專利名稱：透明導(dǎo)電性層疊體和透明觸摸面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于透明觸摸面板的電極基板的透明導(dǎo)電性層疊體。另外，本發(fā)明涉及具有這種透明導(dǎo)電性層疊體的透明觸摸面板。
背景技術(shù)：
已較多使用了實(shí)現(xiàn)對(duì)話型輸入方式作為人機(jī)界面(man machine interface)之一的透明觸摸面板。透明觸摸面板根據(jù)位置檢測(cè)方式包括光學(xué)方式、超聲波方式、電容方式、 電阻膜方式等。這些透明觸摸面板使用了在透明有機(jī)高分子基板的至少一側(cè)的面上層疊透明導(dǎo)電層等而成的透明導(dǎo)電性層疊體。其中，作為透明有機(jī)高分子基板，通常已使用三乙酰基纖維素(TAC)之類的纖維素系膜、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜之類的聚酯系膜、聚碳酸酯系膜、非晶性聚烯烴系膜等的具有高透明性的有機(jī)高分子基板。這些透明有機(jī)高分子基板由于表面硬度低、易損傷，所以在透明有機(jī)高分子基板的表面涂覆被稱作硬涂層的樹(shù)脂層。已知該硬涂層不僅對(duì)用于保護(hù)透明有機(jī)高分子基板的表面有效，而且也對(duì)用于填埋存在于透明有機(jī)高分子基板表面的微細(xì)損傷而使其平坦化有效。對(duì)于該硬涂層，已知通過(guò)使硬涂層的折射率配合透明有機(jī)高分子基板的折射率，從而抑制在硬涂層與透明有機(jī)高分子基板的界面處的因反射而產(chǎn)生的干涉斑(專利文獻(xiàn)1)。另外，作為透明導(dǎo)電層，通常使用ITO(氧化銦-錫)之類的透明金屬氧化物層。在將這種透明導(dǎo)電性層直接層疊在透明有機(jī)高分子基板上時(shí)，有時(shí)由于因基板與透明導(dǎo)電層的界面以及透明導(dǎo)電層與空氣的界面上的反射而產(chǎn)生的光干涉、透明導(dǎo)電層自身的光吸收等，導(dǎo)致透過(guò)透明導(dǎo)電性層疊體的光發(fā)生著色。例如，對(duì)于通常使用的20 30nm左右的膜厚的透明導(dǎo)電性層，有時(shí)透射光著色成帶有若干茶色的顏色。這樣的著色帶來(lái)顯示器顯示畫(huà)面的色調(diào)的變化，因而不適合。為了解決該問(wèn)題，已采取在透明導(dǎo)電性層與透明有機(jī)高分子基板之間插入光學(xué)干涉層、利用干涉效果抑制透明導(dǎo)電性層所導(dǎo)致的反射等(專利文獻(xiàn)2等)。在透明觸摸面板的位置檢測(cè)方式中，電阻膜方式結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、價(jià)格/性能比也良好， 所以是最普及的方式。電阻膜方式的透明觸摸面板是使在相對(duì)的一側(cè)具有透明導(dǎo)電層的2 張透明基板保持一定間隔而構(gòu)成的電子部件，通過(guò)用筆或手指按壓可動(dòng)電極基板(視認(rèn)側(cè)的電極基板)、使其彎曲，與固定電極基板(相對(duì)側(cè)的電極基板)接觸、接通，從而檢測(cè)電路檢測(cè)出位置，形成規(guī)定的輸入。另外，在透明觸摸面板的位置檢測(cè)方式中，電容方式由于能夠多點(diǎn)檢測(cè)，所以是未來(lái)大有前途的技術(shù)。電容方式的透明觸摸面板基于在賦予圖案的透明導(dǎo)電層與手指等之間的電容變化來(lái)檢測(cè)位置，形成規(guī)定的輸入。另外，在電阻膜方式中，以往作為一點(diǎn)式的檢測(cè)方式，通常是不進(jìn)行圖案賦予的所謂模擬式觸摸面板，但為了使多點(diǎn)檢測(cè)成為可能，也逐漸開(kāi)發(fā)出賦予圖案的類型。
像這些與多點(diǎn)檢測(cè)對(duì)應(yīng)的透明觸摸面板那樣，在透明觸摸面板中使用賦予圖案的透明導(dǎo)電性層時(shí)，存在以下問(wèn)題在具有透明導(dǎo)電性層的部分與沒(méi)有的部分，顯示光的透射率、色調(diào)不同，由此可看到透明導(dǎo)電性層的圖案而難以看到顯示光(以下稱為“見(jiàn)骨(骨見(jiàn)
無(wú))”)。為了抑制該見(jiàn)骨，已知有可使用較薄的透明導(dǎo)電性層(專利文獻(xiàn)7)；在透明導(dǎo)電性層與其下的硬涂層之間提供具有這些層的折射率的中間折射率的層(專利文獻(xiàn)8)等。應(yīng)予說(shuō)明，用于透明導(dǎo)電性層疊體的透明有機(jī)高分子基板，由于在操作時(shí)如果直接使用則滑動(dòng)性不足，所以通常導(dǎo)入表面形成了凹凸的易滑動(dòng)層來(lái)提高易滑動(dòng)性。但是，在表面形成凹凸來(lái)改善易滑動(dòng)性時(shí)，表面上的光發(fā)生漫反射，引起透明性下降和霧度增大。因此，提供既維持高透明性、低霧度又具有優(yōu)異易滑動(dòng)性的有機(jī)高分子基板是非常重要的。作為在透明有機(jī)高分子基板上形成易滑動(dòng)層的一般方法，已知有使樹(shù)脂中含有具有亞微米程度粒徑的微粒，例如二氧化硅、碳酸鈣、高嶺土等無(wú)機(jī)粒子和/或有機(jī)硅、交聯(lián)聚苯乙烯等有機(jī)粒子，用含有這樣的微粒的樹(shù)脂形成易滑動(dòng)層(專利文獻(xiàn)3和4)。但是，在使用由含有具有亞微米程度粒徑的微粒的樹(shù)脂形成的易滑動(dòng)層時(shí)，存在由于樹(shù)脂中所含有的這些微粒而導(dǎo)致光散射，得到的透明有機(jī)高分子基板的透明性或霧度特性受損的問(wèn)題。對(duì)此，可以通過(guò)減少樹(shù)脂所含有的微粒量，從而實(shí)現(xiàn)一定程度的透明度和低霧度， 但此時(shí)有時(shí)難以得到充分的易滑動(dòng)性。另外，在使用由含有具有亞微米程度粒徑的微粒的樹(shù)脂形成的易滑動(dòng)層時(shí)，當(dāng)進(jìn)行書(shū)寫(xiě)耐久試驗(yàn)時(shí)，有時(shí)形成電極基板的透明導(dǎo)電層形成面的突起的粒子發(fā)生剝落，在觸摸面板內(nèi)飛散。有時(shí)像這樣飛散的微粒妨礙可動(dòng)電極基板和固定電極基板間的導(dǎo)通，使觸摸面板的電特性劣化。另外這些飛散的微粒有時(shí)會(huì)損傷可動(dòng)電極基板和固定電極基板的透明導(dǎo)電層，使觸摸面板的電特性劣化。為了解決這些問(wèn)題，例如在專利文獻(xiàn)5和6中，提出了在作為透明有機(jī)高分子基板的透明基材膜上形成由含有平均粒徑1 30nm的超微粒的樹(shù)脂形成的具有凹凸表面的增粘涂層，在其上設(shè)置透明導(dǎo)電層，從而得到透明導(dǎo)電性膜。其中，通過(guò)將具有凹凸表面的增粘涂層配置在透明基材膜上，從而可防止由電阻膜方式觸摸面板的膜之間的貼附而引起的粘連。但是，在這里，可以理解的是為了利用平均粒徑1 30nm的超微粒而使增粘涂層具有凹凸表面，需要使增粘涂層含有較多量的超微粒，因而增粘涂層具有較大的霧度值?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1專利文獻(xiàn)2專利文獻(xiàn)3專利文獻(xiàn)5專利文獻(xiàn)6專利文獻(xiàn)7專利文獻(xiàn)8
6日本特開(kāi)2003-291274號(hào)公報(bào) 日本特開(kāi)2000-301648號(hào)公報(bào) 日本特開(kāi)2001-109388號(hào)公報(bào) 日本特開(kāi)200H83644號(hào)公報(bào) 日本特開(kāi)2002-117724號(hào)公報(bào) 日本特昭64-10507號(hào)公報(bào) 日本特開(kāi)平8-240800號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供適合于與液晶顯示器(LCD)、有機(jī)EL顯示器等顯示元件組合使用的透明導(dǎo)電性層疊體。另外，本發(fā)明的目的在于提供具有這種透明導(dǎo)電性層疊體的透明觸摸面板。本申請(qǐng)發(fā)明人等為了解決上述課題進(jìn)行了認(rèn)真研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在透明有機(jī)高分子基板的至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層、光學(xué)干涉層、透明導(dǎo)電層而成的透明導(dǎo)電性層疊體，通過(guò)減小透明有機(jī)高分子基板的折射率與硬涂層的折射率η的差等，從而得到適合于與顯示元件組合使用的透明導(dǎo)電性層疊體，進(jìn)而完成下述<Α1> <Α12>的第1方式的本發(fā)明。<Α1>—種透明導(dǎo)電性層疊體，在透明有機(jī)高分子基板的至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層、光學(xué)干涉層、透明導(dǎo)電層而成，且滿足以下(A-a) (A-f)(A-a)上述透明有機(jī)高分子基板的折射率n3和上述硬涂層的折射率n3h滿足下述式|η3-ηΛ| 彡 0. 02，(A-b)上述硬涂層的厚度是1 μ m 10 μ m，(A-c)上述光學(xué)干涉層的厚度是5nm 500nm，(A-d)上述透明導(dǎo)電性層的厚度是5nm 200nm，(A-e)總光線透射率在85%以上，并且(A-f) LW表色系的色度指數(shù)b*值是-1.0以上且小于1.5。<A2>如上述<A1>項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，進(jìn)一步滿足(A-g)對(duì)于從上述透明導(dǎo)電性層疊體的透明導(dǎo)電層側(cè)投射波長(zhǎng)450nm 700nm的光時(shí)的反射光譜而言，上述透明導(dǎo)電性層疊體上的反射光譜與從上述透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜的差光譜滿足以下(A-gl)和(A-g2)(A-gl)上述差光譜的絕對(duì)值的最大值是3. 0%以下，并且(A-g2)上述差光譜的累計(jì)值是_200nm · % 200nm · %。<A3>如上述<A1>或<A2>項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，進(jìn)一步滿足(A_h)上述透明導(dǎo)電性層僅配置于上述光學(xué)干涉層上的一部分而形成圖案。<A4>如上述<A1> <A3>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，進(jìn)一步滿足 (A-i)上述光學(xué)干涉層直接層疊在上述硬涂層上。<A5>如上述<A1> <A4>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，光學(xué)干涉層含有固化樹(shù)脂成分和平均一次粒徑IOOnm以下的第1超微粒。<A6>如上述<A1> <A5>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，進(jìn)一步滿足以下(A-p) (A-r)(A-p)上述光學(xué)干涉層含有樹(shù)脂成分和平均一次粒徑Inm IOOnm的第1超微粒，(A-q)上述樹(shù)脂成分和上述第1超微粒含有相同的金屬和/或半金屬元素，并且(A-r)在上述光學(xué)干涉層中，含有與上述樹(shù)脂成分相同的金屬和/或半金屬元素的上述第1超微粒的含量相對(duì)于上述樹(shù)脂成分100質(zhì)量份是0. 01質(zhì)量份 3質(zhì)量份。<A7>如上述<A6>所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，每50 μ m見(jiàn)方的上述透明導(dǎo)電層具有10個(gè) 300個(gè)高度為30nm 200nm的突起。
<A8>如上述<A6>或<A7>項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，上述透明導(dǎo)電層的表面粗糙度Ra是20nm以下。<A9>如上述<A6> <A8>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，霧度是2% 以下。<A10>如上述<A6> <A9>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，上述金屬和/或半金屬元素是選自Al、Bi、Ca、Hf、In、Mg、Sb、Si、Sn、Ti、Y、Zn和Zr中的一個(gè)或多個(gè)元素。<A11> 一種電阻膜方式的透明觸摸面板，是至少在單面設(shè)有透明導(dǎo)電層的2張透明電極基板按照各自的透明導(dǎo)電層彼此相對(duì)的方式配置而構(gòu)成的透明觸摸面板，具有上述 <A1> <A10>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體作為至少一方的透明電極基板。<A12>—種電容方式的透明觸摸面板，具有上述透明導(dǎo)電性層僅配置于上述光學(xué)干涉層上的一部分而形成圖案的上述<A1> <A10>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體。<A13>如<A11>或<A12>所述的透明觸摸面板，其中，在上述透明觸摸面板的觀察側(cè)，偏振片直接或介由其它基材層疊在上述透明導(dǎo)電性層疊體上。另外，本申請(qǐng)發(fā)明人等為了解決上述課題進(jìn)行了研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在透明有機(jī)高分子基板的至少一側(cè)的面上順次層疊固化樹(shù)脂層、透明導(dǎo)電層而成的透明導(dǎo)電性層疊體中， 通過(guò)使從透明導(dǎo)電層側(cè)投射光時(shí)的反射光譜滿足特定條件，從而能夠抑制在透明觸摸面板中可看到透明導(dǎo)電性層的圖案而難以看到顯示光的問(wèn)題、即見(jiàn)骨，進(jìn)而完成了下述<B1> <B14>的第2方式的本發(fā)明。<B1>—種透明導(dǎo)電性層疊體，是在透明有機(jī)高分子基板的至少一側(cè)的面上順次層疊固化樹(shù)脂層、透明導(dǎo)電層而成的透明導(dǎo)電性層疊體，對(duì)于從上述透明導(dǎo)電性層疊體的透明導(dǎo)電層側(cè)投射波長(zhǎng)450nm 700nm的光時(shí)的反射光譜而言，上述透明導(dǎo)電性層疊體上的反射光譜與從上述透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜的差光譜滿足以下(B-al)和(B_a2)(B-al)上述差光譜的絕對(duì)值的最大值是3. 0%以下，并且(B-a2)上述差光譜是累計(jì)值是_200nm · % 200nm · %。<B2>如上述<B1>項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，在將上述透明有機(jī)高分子基板的折射率設(shè)為n3，將上述固化樹(shù)脂層的厚度和折射率分別設(shè)為d2(rim)和n2，且將上述透明導(dǎo)電層的厚度和折射率分別設(shè)為Cl1(Iim)和1^時(shí)，進(jìn)一步滿足以下(B-bl) (B-b3)(B^Dn1 > n2 > n3,(B-b2) 0. 44 < n2/ (%+ ) < 0. 49，并且(B-b3) 245 < n2d2/ (H1Cl1)12 < 275。<B3>如上述<B1>或<B2>項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，進(jìn)一步滿足以下 (B-c) (B-f)(B-c)上述固化樹(shù)脂層含有樹(shù)脂成分和平均一次粒徑Inm IOOnm的第1超微粒，(B-d)上述樹(shù)脂成分和上述第1超微粒含有相同的金屬和/或半金屬元素，(B-e)在上述固化樹(shù)脂層中，上述第1超微粒的含量相對(duì)于上述樹(shù)脂成分100質(zhì)量份是0. 01質(zhì)量份 3質(zhì)量份，并且(B-f)上述固化樹(shù)脂層的厚度是0. 01 μ m 0. 5 μ m。
<B4>如上述<B3>項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，(B_g)上述固化樹(shù)脂層進(jìn)一步含有平均一次粒徑Inm IOOnm且折射率比上述樹(shù)脂成分大的第2超微粒。<B5>如上述<B4>項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，上述固化樹(shù)脂層通過(guò)含有上述第2超微粒，從而與上述固化樹(shù)脂層不含第2超微粒的情況相比，上述固化樹(shù)脂層的折射率增加0.01以上。<B6>如上述<B3> <B5>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，每50 μ m見(jiàn)方的上述透明導(dǎo)電層具有10個(gè) 300個(gè)高度為30nm 200nm的突起。<B7>如上述<B3> <B6>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，上述透明導(dǎo)電層的表面粗糙度Ra是20nm以下。<B8>如上述<B1> <B7>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，總光線透射率在85%以上，且霧度在2%以下。<B9>如上述<B3> <B8>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，上述金屬和 /或半金屬元素是選自Al、Bi、Ca、Hf、In、Mg、釙、Si、Sn、Ti、Y、Zn和Zr中的一個(gè)或多個(gè)元
ο<B10>如上述<B1> <B9>中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，在上述透明有機(jī)高分子基板與上述固化樹(shù)脂層之間含有追加的固化樹(shù)脂層。<B11>如上述<B10>的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，上述追加的固化樹(shù)脂層的表面粗糙度Ra是20nm以上且小于500nm。<B12>如上述<B3> <B11>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，在上述透明導(dǎo)電層與上述固化樹(shù)脂層之間具有粘接層，且上述粘接層、固化樹(shù)脂層的樹(shù)脂成分、以及固化樹(shù)脂層的超微粒均含有相同的金屬和/或半金屬元素。<B13> —種透明觸摸面板，其特征在于，是配置有1張以上透明電極基板的電容方式的透明觸摸面板，所述透明電極基板至少在單面設(shè)有透明導(dǎo)電層；使用上述<B1> <B10>和<B12>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體作為至少一個(gè)透明電極基板。<B14> 一種透明觸摸面板，其特征在于，是至少在單面設(shè)有透明導(dǎo)電層的2張透明電極基板按照各自的透明導(dǎo)電層彼此相對(duì)的方式配置而構(gòu)成的電阻膜方式的透明觸摸面板，使用上述<B1> <B12>項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體作為至少一方的透明電極基板。<B15>如<B13>或<B14>所述的透明觸摸面板，其中，在上述透明觸摸面板的觀察側(cè)，偏振片直接或介由其它基材層疊在上述透明導(dǎo)電性層疊體上。依照本發(fā)明，可提供適合于與顯示元件組合使用的透明導(dǎo)電性層疊體。另外，依照本發(fā)明，可提供使用了這種透明導(dǎo)電性層疊體的透明觸摸面板，尤其是電阻膜方式或電容方式的透明觸摸面板。更具體而言，第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體是在透明有機(jī)高分子基板的至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層、光學(xué)干涉層、透明導(dǎo)電層而成，其中由于透明有機(jī)高分子基板的折射率與硬涂層的折射率的差小等，所以可以具有適合于與顯示元件組合使用的色調(diào)。另外，第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體，在使用該透明導(dǎo)電性層疊體的透明觸摸面板中，能夠抑制可看到透明導(dǎo)電性層的圖案而難以看到顯示光的問(wèn)題、即見(jiàn)骨。


[圖1]是用于說(shuō)明第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的圖。[圖2]是用于說(shuō)明圖1的第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中的干涉的圖。[圖3]是用于說(shuō)明以往的透明導(dǎo)電性層疊體的圖。[圖4]是用于說(shuō)明圖3的以往的透明導(dǎo)電性層疊體中的干涉的圖。[圖5]是用于說(shuō)明以往的透明導(dǎo)電性層疊體的圖。[圖6]是用于說(shuō)明圖5的以往的透明導(dǎo)電性層疊體中的干涉的圖。[圖7]是表示具有第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的透明觸摸面板的例子的圖。[圖8]是用于說(shuō)明第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的圖。[圖9]是用于說(shuō)明圖8的第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中的干涉的圖。[圖10]是用于說(shuō)明以往的透明導(dǎo)電性層疊體的圖。[圖11]是用于說(shuō)明圖10的以往的透明導(dǎo)電性層疊體中的干涉的圖。[圖12]是表示第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的例子的圖。[圖13]是實(shí)施例A3的透明導(dǎo)電性層疊體、以及從該透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜。[圖14]是比較例A5的透明導(dǎo)電性層疊體、以及從該透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜。[圖15]是圖13和圖14所示的各反射光譜的差光譜。[圖16]是實(shí)施例Bl的透明導(dǎo)電性層疊體、以及從透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜。[圖17]是比較例Bl的透明導(dǎo)電性層疊體、以及從透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜。[圖18]是圖16和圖17所示的各反射光譜的差光譜。[圖19]是表示實(shí)施例B16中得到的觸摸面板的結(jié)構(gòu)的圖。[圖20]是關(guān)于式(B-bl)，表示實(shí)施例和比較例的透明導(dǎo)電性層疊體的各層的厚度和折射率的關(guān)系的圖。[圖21]是關(guān)于式(B_b2)，表示實(shí)施例和比較例的透明導(dǎo)電性層疊體的各層的厚度和折射率的關(guān)系的圖。[圖22]是表示用AFM觀察參考例1的透明導(dǎo)電性層疊體表面形態(tài)的結(jié)果的圖。
具體實(shí)施例方式以下，說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式，但本發(fā)明不限定于以下的說(shuō)明?！兜?方式的本發(fā)明》如上所述，以往，在透明有機(jī)高分子基板的表面提供被稱為硬涂層的樹(shù)脂層。即如圖3所示，在透明有機(jī)高分子基板33的至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層3 和透明導(dǎo)電層 31來(lái)提供透明導(dǎo)電性層疊體30a。但是，如專利文獻(xiàn)1所述，已知該硬涂層33h由于透明有機(jī)高分子基板33表面的反射33R與透明導(dǎo)電性層31表面的反射31R的干涉而產(chǎn)生干涉斑。該干涉的效果例如如圖4所示。另外，如上所述，以往，為了達(dá)成對(duì)透明導(dǎo)電層所導(dǎo)致的反射和透射光著色的抑制，已采取在透明導(dǎo)電性層與透明有機(jī)高分子基板之間插入光學(xué)干涉層。因此，在使用硬涂層的方式中，當(dāng)進(jìn)一步使用光學(xué)干涉層來(lái)抑制透明導(dǎo)電層所導(dǎo)致的反射和透射光的著色時(shí)，如圖5所示，可想到在透明有機(jī)高分子基板33的至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層33h、 光學(xué)干涉層32、透明導(dǎo)電層31來(lái)提供透明導(dǎo)電性層疊體30b。對(duì)于該方式，例如如圖6所示，由光學(xué)干涉層抑制反射，由此可以提高整體的透射率。但是，關(guān)于對(duì)透明導(dǎo)電層導(dǎo)致的透射光著色的抑制、即對(duì)透射光的色調(diào)的調(diào)節(jié)，則因硬涂層導(dǎo)致的干涉而難以調(diào)節(jié)各個(gè)波長(zhǎng)的透射率，由此有時(shí)無(wú)法充分地抑制透明導(dǎo)電層所導(dǎo)致的透射光著色。應(yīng)予說(shuō)明，在圖6表示的狀態(tài)中，為了抑制由透明導(dǎo)電層導(dǎo)致的透射光著色而得到優(yōu)選的色調(diào)，需要設(shè)計(jì)光學(xué)干涉層以提高470nm左右波長(zhǎng)的光的透射率。對(duì)此，在第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中，如圖1所示，在透明有機(jī)高分子基板33的至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層33h、光學(xué)干涉層32、透明導(dǎo)電層31而成，進(jìn)而通過(guò)使硬涂層3 的折射率與透明有機(jī)高分子基板33的折射率的差充分小，從而可抑制硬涂層與透明有機(jī)高分子基板的界面處的反射。根據(jù)該本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體，可以達(dá)成基于光學(xué)干涉層的透射光色調(diào)的調(diào)節(jié)和透射率的提高。將該第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的干涉效果示于圖2?！从餐繉印档?方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體在透明有機(jī)高分子基板的至少一側(cè)的面上具有硬涂層、尤其是固化樹(shù)脂系硬涂層。該硬涂層的厚度是Iym ΙΟμπι，也可以是Ιμπι 5μπι$1μπι 3ym。其中，該硬涂層的折射率n3h相對(duì)于透明有機(jī)高分子基板的折射率n3滿足下述式， 即 n3-n3h 彡 0.02、尤其是 n3-n3h ^ 0. Ol0在波長(zhǎng)是550nm時(shí)折射率滿足上述式。另外，優(yōu)選在波長(zhǎng)是500nm 600nm的范圍時(shí)滿足上述式。特別優(yōu)選在400nm 700nm的范圍時(shí)滿足上述式。如上所述，該硬涂層通過(guò)滿足上述條件，從而抑制了硬涂層與透明有機(jī)高分子基板的界面處的反射，由此，可以達(dá)成基于光學(xué)干涉層的透射光色調(diào)的調(diào)節(jié)和透射率的提高。只要該硬涂層滿足上述條件，則可以用材料、尤其是熱固化樹(shù)脂、活性能量射線固化樹(shù)脂等來(lái)形成。其中，使用紫外線作為活性能量射線的紫外線固化型樹(shù)脂的生產(chǎn)率、經(jīng)濟(jì)性優(yōu)異，因而優(yōu)選。作為用于硬涂層的紫外線固化型樹(shù)脂，例如可舉出1，6_己二醇二丙烯酸酯、1， 4-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、二丙烯酸新戊二醇酯、1，4_ 丁二醇二甲基丙烯酸酯、聚(丁二醇)二丙烯酸酯、四甘醇二甲基丙烯酸酯、1，3_ 丁二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、三異丙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯以及雙酚A 二甲基丙烯酸酯之類的二丙烯酸酯類；三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇單羥基三丙烯酸酯以及三羥甲基丙烷三乙氧基三丙烯酸酯之類的三丙烯酸酯類；季戊四醇四丙烯酸酯以及二(三羥甲基丙烷)四丙烯酸酯之類的四丙烯酸酯類；以及二季戊四醇(單羥基)五丙烯酸酯之類的五丙烯酸酯類。作為用于硬涂層的紫外線固化型樹(shù)脂，除此之外，也可以使用5官能以上的多官能丙烯酸酯。這些多官能丙烯酸酯可以單獨(dú)使用1種，或混合2種以上同時(shí)使用。另外， 在這些丙烯酸酯類中，可以添加使用1種或2種以上的光引發(fā)劑、光敏化劑、流平劑、金屬氧化物或丙烯酸成分等形成的微?；虺⒘５鹊谌煞帧Ａ硗?，特別地，硬涂層所含的固化樹(shù)脂成分也可以是使用專利文獻(xiàn)1所示的化合物而得到的成分。S卩，硬涂層所含的固化樹(shù)脂成分可以是利用活性能量照射和/或熱使含有分子結(jié)構(gòu)中具有芴骨架的單體的涂覆組合物固化從而形成的成分。另外，具有芴骨架的該單體可以是下述式(b)表示的化合物、且可以通過(guò)活性能量射線照射硬涂層發(fā)生固化的單體。(在上述式(b)中，R1 &各自獨(dú)立地是碳原子數(shù)2 6的二價(jià)烴基，R3 R1。各自獨(dú)立地是選自氫原子、鹵原子和碳原子數(shù)1 6的一價(jià)烴基中的至少一種基團(tuán))?！垂鈱W(xué)干涉層〉第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中使用的光學(xué)干涉層可以按照以下的方式進(jìn)行選擇通過(guò)與其下的層、尤其是硬涂層之間的界面上的反射來(lái)得到光學(xué)性干涉，由此在透明導(dǎo)電性層疊體中可得到期望的總光線透射率和LW表色系的色度指數(shù)b*值。該光學(xué)干涉層的厚度是5nm 500nm、優(yōu)選是5 300nm、更優(yōu)選是5 200nm、進(jìn)一步優(yōu)選是5 lOOnm。另外，該光學(xué)干涉層特別是由樹(shù)脂構(gòu)成的樹(shù)脂系光學(xué)干涉層。光學(xué)干涉層可以按照以下的方式進(jìn)行選擇為了通過(guò)與其下的層、尤其是硬涂層之間的界面上的反射來(lái)得到光學(xué)性干涉，優(yōu)選光學(xué)干涉層與其下的層的折射率差是0. 05 以上，更優(yōu)選是0. 10以上，進(jìn)一步優(yōu)選是0. 15以上。另外，特別地，光學(xué)干涉層直接層疊在硬涂層上?！垂鈱W(xué)干涉層-光程長(zhǎng)〉如上所述，光學(xué)干涉層與硬涂層界面上的反射可以用于得到消除透明導(dǎo)電層所導(dǎo)致的反射和著色的干涉效果。其中，當(dāng)空氣的折射率Iitl、透明導(dǎo)電性層的折射率Ii1、光學(xué)干涉層的折射率112、硬涂層的折射率滿足H1 > n3h > n2 > n0的關(guān)系時(shí)，對(duì)于透明導(dǎo)電性層表面上的反射和硬涂層表面上的反射，相位均偏移半波長(zhǎng)。因此，對(duì)于從透明導(dǎo)電層側(cè)入射的光而言，優(yōu)選透明導(dǎo)電層表面上的反射與硬涂層表面上的反射的光程差是打算利用干涉來(lái)消除的光的波長(zhǎng)的約n+1/2倍(η是O或正整數(shù))。S卩，例如如果要得到消除透明導(dǎo)電層表面上對(duì)波長(zhǎng)470nm的光的反射的干涉效果， 硬涂層表面上反射的路徑的光程長(zhǎng)可以是470nmX (n+1/2)-70nm 470nmX (n+1/2)+70nm 的正范圍、即例如165nm 345nm或635nm 775nm，優(yōu)選是470nmX (n+1/2) -50nm 470nmX (n+1/2)+50nm的正范圍、即例如185nm 285nm或655nm 755nm，更優(yōu)選是 470nmX (n+1/2)_20nm 470nmX (n+1/2)+20nm 的正范圍、即例如 215nm 255nm 或
12685nm 725nm。另外，例如如果要得到消除透明導(dǎo)電層表面上對(duì)波長(zhǎng)550nm的光的反射的干涉效果，硬涂層表面上反射的路徑中的光程差可以是550nmX (n+1/2) -80nm 550nmX (n+l/2)+80nm的正范圍，優(yōu)選是550nmX (n+1/2)_50nm 550nmX (n+1/2)+50nm的正范圍，更優(yōu)選是 550nmX (n+1/2) _20nm 550nmX (n+1/2)+20nm 的正范圍。另外，當(dāng)空氣的折射率rv透明導(dǎo)電性層的折射率Ii1、光學(xué)干涉層的折射率112、硬涂層的折射率滿足H1 >n2> n3h > n0的關(guān)系時(shí)，對(duì)于透明導(dǎo)電性層表面上的反射，相位偏移半波長(zhǎng)，且對(duì)于硬涂層表面上的反射，相位不偏移。因此，對(duì)于從透明導(dǎo)電層側(cè)入射的光而言，優(yōu)選透明導(dǎo)電層表面上的反射與硬涂層表面上的反射的光程差是打算利用干涉來(lái)消除的光的波長(zhǎng)的約η倍(η是0或正整數(shù))。S卩，例如如果要得到消除透明導(dǎo)電層表面上對(duì)波長(zhǎng)470nm的光的反射的干涉效果，光學(xué)干涉層表面上反射的路徑中的光程差可以是470nmXn-70nm 470nmXn+70nm的正范圍、即例如 Onm 70nm 或 400nm 540nm，優(yōu)選是 470nmXn-50nm 470nmXn+50nm 的正范圍、即例如 Onm 50nm 或 420nm 520nm，更優(yōu)選是 470nmXn_20nm 470nmXn+20nm 的正范圍、即例如Onm 20nm或450nm 490nm的范圍。另外，例如如果要得到消除透明導(dǎo)電層表面上對(duì)波長(zhǎng)550nm的光的反射的干涉效果，光學(xué)干涉層表面上反射的路徑中的光程差可以是550nmXn-80nm 550nmXn+80nm的正范圍，優(yōu)選是550nmXn-50nm 550nmXn+50nm的正范圍，更優(yōu)選是550nmXn_20nm 550nmXn+20nm 的正范圍。依照上述干涉效果，可以調(diào)整透明導(dǎo)電性層疊體的色調(diào)。例如如上述計(jì)算例所示， 通過(guò)利用干涉效果來(lái)消除470nm左右的波長(zhǎng)的光(藍(lán)色光)的反射，可以調(diào)節(jié)LW表色系的色度指數(shù)b*值，將其控制在優(yōu)選-1. 0 1. 5、更優(yōu)選-0. 5 1. 5、進(jìn)一步優(yōu)選0 1. 5 的范圍。另外，通過(guò)利用干涉效果來(lái)消除作為可見(jiàn)光中心波長(zhǎng)的550nm左右的波長(zhǎng)的光的反射，可以改善透明導(dǎo)電性層疊體的透射率。其中，針對(duì)本發(fā)明，b*值是JIS Z8729所定義的LW表色系的色度指數(shù)b*值，是根據(jù)JIS Z8722號(hào)、以透射模式測(cè)量的值。應(yīng)予說(shuō)明，在b*值的測(cè)定中，采用日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn) Z8720所規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)光D65作為光源，在2度視野的條件下進(jìn)行測(cè)定。作為參考，透明導(dǎo)電性層疊體的各層表面上的反射率、以及這些反射時(shí)的光程長(zhǎng)可以用圖5并如下所示進(jìn)行計(jì)算。應(yīng)予說(shuō)明，在該圖5中，以往的透明導(dǎo)電性層疊體30b 是在透明有機(jī)高分子基板33(厚度d3、折射率n3)的至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層 33h (厚度d3h、折射率:n3h)、光學(xué)干涉層32 (厚度d2、折射率:n2)、透明導(dǎo)電層31 (厚度 Cl1、折射率=Ii1)而成。透明導(dǎo)電層31表面上的反射3IR的反射率R1、光學(xué)干涉層32表面上的反射32R 的反射率&、硬涂層3 表面上的反射33hR的反射率R3h以及透明有機(jī)高分子基板33表面上的反射33R的反射率R3各自通?？捎上率鍪絹?lái)計(jì)算( 空氣的折射率)。Ri =(no、)2/'(η0+ηι)2 (式 1)
R2 =(Ii1-Ii2)2/'(ηι+η2)2 (式 2)
R3h =(n2-n3h)V(n2+n3h)2(^3h)
R3 =(n3h-n3)2./(ηΛ+η3)2(式 3)
另外，透明導(dǎo)電層31表面上的反射31R與硬涂層3 表面上的反射33hR的光程差D33M-31K、以及透明導(dǎo)電層31表面上的反射31R與透明有機(jī)高分子基板33表面上的反射 33R的光程差D K各自可由下述式來(lái)計(jì)算。D33hE-3iE = (Cl1 X Ii^d2 X n2) X 2 (式 4)D33E-3ie = (Cl1Xn^d2XnfdaXn3h) X2(式 5)〈用途〉第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體可用作透明觸摸面板的透明電極基板。特別地，本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體，是至少在單面設(shè)有透明導(dǎo)電層的2張透明電極基板按照各自的透明導(dǎo)電層彼此相對(duì)的方式配置而構(gòu)成的電阻膜方式透明觸摸面板，可用作可動(dòng)和 /或固定電極基板用透明電極基板。如圖7所示，該第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的一種方式是在透明有機(jī)高分子基板(16)的至少一側(cè)的面上順次層疊光學(xué)干涉層(1 和透明導(dǎo)電層(14)而形成的透明導(dǎo)電性層疊體(14、15、16)。在該圖1表示的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的一種方式中， 本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體(14、15、16)可以與具有透明導(dǎo)電層(12)的玻璃板這樣的其它基板(11)按照各自的透明導(dǎo)電層(12、14)彼此相對(duì)的方式配置，在它們之間配置間隔件 (13)，從而形成電阻膜方式的透明觸摸面板00)。另外特別地，第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體也適合用作電容方式的觸摸面板的透明電極基板。此時(shí)，透明導(dǎo)電性層疊體的透明導(dǎo)電性層僅配置于光學(xué)干涉層上的一部分而形成圖案。如上所述，對(duì)于該用途，在以往的透明導(dǎo)電性層中，存在以下問(wèn)題有透明導(dǎo)電性層的部分和沒(méi)有的部分的顯示光的透射率不同，由此可看到透明導(dǎo)電性層的圖案而很難看到顯示光(“見(jiàn)骨”)。對(duì)此，在第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中，通過(guò)透明有機(jī)高分子基板的折射率與硬涂層的折射率的差小，且存在光學(xué)干涉層，從而可抑制該見(jiàn)骨，特別對(duì)于從透明導(dǎo)電性層疊體的透明導(dǎo)電層側(cè)投射波長(zhǎng)450nm 700nm的光時(shí)的反射光譜而言，通過(guò)透明導(dǎo)電性層疊體的反射光譜與從透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜的差光譜滿足(A-gl)和(A-g》，從而可以抑制見(jiàn)骨的問(wèn)題(A-gl)上述差光譜的絕對(duì)值的最大值在3.0%以下、優(yōu)選是在2.0以下，并且(A-g2)上述差光譜的累計(jì)值是_200nm · % 200nm · %，優(yōu)選是_170nm · % 170nm· %，更優(yōu)選是 _150nm · % 150nm · %。以上，例如可用圖8 11進(jìn)行說(shuō)明。S卩，以往的結(jié)構(gòu)中希望利用光學(xué)干涉層來(lái)消除該見(jiàn)骨時(shí)，導(dǎo)電性層疊體可以具有如圖10所示的結(jié)構(gòu)。其中，在該導(dǎo)電性層疊體30c中，在透明有機(jī)高分子基板33的至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層33h、光學(xué)干涉層32，透明導(dǎo)電層31僅配置于光學(xué)干涉層32上的一部分而形成圖案。此時(shí)，不存在透明導(dǎo)電性層31的部分中的透明有機(jī)高分子基板33表面上的反射 33R’和硬涂層3 表面上的反射33hR’與存在透明導(dǎo)電性層31的部分中的對(duì)應(yīng)的反射33R 和反射33hR相比，均是僅不存在透明導(dǎo)電性層31的部分的光程長(zhǎng)度變短。將該圖10所示結(jié)構(gòu)中不存在透明導(dǎo)電性層31的部分、和存在透明導(dǎo)電性層31的部分的干涉效果示于圖11。另外，將此時(shí)的干涉效果之差也示于圖11。從該圖11可知，在圖10表示的結(jié)構(gòu)中，干涉效果之差隨著波長(zhǎng)而變化，因此以顏色或亮度不同的形式觀察到不存在透明導(dǎo)電性層31的部分和存在透明導(dǎo)電性層31的部分，因而發(fā)生見(jiàn)骨。對(duì)此，如圖8所示，在本發(fā)明結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電性層疊體中，在透明有機(jī)高分子基板33的至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層33h、光學(xué)干涉層32，透明導(dǎo)電層31僅配置于光學(xué)干涉層上的一部分而形成圖案。另外，在本發(fā)明結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電性層疊體中，透明有機(jī)高分子基板33 的折射率與硬涂層3 的折射率的差小，因此實(shí)質(zhì)上不發(fā)生透明有機(jī)高分子基板33和硬涂層33h的界面上的反射。此時(shí)，不存在透明導(dǎo)電性層31的部分中的透明有機(jī)高分子基板33表面上的反射 33R’和硬涂層3 表面上的反射33hR’與存在透明導(dǎo)電性層31的部分中的對(duì)應(yīng)的反射33R 和反射33hR相比，均是僅不存在透明導(dǎo)電性層31的部分的光程長(zhǎng)度變短。將該圖8表示的結(jié)構(gòu)中的不存在透明導(dǎo)電性層31的部分、以及存在透明導(dǎo)電性層 31的部分的干涉效果示于圖9。另外，將此時(shí)的干涉效果之差也示于圖9。從該圖9中可知， 在圖8表示的結(jié)構(gòu)中，隨著波長(zhǎng)的變化，干涉效果之差的變化平穩(wěn)，因此通過(guò)減小該干涉效果之差的絕對(duì)值，且減小可見(jiàn)光區(qū)域中的干涉效果的累計(jì)值，從而能夠抑制見(jiàn)骨。另外，第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體適合用作在透明觸摸面板的觀察側(cè)直接或介由其它基材層疊偏振片來(lái)控制透明電極基板的相位差、從而降低觸摸面板內(nèi)的反射率的所謂內(nèi)置型觸摸面板用透明電極基板，例如內(nèi)置型電阻膜方式或電容方式的觸摸面板用透明電極基板?！磳盈B順序〉在第1方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中，透明導(dǎo)電層、任意的金屬化合物層、光學(xué)干涉層、硬涂層、以及任意追加的硬涂層的層疊順序只要是在透明有機(jī)高分子基板的至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層、光學(xué)干涉層、透明導(dǎo)電層，由此根據(jù)用途完成期待實(shí)現(xiàn)的功能，則沒(méi)有特別地限定。例如，將本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體用作觸摸面板用基板時(shí)，如果將透明導(dǎo)電層設(shè)為A、將金屬化合物層設(shè)為B、將光學(xué)干涉層設(shè)為C、將硬涂層設(shè)為Dh、將透明有機(jī)高分子基板設(shè)為D、將追加的硬涂層設(shè)為E，則可以按照A/C/Dh/D、A/C/Dh/D/E、A/C/ Dh/D/C、A/C/Dh/D/C、A/C/Dh/D/E、A/C/Dh/D/E/C、A/B/C/Dh/D、A/B/C/Dh/D/E、A/B/C/Dh/D/ C、A/B/C/Dh/D/C、A/B/C/Dh/D/E、A/B/C/Dh/D/E/C 的方式進(jìn)行層疊?！兜?方式的本發(fā)明》第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體是在透明有機(jī)高分子基板的至少一側(cè)的面上順次層疊固化樹(shù)脂層、透明導(dǎo)電層而成的透明導(dǎo)電性層疊體。如圖12所示，該本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體的一種方式是在透明有機(jī)高分子基板133的至少一側(cè)的面上順次層疊固化樹(shù)脂層132和透明導(dǎo)電層131而成的透明導(dǎo)電性層疊體130。另外，在第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中，對(duì)于從透明導(dǎo)電性層疊體的透明導(dǎo)電層側(cè)投射波長(zhǎng)450nm 700nm的光時(shí)的反射光譜而言，透明導(dǎo)電性層疊體上的反射光譜與從透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜的差光譜滿足以下(B-al)和 (B-a2)(B-al)上述差光譜的絕對(duì)值的最大值是3. 0%以下，優(yōu)選是2. 0以下，并且(B-a2)上述差光譜是累計(jì)值是_200nm · % 200nm· %，優(yōu)選是_170nm· % 170nm· %，更優(yōu)選是 _150nm · % 150nm · %。
在第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中，通過(guò)透明導(dǎo)電性層疊體上的反射光譜與從透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜的差光譜滿足(B-al)和(B_a2)， 從而能夠抑制見(jiàn)骨問(wèn)題。例如通過(guò)在將透明有機(jī)高分子基板的折射率設(shè)為n3，將上述固化樹(shù)脂層的厚度和折射率分別設(shè)為d2(nm)和n2，且將上述透明導(dǎo)電層的厚度和折射率分別設(shè)為Cl1(Iim)和Ii1 時(shí)，該差光譜進(jìn)一步滿足以下(B-bl) (B-b3)，從而能夠達(dá)成(B^Dn1 > n2 > n3,(B-b2) 0. 44 < n2/ (Ii^n3) < 0. 49、優(yōu)選 0. 45 < n2/ (Ii^n3) < 0. 48，并且(B-b3) 245 < n2d2/(叫屯)…·12 < 275、優(yōu)選 255 < n2d2/(叫屯)…·12 < 265。〈追加的固化樹(shù)脂層〉本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體根據(jù)用途可以進(jìn)一步具有單獨(dú)或多個(gè)追加的固化樹(shù)脂層。該追加的固化樹(shù)脂層可以配置在本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體的任意位置，即可以配置在構(gòu)成本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的透明有機(jī)高分子基板、固化樹(shù)脂層、以及透明導(dǎo)電層的任意層之間或之上。因此，該追加的固化樹(shù)脂層可以是構(gòu)成透明有機(jī)高分子基板表面的所謂的硬涂層、尤其可以是不含有微粒等的透明硬涂層。追加的固化樹(shù)脂層可以用熱固化樹(shù)脂、活性能量射線固化樹(shù)脂等形成。其中，使用紫外線作為活性能量射線的紫外線固化型樹(shù)脂的生產(chǎn)率、經(jīng)濟(jì)性優(yōu)異，因而優(yōu)選。作為用于追加的固化樹(shù)脂層的紫外線固化型樹(shù)脂，例如可舉出1，6_己二醇二丙烯酸酯、1，4_ 丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1，4_ 丁二醇二甲基丙烯酸酯、聚(丁二醇)二丙烯酸酯、四甘醇二甲基丙烯酸酯、1，3_ 丁二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、三異丙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯以及雙酚A 二甲基丙烯酸酯之類的二丙烯酸酯類；三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇單羥基三丙烯酸酯以及三羥甲基丙烷三乙氧基三丙烯酸酯之類的三丙烯酸酯類；季戊四醇四丙烯酸酯以及二 (三羥甲基丙烷)四丙烯酸酯之類的四丙烯酸酯類；以及二季戊四醇(單羥基)五丙烯酸酯之類的五丙烯酸酯類。作為用于追加的固化樹(shù)脂層的紫外線固化型樹(shù)脂，除此之外，也可以使用5官能以上的多官能丙烯酸酯。這些多官能丙烯酸酯可以單獨(dú)使用1種、或混合2種以上同時(shí)使用。另外，在這些丙烯酸酯類中，可以添加使用1種或2種以上的光引發(fā)劑、光敏化劑、流平劑、金屬氧化物或丙烯酸成分等形成的微?；虺⒘５鹊谌煞帧榱藢?duì)本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體賦予抗牛頓環(huán)功能，追加的固化樹(shù)脂層可以形成凹凸。作為形成凹凸的方法，可以使用已提出的各種方法。即，例如可舉出在追加的固化樹(shù)脂層內(nèi)添加具有與膜厚同程度的粒子系的填充物的方法(特開(kāi)平10-323931號(hào)公報(bào))、利用納米粒子形成凹凸的方法(特開(kāi)2004-351744號(hào)公報(bào))、利用多種固化成分所產(chǎn)生的相分離來(lái)形成凹凸的方法(特開(kāi)2009-123685號(hào)公報(bào))等。其中，添加填充物的方法，在用作電阻膜式的觸摸面板時(shí)，可能在使用中發(fā)生填充物從透明導(dǎo)電性層疊體的脫落，結(jié)果損傷透明電極，從而導(dǎo)致觸摸面板的壽命下降，所以優(yōu)選利用納米粒子的凝聚來(lái)形成凹凸的方法、 利用基于多種固化成分的相分離來(lái)形成凹凸的方法?！从猛尽档?方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體也特別適合用作電容方式的觸摸面板用透明電極基板。因此，本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體，特別在配置1張以上的至少在單面設(shè)有透明導(dǎo)電層的透明電極基板的電容方式透明觸摸面板中，可用作至少一個(gè)透明電極基板。此時(shí)，透明導(dǎo)電性層疊體的透明導(dǎo)電性層可以僅配置于固化樹(shù)脂層上的一部分而形成圖案。另外，第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體也特別適合用作電阻膜方式的觸摸面板用透明電極基板。因此，第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體，特別在至少在單面設(shè)有透明導(dǎo)電層的2張透明電極基板按照各自的透明導(dǎo)電層彼此相對(duì)的方式配置而構(gòu)成的電阻膜方式透明觸摸面板中，可用作至少一個(gè)透明電極基板。此時(shí)，透明導(dǎo)電性層疊體的透明導(dǎo)電性層可以僅配置于固化樹(shù)脂層上的一部分而形成圖案。另外，第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體可適合用作在透明觸摸面板的觀察側(cè)直接或介由其它基材層疊偏振片來(lái)控制透明電極基板的相位差、從而降低觸摸面板內(nèi)的反射率的所謂內(nèi)置型觸摸面板用透明電極基板，例如內(nèi)置型電阻膜方式或電容方式觸摸面板用透明電極基板?！磳盈B順序〉在第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中，透明導(dǎo)電層、任意的金屬化合物層、固化樹(shù)脂層、以及任意的追加的固化樹(shù)脂層的層疊順序只要是在透明有機(jī)高分子基板的至少一側(cè)的面上順次層疊固化樹(shù)脂層、透明導(dǎo)電層，由此根據(jù)用途完成期待實(shí)現(xiàn)的功能，則沒(méi)有特別地限定。例如將本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體用作觸摸面板用基板時(shí)，當(dāng)將透明導(dǎo)電層設(shè)為A、金屬化合物層設(shè)為B、固化樹(shù)脂層設(shè)為C、透明有機(jī)高分子基板設(shè)為D、追加的固化樹(shù)脂層設(shè)為 E 時(shí)，可以按照 A/C/D、A/C/D/E、A/C/D/C、A/C/E/D/C、A/C/E/D/E、A/C/E/D/E/C、 A/B/C/D、A/B/C/D/E、A/B/C/D/C、A/B/C/E/D/C、A/B/C/E/D/E、A/B/C/E/D/E/C 的方式進(jìn)行層置。《透明有機(jī)高分子基板》第1和第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中用到的透明有機(jī)高分子基板可以是任意的透明有機(jī)高分子基板，尤其是光學(xué)領(lǐng)域中使用的耐熱性、透明性等優(yōu)異的透明有機(jī)高分子基板。作為第1和第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中用到的透明有機(jī)高分子基板， 例如可舉出由聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物；聚碳酸酯系聚合物；二乙?；w維素、三乙?；w維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物等的透明聚合物形成的基板。另外，作為用于本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的透明有機(jī)高分子基板，也可舉出由聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物；聚乙烯、聚丙烯、具有環(huán)狀或冰片烯結(jié)構(gòu)的聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等烯烴系聚合物；氯乙烯系聚合物；以尼龍或芳香族聚酰胺為代表的酰胺系聚合物等的透明聚合物形成的基板。另外，作為用于本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的透明有機(jī)高分子基板，也可舉出由酰亞胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯基醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、烯丙酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環(huán)氧系聚合物、以及上述聚合物的混合物等的透明聚合物形成的基板等。對(duì)于第1和第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的用途而言，在這些透明有機(jī)高分子基板中，可以根據(jù)用途適當(dāng)選擇光學(xué)性雙折射少的基板，或?qū)⒆鳛殡p折射與膜厚度的積的相位差控制在可見(jiàn)光的波長(zhǎng)的1/4或1/2左右的基板(稱為“ λ /4膜”或“ λ /2膜”)，以及完全不控制雙折射的基板。作為這里所說(shuō)根據(jù)用途進(jìn)行適當(dāng)選擇的情況，可舉出如下情況，例如使用本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體作為具備用于液晶顯示器的偏振片或相位差膜、有機(jī)EL顯示器的防反射用偏振片或相位差膜等功能的所謂內(nèi)置型觸摸面板之類的利用直線偏光、橢圓偏光、圓偏光等偏光實(shí)現(xiàn)功能的顯示器部件?？蛇m當(dāng)決定透明高分子基板的膜厚，但通常從強(qiáng)度、操作性等作業(yè)性等方面考慮， 是10 500 μ m左右，特別是優(yōu)選20 300 μ m、更優(yōu)選30 200 μ m?！豆鈱W(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層》<光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層-材料以及制造方法>作為第1方式的本發(fā)明光學(xué)干涉層、尤其是樹(shù)脂系光學(xué)干涉層，以及第2方式的固化樹(shù)脂層的形成方法，特別優(yōu)選使用濕式法的形成，例如可以使用刮膠刀(doctor knife)、 棒涂機(jī)、凹版輥涂機(jī)、簾式涂布機(jī)、刮刀(knife)涂布機(jī)、旋涂法、噴涂法、浸漬法等公知的所有方法。對(duì)于具體的樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層，例如可參照專利文獻(xiàn)2的記載。S卩，這些樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層可以由以微型凹版法、邁爾棒涂布法、直接凹版涂布法等為代表的各種輥涂覆法、刮刀涂布法、簾式涂布法、旋涂法、噴涂法等濕式涂覆法，以及它們的并用來(lái)制造。作為該樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層，從得到高的生產(chǎn)率的觀點(diǎn)看，特別優(yōu)選使用尤其是利用濕式涂覆法的樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層，另外，在利用濕式涂覆的樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層中，從層的機(jī)械強(qiáng)度、穩(wěn)定性、與透明導(dǎo)電層和基板等的密合性等優(yōu)異的觀點(diǎn)出發(fā)，最優(yōu)選使用由金屬醇鹽尤其是鈦、鋯或硅的醇鹽形成的樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層。其中，鈦和鋯的醇鹽的樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層發(fā)揮作為折射率達(dá)到約1. 6以上、有時(shí)達(dá)到約1. 7以上的高折射率層的功能，硅醇鹽的樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層發(fā)揮作為折射率約為1. 5以下的低折射率層的功能。作為鈦醇鹽，例如可例示四異丙氧基鈦、原鈦酸四正丙酯等。另外，作為硅醇鹽，例如可例示四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷等。應(yīng)予說(shuō)明，樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層不僅可含有固化樹(shù)脂成分，而且可進(jìn)一步以能夠配合的任意量含有平均一次粒徑IOOnm以下的超微粒來(lái)調(diào)節(jié)折射率。作為該超微粒的材料，涉及表面具有細(xì)微突起的樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層，可舉出如下所述的材料。<表面具有細(xì)微突起的光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層>在第1方式的本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體的一種方式中，(A-p)光學(xué)干涉層含有樹(shù)脂成分和平均一次粒徑Inm IOOnm以下的第1超微粒，(A-q)樹(shù)脂成分和第1超微粒含有相同的金屬和/或半金屬元素，并且滿足(A-r)在光學(xué)干涉層中，含有與樹(shù)脂成分相同的金屬和/或半金屬元素的第1超微粒的含量相對(duì)于樹(shù)脂成分100質(zhì)量份是0. 01質(zhì)量份 3質(zhì)量份。在第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體的一種方式中，滿足(B-C)固化樹(shù)脂層含有樹(shù)脂成分和平均一次粒徑Inm IOOnm的第1超微粒，(B_d)樹(shù)脂成分和第1超微粒含有相同的金屬和/或半金屬元素，(B-e)在固化樹(shù)脂層中，第1超微粒的含量相對(duì)于樹(shù)脂成分 100質(zhì)量份是0. 01質(zhì)量份 3質(zhì)量份，以及(B-f)固化樹(shù)脂層的厚度是0. 01 0. 5 μ m。在這些方式中，在透明導(dǎo)電層表面形成微小的突起，由此可提供高透明性、低霧度和充分的易滑動(dòng)性的組合。雖然具體機(jī)理尚不明確，但可認(rèn)為，透明導(dǎo)電層表面的微小突起是如下形成的通過(guò)樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層的樹(shù)脂成分和第1超微粒含有相同的金屬和/或半金屬元素，從而在樹(shù)脂成分的固化期間，樹(shù)脂成分與第1超微粒發(fā)生某種相互作用，在樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層表面形成微小的突起，該突起被反映在樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層上的透明導(dǎo)電性層的表面，從而形成透明導(dǎo)電層表面的微小突起。如果透明導(dǎo)電層是平滑的，則膜之間發(fā)生粘附，因而操作性、彎曲性變差。另外，由于發(fā)生由電阻膜方式觸摸面板的膜之間的貼附所引起的粘連，所以書(shū)寫(xiě)耐久性下降，但對(duì)于本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體而言，由于表面形成了微小的突起，所以具有良好的操作性、 彎曲性，且具有高的書(shū)寫(xiě)耐久性。另外，在使用由含有具有亞微米程度粒徑的微粒的樹(shù)脂制造的易滑動(dòng)層時(shí)，如上所述該微粒是使觸摸面板的書(shū)寫(xiě)耐久性下降的原因，但本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體由于含有非常小的粒徑的第1超微粒，通過(guò)該第1超微粒和樹(shù)脂成分的相互作用形成突起，所以不會(huì)使書(shū)寫(xiě)耐久性下降。其中，樹(shù)脂成分和第1超微粒兩者所含的“金屬和/或半金屬元素”沒(méi)有特別地限定，優(yōu)選是選自Al、Bi、Ca、Hf、In、Mg、Sb、Si、Sn、Ti、Y、Zn和Zr中的一個(gè)或多個(gè)元素，更優(yōu)選是選自Al、Si和Ti中的一個(gè)或多個(gè)元素，進(jìn)一步優(yōu)選是Si和/或Ti。<表面有細(xì)微突起的光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層-固化樹(shù)脂成分>作為固化性樹(shù)脂成分，只要是能夠使超微粒分散、在樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層形成后作為皮膜具有充分的強(qiáng)度、具有透明性、且含有與超微粒相同的金屬和/或半金屬元素的成分，則可以沒(méi)有特別限制地使用。因此，例如作為固化性樹(shù)脂成分，可使用聚合性的有機(jī)金屬化合物，尤其是含金屬丙烯酸酯、金屬醇鹽等。作為固化性樹(shù)脂成分，例如可舉出電離放射線固化型樹(shù)脂、熱固化型等。作為形成電離放射線固化型樹(shù)脂的單體，例如可舉出多元醇丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯，上述以外的形成硬化層的聚氨酯丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯、改性苯乙烯丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯、含硅丙烯酸酯等的單官能和多官能丙烯酸酯。作為形成含Si的電離放射線固化型樹(shù)脂的單體，例如可舉出甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、三(三甲基硅氧基)甲硅烷基丙基甲基丙烯酸酯、烯丙基三甲基硅烷、二烯丙基二苯基硅烷、甲基苯基乙烯基硅烷、甲基三烯丙基硅烷、苯基三烯丙基硅烷、四烯丙基硅烷、四乙烯基硅烷、三烯丙基硅烷、三乙基乙烯基硅烷、乙烯基三甲基硅烷、1，3-二甲基-1，1，3，3-四乙烯基二硅氧烷、二乙烯基四甲基二硅氧烷、乙烯基三(三甲基硅氧基)硅烷、乙烯基甲基雙(三甲基硅氧基)硅烷、N-(三甲基甲硅烷基)烯丙基胺、兩末端具有雙鍵的聚二甲基硅氧烷、含硅丙烯酸酯。應(yīng)予說(shuō)明，在利用電離放射線進(jìn)行樹(shù)脂層的聚合時(shí)，通常適量添加光聚合引發(fā)劑， 另外根據(jù)需要也可以適量添加光敏化劑。作為該光聚合引發(fā)劑，可舉出苯乙酮、二苯甲酮、 二苯乙醇酮、苯甲酸酐、硫雜蒽酮類等，作為光敏化劑，可舉出三乙胺、三正丁基膦等。作為熱固化型樹(shù)脂，例如可舉出烷氧基硅烷系化合物等有機(jī)硅烷系熱固化型樹(shù)脂、烷氧基鈦系熱固化型樹(shù)脂、以醚化羥甲基三聚氰胺等為單體的三聚氰胺系熱固化型樹(shù)脂、異氰酸酯系熱固化型樹(shù)脂、酚醛系熱固化型樹(shù)脂、環(huán)氧固化型樹(shù)脂等?？梢詥为?dú)使用這些熱固化型樹(shù)脂或者組合多種使用。另外根據(jù)需要，也可以在熱固化型樹(shù)脂中混合熱塑性
19樹(shù)脂。作為有機(jī)硅烷系熱固化型樹(shù)脂，優(yōu)選使用乙烯基三氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、 乙烯基三乙氧基硅烷、2-(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、對(duì)苯乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基三乙氧基硅烷、3-三乙氧基甲硅烷基-N-(l，3- 二甲基丁叉基)丙基胺、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、Ν-(乙烯基芐基)-2-氨基乙基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷鹽酸鹽、3-脲基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、 3-巰基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷、雙(三乙氧基甲硅烷基丙基) 四硫化物、3-異氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、六甲基二硅氮烷、己基三甲氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷等。其中，從得到與基板的密合性的穩(wěn)定化的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用發(fā)揮穩(wěn)定性能的甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷等。作為烷氧基鈦系熱固化型樹(shù)脂，優(yōu)選使用四異丙基鈦酸酯、四正丁基鈦酸酯、丁基鈦酸酯二聚物、四O-乙基己基)鈦酸酯、四甲基鈦酸酯、乙酰丙酮根合鈦、四乙酰丙酮根合鈦、乙酰乙酸乙酯合鈦、辛二醇根合鈦、乳酸根合鈦、三乙醇胺根合鈦、多羥基硬脂酸根合鈦等。其中，從作為涂料的穩(wěn)定性、得到與基板的密合性的穩(wěn)定化的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用發(fā)揮穩(wěn)定性能的四異丙基鈦酸酯、四正丁基鈦酸酯、乳酸根合鈦等。應(yīng)予說(shuō)明，在利用熱進(jìn)行樹(shù)脂層的交聯(lián)時(shí)，可以適量配合反應(yīng)促進(jìn)劑和/或固化劑。作為反應(yīng)促進(jìn)劑，例如可舉出三亞乙基二胺、二月桂酸二丁基錫、芐基甲基胺、吡啶等。另外，作為固化劑，例如可舉出甲基六氫鄰苯二甲酸酐、4，4' - 二氨基二苯基甲烷、4， 4' - 二氨基-3，3' - 二乙基二苯基甲烷、二氨基二苯基砜等。在形成樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層的單體含有與超微粒相同的金屬和/或半金屬元素時(shí)，這些單體可以單獨(dú)使用，或和其它單體組合、例如和不含有與超微粒相同的金屬和/或半金屬元素的單體組合使用。應(yīng)予說(shuō)明，樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層也可以含有流平劑、光敏化劑等其它成分。<表面具有細(xì)微突起的光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層-超微粒/第1超微粒>樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層所含的平均一次粒徑Inm IOOnm的第1超微粒只要含有與樹(shù)脂成分相同的金屬和/或半金屬元素則沒(méi)有本質(zhì)上的限定，但優(yōu)選使用金屬氧化物或金屬氟化物。作為金屬氧化物和金屬氟化物，可以優(yōu)選使用選自Al203、Bi203、CaF2、 In2O3> In2O3 · SnO2> Hf02、La2O3> MgF2、Sb2O5^ Sb2O5 · SnO2> Si02、SnO2> Ti02、Y203、ZnO 和 ZrO2 中的至少一種，可特別優(yōu)選使用A1203、SiO2, Ti02。因而，例如在樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層的樹(shù)脂成分是由烷氧基硅烷形成的樹(shù)脂成分時(shí)，可以使用S^2的第ι超微粒。另外例如，在樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層的樹(shù)脂成分是由烷氧基鈦形成的樹(shù)脂成分時(shí)，可以使用TiO2的第ι超微粒。
樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層所含的第1超微粒的粒徑是Inm lOOnm，優(yōu)選是 Inm 70nm，更優(yōu)選是Inm 50nm，進(jìn)一步優(yōu)選是5nm 40nm。第1超微粒的粒徑過(guò)大時(shí)， 容易發(fā)生光散射，因而不優(yōu)選。第1超微粒的粒徑過(guò)小時(shí)，由于粒子的比表面積增大，所以促進(jìn)粒子表面的活性化，粒子之間的凝聚性顯著提高，由此溶液的制備、保存變得困難，因而不優(yōu)選。樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層所含的第1超微粒只要滿足本發(fā)明的特性，則可以用偶聯(lián)劑等進(jìn)行表面修飾。另外，第1超微粒的制造法可采用液相法、氣相法等作為方法，但對(duì)這些制造方法也沒(méi)有特別限制。在固化樹(shù)脂中使上述第1超微粒分散的配合比有必要是相對(duì)于固化后的樹(shù)脂成分100質(zhì)量份、第1超微粒為0. 01質(zhì)量份 3質(zhì)量份，優(yōu)選為0. 01質(zhì)量份 2. 5質(zhì)量份， 更優(yōu)選為0. 05質(zhì)量份 2質(zhì)量份，進(jìn)一步優(yōu)選為0. 1質(zhì)量份 1質(zhì)量份。第1超微粒過(guò)少時(shí)，很難形成對(duì)本發(fā)明用途必要的表面具有突起的樹(shù)脂層。另一方面，該比例過(guò)大時(shí)，表面的突起變大，在表面發(fā)生光的散射，由此霧度增大，因而不優(yōu)選。另外，本發(fā)明的樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層的表面的突起也依賴于所使用的第1超微粒的觸變性。因此，出于發(fā)現(xiàn)或控制觸變性的目的，在形成光學(xué)干涉層時(shí)，可對(duì)溶劑、分散劑進(jìn)行適當(dāng)選擇后使用。作為溶劑，例如可使用醇系、芳香族系、酮系、乳酸酯 (lactate)系、溶纖劑系、二元醇系等各種。作為分散劑，例如可使脂肪酸胺系、磺酰胺系、 ε -己內(nèi)酯系、氫化硬脂酸系、多羧酸系、聚酯胺等各種。這些溶劑、分散劑各自可單獨(dú)使用或組合2種以上使用。<固化樹(shù)脂層-第2超微粒>在第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中，固化樹(shù)脂層所含有的平均一次粒徑 Inm IOOnm的第2超微?？梢跃哂斜裙袒瘶?shù)脂層所含有的樹(shù)脂成分大的折射率。另外特別地，與固化樹(shù)脂層不含有第2超微粒的情況相比，該第2超微?？梢允构袒瘶?shù)脂層的折射率增加。關(guān)于第2超微粒的具體材料、粒徑、表面修飾、制造法等，可參照第1超微粒中的上述記載。例如，在固化樹(shù)脂層含有有機(jī)硅化合物作為樹(shù)脂成分且含有二氧化硅(SiO2)作為第1超微粒的一種方式中，固化樹(shù)脂層的折射率約為1. 50。此時(shí)，可選擇氧化鈦(折射率 2. 4)等折射率大的超微粒作為第2超微粒。在固化樹(shù)脂中使上述第2超微粒分散的配合比可以在能夠配合的范圍任意確定。 因此，該配合比例如可以是相對(duì)于固化后的樹(shù)脂成分100質(zhì)量份，第2超微粒為1質(zhì)量份以上、10質(zhì)量份以上或30質(zhì)量份以上且500質(zhì)量份以下、400質(zhì)量份以下、300質(zhì)量份以下、 200質(zhì)量份以下或150質(zhì)量份以下。第2超微粒過(guò)少時(shí)，固化樹(shù)脂層的折射率變化變小。另一方面，該比例過(guò)大時(shí)，膜形成有時(shí)變難、且霧度有時(shí)增大。例如，在固化樹(shù)脂中使上述第2超微粒分散的配合比可如下進(jìn)行選擇通過(guò)固化樹(shù)脂層含有第2超微粒，與固化樹(shù)脂層不含第2超微粒的情況相比，固化樹(shù)脂層的折射率增加0. 01以上、0. 02以上、0. 03以上、0. 04以上、0. 05以上、0. 06以上、0. 07以上、0. 08以上或0. 10以上。由此，固化樹(shù)脂層的折射率可以是1. 55以上、1. 60以上或1. 65以上且1. 85以下、 1. 80以下或1. 75以下。
<表面具有細(xì)微突起的光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層-膜厚>在使用表面具有細(xì)微突起的樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層時(shí)，如果樹(shù)脂系光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層的膜厚過(guò)小，則有時(shí)難以在層表面形成有效的突起，因而不優(yōu)選?！锻该鲗?dǎo)電層》在第1和第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中，透明導(dǎo)電層沒(méi)有特別限制，例如可舉出結(jié)晶質(zhì)金屬層或結(jié)晶質(zhì)金屬化合物層。作為構(gòu)成透明導(dǎo)電層的成分，例如可舉出氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化鎂、氧化鋅、氧化銦、氧化錫等金屬氧化物層。在它們之中，優(yōu)選以氧化銦為主成分的結(jié)晶質(zhì)層，特別優(yōu)選使用以結(jié)晶質(zhì)ITOandium Tin Oxide)形成的層。另外，透明導(dǎo)電層是結(jié)晶質(zhì)時(shí)，結(jié)晶粒徑不需要特別設(shè)定上限，但優(yōu)選是3000nm 以下。結(jié)晶粒徑大于3000nm時(shí)，書(shū)寫(xiě)耐久性變差，因而不優(yōu)選。其中，所謂結(jié)晶粒徑的定義是在透射型電子顯微鏡(TEM)下觀察到的多邊形或橢圓形的各區(qū)域的對(duì)角線或直徑中最大值。在透明導(dǎo)電層不是結(jié)晶質(zhì)膜時(shí)，觸摸面板所要求的滑動(dòng)耐久性(或書(shū)寫(xiě)耐久性)、 環(huán)境可靠性有時(shí)下降。透明導(dǎo)電層可以用公知方法形成，例如可以使用DC磁控濺射法、RF磁控濺射法、 離子鍍法、真空蒸鍍法、脈沖激光沉積法等物理形成法(Physical Vapor D印osition(以下，記為“PVD”))等，當(dāng)著眼于大面積地形成均勻膜厚的金屬化合物層的工業(yè)生產(chǎn)率時(shí)，優(yōu)選DC磁控濺射法。應(yīng)予說(shuō)明，除了上述物理形成法(PVD)以外，也可以使用化學(xué)氣相沉積法(Chemical Vapor D印osition (以下，記為“CVD”))、溶膠凝膠法等化學(xué)形成法，當(dāng)從膜厚控制的觀點(diǎn)出發(fā)，仍然優(yōu)選濺射法。從透明性與導(dǎo)電性方面考慮，透明導(dǎo)電層的膜厚是5 200nm，優(yōu)選是5 150nm。 進(jìn)一步優(yōu)選是5 80nm，特別優(yōu)選是10 50歷。如果透明導(dǎo)電層的膜厚小于5nm，則電阻值的經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性有變差的趨勢(shì)，另外如果大于200nm，則有時(shí)表面電阻值下降，因而不優(yōu)選作為觸摸面板。在將本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體用于觸摸面板時(shí)，從觸摸面板的耗電的降低和電路處理上的需要等出發(fā)，優(yōu)選使用在膜厚10 30nm時(shí)透明導(dǎo)電層的表面電阻值顯示出 100 2000 Ω/口(Ω/sq)、更優(yōu)選是140 1000 Ω/口 ( Ω/sq)的范圍的透明導(dǎo)電層?！督饘倩衔飳印返?和第2方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體，在光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層與透明導(dǎo)電層之間可以進(jìn)一步具有金屬化合物層、尤其是膜厚為0. 5nm以上且小于5. Onm的金屬化合物層。通過(guò)順次層疊透明有機(jī)高分子基板、光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層、膜厚得到控制的金屬化合物層、透明導(dǎo)電層，從而大幅改善各層間的密合性。另外，通過(guò)使光學(xué)干涉層中的金屬氧化物超微粒和/或金屬氟化物超微粒等超微粒的金屬與上述金屬化合物層的金屬相同，從而可進(jìn)一步改善光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層與透明導(dǎo)電層的層間密合性。對(duì)于具有這種金屬化合物層的透明導(dǎo)電性層疊體的透明觸摸面板而言，與沒(méi)有金屬化合物層的情況相比，可提高透明觸摸面板所要求的書(shū)寫(xiě)耐久性。金屬化合物層的膜厚過(guò)厚時(shí)，由于金屬化合物層開(kāi)始顯示作為連接體的機(jī)械物性，所以無(wú)法期望透明觸摸面板所要求的端押耐久性的提高。另一方面，金屬化合物層的膜厚過(guò)薄時(shí)，有時(shí)膜厚控制困難，
22而且很難充分實(shí)現(xiàn)表面具有細(xì)微突起的光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層與透明導(dǎo)電層的密合性， 透明觸摸面板所要求的書(shū)寫(xiě)耐久性的提高變得不充分。作為構(gòu)成金屬化合物層的成分，例如可舉出氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化鎂、氧化鋅、氧化銦、氧化錫等金屬氧化物的層。特別優(yōu)選含有與光學(xué)干涉層所含有的樹(shù)脂成分和超微粒相同的元素。這些金屬化合物層可以用公知方法形成，例如可以使用DC磁控濺射法、RF磁控濺射法、離子鍍法、真空蒸鍍法、脈沖激光沉積法等物理形成法(PVD)等，當(dāng)著眼于大面積地形成均勻膜厚的金屬化合物層的工業(yè)生產(chǎn)率時(shí)，優(yōu)選DC磁控濺射法。應(yīng)予說(shuō)明，除了上述物理形成法(PVD)以外，也可以使用化學(xué)氣相沉積法(CVD)、溶膠凝膠法等化學(xué)形成法，從控制膜厚的觀點(diǎn)出發(fā)，仍然優(yōu)選濺射法。濺射所用到的靶優(yōu)選使用金屬靶，已廣泛采用反應(yīng)性濺射法。這是因?yàn)?，金屬化合物層用到的元素的氧化物多?shù)是絕緣體，對(duì)于金屬化合物靶的情況，DC磁控濺射法多數(shù)不適合。另外，近年來(lái)，已開(kāi)發(fā)出使2個(gè)陰極同時(shí)放電、抑制靶上的絕緣體的形成的電源，變得能夠適合近似RF磁控濺射法?！侗砻娴耐黄饠?shù)》在使用表面具有細(xì)微突起的光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂層的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中，由該微小的突起，可提供高透明性、低霧度以及充分的易滑動(dòng)性的組合。尤其是在第2 方式的本發(fā)明透明導(dǎo)電性層疊體中，通過(guò)滿足條件(B-c) (B-f)來(lái)在固化樹(shù)脂層的表面上形成微小突起，由此可提供高透明性、低霧度以及充分的易滑動(dòng)性的組合。此時(shí)，具體而言，每50 μ m見(jiàn)方的透明導(dǎo)電層具有優(yōu)選10個(gè) 300個(gè)、更優(yōu)選20 個(gè) 200個(gè)、進(jìn)一步優(yōu)選30個(gè) 150個(gè)高度為30nm 200nm的突起。其中，對(duì)于突起高度為小于30nm的突起，對(duì)層疊體易滑動(dòng)性產(chǎn)生的效果小，因而不考慮。另一方面，對(duì)于突起高度大于200nm的突起，盡管為層疊體帶來(lái)易滑動(dòng)性，但具有產(chǎn)生光散射、使霧度增加的趨勢(shì)。透明導(dǎo)電層上的30nm 200nm高度的突起的數(shù)目過(guò)少時(shí)，則有時(shí)透明導(dǎo)電性層疊體得不到充分的滑動(dòng)性，另一方面，該突起的數(shù)目過(guò)多時(shí)，有時(shí)層疊體表面的光散射變大、 因而霧度增加。電阻膜方式的觸摸面板是使相對(duì)側(cè)具有透明導(dǎo)電層的2張膜或片材保持一定間隔而構(gòu)成的電氣部件，通過(guò)固定一個(gè)電極，并且從視認(rèn)側(cè)用筆或手指按壓另一個(gè)電極，使其彎曲、接觸、導(dǎo)通，從而檢測(cè)電路測(cè)得位置，形成規(guī)定的輸入。此時(shí)，在進(jìn)行按壓的筆或手指等的接觸部周?chē)?，有時(shí)出現(xiàn)所謂被稱為牛頓環(huán)的干涉色，使顯示器的視認(rèn)性下降。為了抑制該牛頓環(huán)，可利用后述追加的固化樹(shù)脂層在表面形成凹凸形狀，使電極間的光反射擴(kuò)散，由此防止干涉(抗牛頓環(huán))。出于保持這種抗牛頓環(huán)功能的目的，在追加的固化樹(shù)脂層上形成凹凸形狀時(shí)，有時(shí)透明導(dǎo)電層上的30nm 200nm高度的突起的數(shù)目大于500個(gè)。應(yīng)予說(shuō)明，對(duì)于本發(fā)明，透明導(dǎo)電性層上的表面突起數(shù)如下測(cè)定使用SII Nano Technology株式會(huì)社制的原子力顯微鏡(AFM) SPA400，采用動(dòng)態(tài)力模式，使用測(cè)定范圍 150 μ m的掃描儀，使用背面帶有Al的Si懸臂(SII Nano Technology株式會(huì)社制SI-DF40) 作為懸臂，以掃描范圍50X50 μ m進(jìn)行測(cè)定。數(shù)據(jù)數(shù)以X方向512個(gè)、Y方向512個(gè)進(jìn)行測(cè)定。將得到的形狀圖像數(shù)據(jù)作三維變換，由得到的表面數(shù)據(jù)估計(jì)各個(gè)突起部分的高度，統(tǒng)計(jì) 30nm 200nm的突起數(shù)。對(duì)各樣品進(jìn)行5次測(cè)定，算出突起數(shù)的平均值?！镀骄阈g(shù)粗糙度(Ra)》像電容方式的透明觸摸面板、低霧度的電阻膜方式的透明觸摸面板等一樣，對(duì)于需要低霧度的透明導(dǎo)電性層疊體的情況，優(yōu)選透明導(dǎo)電性層的表面凹凸的平均算術(shù)粗糙度 (Ra)是20nm以下，更優(yōu)選是IOnm以下，特別優(yōu)選是8nm以下。如果平均算術(shù)粗糙度(Ra) 過(guò)大，則霧度變大，在用于高畫(huà)質(zhì)的液晶顯示器時(shí)，因損失鮮明度等原因而不特別優(yōu)選。應(yīng)予說(shuō)明，出于保持抗牛頓環(huán)功能的目的，在追加的固化樹(shù)脂層上形成凹凸形狀時(shí)，優(yōu)選表面凹凸的Ra是20nm以上且小于500nm，更優(yōu)選是25nm 400nm，特別優(yōu)選是 30nm 350nm。如果平均算術(shù)粗糙度(Ra)過(guò)小，則在使玻璃或膜基板用力接觸本發(fā)明的凹凸面時(shí)，產(chǎn)生牛頓環(huán)。另外，如果平均算術(shù)粗糙度(Ra)大于500nm，則霧度變大，在用于液晶顯示器時(shí)，因發(fā)生像素的色分離、引起閃爍等原因而不特別優(yōu)選作為顯示器用途的基板。應(yīng)予說(shuō)明，對(duì)于本發(fā)明，平均算術(shù)粗糙度(中心線平均粗糙度)(Ra)是根據(jù)JIS B0601-1994標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行。具體而言，在從粗糙度曲線中沿其中心線方向截取基準(zhǔn)長(zhǎng)度1的部分，以該截取部分的中心線為X軸、以縱倍率方向?yàn)閅軸、用y = f (χ)表示粗糙度曲線時(shí)， 算術(shù)平均粗糙度(Ra)可用下述式表示K^fimp《總光線透射率》從視認(rèn)性的觀點(diǎn)出發(fā)，本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體的總光線透射率是85%以上、 優(yōu)選是88%以上、更優(yōu)選是89%以上、特別優(yōu)選是90%以上。對(duì)于本發(fā)明，以JIS K7361-1為基準(zhǔn)測(cè)定總光線透射率。具體而言，總光線透射率 xt(%)是用下述式表示的值Tt= τ 2/ τ jX 100(T1 入射光τ 2 透過(guò)試樣片的總光線)《霧度》像電容方式的透明觸摸面板、低霧度的電阻膜方式的透明觸摸面板等一樣，對(duì)于需要低霧度的透明導(dǎo)電性層疊體的情況，從視認(rèn)性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體的霧度是2 %以下，更優(yōu)選是1. 5%以下，進(jìn)一步優(yōu)選是1 %以下，特別優(yōu)選是0. 5 % 以下。另一方面，對(duì)于保持抗牛頓環(huán)功能的透明導(dǎo)電性層疊體的情況，從視認(rèn)性和抗牛頓環(huán)特性的平衡的觀點(diǎn)出發(fā)，本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體的霧度可允許是2%以上或 2. 5%以上，優(yōu)選是15%以下，更優(yōu)選是12%以下，進(jìn)一步優(yōu)選是10%以下。應(yīng)予說(shuō)明，對(duì)于本發(fā)明，霧度根據(jù)JIS Κ7136標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行定義。具體而言，霧度是定義成擴(kuò)散透射率^與總光線透射率、的比的值，更具體而言，可由下述式求出霧度(<%) = [(τ4/τ2)-τ3(τ2/τι)]Χ100τ工入射光的光束τ 2 透過(guò)試驗(yàn)片的全部光束
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τ 3:在裝置中擴(kuò)散的光束τ 4 在裝置和試驗(yàn)片中擴(kuò)散的光束實(shí)施例以下，列舉參考例，進(jìn)一步具體說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明不受該參考例限定。應(yīng)予說(shuō)明，參考例中，如無(wú)特別說(shuō)明，“份”和“ ％，，均是質(zhì)量基準(zhǔn)。另外，參考例中的各種測(cè)定如下進(jìn)行。〈Ra (算術(shù)平均粗糙度)>使用Sloan公司制探針式高低差儀DEKTAK3進(jìn)行測(cè)定。根據(jù)JISB0601-1994年版進(jìn)行測(cè)定。<表面突起數(shù)(AFM) >使用SII Nano Technology株式會(huì)社制的原子力顯微鏡SPA400，采用動(dòng)態(tài)力模式， 使用測(cè)定范圍150 μ m的掃描儀，使用背面帶有Al的Si懸臂(SII Nano Technology株式會(huì)社制SI-DF40)作為懸臂，以掃描范圍50X50 μ m進(jìn)行測(cè)定。數(shù)據(jù)數(shù)目是以X方向512個(gè)、Y 方向512個(gè)進(jìn)行測(cè)定。將得到的形狀圖像數(shù)據(jù)作三維變換，由得到的表面數(shù)據(jù)估計(jì)各個(gè)突起部分的高度，統(tǒng)計(jì)30nm 200nm的突起數(shù)。對(duì)各樣品進(jìn)行5次測(cè)定，算出突起數(shù)的平均值。<厚度和折射率>對(duì)于光學(xué)干涉層/固化樹(shù)脂、透明導(dǎo)電層和硬涂層的厚度以及折射率，在折射率與這些層不同的適當(dāng)?shù)臒崴苄阅せ迳弦酝瑯拥耐扛矖l件單層層疊，使用在上述層疊面的光反射光譜上基于光干涉效果而體現(xiàn)的反射率的極大峰或極小峰的波長(zhǎng)及其峰反射率的值，通過(guò)光學(xué)模擬而算出。應(yīng)予說(shuō)明，對(duì)于本發(fā)明，如無(wú)特別說(shuō)明，折射率是550nm波長(zhǎng)的光的折射率。<反射光譜>采用日立制分光光度計(jì)U3500的積分球測(cè)定模式來(lái)進(jìn)行各光譜的測(cè)定。應(yīng)予說(shuō)明，測(cè)定光對(duì)樣品的入射角度是5度，背面?zhèn)扔檬惺鄣暮谏珖娏闲纬烧诠鈱?，在幾乎沒(méi)有樣品的背面反射、來(lái)自背面?zhèn)鹊墓獾娜肷涞臓顟B(tài)下進(jìn)行測(cè)定。差光譜是從透明導(dǎo)電層形成前的層疊體的反射光譜中減去透明導(dǎo)電層形成后的層疊體的反射光譜從而得到的。應(yīng)予說(shuō)明，從透明導(dǎo)電性層疊體除掉透明導(dǎo)電層的層疊體的反射光譜是用蝕刻液除去制作的透明導(dǎo)電性層疊體來(lái)進(jìn)行測(cè)定。< 霧度 >以JIS K7136號(hào)為基準(zhǔn)，使用日本電色(株)制霧度計(jì)(MDH2000)進(jìn)行測(cè)定。<總光線透射率>使用日本電色(株)制霧度計(jì)(MDH2000)，以JIS K7361-1為基準(zhǔn)進(jìn)行測(cè)定。<b* 值 >以JIS Z8722為基準(zhǔn)，采用透射模式測(cè)量以JIS定義的LW表色系的色度指數(shù)b*值。應(yīng)予說(shuō)明，采用日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)Z8720所規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)光D65作為光源，以2度視野條件進(jìn)行測(cè)定。<易滑動(dòng)性>光學(xué)干涉層的易滑動(dòng)性是感官試驗(yàn)，評(píng)價(jià)膜為良好(〇)，或?yàn)椴涣?X)。
<耐擦傷性>用鋼絲棉輕輕摩擦制作的透明導(dǎo)電性層疊體的透明導(dǎo)電層，評(píng)價(jià)為表面損傷 (X)，或不損傷(O)。<見(jiàn)骨性>將制作的透明導(dǎo)電性層疊體切出5cm見(jiàn)方，在透明導(dǎo)電層上并排粘貼8條3mm寬的聚酰亞胺帶，使之形成3mm間隔。接著，將該粘貼有聚酰亞胺帶的層疊體在ITO蝕刻液 (關(guān)東化學(xué)公司制，商品名“IT0-06N”)中浸漬1分鐘，除去沒(méi)有粘貼聚酰亞胺帶的部分的 ΙΤ0，得到以3mm間隔形成了形成3mm寬的ITO膜的圖案的層疊體。目視觀察該膜，基本看不到ITO的圖案評(píng)價(jià)為(〇)、稍稍看到評(píng)價(jià)為(Δ )、看到評(píng)價(jià)為(X)。<書(shū)寫(xiě)耐久試驗(yàn)>在制造的透明觸摸面板的可動(dòng)電極側(cè)、使用筆尖是0. 8R的聚縮醛制筆、以450g荷重來(lái)進(jìn)行直線往復(fù)50萬(wàn)往復(fù)的書(shū)寫(xiě)耐久性試驗(yàn)。每10萬(wàn)次更換為新筆。書(shū)寫(xiě)耐久性前后的透明觸摸面板的50萬(wàn)次往復(fù)后的線性度變化量小于0. 5%為合格(◎)、小于1. 0%為合格(〇)、小于1.5%為合格(Δ)、1·5%以上為不合格(X)。<線性度>在可動(dòng)電極基板上或固定電極基板上的平行電極間施加5V直流電壓。在與平行電極垂直的方向以5mm間隔測(cè)定電壓。當(dāng)設(shè)測(cè)定起始位置A的電壓為EA、測(cè)定結(jié)束位置的電壓B的電壓為EB、在與A的距離X處的電壓實(shí)測(cè)值為EX、理論值為ET時(shí)，線性度L如下所示ET = (EB-EA) · X/ (B-A) +EAL(% ) = (IET-EX |) / (EB-EA) 100[實(shí)施例Al]使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式會(huì)社制、C110-100、表中是“PC”)作為透明有機(jī)高分子基板，在其一側(cè)的面上，用邁爾棒涂布下述涂布液Hl，在60°C干燥30秒后，用強(qiáng)度160W 的高壓水銀燈照射累積光量700mJ/cm2的紫外線，形成膜厚約3 μ m的硬涂層(Hl層)。(涂布液Hl)使用如下制成的涂布液使用1-甲氧基-2-丙醇作為稀釋溶劑對(duì)雙苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯(大阪瓦斯公司制)59質(zhì)量份、聚氨酯丙烯酸酯(新中村化學(xué)制，商品名“NK oligo U-15HA”)41質(zhì)量份進(jìn)行稀釋，進(jìn)而加入Irgacure 184(Ciba Geigy公司制)3質(zhì)量份作為光引發(fā)劑并攪拌至均勻。接著，在形成的硬涂層上，用邁爾棒涂布下述涂布液Rl，在130°C熱處理5分鐘，形成膜厚約50nm的固化樹(shù)脂層。(涂布液Rl)混合水720質(zhì)量份、2-丙醇1080質(zhì)量份和乙酸46質(zhì)量份后，順次混合3_環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM403”)480質(zhì)量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM13” ) 240質(zhì)量份和N-2-(氨基乙基)_3_氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM603” ) 120質(zhì)量份，生成烷氧基硅烷混合液，將該烷氧基硅烷混合液攪拌3小時(shí)進(jìn)行水解、部分縮合，進(jìn)而用異丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的質(zhì)量比1 1的混合溶劑進(jìn)行稀釋。在該溶液中加入MgF2超微粒(表中，“MgF2”)的20質(zhì)量％異丙醇分散液(Cl化成株式會(huì)社制，超微粒的平均一次粒徑50nm)4200質(zhì)量份(固體成分換算840質(zhì)量份、即相對(duì)于投入的樹(shù)脂單體量100質(zhì)量份是100質(zhì)量份超微粒，相對(duì)于固化后的固化樹(shù)脂成分100質(zhì)量份是145質(zhì)量份超微粒)，進(jìn)一步攪拌10分鐘，制成涂布液Rl。應(yīng)予說(shuō)明，本發(fā)明中，對(duì)于固化后的樹(shù)脂成分的質(zhì)量份而言，是假定單體的縮合反應(yīng) 100%進(jìn)行。接著，在形成了固化樹(shù)脂層的面上，使用氧化銦和氧化錫的質(zhì)量比為95 5的組成且填充密度為98%的氧化銦-氧化錫靶，采用濺射法形成非晶質(zhì)透明導(dǎo)電層(ΙΤ0層)。 ITO層的厚度約為20nm，表面電阻值約為370 Ω / 口( Ω/Sq)。接著，通過(guò)進(jìn)行130°C 90分鐘的熱處理，使透明導(dǎo)電層(ΙΤ0層)結(jié)晶化從而制成透明導(dǎo)電性層疊體。ITO層結(jié)晶化后的透明導(dǎo)電層的厚度約為20nm，折射率是2. 10，表面電阻值約為450Ω/口(Ω/sq)。應(yīng)予說(shuō)明，利用TEM觀察到的透明導(dǎo)電層的結(jié)晶粒徑在 50nm 200nm的范圍。將制成的透明導(dǎo)電性層疊體的特性示于表Al。[實(shí)施例A2]使用聚酯膜(DuPontTeijin Films 株式會(huì)社制 “TEIJIN TET0R0N FILM，，、 0FW-188)作為透明有機(jī)高分子基板，在其一側(cè)的面上用邁爾棒涂布涂布液H2，在60°C干燥 30秒后，用強(qiáng)度160W的高壓水銀燈照射累積光量700mJ/cm2的紫外線，形成膜厚約3 μ m的硬涂層(H2層)。(涂布液H2)使用制成的涂布液使用甲苯作為稀釋溶劑對(duì)雙苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯(大阪瓦斯公司制)85質(zhì)量份、聚氨酯丙烯酸酯(新中村化學(xué)制的商品名“NK oligo U-15HA") 15 質(zhì)量份進(jìn)行稀釋，進(jìn)而加入IrgaCUre184(Cil3a Geigy公司制)3質(zhì)量份作為光引發(fā)劑并攪拌至均勻。接著，在形成的H2層上，與實(shí)施例Al同樣地，形成膜厚約50nm的固化樹(shù)脂層。接著，與實(shí)施例Al同樣地形成ITO層，使其結(jié)晶化。得到的ITO膜具有與實(shí)施例 Al的ITO膜同樣的表面電阻值和結(jié)晶粒徑。將制成的透明導(dǎo)電性層疊體的特性示于表Al。[實(shí)施例A3]使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式會(huì)社制、C110-100、表中“PC”)作為透明有機(jī)高分子基板，在其一側(cè)的面上與實(shí)施例Al同樣地使用涂布液Hl，形成膜厚約3 μ m的硬涂層。接著，在形成的硬涂層上，用邁爾棒涂布下述涂布液R2，在130°C熱處理5分鐘，形成膜厚約IOOnm的固化樹(shù)脂層。(涂布液R2)混合水720質(zhì)量份、2-丙醇1080質(zhì)量份和乙酸46質(zhì)量份后，順次混合3_環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM403”) 480質(zhì)量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM13”)240質(zhì)量份和N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM603” ) 120質(zhì)量份，生成烷氧基硅烷混合液，將該烷氧基硅烷混合液攪拌3小時(shí)進(jìn)行水解、部分縮合，另外用異丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的質(zhì)量比1 1的混合溶劑進(jìn)行稀釋。在該溶液中加入氧化鈦超微粒(表中，“Ti02”)的15 質(zhì)量％異丙醇分散液(Cl化成株式會(huì)社制，超微粒的平均一次粒徑30nm)30M質(zhì)量份(固體成分換算453質(zhì)量份，即相對(duì)于投入的樹(shù)脂單體量100質(zhì)量份是M質(zhì)量份超微粒，相對(duì)于固化后的固化樹(shù)脂100質(zhì)量份是78質(zhì)量份超微粒)，進(jìn)一步攪拌10分鐘，制成涂布液R2。接著，與實(shí)施例Al同樣地形成ITO層，使其結(jié)晶化。得到的ITO膜具有與實(shí)施例 Al的ITO膜同樣的表面電阻值和結(jié)晶粒徑。將制成的透明導(dǎo)電性層疊體的特性示于表Al。將制成的透明導(dǎo)電性層疊體、以及從透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜示于圖13。另外，將圖13表示的二個(gè)反射光譜的差光譜示于圖15。[實(shí)施例A4]使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式會(huì)社制、C110-100、表中“PC”)作為透明有機(jī)高分子基板，在其一側(cè)的面上用邁爾棒涂布涂布液H1，在60°C干燥30秒后，用強(qiáng)度160W的高壓水銀燈照射累積光量700mJ/cm2的紫外線，形成膜厚約3 μ m的硬涂層。接著，在形成的硬涂層上，用邁爾棒涂布下述的涂布液R3，在130°C熱處理5分鐘， 形成膜厚約50nm的固化樹(shù)脂層。(涂布液R3)混合水720質(zhì)量份、2-丙醇1080質(zhì)量份和乙酸46質(zhì)量份后，順次混合3_環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM403”)480質(zhì)量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM13” ) 240質(zhì)量份和N-2-(氨基乙基)_3_氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM603” ) 120質(zhì)量份，生成烷氧基硅烷混合液，將該烷氧基硅烷混合液攪拌3小時(shí)進(jìn)行水解、部分縮合，進(jìn)而用異丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的質(zhì)量比1 1的混合溶劑進(jìn)行稀釋。在該溶液中加入MgF2超微粒(表中，“MgF2”)的20 質(zhì)量％異丙醇分散液(Cl化成株式會(huì)社制，超微粒的平均一次粒徑50nm)4200質(zhì)量份(固體成分換算840質(zhì)量份，即相對(duì)于投入的樹(shù)脂單體量100質(zhì)量份是100質(zhì)量份超微粒，相對(duì)于固化后的固化樹(shù)脂100質(zhì)量份是145質(zhì)量份超微粒)，進(jìn)而攪拌10分鐘。之后，在該溶液中進(jìn)一步加入含有未實(shí)施表面修飾的平均一次粒徑為20nm的二氧化硅超微粒(表中， “Si02-1”)4質(zhì)量份(相對(duì)于投入的樹(shù)脂單體量100質(zhì)量份是0. 5質(zhì)量份超微粒，相對(duì)于固化后的固化樹(shù)脂100質(zhì)量份是0. 7質(zhì)量份超微粒)的異丙醇溶液，進(jìn)而攪拌10分鐘，制成涂布液R3。接著，與實(shí)施例Al同樣地形成ITO層，使其結(jié)晶化。得到的ITO膜具有與實(shí)施例 Al的ITO膜同樣的表面電阻值和結(jié)晶粒徑。將制成的透明導(dǎo)電性層疊體的特性示于表Al。[實(shí)施例A5]使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式會(huì)社制，C110-100，表中“PC”)作為透明有機(jī)高分子基板，在其一側(cè)的面上用邁爾棒涂布涂布液Hl，在60°C干燥30秒后，用強(qiáng)度160W的高壓水銀燈照射累積光量700mJ/cm2的紫外線，形成膜厚約3 μ m的硬涂層。接著，在形成的硬涂層上，用邁爾棒涂布下述涂布液R4，在130°C熱處理5分鐘，形成膜厚約IOOnm的固化樹(shù)脂層。(涂布液R4)混合水720質(zhì)量份、2-丙醇1080質(zhì)量份和乙酸46質(zhì)量份后，順次混合3_環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM403”) 480質(zhì)量份、甲基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM13” ) 240質(zhì)量份和N-2-(氨基乙基)_3_氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化學(xué)公司制的商品名“KBM603” ) 120質(zhì)量份，生成烷氧基硅烷混合液，將該烷氧基硅烷混合液攪拌3小時(shí)進(jìn)行水解、部分縮合，進(jìn)而用異丙醇和1-甲氧基-2-丙醇的質(zhì)量比1 1的混合溶劑進(jìn)行稀釋。在該溶液中加入氧化鈦超微粒(表中，“Ti02”)的15 質(zhì)量％異丙醇分散液(Cl化成株式會(huì)社制，超微粒的平均一次粒徑30nm)30M質(zhì)量份(固體成分換算453質(zhì)量份、即相對(duì)于投入的樹(shù)脂單體量100質(zhì)量份是M質(zhì)量份超微粒，相對(duì)于固化后的固化樹(shù)脂100質(zhì)量份是78質(zhì)量份超微粒)，進(jìn)一步攪拌10分鐘。之后，在該溶液中進(jìn)一步加入含有未實(shí)施表面修飾的平均一次粒徑為20nm的二氧化硅超微粒(表中， “Si02-1”)4質(zhì)量份(相對(duì)于投入的樹(shù)脂單體量100質(zhì)量份是0. 5質(zhì)量份超微粒，相對(duì)于固化后的固化樹(shù)脂100質(zhì)量份是0. 7質(zhì)量份超微粒)的異丙醇溶液，進(jìn)一步攪拌10分鐘，制成涂布液R4。接著，與實(shí)施例Al同樣地形成ITO層，使其結(jié)晶化。得到的ITO膜具有與實(shí)施例 Al的ITO膜同樣的表面電阻值和結(jié)晶粒徑。將制造的透明導(dǎo)電性層疊體的特性示于表Al。[比較例Al]使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式會(huì)社制，C110-100)作為透明有機(jī)高分子基板，在其一側(cè)的面上直接與實(shí)施例Al同樣地形成ITO層，使其結(jié)晶化。得到的ITO膜具有與參考例Al的ITO膜同樣的表面電阻值和結(jié)晶粒徑。將制成的透明導(dǎo)電性層疊體的特性示于表 A2。[比較例A2]使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式會(huì)社制，C110-100)作為透明有機(jī)高分子基板，在其一側(cè)的面上，使用紫外線固化型多官能丙烯酸酯樹(shù)脂涂料形成膜厚為3 μ m的硬涂層。接著，與實(shí)施例Al同樣地形成ITO層，使其結(jié)晶化。得到的ITO膜具有與實(shí)施例 Al的ITO膜同樣的表面電阻值和結(jié)晶粒徑。將制成的透明導(dǎo)電性層疊體的特性示于表A2。[比較例A3]使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式會(huì)社制，C110-100)作為透明有機(jī)高分子基板，在其一側(cè)的面上，使用紫外線固化型多官能丙烯酸酯樹(shù)脂涂料形成膜厚為3μπι的硬涂層。接著，在硬涂層上，與實(shí)施例Al同樣地使用涂布液Rl形成膜厚約50nm的光學(xué)干涉層。接著，與實(shí)施例Al同樣地形成ITO層，使其結(jié)晶化。得到的ITO膜具有與實(shí)施例 Al的ITO膜同樣的表面電阻值和結(jié)晶粒徑。將制成的透明導(dǎo)電性層疊體的特性示于表A2。[比較例A4]使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式會(huì)社制，C110-100)作為透明有機(jī)高分子基板，在其一側(cè)的面上不設(shè)硬涂層，與實(shí)施例Al同樣地形成膜厚約50nm的光學(xué)干涉層。接著，與實(shí)施例Al同樣地形成ITO層，使其結(jié)晶化。得到的ITO膜具有與實(shí)施例 Al的ITO膜同樣的表面電阻值和結(jié)晶粒徑。將制成的透明導(dǎo)電性層疊體的特性示于表A2。[比較例A5]使用聚碳酸酯膜(帝人化成株式會(huì)社制、C110-100)作為透明有機(jī)高分子基板，在其一側(cè)的面上，使用紫外線固化型多官能丙烯酸酯樹(shù)脂涂料形成膜厚為3μπι的硬涂層。接著，在硬涂層上，與實(shí)施例A3同樣地使用涂布液R2形成膜厚約50nm的光學(xué)干涉層。接著，與實(shí)施例Al同樣地形成ITO層，使其結(jié)晶化。得到的ITO膜具有與實(shí)施例 Al的ITO膜同樣的表面電阻值和結(jié)晶粒徑。將制成的透明導(dǎo)電性層疊體的特性示于表A2。將制成的透明導(dǎo)電性層疊體、以及從透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反
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[表 2]
射光譜示于圖14。另外，將圖14表示的二個(gè)反射光譜的差光譜與實(shí)施例A3的差光譜一并示于圖15。[表 1]
權(quán)利要求
1.一種透明導(dǎo)電性層疊體，在透明有機(jī)高分子基板至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層、 光學(xué)干涉層、透明導(dǎo)電層而成，且滿足以下(A-a) (A-f)(A-a)所述透明有機(jī)高分子基板的折射率n3和所述硬涂層的折射率11&滿足下述式 Ii3-Ii3hI ^ 0. 02,(A-b)所述硬涂層的厚度是1 μ m 10 μ m，(A-c)所述光學(xué)干涉層的厚度是5nm 500nm，(A-d)所述透明導(dǎo)電性層的厚度是5nm 200nm，(A-e)總光線透射率在85%以上，并且(A-f) LW表色系的色度指數(shù)b*值是-1.0以上且小于1.5。
2.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，進(jìn)一步滿足(A-g)對(duì)于從所述透明導(dǎo)電性層疊體的透明導(dǎo)電層側(cè)投射波長(zhǎng)為450nm 700nm的光時(shí)的反射光譜而言，所述透明導(dǎo)電性層疊體上的反射光譜與從所述透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜的差光譜滿足以下(A-gl)和(A-g2)(A-gl)所述差光譜的絕對(duì)值的最大值在3. 0%以下，并且 (A-g2)所述差光譜的累計(jì)值是-200nm · % 200nm · %。
3.如權(quán)利要求1或2所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，進(jìn)一步滿足(A-h)所述透明導(dǎo)電性層僅配置于所述光學(xué)干涉層上的一部分而形成圖案。
4.如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，進(jìn)一步滿足(A-i)所述光學(xué)干涉層直接層疊在所述硬涂層上。
5.如權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，光學(xué)干涉層含有固化樹(shù)脂成分和平均一次粒徑IOOnm以下的第1超微粒。
6.如權(quán)利要求1 5中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，進(jìn)一步滿足以下 (A-p) (A-r)(A-p)所述光學(xué)干涉層含有樹(shù)脂成分和平均一次粒徑Inm IOOnm的第1超微粒， (A-q)所述樹(shù)脂成分和所述第1超微粒含有相同的金屬和/或半金屬元素，并且 (A-r)在所述光學(xué)干涉層中，含有與所述樹(shù)脂成分相同的金屬和/或半金屬元素的所述第1超微粒的含量相對(duì)于所述樹(shù)脂成分100質(zhì)量份是0. 01質(zhì)量份 3質(zhì)量份。
7.如權(quán)利要求6所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，每50μ m見(jiàn)方的所述透明導(dǎo)電層具有 10個(gè) 300個(gè)高度為30nm 200nm的突起。
8.如權(quán)利要求6或7所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，所述透明導(dǎo)電層的表面粗糙度 Ra是20nm以下。
9.如權(quán)利要求6 8中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，霧度是2%以下。
10.如權(quán)利要求6 9中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，所述金屬和/或半金屬元素是選自Al、Bi、Ca、Hf、In、MgJb、Si、Sn、Ti、Y、Zn和Zr中的1個(gè)或多個(gè)元素。
11.一種電阻膜方式的透明觸摸面板，是至少在單面設(shè)有透明導(dǎo)電層的2張透明電極基板按照各自的透明導(dǎo)電層彼此相對(duì)的方式配置而構(gòu)成的透明觸摸面板，具有權(quán)利要求 1 10中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體作為至少一方的透明電極基板。
12.一種電容方式的透明觸摸面板，具有所述透明導(dǎo)電性層僅配置于所述光學(xué)干涉層上的一部分而形成圖案的權(quán)利要求1 10中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體。
13.如權(quán)利要求11或12所述的透明觸摸面板，其中，在所述透明觸摸面板的觀察側(cè)，偏振片直接或介由其它基材層疊在所述透明導(dǎo)電性層疊體上。
14.一種透明導(dǎo)電性層疊體，在透明有機(jī)高分子基板至少一側(cè)的面上順次層疊固化樹(shù)脂層、透明導(dǎo)電層而成，對(duì)于從述透明導(dǎo)電性層疊體的透明導(dǎo)電層側(cè)投射波長(zhǎng)為450nm 700nm的光時(shí)的反射光譜而言，所述透明導(dǎo)電性層疊體上的反射光譜與從所述透明導(dǎo)電性層疊體除去透明導(dǎo)電性層時(shí)的反射光譜的差光譜滿足以下(B-al)和(B_a2)(B-al)所述差光譜的絕對(duì)值的最大值是3. 0%以下，并且 (B-a2)所述差光譜的累計(jì)值是-200nm · % 200nm · %。
15.如權(quán)利要求14所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，將所述透明有機(jī)高分子基板的折射率設(shè)為n3，將所述固化樹(shù)脂層的厚度和折射率分別設(shè)為d2和n2，且將所述透明導(dǎo)電層的厚度和折射率分別設(shè)為Cl1和Ii1時(shí)，進(jìn)一步滿足以下(B-bl) (B-b3)(B-bl) Ii1 > n2 > n3, (B-b2) 0. 44 < n2/ (%+ ) < 0. 49，并且 (B-b3) 245 < n2d2/ (H1Cl1)^12 < 275 (I1和d2的單位為nm。
16.如權(quán)利要求14或15所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，進(jìn)一步滿足以下(B-c) (B-f)(B-c)所述固化樹(shù)脂層含有樹(shù)脂成分和平均一次粒徑Inm IOOnm的第1超微粒， (B-d)所述樹(shù)脂成分和所述第1超微粒含有相同的金屬和/或半金屬元素， (B-e)在所述固化樹(shù)脂層中，所述第1超微粒的含量相對(duì)于所述樹(shù)脂成分100質(zhì)量份是 0.01質(zhì)量份 3質(zhì)量份，并且(B-f)所述固化樹(shù)脂層的厚度是0. 01 μ m 0. 5 μ m。
17.如權(quán)利要求16所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，(B-g)所述固化樹(shù)脂層進(jìn)一步含有平均一次粒徑Inm IOOnm且折射率比所述樹(shù)脂成分大的第2超微粒。
18.如權(quán)利要求17所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，所述固化樹(shù)脂層通過(guò)含有所述第 2超微粒，與所述固化樹(shù)脂層不含第2超微粒的情況相比，所述固化樹(shù)脂層的折射率增加 0. 01以上。
19.如權(quán)利要求16 18中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，每50μ m見(jiàn)方的所述透明導(dǎo)電層具有10個(gè) 300個(gè)高度為30nm 200nm的突起。
20.如權(quán)利要求16 19中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，所述透明導(dǎo)電層的表面粗糙度Ra是20nm以下。
21.如權(quán)利要求14 20中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，總光線透射率是 85%以上，且霧度是2%以下。
22.如權(quán)利要求16 21中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，所述金屬和/或半金屬元素是選自Al、Bi、Ca、Hf、In、Mg、Sb、Si、Sn、Ti、Y、Zn和Zr中的1個(gè)或多個(gè)元素。
23.如權(quán)利要求14 22中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，在所述透明有機(jī)高分子基板與所述固化樹(shù)脂層之間含有追加的固化樹(shù)脂層。
24.如權(quán)利要求23所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，所述追加的固化樹(shù)脂層的表面粗糙度Ra是20nm以上且小于500nm。
25.如權(quán)利要求16 M中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其中，在所述透明導(dǎo)電層與所述固化樹(shù)脂層之間具有粘接層，且所述粘接層、固化樹(shù)脂層的樹(shù)脂成分、以及固化樹(shù)脂層的超微粒均含有相同的金屬和/或半金屬元素。
26.—種透明觸摸面板，其特征在于，是配置有1張以上透明電極基板的電容方式的透明觸摸面板，所述透明電極基板至少在單面設(shè)有透明導(dǎo)電層；使用權(quán)利要求14 23和25 中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體作為至少1個(gè)透明電極基板。
27.一種透明觸摸面板，其特征在于，是至少在單面設(shè)有透明導(dǎo)電層的2張透明電極基板按照各自的透明導(dǎo)電層彼此相對(duì)的方式配置而構(gòu)成的電阻膜方式的透明觸摸面板，使用權(quán)利要求14 25中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性層疊體作為至少一方的透明電極基板。
28.如權(quán)利要求沈或27所述的透明觸摸面板，其中，在所述透明觸摸面板的觀察側(cè)，偏振片直接或介由其它基材層疊在所述透明導(dǎo)電性層疊體上。
全文摘要
本發(fā)明提供適合與液晶顯示器等顯示元件組合使用的透明導(dǎo)電性層疊體和具有這種透明導(dǎo)電性層疊體的透明觸摸面板。該透明導(dǎo)電性層疊體是在透明有機(jī)高分子基板(33)至少一側(cè)的面上順次層疊硬涂層(HC)(33h)、光學(xué)干涉層(32)、透明導(dǎo)電層(31)而成，并且滿足以下條件透明有機(jī)高分子基板和HC層的折射率n3和n3h滿足下述式、即|n3-n3h|≤0.02；HC層的厚度是1μm～10μm；光學(xué)干涉層的厚度是5nm～500nm；透明導(dǎo)電性層的厚度是5nm～200nm；總光線透射率在85％以上；且b*值是-1.0以上且小于1.5。另外，形成具有這種透明導(dǎo)電性層疊體的透明觸摸面板。
文檔編號(hào)H01B5/14GK102438822SQ20108000616
公開(kāi)日2012年5月2日 申請(qǐng)日期2010年3月31日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月31日
發(fā)明者伊藤晴彥, 池田幸紀(jì) 申請(qǐng)人:帝人化成株式會(huì)社, 帝人株式會(huì)社