專利名稱：清潔片、帶清潔功能的搬送構(gòu)件、基板處理裝置的清潔方法及基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清潔片及帶有清潔功能的搬送構(gòu)件。更詳細(xì)而言，本發(fā)明涉及一種異物去除性能及搬送性能優(yōu)異，且可效率尤其良好地去除具有規(guī)定粒徑的異物的清潔片及帶有清潔功能的搬送構(gòu)件。另外，本發(fā)明涉及一種使用這種清潔片以及帶有清潔功能的搬送構(gòu)件的基板處理裝置的清潔方法、以及使用這種清潔方法而進(jìn)行清潔的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體、平板顯示器、印刷基板等制造裝置及檢查裝置等忌異物的各種基板處理裝置中，一邊使各搬送系統(tǒng)與基板進(jìn)行物理性接觸一邊搬送。此時(shí)，若在基板及搬送系統(tǒng)中附著有異物，則會(huì)不斷地污染后續(xù)的基板，因此必需定期地停止裝置而進(jìn)行清洗處理。其結(jié)果為，存在處理裝置的工作率下降的問(wèn)題及為了進(jìn)行裝置的清洗處理而需要極大的勞力的問(wèn)題。為克服上述問(wèn)題，提出了通過(guò)搬送板狀構(gòu)件來(lái)去除附著在基板背面的異物的方法 (參照專利文獻(xiàn)1)。若利用這種方法，則由于無(wú)需使基板處理裝置停止以進(jìn)行清洗處理，故而處理裝置的工作率下降的問(wèn)題得以消除。但是，該方法無(wú)法充分去除異物。另一方面，提出了通過(guò)將固著有粘合性物質(zhì)的基板作為清潔構(gòu)件而在基板處理裝置內(nèi)搬送，從而將附著在該處理裝置內(nèi)的異物清潔去除的方法(參照專利文獻(xiàn)幻。該方法除專利文獻(xiàn)1所記載的方法的優(yōu)點(diǎn)以外，異物的去除性也優(yōu)異，因此處理裝置的工作率下降的問(wèn)題及為進(jìn)行裝置的清洗處理而必需極大的勞力的問(wèn)題均得以消除。但是，若利用專利文獻(xiàn)2所記載的方法，則有粘合性物質(zhì)與裝置的接觸部分過(guò)于牢固地粘接而無(wú)法分離之虞。其結(jié)果為有可能產(chǎn)生無(wú)法確實(shí)地搬送基板的問(wèn)題、及使搬送裝置破損的問(wèn)題。近年來(lái)，隨著半導(dǎo)體組件的微細(xì)化，不僅在晶圓表面的異物附著成為問(wèn)題，在背面的異物附著也成為問(wèn)題。其原因在于，在清洗步驟中產(chǎn)生從晶圓背面至晶圓表面的異物的轉(zhuǎn)移，使制品良率下降。目前，對(duì)于半導(dǎo)體組件的布線間隔(設(shè)計(jì)規(guī)格)而言，65nm成為主流，若附著有與該布線間隔同等或其以上尺寸的異物，則變得容易產(chǎn)生斷線等不良。尤其是具有0. 2 2. 0 μ m左右的粒徑的異物成為問(wèn)題。但是，現(xiàn)有技術(shù)在特別有效率地去除具有規(guī)定粒徑的異物的方面均不充分。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 日本特開(kāi)平11-87458號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開(kāi)平10-154686號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所欲解決的問(wèn)題
本發(fā)明的目的在于提供一種異物去除性能及搬送性能優(yōu)異，且可效率尤其良好地去除具有規(guī)定粒徑的異物的清潔片及帶有清潔功能的搬送構(gòu)件。另外，本發(fā)明的目的在于提供一種使用這種清潔片及帶有清潔功能的搬送構(gòu)件的基板處理裝置的清潔方法。另外， 本發(fā)明的目的在于提供一種使用這種清潔方法進(jìn)行清潔的基板處理裝置。解決問(wèn)題的技術(shù)手段本發(fā)明的清潔片是具備實(shí)質(zhì)上不具有粘合力的清潔層的清潔片，該清潔層具有平均表面粗糙度Ra為0. 10 μ m以上的凹凸形狀部分，并且該清潔層對(duì)硅晶圓的鏡面的剝離粘合力為小于0.20N/10mm，所述剝離粘合力為 JIS-Z-0237中規(guī)定的180°的剝離粘合力。在優(yōu)選的實(shí)施方式中，本發(fā)明的清潔片在上述清潔層的單面具備粘合劑層。在優(yōu)選的實(shí)施方式中，本發(fā)明的清潔片在上述清潔層的單面具備支持體。在優(yōu)選的實(shí)施方式中，在上述支持體的與具備上述清潔層的面相反一側(cè)的面上具備粘合劑層。在本發(fā)明的另一實(shí)施方式中提供一種帶有清潔功能的搬送構(gòu)件。本發(fā)明的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件具備搬送構(gòu)件、設(shè)置于該搬送構(gòu)件的至少單面的本發(fā)明的清潔層。在優(yōu)選的實(shí)施方式中，本發(fā)明的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件的上述清潔層直接貼附在上述搬送構(gòu)件上。在優(yōu)選的實(shí)施方式中，本發(fā)明的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件的上述清潔層借助粘合劑層貼附在上述搬送構(gòu)件上。在本發(fā)明的另一實(shí)施方式中提供一種基板處理裝置的清潔方法。本發(fā)明的基板處理裝置的清潔方法中，將本發(fā)明的清潔片、或者本發(fā)明的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件在基板處理裝置內(nèi)搬送。在本發(fā)明的另一實(shí)施方式中提供一種基板處理裝置。本發(fā)明的基板處理裝置使用本發(fā)明的清潔方法進(jìn)行清潔。發(fā)明的效果依據(jù)本發(fā)明，可提供一種異物去除性能及搬送性能優(yōu)異，且可效率尤其良好地去除具有規(guī)定粒徑的異物的清潔片及帶有清潔功能的搬送構(gòu)件。另外，依據(jù)本發(fā)明，可提供一種使用這種清潔片及帶有清潔功能的搬送構(gòu)件的基板處理裝置的清潔方法。另外，依據(jù)本發(fā)明，可提供一種使用這種清潔方法進(jìn)行清潔的基板處理裝置。上述效果通過(guò)以下方式而充分表現(xiàn)采用具備實(shí)質(zhì)上不具有粘合力的清潔層的清潔片來(lái)作為清潔片，將該清潔層的至少一部分的平均表面粗糙度Ra設(shè)計(jì)為規(guī)定值以上，且將該清潔層的對(duì)硅晶圓的鏡面的剝離粘合力設(shè)計(jì)為小于規(guī)定值。


圖1是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的清潔片的示意剖面圖。圖2是本發(fā)明的另一優(yōu)選實(shí)施方式的清潔片的示意剖面圖。圖3是從實(shí)施例中所使用的晶圓(3)的上表面看到的示意圖。圖4是從實(shí)施例中所使用的晶圓(5)的上表面看到的示意圖。附圖標(biāo)記說(shuō)明
10清潔層
20粘合劑層
30保護(hù)膜
40支持體
100清潔片
具體實(shí)施例方式《A.清潔片》圖1是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的清潔片的示意剖面圖。該清潔片100具備清潔層 10、粘合劑層20、及保護(hù)膜30。粘合劑層20及/或保護(hù)膜30可根據(jù)目的而省略。S卩，清潔片可由清潔層單獨(dú)構(gòu)成。圖2是本發(fā)明的另一優(yōu)選實(shí)施方式的清潔片的示意剖面圖。該清潔片100具備清潔層10、粘合劑層20、保護(hù)膜30及支持體40。粘合劑層20及/或保護(hù)膜 30可根據(jù)目的而省略。本發(fā)明中，清潔層實(shí)質(zhì)上不具有粘合力。即，例如由粘合性物質(zhì)形成的清潔層、及利用固著粘合帶而形成的清潔層，從本發(fā)明的清潔層中被排除。若本發(fā)明的清潔片具備具有粘合力的清潔層，則有該清潔層與裝置的接觸部分過(guò)于牢固地粘接而無(wú)法分離之虞。其結(jié)果為有可能產(chǎn)生無(wú)法確實(shí)地搬送基板的問(wèn)題、及使搬送裝置破損的問(wèn)題。本發(fā)明的清潔層具有平均表面粗糙度Ra為0. 10 μ m以上的凹凸形狀部分。通過(guò)清潔層具有這種特定的表面形狀，不僅可極其有效率地去除具有規(guī)定粒徑(代表性而言為
0.2 2. 0 μ m)的異物，并且可確實(shí)地搬送基板。本發(fā)明的清潔層所具有的上述凹凸形狀部分的平均表面粗糙度Ra優(yōu)選為0. 10
1.Ομπι，更優(yōu)選為0. 10 0. 80 μ m，進(jìn)一步優(yōu)選為0. 15 0. 60 μ m，特別優(yōu)選為0. 20 0. 60 μ m。通過(guò)平均表面粗糙度Ra處于上述范圍，不僅可進(jìn)一步極其有效率地去除具有規(guī)定粒徑(代表性而言為0. 2 2. 0 μ m)的異物，并且可確實(shí)地搬送基板。上述平均表面粗糙度Ra可使用觸針式表面粗糙度測(cè)定裝置(Veeco公司制造， DectakS)來(lái)測(cè)定。測(cè)定速度為1 μ m/秒，測(cè)定范圍為2. 0mm，只要使金剛石制觸針(前端部的曲率為2 μ m)移動(dòng)即可。只要具有如上所述的平均表面粗糙度Ra，則作為上述凹凸形狀部分的凹凸形狀， 可采用任意適當(dāng)?shù)男螤?。作為凹凸形狀的具體例，可列舉溝槽形狀、條紋形狀、突起形狀、 凹陷(小凹坑)形狀、如砂紙表面的粗澀的表面形狀。本發(fā)明的清潔層的拉伸彈性模量在清潔層的使用溫度區(qū)域中，優(yōu)選為2000MPa以下，更優(yōu)選為0. 5 2000MPa，進(jìn)一步優(yōu)選為1 lOOOMPa。若拉伸彈性模量為上述范圍，則獲得異物去除性能與搬送性能的平衡優(yōu)異的清潔層。此外，拉伸彈性模量依據(jù)JIS K7127 來(lái)測(cè)定。本發(fā)明的清潔層如上所述，實(shí)質(zhì)上不具有粘合力。具體而言，對(duì)硅晶圓的鏡面的剝離粘合力小于0. 20N/10mm，優(yōu)選為0. 01 0. 10N/10mm，所述剝離粘合力是JIS-Z-0237中規(guī)定的180°的剝離粘合力。若為上述范圍，則清潔層實(shí)質(zhì)上不具有粘合力，可避免該清潔層與裝置的接觸部分過(guò)于牢固地粘接而無(wú)法分離的問(wèn)題、其結(jié)果是，可以避免無(wú)法確實(shí)地搬送基板的問(wèn)題及使搬送裝置破損的問(wèn)題、以及除塵性差的問(wèn)題。
本發(fā)明的清潔層的厚度優(yōu)選為0. 1 100 μ m,更優(yōu)選為0. 5 50 μ m，進(jìn)一步優(yōu)選為1 50μπι。若為上述范圍，則獲得異物的去除性能與搬送性能的平衡優(yōu)異的清潔層。作為構(gòu)成本發(fā)明的清潔層的材料，可根據(jù)目的及凹凸的形成方法來(lái)采用任意適當(dāng)?shù)牟牧稀Ｗ鳛闃?gòu)成清潔層的材料的具體例，可列舉耐熱性樹(shù)脂、能量線固化性樹(shù)脂。優(yōu)選為耐熱性樹(shù)脂。通過(guò)采用耐熱性樹(shù)脂，則即便用于例如臭氧灰化機(jī)、PVD(PhysiCal Vapor D印osition，物理氣相沉積)裝置、氧化擴(kuò)散爐、常壓CVD(Chemical Vapor D印osition，化學(xué)氣相沉積)裝置、減壓CVD裝置、等離子CVD裝置等在高溫下使用的裝置時(shí)，也可使用，且在搬送時(shí)不會(huì)產(chǎn)生處理裝置內(nèi)的搬送不良及污染。在本發(fā)明中，構(gòu)成清潔層的材料可直接使用而形成清潔層，也可溶解在任意適當(dāng)?shù)娜軇┲衼?lái)使用而形成清潔層。作為上述耐熱性樹(shù)脂，優(yōu)選不含污染基板處理裝置的物質(zhì)的樹(shù)脂。作為這種樹(shù)脂， 例如可列舉如半導(dǎo)體制造裝置中使用的耐熱性樹(shù)脂。作為具體例，可列舉聚酰亞胺、氟樹(shù)脂。優(yōu)選為聚酰亞胺。優(yōu)選為上述聚酰亞胺可將聚酰胺酸進(jìn)行酰亞胺化而獲得。該聚酰胺酸可使四羧酸二酐成分與二胺成分實(shí)質(zhì)上以等摩爾比，在任意適當(dāng)?shù)挠袡C(jī)溶劑中進(jìn)行反應(yīng)而獲得。作為上述四羧酸二酐成分，例如可列舉3，3' ,4,4'-聯(lián)苯基四甲酸二酐、2， 2' ,3,3'-聯(lián)苯基四甲酸二酐、3，3' ,4,4' -二苯甲酮四甲酸二酐、2，2 ‘ ,3,3' -二苯甲酮四甲酸二酐、4，4'-氧雙鄰苯二甲酸二酐、2，2_雙(2，3_二羧基苯基)六氟丙烷二酐、 2，2-雙(3，4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐(6FDA)、雙(2，3-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(3， 4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2，3-二羧基苯基)砜二酐、雙(3，4-二羧基苯基)砜二酐、 均苯四甲酸二酐、乙二醇雙偏苯三甲酸二酐。這些可單獨(dú)使用，也可組合使用2種以上。作為上述二胺成分，例如可列舉具有至少兩個(gè)含有胺結(jié)構(gòu)的末端且具有聚醚結(jié)構(gòu)的二胺化合物(以下有時(shí)稱為PE 二胺化合物)、脂肪族二胺、芳香族二胺。就可獲得高耐熱性、低應(yīng)力的低彈性模量聚酰亞胺樹(shù)脂的方面而言，優(yōu)選PE 二胺化合物。作為PE 二胺化合物，只要為具有聚醚結(jié)構(gòu)且具有至少兩個(gè)含有胺結(jié)構(gòu)的末端的化合物，則可采用任意適當(dāng)?shù)幕衔?。例如可列舉具有聚丙二醇結(jié)構(gòu)的末端二胺、具有聚乙二醇結(jié)構(gòu)的末端二胺、具有聚1，4_ 丁二醇結(jié)構(gòu)的末端二胺、以及具有上述多種結(jié)構(gòu)的末端二胺等。更具體而言，優(yōu)選由環(huán)氧乙烷、環(huán)氧丙烷、聚1，4_ 丁二醇、聚胺、或者這些的混合物來(lái)制備的具有至少兩個(gè)含有胺結(jié)構(gòu)的末端的PE 二胺化合物。作為脂肪族二胺，例如可列舉乙二胺、1，6-己二胺、1，8- 二氨基癸烷、1，10- 二氨基癸烷、1,12- 二氨基十二烷、4，9- 二氧雜-1，12- 二氨基十二烷、1，3-雙(3-氨基丙基)_1， 1，3，3-四甲基二硅氧烷(α，ω-雙氨基丙基四甲基二硅氧烷)等。作為脂肪族二胺的分子量，通常優(yōu)選為50 1000000，更優(yōu)選為100 30000。作為芳香族二胺，例如可列舉4，4' -二氨基二苯醚、3，4' -二氨基二苯醚、3， 3' - 二氨基二苯醚、間苯二胺、對(duì)苯二胺、4，4' - 二氨基二苯基丙烷、3，3' -二氨基二苯基甲烷、4，4' - 二氨基二苯基硫醚、3，3' - 二氨基二苯基硫醚、4，4' -二氨基二苯基砜、 3,3' -二氨基二苯基砜、1，4-雙(4-氨基苯氧基)苯、1，3_雙(4-氨基苯氧基)苯、1，3_雙 (3-氨基苯氧基)苯、1，3_雙(4-氨基苯氧基)-2，2_ 二甲基丙烷、4，4' -二氨基二苯甲酮寸。
作為用于上述四羧酸二酐與二胺的反應(yīng)的有機(jī)溶劑，例如可列舉N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N, N-二甲基甲酰胺。為了調(diào)整原材料等的溶解性，也可并用非極性溶劑(例如甲苯或二甲苯)。上述四羧酸二酐與二胺的反應(yīng)溫度優(yōu)選為40°C以上，進(jìn)一步優(yōu)選為50 150°C。 若為這種反應(yīng)溫度，則可防止凝膠化。其結(jié)果為，反應(yīng)系統(tǒng)中并不殘留凝膠分，因此過(guò)濾時(shí)的堵塞等得以防止，從反應(yīng)系統(tǒng)中去除異物變得容易。進(jìn)而，若為這種反應(yīng)溫度，則均勻的反應(yīng)得以實(shí)現(xiàn)，因此可防止所得樹(shù)脂的特性的不均。上述聚酰胺酸的酰亞胺化代表性而言，通過(guò)在惰性氣體環(huán)境(代表而言為真空或氮?dú)猸h(huán)境)下加熱處理而進(jìn)行。加熱處理溫度優(yōu)選為150°C以上，進(jìn)一步優(yōu)選為180 450°C。若為這種溫度，則可實(shí)質(zhì)上完全去除樹(shù)脂中的揮發(fā)成分。另外，通過(guò)在惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行處理，可防止樹(shù)脂的氧化及劣化。上述能量線固化性樹(shù)脂代表性而言，是包含粘合性物質(zhì)、能量線固化性物質(zhì)及能量線固化引發(fā)劑的組合物。作為上述能量線固化性樹(shù)脂中可含有的粘合性物質(zhì)，可根據(jù)目的而采用任意適當(dāng)?shù)恼澈闲晕镔|(zhì)。粘合性物質(zhì)的重均分子量?jī)?yōu)選為50 100萬(wàn)，進(jìn)一步優(yōu)選為60 90萬(wàn)。 此外，粘合劑性物質(zhì)也可為調(diào)配有交聯(lián)劑、增粘劑、塑化劑、填充劑、抗老化劑等適當(dāng)添加劑。在一個(gè)實(shí)施方式中，作為上述能量線固化性樹(shù)脂中可含有的粘合性物質(zhì)，使用壓敏粘接性聚合物。壓敏粘接性聚合物適宜用于在清潔層的凹凸形成時(shí)使用噴嘴法(后述)的情況。 作為壓敏粘接性聚合物的代表例，可列舉以(甲基)丙烯酸及/或(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸系單體為主單體的丙烯酸系聚合物。丙烯酸系聚合物可單獨(dú)或組合使用。根據(jù)需要， 也可在丙烯酸系聚合物的分子內(nèi)導(dǎo)入不飽和雙鍵，用于對(duì)該丙烯酸系聚合物本身賦予能量線固化性。作為導(dǎo)入不飽和雙鍵的方法，例如可列舉將丙烯酸系單體與分子內(nèi)具有2個(gè)以上不飽和雙鍵的化合物進(jìn)行共聚合的方法、使丙烯酸系聚合物與分子內(nèi)具有2個(gè)以上不飽和雙鍵的化合物的官能團(tuán)彼此進(jìn)行反應(yīng)的方法。在另一實(shí)施方式中，作為上述能量線固化性樹(shù)脂中可含有的粘合性物質(zhì)，可使用調(diào)配橡膠系或丙烯酸系、乙烯基烷基醚系或聚硅酮系、聚酯系或聚酰胺系、氨基甲酸酯系或苯乙烯-二烯嵌段共聚物系、熔點(diǎn)為約200°C以下等的熱熔融性樹(shù)脂而改良了蠕變特性的粘合劑(例如日本特開(kāi)昭56-61468號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)昭61-174857號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)昭 63-17981號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)昭56-13040號(hào)公報(bào))等。這些可單獨(dú)或組合使用。更具體而言，上述粘合劑優(yōu)選為以天然橡膠或各種合成橡膠作為基底聚合物的橡膠系粘合劑；或者以使用1種或2種以上的丙烯酸系烷基酯的丙烯酸系共聚物作為基底聚合物的丙烯酸系粘合劑，所述丙烯酸系烷基酯包含具有如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基或己基、庚基或2-乙基己基、異辛基、異癸基、十二烷基、月桂基、十三烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基等碳數(shù)為20以下的烷基的丙烯酸或甲基丙烯酸等的酯。作為上述丙烯酸系共聚物，可根據(jù)目的而使用任意適當(dāng)?shù)谋┧嵯倒簿畚铩Ｔ摫┧嵯倒簿畚锟梢曅枰哂心哿?、耐熱性或交?lián)性等。例如可列舉如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、馬來(lái)酸、富馬酸、丁烯酸等之類的含羧基的單體；如馬來(lái)酸酐、衣康酸酐等之類的酸酐單體；如(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸羥基己酯、(甲基)丙烯酸羥基辛酯、(甲基)丙烯酸羥基癸酯、(甲基)丙烯酸羥基月桂酯、甲基丙烯酸(4-羥基甲基環(huán)己基)_甲酯等之類的含羥基的單體；如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2_(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯酰胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯酰氧基萘磺酸等之類的含磺基的單體；如(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基) 丙烯酰胺、N-羥甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯酰胺等之類的(N-取代)酰胺系單體；如(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯等之類的(甲基)丙烯酸烷基氨基酯系單體；如(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等之類的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；如 N-環(huán)己基馬來(lái)酰亞胺、N-異丙基馬來(lái)酰亞胺、N-月桂基馬來(lái)酰亞胺、N-苯基馬來(lái)酰亞胺等之類的馬來(lái)酰亞胺系單體；如N-甲基衣康酰亞胺、N-乙基衣康酰亞胺、N-丁基衣康酰亞胺、 N-辛基衣康酰亞胺、N-2-乙基己基衣康酰亞胺、N-環(huán)己基衣康酰亞胺、N-月桂基衣康酰亞胺等之類的衣康酰亞胺系單體；如N-(甲基)丙烯酰氧基亞甲基琥珀酰亞胺、N-(甲基)丙烯?；?6-氧基六亞甲基琥珀酰亞胺、N-(甲基)丙烯?；?8-氧基八亞甲基琥珀酰亞胺等之類的琥珀酰亞胺系單體；如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基乙烯基吡咯烷酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌嗪、乙烯基吡嗪、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基噁唑、乙烯基嗎啉、N-乙烯基羧酸酰胺類、苯乙烯、α -甲基苯乙烯、N-乙烯基己內(nèi)酰胺等之類的乙烯基系單體；如丙烯腈、甲基丙烯腈等之類的氰基丙烯酸酯單體； 如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等之類的含環(huán)氧基的丙烯酸系單體；如(甲基)丙烯酸聚乙二醇、(甲基)丙烯酸聚丙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇等之類的二醇系丙烯酸酯單體；如(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚硅酮(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯等之類的丙烯酸酯系單體；如己二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯等之類的多官能單體；異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯醚等適當(dāng)單體等的2種以上的共聚合。這些單體的調(diào)配比等可以根據(jù)目的而適當(dāng)設(shè)定。
作為上述能量線固化性物質(zhì)，可采用能利用能量線(優(yōu)選為光，進(jìn)一步優(yōu)選為紫外線)而與上述粘合性物質(zhì)反應(yīng)而作為形成三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)時(shí)的交聯(lián)點(diǎn)(分支點(diǎn))而發(fā)揮功能的任意適當(dāng)?shù)奈镔|(zhì)。作為能量線固化性物質(zhì)的代表例，可列舉分子內(nèi)具有1個(gè)以上不飽和雙鍵的化合物(以下稱為聚合性不飽和化合物)。優(yōu)選聚合性不飽和化合物為不揮發(fā)性， 且重均分子量為10000以下，進(jìn)一步優(yōu)選為5000以下。若為這樣的分子量，則上述粘合性物質(zhì)可效率良好地形成三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。作為能量線固化性物質(zhì)的具體例，可列舉苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、ε-己內(nèi)酯(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、 聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基) 丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯、寡聚酯(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇單羥基五丙烯酸酯、1，4_ 丁二醇二丙烯酸酯、1，6_己二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯等。這些可以單獨(dú)或組合使用。能量線固化性物質(zhì)相對(duì)于上述粘合性物質(zhì)100重量份，優(yōu)選為以0. 1 50重量份的比例使用。
另外，作為能量線固化性物質(zhì)也可使用能量線固化性樹(shù)脂。作為能量線固化性樹(shù)脂的具體例，可列舉分子末端具有(甲基)丙烯?；孽?甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯 (甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸樹(shù)脂(甲基)丙烯酸酯、分子末端具有烯丙基的硫醇-烯加成型樹(shù)脂及光陽(yáng)離子聚合型樹(shù)脂、聚乙烯基肉桂酸酯等含肉桂?；木酆衔?、經(jīng)重氮化了的氨基酚醛清漆樹(shù)脂及丙烯酰胺型聚合物等含感光性反應(yīng)基的聚合物或者寡聚物等。進(jìn)而，作為以能量線進(jìn)行反應(yīng)的聚合物，可列舉環(huán)氧化聚丁二烯、不飽和聚酯、聚甲基丙烯酸縮水甘油酯、聚丙烯酰胺、聚乙烯基硅氧烷等。 這些可以單獨(dú)或組合使用。能量線固化性樹(shù)脂的重均分子量?jī)?yōu)選為50 100萬(wàn)，進(jìn)一步優(yōu)選為60 90萬(wàn)。作為上述能量線固化引發(fā)劑，可根據(jù)目的而采用任意適當(dāng)?shù)墓袒l(fā)劑(聚合引發(fā)劑)。例如，在使用熱作為能量線的情況下，使用熱聚合引發(fā)劑，在使用光作為能量線的情況下，使用光聚合引發(fā)劑。作為熱聚合引發(fā)劑的具體例，可列舉過(guò)氧化苯甲酰、偶氮雙異丁腈。作為光聚合引發(fā)劑的具體例，可列舉安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、2，2_ 二甲氧基-1，2- 二苯基乙烷-1-酮等安息香醚；苯甲醚甲醚等經(jīng)取代的安息香醚；2，2- 二乙氧基苯乙酮、2，2- 二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羥基-環(huán)己基-苯基酮等經(jīng)取代的苯乙酮； 芐基甲基縮酮、苯乙酮二乙基縮酮等縮酮；氯噻噸酮、十二烷基噻噸酮、二甲基噻噸酮等氧雜蒽酮；二苯甲酮、米其勒酮等二苯甲酮；2-甲基-2-羥基苯丙酮等經(jīng)取代的α -酮醇； 2-萘磺酰氯等芳香族磺酰氯；1-苯基-1，1-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)_肟等光活性肟； 苯甲酰；二芐基；α -羥基環(huán)己基苯基酮；2-羥基甲基苯基丙烷。能量線固化引發(fā)劑相對(duì)于能量線固化性物質(zhì)100重量份，優(yōu)選為以0. 1 10重量份的比例使用。構(gòu)成本發(fā)明的清潔層的材料，可根據(jù)目的還含有任意適當(dāng)?shù)奶砑觿?。作為添加劑的具體例，可列舉表面活性劑、塑化劑、抗氧化劑、導(dǎo)電性賦予材、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定化劑。通過(guò)調(diào)整所使用的添加劑的種類及/或量，可獲得具有符合目的的所需特性的清潔層。本發(fā)明的清潔片也可具備支持體。支持體的厚度可適當(dāng)選擇，優(yōu)選為500μπι以下，更優(yōu)選為1 300 μ m，進(jìn)一步優(yōu)選為1 100 μ m。為提高與鄰接的層的密著性、保持性等，支持體的表面可實(shí)施慣用的表面處理，例如鉻酸處理、臭氧曝露、火焰曝露、高壓電擊曝露、離子化輻射處理等化學(xué)或物理處理，及利用底涂劑(例如上述粘合性物質(zhì))的涂布處理。此外，支持體可為單層，也可為多層體。支持體可以根據(jù)目的而采用任意適當(dāng)?shù)闹С煮w。例如可列舉工程塑料及超級(jí)工程塑料的膜。作為工程塑料及超級(jí)工程塑料的具體例，可列舉聚酰亞胺、聚乙烯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、乙酰纖維素、聚碳酸酯、聚丙烯、聚酰胺。分子量等諸物性可根據(jù)目的而適當(dāng)選擇。另外，支持體的成形方法可根據(jù)目的而適當(dāng)選擇。本發(fā)明的清潔片可具備粘合劑層。作為這種粘合劑層的材料，可采用任意適當(dāng)?shù)牟牧?。例如可使用包含丙烯酸系或橡膠系等通常的粘合劑的材料。其中，作為丙烯酸系粘合劑，優(yōu)選使用以重均分子量為10萬(wàn)以下的成分為10重量％以下的丙烯酸系聚合物為主劑的丙烯酸系粘合劑。上述丙烯酸系聚合物可通過(guò)使以(甲基)丙烯酸烷基酯為主單體， 并且根據(jù)需要而添加有可共聚合的其它單體的單體混合物進(jìn)行聚合反應(yīng)而合成。本發(fā)明的粘合劑層對(duì)硅晶圓的鏡面的剝離粘合力優(yōu)選為0. 01 10N/10mm，更優(yōu)選0. 05 5N/10mm，所述剝離粘合力是在JIS-Z-0237中規(guī)定的180°的剝離粘合力。若粘合力過(guò)高，則在將清潔片自基板等上剝離去除時(shí)，有支持體膜破裂之虞。本發(fā)明的粘合劑層的厚度優(yōu)選為1 100 μ m,更優(yōu)選為5 50 μ m。為保護(hù)清潔層或支持體，本發(fā)明的清潔片可具有保護(hù)膜。保護(hù)膜在適當(dāng)?shù)碾A段剝離。保護(hù)膜可視目的而采用任意適當(dāng)?shù)哪?。例如可列舉包含聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚丁二烯、聚甲基戊烯等聚烯烴、聚氯乙烯、氯乙烯共聚物、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二酯、聚氨基甲酸酯、乙烯乙酸乙烯酯共聚物、離子聚合物樹(shù)脂、乙烯_(甲基)丙烯酸共聚物、乙烯_(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚苯乙烯、聚碳酸酯等的塑料膜，或聚酰亞胺、氟樹(shù)脂膜。保護(hù)膜可根據(jù)目的而以剝離劑等實(shí)施剝離處理。剝離劑例如可列舉聚硅酮系、長(zhǎng)鏈烷基系、氟系、脂肪酸酰胺系、二氧化硅系。該保護(hù)膜的厚度優(yōu)選為1 100 μ m。保護(hù)膜的形成方法可視目的而適當(dāng)選擇，例如可利用注射模塑成形法、擠出成形法、吹脹成形法而形成。作為制造本發(fā)明的清潔片的方法，可在獲得本發(fā)明的清潔片的范圍內(nèi)采用任意適當(dāng)?shù)闹圃旆椒?。作為?yōu)選制造方法的一例，可列舉利用激光加工而在任意適當(dāng)?shù)幕牡谋砻娴闹辽僖徊糠中纬砂纪?，在該基材的表面上形成清潔層的方法。即，通過(guò)在基板的表面設(shè)置凹凸，在該表面上形成清潔層，而將清潔層表面的平均表面粗糙度Ra控制為規(guī)定大小。作為上述基材，可采用任意適當(dāng)?shù)幕摹＠缈闪信e半導(dǎo)體晶圓(例如硅晶圓)、 LCD (Liquid Crystal Display，液晶顯示器)、PDP (Plasma Display Panel，等離子顯示面板)等平板顯示器用基板、光盤、MR頭(Magneto-Resistive head，磁電阻頭)等?！禕.帶有清潔功能的搬送構(gòu)件》本發(fā)明的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件具備搬送構(gòu)件、設(shè)置在該搬送構(gòu)件的至少單面的本發(fā)明的清潔層。作為上述搬送構(gòu)件，可采用任意適當(dāng)?shù)陌崴蜆?gòu)件。例如可列舉半導(dǎo)體晶圓(例如硅晶圓)、IXD、PDP等平板顯示器用基板、光盤、MR頭等基材。本發(fā)明的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件中，上述清潔層可直接貼附在上述搬送構(gòu)件上，也可借助粘合劑層而貼附在上述搬送構(gòu)件上。作為上述粘合劑層，可采用任意適當(dāng)?shù)恼澈蟿?。?yōu)選為可采用上述A.清潔片的項(xiàng)目中所說(shuō)明的粘合劑層?！禖.清潔方法》本發(fā)明的清潔方法為基板處理裝置的清潔方法，其通過(guò)將本發(fā)明的清潔片、或者本發(fā)明的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件在基板處理裝置內(nèi)搬送，與其被清洗部位接觸，由此將附著在該被清洗部位的異物簡(jiǎn)便且確實(shí)地清潔去除。利用上述清潔方法清洗的基板處理裝置并無(wú)特別限定。作為基板處理裝置的具體例，除本說(shuō)明書中已記載的裝置以外，可列舉電路形成用曝光照射裝置、抗蝕劑涂布裝置、 濺射鍍裝置、離子注入裝置、干式蝕刻裝置、探針儀等各種制造裝置或檢查裝置，進(jìn)而可列舉臭氧灰化機(jī)、抗蝕劑涂布機(jī)、氧化擴(kuò)散爐、常壓CVD裝置、減壓CVD裝置、等離子CVD裝置等在高溫下使用的基板處理裝置等?！禖.基板處理裝置》本發(fā)明的基板處理裝置是使用本發(fā)明的清潔方法而進(jìn)行清潔的裝置。本發(fā)明的基板處理裝置是將本發(fā)明的清潔片、或者本發(fā)明的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件在該基板處理裝置內(nèi)搬送而被清潔了的裝置，因此能夠成為效率尤其良好地去除具有規(guī)定粒徑、尤其是0. 2 2. 0 μ m粒徑的異物的基板處理裝置。實(shí)施例以下，通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的說(shuō)明，但本發(fā)明并不限定于這些實(shí)施例。 需要說(shuō)明的是，只要未特別說(shuō)明，則實(shí)施例中的份及％為重量(質(zhì)量)基準(zhǔn)。(1)平均表面粗糙度Ra平均表面粗糙度Ra使用觸針式表面粗糙度測(cè)定裝置(Veeco公司制造，DectakS) 進(jìn)行測(cè)定。測(cè)定速度為Iym/秒，測(cè)定范圍為2. 0mm，使金剛石制觸針(前端部的曲率為 2ym)移動(dòng)而測(cè)定。(2)拉伸彈性模量依據(jù)JIS Κ7127進(jìn)行測(cè)定。具體而言，在規(guī)定的基材上形成清潔層后，剝離該清潔層，使用動(dòng)態(tài)粘彈性測(cè)定裝置進(jìn)行測(cè)定。(3)180°剝離粘合力在硅晶圓的鏡面形成清潔層，依據(jù)JIS-Z-0237進(jìn)行測(cè)定。(4)清潔性能評(píng)價(jià)方法通過(guò)使用異物檢查裝置(KLA Tencor制造，SFS6200)(以下，稱為裝置Α)，測(cè)定硅晶圓鏡面上的0. 200 μ m以上的異物數(shù)而進(jìn)行評(píng)價(jià)。更詳細(xì)而言，通過(guò)將清潔構(gòu)件在清潔片制造用襯膜剝離裝置(日東精機(jī)制造，HR-300CW)(以下稱為裝置B)中搬送，測(cè)定清潔構(gòu)件的搬送前后的異物數(shù)而進(jìn)行評(píng)價(jià)。具體方法如以下所述。向裝置B中，首先使新品的硅晶圓鏡面朝下，以鏡面與搬送臂或夾盤接觸的方式自動(dòng)搬送(面朝下搬送)。然后，使用裝置A測(cè)定附著在鏡面的異物數(shù)(將此時(shí)的異物數(shù)稱為“異物數(shù)1”)。其后，在裝置B中搬送本發(fā)明的清潔構(gòu)件而進(jìn)行清潔處理后，再度將新品晶圓進(jìn)行面朝下搬送，使用裝置A測(cè)定此時(shí)附著的異物數(shù)(將此時(shí)的異物數(shù)稱為“異物數(shù) 2，，)。利用以下的式算出異物去除率作為清潔構(gòu)件的清潔效果的參數(shù)。異物去除率=[100-(異物數(shù)2)/(異物數(shù)1) X 100]%(5)搬送性利用裝置B在夾盤上搬送，進(jìn)行真空吸附，解除真空后，根據(jù)是否可利用起模頂針將清潔構(gòu)件從夾盤上剝離來(lái)進(jìn)行評(píng)價(jià)。[實(shí)施例1]相對(duì)于由包含丙烯酸-2-乙基己酯75份、丙烯酸甲酯20份、及丙烯酸5份的單體混合液所獲得的丙烯酸系聚合物(重均分子量70萬(wàn))100份，均勻地混合聚乙二醇200 二甲基丙烯酸酯(新中村化學(xué)制造，商品名NK酯4G)200份、聚異氰酸酯化合物(日本聚氨酯工業(yè)制造，商品名foronate L)3份、以及作為光聚合引發(fā)劑的苯偶酰二甲基縮酮(汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)制造，商品名Irgacure 651) 3份，制備紫外線固化型粘合劑溶液A。另一方面，向具備溫度計(jì)、攪拌機(jī)、氮導(dǎo)入管及回流冷卻管的內(nèi)容量為500ml的3 口燒瓶型反應(yīng)器內(nèi)，投入丙烯酸2-乙基己酯73份、丙烯酸正丁酯10份、N，N- 二甲基丙烯酰胺15份、以及丙烯酸5份、作為聚合引發(fā)劑的2，2'-偶氮雙異丁腈0. 15份、乙酸乙酯100 份，調(diào)配成整體達(dá)200g，一邊導(dǎo)入氮?dú)饧s1小時(shí)，一邊進(jìn)行攪拌，以氮?dú)庵脫Q內(nèi)部的空氣。其后，使內(nèi)部的溫度達(dá)到58°C，在該狀態(tài)下保持約4小時(shí)而進(jìn)行聚合，獲得粘合劑聚合物溶液。在粘合劑聚合物溶液100份中均勻地混合聚異氰酸酯化合物(日本聚胺酯工業(yè)制造，商品名foronate L) 3份，獲得粘合劑溶液B。在單面為由聚丙烯膜(厚度30 μ m、寬度250mm)構(gòu)成的分隔件的剝離處理面上， 涂布上述粘合劑溶液B，以使干燥后的厚度成為7 μ m,在該粘合劑層上層疊長(zhǎng)條聚酯膜(厚度25 μ m、寬度250mm)，進(jìn)而在該膜上涂布紫外線固化型粘合劑溶液A，以使干燥后的厚度成為15 μ m，設(shè)置作為清潔層的粘合劑層，在其表面貼合單面為由經(jīng)非聚硅酮?jiǎng)冸x劑處理的
長(zhǎng)鏈聚酯膜構(gòu)成的保護(hù)膜(保護(hù)膜A)(厚度25 μ m、寬度250mm)的剝離處理面，獲得片材 ⑴。該保護(hù)膜A的平均表面粗糙度Ra為0. 12 μ m。向該片材(1)上，以累計(jì)光量lOOOmJ/cm2照射中心波長(zhǎng)365nm的紫外線，獲得具有經(jīng)紫外線固化的清潔層的清潔片(1)。剝離該清潔片(1)的保護(hù)膜A，測(cè)定對(duì)硅晶圓(鏡面)的180°剝離粘合力(依據(jù)JIS-Z-0237進(jìn)行測(cè)定)，結(jié)果為0. 05N/10mm。該清潔層的紫外線固化后的拉伸強(qiáng)度為 460MPa。剝離該清潔片(1)的分隔件，以手壓輥貼附在8英寸的硅晶圓的鏡面上，制作帶有背面保護(hù)材的晶圓(1)。繼而，剝離帶有背面保護(hù)材的晶圓(1)的保護(hù)膜A，制成帶有清潔功能的搬送構(gòu)件 ⑴。帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(1)的清潔層的平均表面粗糙度Ra為0. 11 μ m。以激光式異物測(cè)定裝置測(cè)定新品的8英寸的硅晶圓的鏡面的0. 200 μ m以上的異物，結(jié)果為4個(gè)。將該晶圓以鏡面為下側(cè)而在裝置A中搬送后，以激光式異物測(cè)定裝置測(cè)定 0. 200 μ m以上的異物數(shù)，結(jié)果按尺寸而言，在0. 200 0.219 μ m范圍內(nèi)為5552個(gè)，在 0. 219 0. 301 μ m范圍內(nèi)為6891個(gè)，在0. 301 0. 412 μ m范圍內(nèi)為4203個(gè)，在0. 412 0. 566 μ m范圍內(nèi)為3221個(gè)，在0. 566 0. 776 μ m范圍內(nèi)為3205個(gè)，在0. 776 1. 06 μ m 范圍內(nèi)為1532個(gè)，在1.06 1.46 μ m范圍內(nèi)為698個(gè)，在1.46 1.60 μ m范圍內(nèi)為492 個(gè)，在1. 60 μ m以上的范圍內(nèi)為925個(gè)，整體為沈719個(gè)(異物數(shù)1)。將帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(1)在上述附著有沈719個(gè)異物的裝置A中搬送10 次，結(jié)果可無(wú)障礙地搬送。其后，使新品的8英寸的硅晶圓的鏡面朝向下側(cè)而進(jìn)行搬送，測(cè)定0.200 μ m以上的異物數(shù)，結(jié)果按尺寸而言，在0. 200 0. 219 μ m范圍內(nèi)為22；34個(gè)，在0. 219 0. 301 μ m 范圍內(nèi)為2758個(gè)，在0. 301 0. 412 μ m范圍內(nèi)為1688個(gè)，在0. 412 0. 566 μ m范圍內(nèi)為 1308個(gè)，在0. 566 0. 776 μ m范圍內(nèi)為1309個(gè)，在0. 776 1. 06 μ m范圍內(nèi)為620個(gè)，在 1.06 1. 46 μ m范圍內(nèi)為282個(gè)，在1. 46 1. 60 μ m范圍內(nèi)為198個(gè)，在1.60μπι以上的范圍內(nèi)為371個(gè)，整體為10768個(gè)(異物數(shù)2)。由異物數(shù)1、異物數(shù)2算出的異物去除率整體為60%。將結(jié)果歸納在表1。[實(shí)施例2]在氮?dú)饬飨碌沫h(huán)境中，在70°C下向133g的N，N-二甲基乙酰胺(DAMc)中混合聚醚二胺(Sun Technochemical 制造，XTJ-510) 14. 8g、4，4' -DPE (DDE) 8. 45g、以及均苯四甲酸二酐(PMDA) 10. Og,使其反應(yīng)而獲得聚酰胺酸溶液A。冷卻后，將聚酰胺酸溶液A以旋涂機(jī)涂布在8英寸的硅晶圓的蝕刻面上，在90°C下干燥20分鐘，獲得帶有聚酰胺酸的搬送構(gòu)件(2)。將附聚酰胺酸的搬送構(gòu)件(2)在氮?dú)猸h(huán)境下，在300°C下熱處理2小時(shí)，形成厚度 30 μ m的聚酰亞胺被膜，獲得帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(2)。帶有清潔功能的搬送構(gòu)件O)的清潔層的平均表面粗糙度Ra為0. M μ m。將該帶有清潔功能的搬送構(gòu)件O)的清潔層從硅晶圓上剝離，測(cè)定對(duì)硅晶圓(鏡面)的180°剝離粘合力(依據(jù)JIS-Z-0237進(jìn)行測(cè)定)，結(jié)果為0. 03N/10mm。以激光式異物測(cè)定裝置測(cè)定新品的8英寸的硅晶圓的鏡面的0.200 μ m以上的異物，結(jié)果為5個(gè)。將該晶圓以鏡面為下側(cè)而在裝置A中搬送后，以激光式異物測(cè)定裝置測(cè)定 0. 200 μ m以上的異物數(shù)，結(jié)果按尺寸而言，在0. 200 0.219 μ m范圍內(nèi)為5551個(gè)，在 0. 219 0. 301 μ m范圍內(nèi)為6890個(gè)，在0. 301 0. 412 μ m范圍內(nèi)為4202個(gè)，在0. 412 0. 566 μ m范圍內(nèi)為3220個(gè)，在0. 566 0. 776 μ m范圍內(nèi)為3204個(gè)，在0. 776 1. 06 μ m 范圍內(nèi)為1531個(gè)，在1.06 1. 46 μ m范圍內(nèi)為697個(gè)，在1. 46 1. 60 μ m范圍內(nèi)為491 個(gè)，在1.60 μ m以上的范圍內(nèi)為擬4個(gè)，整體為26710個(gè)(異物數(shù)1)。將帶有清潔功能的搬送構(gòu)件( 在上述附著有沈710個(gè)異物的裝置A中搬送10 次，結(jié)果可無(wú)障礙地搬送。其后，使新品的8英寸的硅晶圓的鏡面朝向下側(cè)而進(jìn)行搬送，測(cè)定0.200 μ m以上的異物數(shù)，結(jié)果按尺寸而言，在0. 200 0. 219 μ m范圍內(nèi)為2187個(gè)，在0. 219 0. 301 μ m 范圍內(nèi)為2708個(gè)，在0. 301 0. 412 μ m范圍內(nèi)為1677個(gè)，在0. 412 0. 566 μ m范圍內(nèi)為 1273個(gè)，在0. 566 0. 776 μ m范圍內(nèi)為1256個(gè)，在0. 776 1. 06 μ m范圍內(nèi)為602個(gè)，在 1.06 1. 46 μ m范圍內(nèi)為274個(gè)，在1.46 1. 60 μ m范圍內(nèi)為194個(gè)，在1.60μπι以上的范圍內(nèi)為368個(gè)，整體為10539個(gè)(異物數(shù)2)。由異物數(shù)1、異物數(shù)2算出的異物去除率，整體為61%。將結(jié)果歸納在表1。[實(shí)施例3]在8英寸的硅晶圓的鏡面整個(gè)面上，將以SEMI規(guī)格所規(guī)定的用于ID識(shí)別的激光標(biāo)記形成于整個(gè)面，獲得如圖3的晶圓(3)。使用實(shí)施例2中記載的聚酰胺酸溶液Α，以旋涂機(jī)涂布于晶圓(3)的鏡面上，在120°C下干燥10分鐘，獲得帶有聚酰胺酸的搬送構(gòu)件(3)。將帶有聚酰胺酸的搬送構(gòu)件(3)在氮?dú)猸h(huán)境下，在300°C下熱處理2小時(shí)，形成厚度8 μ m的聚酰亞胺被膜，獲得帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(3)。帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(3)的清潔層的平均表面粗糙度Ra為0. 34 μ m。將該帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(3)的清潔層從硅晶圓上剝離，測(cè)定對(duì)硅晶圓(鏡面)的180°剝離粘合力(依據(jù)JIS-Z-0237進(jìn)行測(cè)定)，結(jié)果為0. 02N/10mm。以激光式異物測(cè)定裝置測(cè)定新品的8英寸的硅晶圓的鏡面的0. 200 μ m以上的異物，結(jié)果為2個(gè)。將該晶圓以鏡面為下側(cè)而在裝置A中搬送后，以激光式異物測(cè)定裝置測(cè)定0. 200 μ m以上的異物數(shù)，結(jié)果按尺寸而言，在0. 200 0. 219μπι范圍內(nèi)為5548個(gè)，在 0. 219 0. 301 μ m范圍內(nèi)為6887個(gè)，在0. 301 0. 412 μ m范圍內(nèi)為4199個(gè)，在0. 412 0. 566 μ m范圍內(nèi)為3217個(gè)，在0. 566 0. 776 μ m范圍內(nèi)為3201個(gè)，在0. 776 1. 06 μ m 范圍內(nèi)為15 個(gè)，在1.06 1.46 μ m范圍內(nèi)為694個(gè)，在1.46 1.60 μ m范圍內(nèi)為488 個(gè)，在1. 60 μ m以上的范圍內(nèi)為921個(gè)，整體為26683個(gè)(異物數(shù)1)。將帶有清潔功能的搬送構(gòu)件C3)在上述附著有26683個(gè)異物的裝置A中搬送10 次，結(jié)果可無(wú)障礙地搬送。其后，使新品的8英寸的硅晶圓的鏡面朝向下側(cè)而進(jìn)行搬送，測(cè)定0.200 μ m以上的異物數(shù)，結(jié)果按尺寸而言，在0. 200 0. 219 μ m范圍內(nèi)為1755個(gè)，在0. 219 0. 301 μ m 范圍內(nèi)為2184個(gè)，在0. 301 0. 412 μ m范圍內(nèi)為1309個(gè)，在0. 412 0. 566 μ m范圍內(nèi)為 1003個(gè)，在0. 566 0. 776 μ m范圍內(nèi)為1020個(gè)，在0. 776 1. 06 μ m范圍內(nèi)為477個(gè)，在 1.06 1. 46 μ m范圍內(nèi)為218個(gè)，在1.46 1. 60 μ m范圍內(nèi)為155個(gè)，在1.60μπι以上的范圍內(nèi)為292個(gè)，整體為8413個(gè)(異物數(shù)2)。由異物數(shù)1、異物數(shù)2算出的異物去除率整體為68%。將結(jié)果歸納在表1。[實(shí)施例4]將實(shí)施例1中記載的粘合劑溶液A以旋涂機(jī)涂布在200mm晶圓的蝕刻面上，在 90°C下干燥20分鐘，獲得附粘合劑的搬送構(gòu)件(4)。將該附粘合劑的搬送構(gòu)件(4)在氮?dú)猸h(huán)境(IOOOppm氧濃度)中，以累計(jì)光量
1000mJ/cm2照射中心波長(zhǎng)365nm的紫外線，獲得經(jīng)紫外線固化的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件⑷。帶有清潔功能的搬送構(gòu)件的清潔層的平均表面粗糙度Ra為0. 42 μ m。將該帶有清潔功能的搬送構(gòu)件的清潔層從硅晶圓上剝離，測(cè)定對(duì)硅晶圓(鏡面)的180°剝離粘合力(依據(jù)JIS-Z-0237進(jìn)行測(cè)定)，結(jié)果為0. 03N/10mm。以激光式異物測(cè)定裝置測(cè)定新品的8英寸的硅晶圓的鏡面的0. 200 μ m以上的異物，結(jié)果為5個(gè)。將該晶圓以鏡面為下側(cè)而在裝置A中搬送后，以激光式異物測(cè)定裝置測(cè)定 0. 200 μ m以上的異物數(shù)，結(jié)果按尺寸而言，在0. 200 0. 219 μ m范圍內(nèi)為5550個(gè)，在 0. 219 0. 301 μ m范圍內(nèi)為6889個(gè)，在0. 301 0. 412 μ m范圍內(nèi)為4201個(gè)，在0. 412
0.566 μ m范圍內(nèi)為3219個(gè)，在0. 566 0. 776 μ m范圍內(nèi)為3203個(gè)，在0. 776 1. 06 μ m 范圍內(nèi)為1530個(gè)，在1.06 1.46 μ m范圍內(nèi)為696個(gè)，在1.46 1.60 μ m范圍內(nèi)為490 個(gè)，在1.60 μ m以上的范圍內(nèi)為923個(gè)，整體為沈701(異物數(shù)1)。將帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(4)在上述附著有沈701個(gè)異物的裝置A中搬送10 次，結(jié)果可無(wú)障礙地搬送。其后，使新品的8英寸的硅晶圓的鏡面朝向下側(cè)而進(jìn)行搬送，測(cè)定0.200 μ m以上的異物數(shù)，結(jié)果按尺寸而言，在0. 200 0. 219 μ m范圍內(nèi)為2550個(gè)，在0. 219 0. 301 μ m 范圍內(nèi)為3100個(gè)，在0. 301 0. 412 μ m范圍內(nèi)為1889個(gè)，在0. 412 0. 566 μ m范圍內(nèi)為 1408個(gè)，在0. 566 0. 776 μ m范圍內(nèi)為1373個(gè)，在0. 776 1. 06 μ m范圍內(nèi)為619個(gè)，在
1.06 1. 46 μ m范圍內(nèi)為273個(gè)，在1. 46 1. 60 μ m范圍內(nèi)為190個(gè)，在1. 60 μ m以上的范圍內(nèi)為345個(gè)，整體為11747個(gè)(異物數(shù)2)。由異物數(shù)1、異物數(shù)2算出的異物去除率整體為56%。將結(jié)果歸納在表1。[實(shí)施例5]在8英寸的硅晶圓的鏡面上，將以SEMI規(guī)格所規(guī)定的用于ID識(shí)別的激光標(biāo)記 3mmX3mm形成為V凹坑部分，獲得如圖4的晶圓(5)。使用實(shí)施例2中記載的聚酰胺酸溶液A，以旋涂機(jī)涂布在晶圓(5)的鏡面，在120°C下干燥10分鐘，獲得附聚酰胺酸的搬送構(gòu)件⑶。將帶有聚酰胺酸的搬送構(gòu)件(5)在氮?dú)猸h(huán)境下，在300°C下熱處理2小時(shí)，形成厚度8 μ m的聚酰亞胺被膜，獲得帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(5)。帶有清潔功能的搬送構(gòu)件( 的清潔層的圖4記載的激光標(biāo)記形成區(qū)域的平均表面粗糙度Ra為0. 38 μ m。其以外的區(qū)域的平均表面粗糙度Ra為0. 005 μ m。將該帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(5)的清潔層從硅晶圓上剝離，測(cè)定對(duì)硅晶圓(鏡面)的180°剝離粘合力(依據(jù)JIS-Z-0237進(jìn)行測(cè)定)，結(jié)果為0. 03N/10mm。以激光式異物測(cè)定裝置測(cè)定新品的8英寸的硅晶圓的鏡面的0. 200 μ m以上的異物，結(jié)果為2個(gè)。將該晶圓以鏡面為下側(cè)而在裝置A中搬送后，以激光式異物測(cè)定裝置測(cè)定 0. 200 μ m以上的異物數(shù)，結(jié)果按尺寸而言，在0. 200 0.219 μ m范圍內(nèi)為5199個(gè)，在 0. 219 0. 301 μ m范圍內(nèi)為6493個(gè)，在0. 301 0. 412 μ m范圍內(nèi)為3900個(gè)，在0. 412 0. 566 μ m范圍內(nèi)為四87個(gè)，在0. 566 0. 776 μ m范圍內(nèi)為四76個(gè)，在0. 776 1. 06 μ m 范圍內(nèi)為1378個(gè)，在1.06 1. 46 μ m范圍內(nèi)為584個(gè)，在1. 46 1. 60 μ m范圍內(nèi)為405 個(gè)，在1.60 μ m以上的范圍內(nèi)為擬8個(gè)，整體為M753(異物數(shù)1)。將帶有清潔功能的搬送構(gòu)件( 在上述附著有24753個(gè)異物的裝置A中搬送10 次，結(jié)果可無(wú)障礙地搬送。其后，使新品的8英寸的硅晶圓的鏡面朝向下側(cè)而進(jìn)行搬送，測(cè)定0.200 μ m以上的異物數(shù)，結(jié)果按尺寸而言，在0. 200 0. 219 μ m范圍內(nèi)為1136個(gè)，在0. 219 0. 301 μ m 范圍內(nèi)為1487個(gè)，在0. 301 0. 412 μ m范圍內(nèi)為933個(gè)，在0. 412 0. 566 μ m范圍內(nèi)為 712個(gè)，在0. 566 0. 776 μ m范圍內(nèi)為768個(gè)，在0. 776 1. 06 μ m范圍內(nèi)為372個(gè)，在 1.06 1. 46 μ m范圍內(nèi)為156個(gè)，在1.46 1. 60 μ m范圍內(nèi)為114個(gè)，在1.60 μ m以上的范圍內(nèi)為243個(gè)，整體為5921個(gè)(異物數(shù)2)。由異物數(shù)1、異物數(shù)2算出的異物去除率整體為76%。將結(jié)果歸納在表1。[比較例1]在實(shí)施例1中，除代替保護(hù)膜A，將其變更為單面為由經(jīng)聚硅酮?jiǎng)冸x劑處理的長(zhǎng)鏈聚酯膜構(gòu)成的保護(hù)膜(保護(hù)膜B)以外，以與實(shí)施例1相同的方式獲得帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(Cl)。該保護(hù)膜B的平均表面粗糙度Ra為0. 009 μ m。帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(Cl)的平均表面粗糙度Ra為0. 012 μ m。將帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(Cl)在裝置A中搬送10次，結(jié)果3次發(fā)生粘附。
[比較例2]使用實(shí)施例2中記載的聚酰胺酸溶液A，以旋涂機(jī)涂布在8英寸的硅晶圓的鏡面， 在120°C下干燥10分鐘，獲得帶有聚酰胺酸的搬送構(gòu)件(C2)。將附聚酰胺酸的搬送構(gòu)件(以)在氮?dú)猸h(huán)境下，在300°C下熱處理2小時(shí)，形成厚度 8 μ m的聚酰亞胺被膜，獲得帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(C2)。帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(C2)的平均表面粗糙度Ra為0. 005 μ m。將帶有清潔功能的搬送構(gòu)件(C2)在裝置A中搬送100次，結(jié)果5次發(fā)生粘附。[表1]
權(quán)利要求
1.一種清潔片，其為具備實(shí)質(zhì)上不具有粘合力的清潔層的清潔片，該清潔層具有平均表面粗糙度Ra為0. 10 μ m以上的凹凸形狀部分，并且該清潔層對(duì)硅晶圓的鏡面的剝離粘合力未達(dá)0. 20N/10mm，所述剝離粘合力為 JIS-Z-0237中規(guī)定的180°的剝離粘合力。
2.如權(quán)利要求1所述的清潔片，其中，在所述清潔層的單面具備粘合劑層。
3.如權(quán)利要求1所述的清潔片，其在所述清潔層的單面具備支持體。
4.如權(quán)利要求3所述的清潔片，其中，在所述支持體的與具備所述清潔層的面相反的面具備粘合劑層。
5.一種帶有清潔功能的搬送構(gòu)件，其具備搬送構(gòu)件、以及設(shè)置在該搬送構(gòu)件的至少單面的權(quán)利要求1所述的清潔層。
6.如權(quán)利要求5所述的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件，其中，所述清潔層直接貼附在所述搬送構(gòu)件上。
7.如權(quán)利要求5所述的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件，其中，所述清潔層借助粘合劑層而貼附在所述搬送構(gòu)件上。
8.一種基板處理裝置的清潔方法，其將權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的清潔片、或者權(quán)利要求5至7中任一項(xiàng)所述的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件在基板處理裝置內(nèi)搬送。
9.一種基板處理裝置，其使用權(quán)利要求8所述的清潔方法進(jìn)行清潔。
全文摘要
本發(fā)明提供一種異物去除性能及搬送性能優(yōu)異，且可效率尤其良好地去除具有規(guī)定粒徑的異物的清潔片及帶有清潔功能的搬送構(gòu)件。本發(fā)明的清潔片具備實(shí)質(zhì)上不具有粘合力的清潔層，該清潔層具有平均表面粗糙度Ra為0.10μm以上的凹凸形狀部分，并且該清潔層對(duì)硅晶圓的鏡面的以JIS-Z-0237規(guī)定的180°剝離粘合力為小于0.20N/10mm。本發(fā)明的帶有清潔功能的搬送構(gòu)件具備搬送構(gòu)件、設(shè)置在該搬送構(gòu)件的至少單面的本發(fā)明的清潔層。
文檔編號(hào)H01L21/304GK102413951SQ20108001844
公開(kāi)日2012年4月11日 申請(qǐng)日期2010年4月13日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月30日
發(fā)明者宇圓田大介 申請(qǐng)人:日東電工株式會(huì)社