —側(cè)邊插入其中，且使基材2可置入于基材定位空間11中，為復(fù)數(shù)個承載凸部13共同 承載，限位凸部14于基材2 —側(cè)邊限位；所述限位凸部14可與承載凸部13呈上下一對一 對應(yīng)實施型態(tài)，或可為上下不對應(yīng)的型態(tài)，于本較佳實施例是揭示每一限位凸部14與一承 載凸部13上下對應(yīng)的型態(tài)。如圖3至圖5所示，所述限位凸部14及承載凸部13可為半圓形、圓弧形、多邊形 (如三角形、四邊形….等)幾何形狀的凸粒，其中以足以對基材2側(cè)邊提供必要的支撐以 及體積小為佳，所述限位凸部14及承載凸部13體積較小時，可減少遮蔽基材2頂面及底面 的面積。如圖1及圖2所示，于本較佳實施例中，所述基材定位空間11可為矩形區(qū)間，該板 體10上形成復(fù)數(shù)個間隔排列的基材定位空間11，該復(fù)數(shù)個基材定位空間11可為相同形狀 尺寸的區(qū)間，使該基材輸送載板1可以同時承載復(fù)數(shù)個相同尺寸規(guī)格的基材2，或是同時承 載復(fù)數(shù)不同尺寸規(guī)格的基材2。前述基材輸送載板1的板體10尚可于所述矩形基材定位空間11的四角隅處分別 形成內(nèi)凹的邊角保護凹槽15，所述邊角保護凹槽15可為圓形或其它幾何形狀，使置入基材 定位空間11中的矩形基材2各端角分別伸入所述邊角保護凹槽15中，而避免基材2端角 與基材定位空間11側(cè)壁發(fā)生碰撞而破裂的情形。前述基材輸送載板1中，板體10尚可于所述基材定位空間11的周邊側(cè)壁形成復(fù) 數(shù)個內(nèi)凹的取置凹槽16，以便于將操作者將基材2置入該基材輸送載板1的基材定位空間 11中，或自基材定位空間11中取出基材2，并可減少基材輸送載板1與基材2間的接觸面 積。本實用新型基材輸送載板于使用時，如圖6所示，是令切割單元尺寸的基材2放置 于該基材輸送載板1的基材定位空間11中定位，于置放基材2時，是令基材2 —側(cè)邊先傾 斜插入于限位凸部14與承載凸部13間的插入縫17中，再平置，使基材2為基材定位空間 11周邊的承載凸部13共同承載而定位。接續(xù)將置放有基材2的基材輸送載板1移置蝕刻 或清洗設(shè)備中，如圖7及圖8所示，即由所述蝕刻或清洗設(shè)備中的輸送輪3輸送至設(shè)備內(nèi)， 進行基材2表面的蝕刻或清洗等濕式制程步驟。于進行前述蝕刻或清洗等濕式制程步驟時，如圖7至圖9所示，因基材2是藉由基 材輸送載板1于旋轉(zhuǎn)的輸送輪3上被輸送，而由設(shè)備對基材2噴灑蝕刻液或清洗液等，于此 濕式制程步驟中，因可有效避免基材2與輸送輪3直接接觸磨擦而損壞，且于蝕刻液或清洗 液噴灑于基材2時，如由下向上噴灑蝕刻液或清洗液于基材2底面，因基材輸送載板1尚設(shè) 有限位凸部14于基材2頂面一側(cè)予以限位，可減少基材2于基材輸送載板1中浮動的現(xiàn)象， 此外，清洗后的吹風(fēng)干燥處理步驟時，同樣也可利用基材輸送載板1中的限位凸部14于基材2頂面一側(cè)限位，可減少基材2于基材輸送載板1中浮動的現(xiàn)象。 以上所述僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型做任何形式上的 限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本實用新型，任何熟悉 本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)，當可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi) 容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術(shù)方案的內(nèi) 容，依據(jù)本實用新型的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍 屬于本實用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求一種用于濕式制程的基材輸送載板，該基材輸送載板具有一板體，板體中形成至少一基材定位空間，于基材定位空間周邊側(cè)壁下段分布形成數(shù)個承載凸部，其特征在于，于基材定位空間一側(cè)側(cè)壁上段分布數(shù)個限位凸部，限位凸部底緣與承載凸部頂緣間具有一插入縫，所述的插入縫足以提供基材一側(cè)邊插入其中，使基材平置于基材定位空間中，為承載凸部共同承載，以及限位凸部于基材一側(cè)邊限位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于濕式制程的基材輸送載板，其特征在于，每一限位凸部 與承載凸部呈上下一對一對應(yīng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于濕式制程的基材輸送載板，其特征在于，基材定位空 間為矩形，板體于矩形基材定位空間的四角隅處分別形成內(nèi)凹的邊角保護凹槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于濕式制程的基材輸送載板，其特征在于，板體于基材 定位空間周邊的側(cè)壁形成數(shù)個內(nèi)凹的取置凹槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于濕式制程的基材輸送載板，其特征在于，板體于基材定 位空間周邊的側(cè)壁形成數(shù)個內(nèi)凹的取置凹槽。
專利摘要本實用新型是關(guān)于一種用于濕式制程的基材輸送載板，其具有一板體，板體中形成至少一基材定位空間，于基材定位空間周邊側(cè)壁下段分布形成數(shù)個承載凸部，且于基材定位空間一側(cè)側(cè)壁上段分布數(shù)個限位凸部，限位凸部底緣與承載凸部頂緣間具有一插入縫，用以提供基材置入于基材定位空間中，為數(shù)個承載凸部共同支撐，另藉一側(cè)的限位凸部于基材一側(cè)頂面限位，進而利用基板輸送載板作為基材進行蝕刻、清洗等濕式制程輸送時的載具，除能避免基材與輸送輪直接接觸摩擦而受損，更能于清洗后的吹風(fēng)干燥等步驟中防止基材移位。
文檔編號H01L21/677GK201708137SQ201020234359
公開日2011年1月12日 申請日期2010年6月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月23日
發(fā)明者楊延鴻, 龔南華 申請人:揚博科技股份有限公司