專利名稱：液處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及利用處理液噴嘴對例如半導體晶片或液晶顯示器用的玻璃基板(LCD 基板)等基板噴出抗蝕劑液或顯影液等處理液的液處理裝置。
背景技術(shù)：
一般來說，半導體器件或IXD基板的制造工藝之一的在基板上形成抗蝕劑圖案的工序，由在基板——例如半導體晶片(以下稱為晶片)上形成抗蝕劑膜，在使用光掩膜對該抗蝕劑膜進行曝光后進行顯影處理，由此獲得所需要的圖案的一連串的工序進行，這些一連串的工序一直以來由涂布、顯影裝置進行。該涂布、顯影裝置具有進行抗蝕劑液的涂布的涂布單元、對曝光后的晶片涂布顯影液的顯影單元等液處理裝置，為確保高吞吐量，采用這些涂布單元和顯影單元等各具有多個的結(jié)構(gòu)。例如，在涂布抗蝕劑液作為涂布液的涂布單元中，以包圍作為基板保持部的旋轉(zhuǎn)卡盤的周圍的方式設(shè)置有杯體，通過對保持于該旋轉(zhuǎn)卡盤的晶片的大致中央供給抗蝕劑液并使旋轉(zhuǎn)卡盤旋轉(zhuǎn)，來進行抗蝕劑液的旋轉(zhuǎn)涂布或甩干，進而進行側(cè)沖洗(side rinse)等處理。作為該涂布液使用的抗蝕劑液大多較為昂貴，需要削減其使用量。例如，在300mm 基板的整面涂布處理中的使用量要求在Icc以下，由于噴出的時間短而且噴出量少，所以難以使用流量計來進行測量。另外，近年來涂布、顯影裝置采用了省空間的結(jié)構(gòu)，縱方向上的層疊化得到發(fā)展，用于維護的空間變窄，難以進行肉眼確認。在這種要求和涂布環(huán)境中， 在應(yīng)當對處理基板噴出的抗蝕劑液沒有噴出的情況下，或涂布液的噴出狀態(tài)不正常的情況下，若其發(fā)現(xiàn)得較遲，則可能會引起大量的不良處理和缺陷處理。已知有設(shè)想這種情況，從LED燈等光源用照明光照射噴嘴前端部，利用照相機攝影噴嘴前端部獲取攝影信息，并對攝影信息進行分析以判斷涂布液的垂滴等不良狀態(tài)的技術(shù)(參照專利文獻1)。專利文獻1 日本特開2008-135679號公報

發(fā)明內(nèi)容
不過，專利文獻1中記載的技術(shù)，利用照相機對噴嘴前端部的狀態(tài)進行攝影，并對攝影信息進行分析，所以即使從噴嘴噴出的涂布液的噴出的有無、從噴嘴噴出而供給到基板上的期間的涂布液的噴出狀態(tài)發(fā)生變化——例如發(fā)生涂布液中混入氣體的氣泡現(xiàn)象或涂布液的液柱變細的液柱細化現(xiàn)象，也難以早期發(fā)現(xiàn)。本發(fā)明鑒于以上問題完成，其目的在于提供一種液處理裝置，能夠正確地判定從處理液噴嘴有無處理液噴出和從處理液噴嘴噴出的處理液的噴出狀態(tài)有無變化。為解決上述問題，本發(fā)明的液處理裝置，對水平地保持于基板保持部的基板的表面，從處理液供給部供給處理液，使之向上述基板的表面噴出以進行液處理，該液處理裝置的特征在于，包括形成從上述處理液供給部供給的上述處理液的流路的處理液噴嘴；對從上述處理液噴嘴的前端部到基板表面間的區(qū)域照射光的光源；對上述處理液噴嘴和基板表面間中的至少從上述處理液噴嘴的前端部到上述基板表面間的區(qū)域進行攝影的攝影部； 輸出用于從上述處理液噴嘴向上述基板噴出上述處理液的噴出信號，并使上述攝影部開始攝影的控制部；和判定部，對上述光入射到向著上述基板噴出的處理液中而在上述處理液反射時的光的明暗進行攝影，基于該攝影結(jié)果進行識別，由此判定有無上述處理液從上述處理液噴嘴噴出和從上述處理液噴嘴噴出的上述處理液的噴出狀態(tài)有無變化。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，從光源向從處理液噴嘴的前端部到基板表面間的區(qū)域照射光，所以光入射到向著基板噴出的處理液中而在處理液反射，使處理液發(fā)光，并由攝影部攝影該光的明暗，判定部基于該攝影結(jié)果，識別當光入射到處理液中而在處理液反射時的光的明暗，由此能夠判定有無處理液從處理液噴嘴噴出以及從處理液噴嘴噴出的處理液的噴出狀態(tài)有無變化一例如處理液中混入氣體的氣泡現(xiàn)象、處理液滴落的中斷現(xiàn)象、處理液的液柱變細的液柱變細現(xiàn)象一或處理液的噴出時間等。此外，由于光僅照射從處理液噴嘴的前端部到基板表面間的區(qū)域，所以能夠抑制光直接照射到處理液噴嘴等發(fā)生不必要的光的反射，能夠提高攝影部的攝影結(jié)果的精度。在本發(fā)明中，上述光源向著基板表面照射上述光，使之在上述基板表面反射后，照射到從上述處理液噴嘴的前端部到上述基板表面間的區(qū)域，或者，上述光源向著上述基板表面的從上述處理液噴嘴噴出的上述處理液的噴出位置照射上述光。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，攝影部能夠在不捕捉到被基板表面反射的光的情況下攝影光的明暗，所以能夠進一步提高攝影結(jié)果的精度。此外，上述攝影部可以設(shè)置在與上述光的向上述處理液入射的入射角度相等的反射角方面。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，攝影部能夠在被從處理液噴嘴噴出的處理液反射的光中光強度最高的反射光的光路上進行攝影，能夠進一步提高攝影結(jié)果的精度。此外，上述處理液噴嘴由透光性部件形成的筒狀體形成，上述攝影部形成為能夠攝影被上述處理液噴嘴的流路內(nèi)的上述處理液反射的光的明暗。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，攝影部能夠攝影被處理液噴嘴的流路內(nèi)的處理液反射的光的明暗，判定部能夠不僅基于從處理液噴嘴的前端部到基板表面間的區(qū)域的攝影結(jié)果，還基于處理液噴嘴的流路內(nèi)的攝影結(jié)果來進行判定，所以能夠更正確地判定有無處理液從處理液噴嘴噴出以及從處理液噴嘴噴出的處理液的噴出狀態(tài)有無變化。在本發(fā)明中，還具備存儲部，用于存儲作為判定有無上述處理液從上述處理液噴嘴噴出和從上述處理液噴嘴噴出的上述處理液的噴出狀態(tài)有無變化的基準的基準信息，上述判定部，可以基于對上述攝影結(jié)果與上述基準信息的光的明暗進行比較的結(jié)果，判定有無上述處理液從上述處理液噴嘴噴出和從上述處理液噴嘴噴出的上述處理液的噴出狀態(tài)有無變化。而上述基準信息，可以是在上述處理液從上述處理液噴嘴噴出的動作正常動作時由上述攝影部攝影的攝影結(jié)果。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，判定部能夠更正確地判定有無處理液從處理液噴嘴噴出和從處理液噴嘴噴出的處理液的噴出狀態(tài)有無變化。此外，在本發(fā)明中，還具備在保持于上述基板保持部的基板的上方搬送上述處理液噴嘴的噴嘴搬送機構(gòu)，在上述噴嘴搬送機構(gòu)，多個上述處理液噴嘴并排配置在直線上，從配置在直線的側(cè)方方面的一個光源，對從所有的上述處理液噴嘴的前端部到上述基板表面間的區(qū)域線狀地照射上述光，或者，也可以從在與直線平行的直線上按每個上述處理液噴嘴配置的光源照射上述光。此外，在本發(fā)明中，上述光源中位于對稱位置的第一光源和第二光源，可以以上述處理液噴嘴為垂直軸，分別設(shè)置在與上述攝影部的水平方向上的角度為120度 160度的位置上。這種情況下，當將第一光源和第二光源設(shè)置在與攝影部的水平方向上的角度小于 120度的角度的位置上時，處理液的側(cè)部的光的明暗變得不鮮明，不能夠使處理液的側(cè)部顯眼。而當將第一光源和第二光源設(shè)置在與攝影部的水平方向上的角度大于160度的角度的位置上時，從向基板噴出的處理液的側(cè)部前往攝影部的反射光和折射光的光強度較低，不能夠使處理液的側(cè)部顯眼。因此，通過采用上述結(jié)構(gòu)，從設(shè)置在兩側(cè)的第一光源和第二光源向著處理液噴嘴方向照射光，能夠使從向著基板噴出的處理液的側(cè)部前往攝影部的反射光和折射光的光強度變高，使處理液的側(cè)部的光的明暗鮮明，使處理液的側(cè)部穩(wěn)定地顯眼，所以能夠提高攝影精度。另外，本發(fā)明中，上述光源設(shè)置在隔著上述處理液噴嘴與上述攝影部相對的一側(cè)， 進一步，在隔著上述處理液噴嘴與上述光源相對的一側(cè)還可以設(shè)置輔助光源。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，由于能夠使向著基板噴出的攝影部側(cè)的處理液的表面穩(wěn)定地顯眼，使光的明暗鮮明，所以能夠提高攝影結(jié)果的精度。此外，本發(fā)明中，上述處理液噴嘴由透光性部件形成的筒狀體形成，上述攝影部優(yōu)選形成為能夠攝影被上述處理液噴嘴的流路內(nèi)的上述處理液反射的光的明暗。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，攝影部能夠攝影被處理液噴嘴的流路內(nèi)的處理液反射的光的明暗，判定部能夠不僅基于從處理液噴嘴的前端部到基板表面間的區(qū)域的攝影結(jié)果，還基于處理液噴嘴的流路內(nèi)的攝影結(jié)果來進行判定，所以能夠更正確地判定有無處理液從處理液噴嘴噴出以及從處理液噴嘴噴出的處理液的噴出狀態(tài)有無變化。此外，在本發(fā)明中，上述光源還對上述處理液噴嘴照射光，上述判定部可以通過基于對上述處理液噴嘴的流路內(nèi)的光的明暗攝影的攝影結(jié)果進行識別，來判定上述處理液噴嘴的流路內(nèi)的處理液的液面有無變化。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，能夠判定處理液噴嘴的流路內(nèi)的處理液的液面有無變化， 例如在處理液噴嘴的流路內(nèi)待機的處理液從規(guī)定的液面位置上升或下降，并進一步判定液面的形狀有無變化。此處，規(guī)定的液面位置是指，在處理液沒有從處理液噴嘴的前端部噴出的狀態(tài)下，處理液噴嘴的流路內(nèi)預先設(shè)定的回吸的處理液的液面待機的位置。另外，在本發(fā)明中，上述光源設(shè)置在上述處理液噴嘴的流路內(nèi)的上述處理液的規(guī)定的液面位置的上方，并且，上述光源與上述攝影部相對于位于上述液面位置的液面所呈的垂直方向上的角度設(shè)置在120度 160度的位置。這種情況下，當相對于位于液面位置的液面，將光源與攝影部所成的垂直方向上的角度設(shè)置為小于120度的角度的位置上時，從處理液的液面前往攝影部的反射光和折射光的光強度低，不能夠使處理液的液面顯眼。而當相對于位于液面位置的液面，將光源與攝
6影部所成的垂直方向上的角度設(shè)置為大于160度的角度的位置上時，處理液的液面的光的明暗變得不鮮明，不能夠使處理液的液面顯眼。因此，通過采用上述結(jié)構(gòu)，能夠向處理液的液面照射直接照射到處理液噴嘴的流路內(nèi)的涂布液的液面的光和在基板上反射后照射到液面的光，提高從處理液的液面前往攝影部的反射光和折射光的光強度，使處理液的液面的光的明暗鮮明，從而使處理液的液面穩(wěn)定地顯眼，所以能夠提高攝影結(jié)果的精度。根據(jù)本發(fā)明的液處理裝置，能夠更正確地判定有無處理液從處理液噴嘴噴出以及從處理液噴嘴噴出的處理液的噴出狀態(tài)有無變化。


圖1是表示應(yīng)用了本發(fā)明的第一實施方式的液處理裝置的涂布單元的俯視圖(a) 和縱截面圖(b)。圖2是表示上述涂布單元內(nèi)的液處理部和供給涂布液的供給單元的概要截面圖。圖3是表示本發(fā)明的第一實施方式的處理液噴嘴移動到基板的上方的狀態(tài)的側(cè)視圖(a)，和表示從處理液噴嘴噴出涂布液的狀態(tài)的側(cè)視圖(b)以及(b)的I部的放大截面圖(C)。圖4是表示上述涂布單元的電結(jié)構(gòu)的框圖。圖5是表示從一個光源向多個噴嘴照射光的狀態(tài)的概要俯視圖(a)，和表示對多個噴嘴按每個噴嘴設(shè)置光源并從各光源照射光的狀態(tài)的概要俯視圖(b)。圖6是用于說明判定部進行判定的流程圖。圖7是表示本發(fā)明的第一實施方式中利用照相機攝影的正常的停止動作的攝影圖(a)，表示涂布液的正常的噴出動作的攝影圖(b)，發(fā)生中斷、氣泡時的攝影圖(c)，發(fā)生液柱前端變細時的攝影圖(d)。圖8是表示從光源向涂布液的噴出位置照射光的狀態(tài)的概要截面圖。圖9是表示將照相機設(shè)置在與被涂布液反射的光的入射角相等的反射角一側(cè)的狀態(tài)的概要截面圖。圖10是表示本發(fā)明的第二實施方式的處理液噴嘴移動到基板的上方的狀態(tài)的概要側(cè)視圖。圖11是表示本發(fā)明的第二實施方式的處理液噴嘴移動到基板的上方的狀態(tài)的概要平面截面圖。圖12是表示本發(fā)明的第二實施方式中利用照相機攝影的正常的停止動作的攝影圖(a)，表示涂布液的正常的噴出動作的攝影圖(b)和發(fā)生液柱前端變細時的攝影圖(C)。圖13是表示本發(fā)明的第二實施方式中利用照相機攝影的正常的停止動作的攝影圖(a)，發(fā)生液面上升時的攝影圖(b)和發(fā)生液面下降時的攝影圖(C)。圖14是表示本發(fā)明的其他實施方式的處理液噴嘴移動到基板的上方的狀態(tài)的概要側(cè)視圖。圖15是表示按照以處理液噴嘴為垂直軸的光源與攝影部的水平方向上的角度從 90度按每10度變化到180度的方式，將光源移動，每次移動時攝影部進行攝影的實驗例的概要平面截面圖。
圖16是表示圖15所示的實驗例的攝影結(jié)果的照片。圖17是表示按照光源與攝影部相對于位于液面位置的液面所成的垂直方向上的角度從90度按每10度變化到180度的方式，將光源移動，每次移動時攝影部進行攝影的實驗例的概要側(cè)視圖。圖18是表示圖17所示的實驗例的攝影結(jié)果的照片。
圖19是表示應(yīng)用了上述涂布單元的涂布、顯影裝置的實施方式的概要俯視圖。
圖20是上述涂布、顯影裝置的概要立體圖。
圖21是上述涂布、顯影裝置的概要縱截面圖。
附圖標記說明
L、La激光(光)
I紅外光(光)
P液面位置
T噴出位置
Tl照射位置
R涂布液(處理液)
Rl液柱
R2液面
VO V3，Y0 W明亮度(光的明暗)
W曰t±" 日日/T
Wl晶片表面
1涂布單元
7供給單元(處理液供給部)
8顯示操作部
9控制單元
9a控制部
9b判定部
10噴嘴(處理液噴嘴)
IOc筒狀部(筒狀體)
IOd前端部
IOe流路
11噴嘴臂
Ila噴嘴頭部
lib臂部
17、17A照相機(攝影部)
20噴嘴搬送機構(gòu)
41旋轉(zhuǎn)卡盤(基板保持部)
90、90a中央運算處理裝置
91,94程序存儲部
95存儲部
IlOUlOa激光光源(光源)lll、llla、lllb、lllc 紅外照明(光源)112輔助光源
具體實施例方式<第一實施方式>下面說明將本發(fā)明的第一實施方式的液處理裝置，應(yīng)用于對基板(以下稱晶片W) 涂布作為處理液的抗蝕劑液和用于使抗蝕劑液易于擴散的稀釋劑(以下將這些統(tǒng)稱為涂布液R)的涂布單元的實施方式。首先說明本實施方式的涂布單元的結(jié)構(gòu)的概要。如圖1所示，本實施方式的涂布單元1包括在箱狀的殼體30內(nèi)沿橫向方向(圖中的Y方向)排列成一列的三個液處理部2a、2b和2c ；向這些液處理部2a、2b和2c供給抗蝕劑液或稀釋劑等涂布液R的多根處理液噴嘴10 (以下稱噴嘴10)；用于搬送該噴嘴10 的噴嘴搬送機構(gòu)20;使噴嘴10待機的噴嘴槽14(nozzle bath)；和用于除去涂布于晶片W 的抗蝕劑膜的周緣部的晶邊清洗(Edge Bead Remover :EBR)機構(gòu)6。液處理部2a、2b和2c具有共通的結(jié)構(gòu)，包括作為基板保持部的旋轉(zhuǎn)卡盤41和以將保持于該旋轉(zhuǎn)卡盤41的晶片包圍的方式設(shè)置的杯體5。以下對液處理部2a、2b和2c (以下用符號2作代表)的結(jié)構(gòu)進行說明。旋轉(zhuǎn)卡盤41起到吸引住晶片W的背面?zhèn)戎醒氩恳詫⒃摼琖保持為水平的基板保持部的作用。如圖2所示，旋轉(zhuǎn)卡盤41通過軸部42與驅(qū)動機構(gòu)(旋轉(zhuǎn)卡盤電動機)43 連結(jié)，能在保持晶片W的狀態(tài)下自由旋轉(zhuǎn)和升降。與升降機構(gòu)4 連結(jié)的升降銷44支承著晶片W的背面以能夠升降的方式設(shè)置在旋轉(zhuǎn)卡盤41的側(cè)方，通過與后述的搬送部件(搬送臂A3)的協(xié)作作用，能夠進行從殼體30的外部搬入的晶片W的交接。另外，圖1 (b)所示的 30a是在面對搬送部件的殼體30壁面上形成的晶片W的搬入搬出口。杯體5的作用在于，抑制旋轉(zhuǎn)涂布等時因使晶片W旋轉(zhuǎn)而飛散的細霧在殼體30內(nèi)飛溉，并將飛濺的細霧排出到涂布單元1之夕卜。杯體5如圖2所示，設(shè)置有傾斜的環(huán)狀的第一環(huán)部件51和第二環(huán)部件52，這二個環(huán)部件51、52間的間隙，成為包含從晶片W飛散的細霧的氣體所流通的氣體流路51a。從晶片W飛濺的液體被引導至形成于氣體流路51a的受液部M，從排水口 56排出。另一方面，在氣體流路51a中流通的氣體從排氣口 55經(jīng)由未圖示的排氣管道排出到殼體30外。接著對噴嘴10及其噴嘴搬送機構(gòu)20的結(jié)構(gòu)進行說明。噴嘴10起到對保持于旋轉(zhuǎn)卡盤41的晶片W的表面供給(噴出)涂布液R的作用。本實施方式的涂布單元1具有 11根噴嘴10，以能夠供給例如濃度和成分不同的10種抗蝕劑液和用于使抗蝕劑液易于在晶片W上擴散的稀釋劑(參照圖5)。另外，圖1(a)和圖2中為了圖示的方便，噴嘴10的根數(shù)以省略的方式加以顯示。另外，在本實施方式中，為了供給10種抗蝕劑液和稀釋劑，具有 11根噴嘴10，但若任意的液處理裝置中噴出的處理液為1種，則也可以為一根噴嘴。如圖1 (a)所示，噴嘴搬送機構(gòu)20包括保持噴嘴10的噴嘴臂11、支承該噴嘴臂 11的基臺12、形成基臺12的行進軌道的軌道13和使基臺12在軌道13上移動的驅(qū)動機構(gòu) 15 (參照圖4)。如圖3(a)、圖5(a)所示，噴嘴臂11包括保持11根噴嘴10的噴嘴頭部Ila和支承該噴嘴頭部Ila的臂部lib。在噴嘴頭部Ila的下表面形成為能夠嵌入上述噴嘴10的基部IOb的形狀，能夠通過只插入噴嘴10的基部IOb即可保持噴嘴10。其結(jié)果，11根噴嘴 10以使前端部IOd向下的狀態(tài)排列成一列，且它們的排列方向與圖1(a)所示的噴嘴10的搬送方向一致的方式配置。另一方面，噴嘴頭部Ila的基部側(cè)連接有后述的供給單元7的供給管71，能夠經(jīng)由噴嘴頭部Ila內(nèi)部向噴嘴10供給涂布液R。臂部lib是以能夠在保持于旋轉(zhuǎn)卡盤41的晶片W的大致中央部的上方搬送噴嘴 10的方式，設(shè)置于噴嘴頭部Ila和基臺12之間的支承部件?；_12安裝于驅(qū)動機構(gòu)15， 通過使基臺12在軌道13上移動，能夠使噴嘴臂11在圖1 (b)所示的Y方向上自由地移動。 另外，基臺12具備未圖示的升降機構(gòu)，臂部lib的基部安裝于該升降機構(gòu)。由此噴嘴臂11 能夠在Z方向上自由升降。利用以上的結(jié)構(gòu)，能夠使噴嘴10移動到晶片W的大致中央部的上方，從該位置向晶片W供給涂布液R。EBR機構(gòu)6的作用是，為了防止涂布于晶片W的抗蝕劑膜的周緣部發(fā)生剝落等，向晶片W周緣部供給除去抗蝕劑膜的清洗液。如圖1(a)所示，包括保持噴出清洗液的噴嘴的EBR臂61、使該EBR臂61移動的基臺62、形成基臺62的行進軌道的軌道63和在不進行清洗液的供給時載置噴嘴10進行待機的EBR噴嘴槽64。接著參照圖2說明對噴嘴10供給涂布液R的供給單元7(處理液供給部)的結(jié)構(gòu)。供給單元7具備與涂布液R的各類對應(yīng)的數(shù)量的涂布液供給機構(gòu)70，該涂布液供給機構(gòu)70包含存積涂布液R的未圖示的供給罐、用于向該供給罐供給氣體來對其內(nèi)部加壓以向涂布單元1發(fā)送供給罐內(nèi)的涂布液R的未圖示的加壓部。涂布液供給機構(gòu)70，經(jīng)由用于切換涂布液R的供給和切斷的氣動閥72和用于在不供給涂布液R時從噴嘴10的前端部吸入涂布液R的回吸閥73，通過供給管71與各噴嘴10 連接，能夠切換供給10種抗蝕劑液和稀釋劑。另外，如圖2所示，涂布單元1和供給單元7與對各設(shè)備的動作進行統(tǒng)一控制的控制單元9連接。此外，控制單元9還兼有對具備本實施方式的涂布單元1的涂布、顯影裝置整體的動作進行統(tǒng)一控制的功能。對基于以上結(jié)構(gòu)利用涂布單元1對晶片W涂布涂布液R的動作進行簡單說明。對于通過外部的搬送機構(gòu)從三個搬入搬出口 30a中的任一個搬入殼體30內(nèi)的晶片W，由升降銷44支承其背面?zhèn)?，并通過使搬送部件退避到殼體30外來降低升降銷44，從而將其交接到與搬入的搬入搬出口 30a對應(yīng)的液處理部2的旋轉(zhuǎn)卡盤41。然后，使噴嘴搬送機構(gòu)20動作，將在成為稀釋劑氣氛的噴嘴槽14上待機的噴嘴10 抬起，在圖1的Y方向上搬送。接著，當供給稀釋劑的噴嘴10到達晶片W的大致中央上方的位置時，停止噴嘴臂11的移動，在該位置使噴嘴臂11下降。之后在靜止的晶片W上從噴嘴10供給稀釋劑后，移動噴嘴臂11以使該處理中涂布的抗蝕劑液的供給噴嘴10位于晶片 W的大致中央上方。與該移動動作并行地進行旋轉(zhuǎn)涂布，即例如使旋轉(zhuǎn)卡盤41高速旋轉(zhuǎn)， 并在該旋轉(zhuǎn)的期間進行向晶片W上噴出抗蝕劑液、停止，以使該抗蝕劑液在晶片W的徑向方向上擴展。接著，使旋轉(zhuǎn)卡盤41低速旋轉(zhuǎn)，使旋轉(zhuǎn)涂布的抗蝕劑膜的膜壓均勻，然后通過使其再次高速旋轉(zhuǎn)來進行涂布的抗蝕劑液的甩干。該期間中，噴嘴搬送機構(gòu)20使噴嘴臂11在與上述路徑相反的路徑上移動，使完成涂布液R的供給的噴嘴10在噴嘴槽14待機，抑制抗蝕劑液的干燥。另一方面，對于完成甩干的晶片W，使對應(yīng)的EBR機構(gòu)6工作，將涂布在晶片W周緣部的抗蝕劑膜除去。形成有抗蝕劑膜的晶片W，按照與搬入時相反的順序交接到搬送部件上，從涂布單元1搬出。如此，按照由涂布、顯影裝置決定的晶片W的搬送循環(huán)，晶片W以例如M秒的間隔依次搬送到各液處理部2，進行同樣的處理。除了以上說明的結(jié)構(gòu)之外，本發(fā)明的涂布單元1還包括對從噴嘴10的前端部 IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域照射光一例如激光L—的光源，例如激光光源110 ；對噴嘴 10和從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域進行攝影的攝影部，例如CCD照相機等照相機17 ；輸出用于從噴嘴10向晶片W噴出涂布液R的噴出信號，并使照相機17開始攝影的控制部9a ；和判定部％，在光入射到向著晶片W噴出的涂布液R中而在涂布液R反射(包括漫反射，以下相同)時的光的明暗被攝影后，基于該攝影結(jié)果進行識別，由此判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化。以下說明這些結(jié)構(gòu)。照相機17如圖3(a)所示，通過固定部件固定于噴嘴搬送機構(gòu)20的噴嘴臂11。為了能夠攝影各噴嘴10，該照相機17采用從與保持于噴嘴頭部Ila的噴嘴10的排列方向大致正交的方位對噴嘴10進行攝影的結(jié)構(gòu)。此外，照相機17具有例如廣角透鏡，設(shè)定成將排列為一列的所有的噴嘴10和從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域收納到攝影區(qū)域中。另外照相機17可以為圖像傳感器，也可以是CXD之外的C-MOS型。另外，照相機 17并不必一定固定于噴嘴臂11。另外，如圖3(a)、(b)所示，在噴嘴頭部Ila的下表面的噴嘴10與照相機17之間， 設(shè)置有向從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域照射激光L的激光光源110。激光光源Iio例如是半導體激光器，方向性強的激光L能夠準確地只照射從噴嘴10的前端部 IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域。激光光源110具備未圖示的角度調(diào)節(jié)機構(gòu)，能夠調(diào)整照射激光L的角度。此外，在本實施方式中照射的是激光L，但也可以將來自LED光源的光會聚起來進行照射。此外，如圖5(a)所示，保持于噴嘴臂11的噴嘴頭部Ila的11根噴嘴10在直線上并列配置，從安裝于噴嘴臂11的一個激光光源110，對從所有的噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域線狀地照射激光L。箭頭的方向是照射激光L的方向。如圖3(a) (c)所示，保持于噴嘴臂11的噴嘴頭部Ila的噴嘴10，是由基部IOb 和筒狀部IOc形成的筒狀體，能夠?qū)⒒縄Ob安裝于噴嘴臂11的噴嘴頭部11a。噴嘴內(nèi)部形成有涂布液R的流路10e，能夠?qū)膰娮毂?1側(cè)供給的涂布液R從噴嘴10的前端部IOd 向著晶片W噴出。噴嘴10的筒狀部IOc由透光性材料形成，例如由石英、或透明的樹脂形成。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，在噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R中漫反射發(fā)光的光能夠透過噴嘴10的筒狀部10c。本發(fā)明的涂布單元1，從11根噴嘴10供給例如濃度和成分不同的10種抗蝕劑液和用于使抗蝕劑液易于在晶片W上擴散的稀釋劑。涂布液R具有隨著濃度和成分的不同而不同的固有的反射率，預先測定的各涂布液的反射率作為基準信息存儲在存儲部95中。
如圖2所示，照相機17經(jīng)由未圖示的A/D轉(zhuǎn)換器與控制單元9連接?？刂茊卧? 的判定部9b基于由照相機17取得的攝影結(jié)果，判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的狀態(tài)有無變化，并將判定的結(jié)果顯示在顯示操作部8上。以下對這些功能的詳細情況進行說明?？刂茊卧?如圖4所示，包括對包含本實施方式的涂布單元1的涂布、顯影裝置的整體進行統(tǒng)一控制的控制部9a ；和對作為照相機17的攝影結(jié)果的圖像進行處理，和基于其處理結(jié)果判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的狀態(tài)有無變化的判定部％?？刂撇?a構(gòu)成為具備中央運算處理裝置(CPU) 90和程序存儲部91的計算機。程序存儲部91的作用是，存儲用于使照相機17、噴嘴搬送機構(gòu)20的驅(qū)動機構(gòu)15、涂布液供給機構(gòu)70、氣動閥72、回吸閥73和激光光源110執(zhí)行涂布處理的計算機程序(表示為“工藝用程序”)。另外，也可以存儲基于由判定部9b獨立判定的有無涂布液R噴出等信息，使涂布單元1、供給單元7內(nèi)的各設(shè)備工作，并具備用于執(zhí)行對于這些現(xiàn)象的應(yīng)對動作和維護管理的步驟組的計算機程序(表示為“應(yīng)對動作用程序”、“維護管理用程序”)。程序存儲部91例如由磁盤等存儲介質(zhì)構(gòu)成。判定部9b例如構(gòu)成為具備中央運算處理裝置(CPU) 90a和程序存儲部94的計算機。程序存儲部94的作用是，存儲具備用于對由照相機17取得的攝影結(jié)果進行圖像處理， 和基于該攝影結(jié)果判定有無涂布液R噴出的步驟組的計算機程序(表示為“圖像處理用程序”、“判定用程序”)。程序存儲部94例如由磁盤等存儲介質(zhì)構(gòu)成。對圖像處理用程序進行的圖像處理進行說明，S卩，如上述所述，由于照相機17設(shè)定成將排列為一列的所有的噴嘴10和從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域收納到攝影區(qū)域中，所以照相機17將該區(qū)域作為攝影結(jié)果輸出到判定部％。為了從輸入的攝影結(jié)果中切分出判定所必需的攝影范圍，判定部9b執(zhí)行圖像處理程序，進行圖像處理。例如，圖7的圖像是通過在判定部9b中執(zhí)行圖像處理用程序而切分出的攝影結(jié)果。為了判定有無涂布液R噴出以及涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化，判定部9b還具備存儲部95，用于存儲在涂布液R從噴嘴10噴出的動作正常動作時由照相機17攝影的攝影結(jié)果。存儲部95由磁盤等存儲介質(zhì)構(gòu)成?？刂茊卧?還連接有顯示操作部8，顯示操作部8的作用是，基于控制單元9內(nèi)的判定部9b的指示，在監(jiān)視器上顯示判定的結(jié)果，并對操作者傳達判定部9b的判定的結(jié)果。接著，對從激光光源110照射的激光L的行為進行說明。如圖3(a)、(b)所示，激光光源Iio從照相機17方向，對晶片表面Wl上的從噴嘴10噴出涂布液R的噴出位置T的前方的照射位置Tl照射激光L。然后，激光L在被晶片表面Wl反射后，照射從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域。利用角度調(diào)節(jié)機構(gòu)對照射激光L的角度進行調(diào)整，以將激光L設(shè)定在圖3(a)所示的光路。照射從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域的激光L，如圖(3)所示，在涂布液R沒有從噴嘴10的前端部IOd噴出的狀態(tài)下，由于該區(qū)域不存在反射光的物體，所以光不在從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域發(fā)生漫反射而通過該區(qū)域。若利用照相機17攝影該狀態(tài)，則獲得圖7(a)所示的攝影結(jié)果。不能夠確認到激光L的反射光，圖像整體顯示為明亮度VO (暗部)。
另外，圖3(b)、(C)表示從噴嘴10噴出涂布液R的狀態(tài)。光的動向由箭頭圖示。 從噴嘴10的前端部IOd噴出的涂布液R，在從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間瞬時地形成液柱R1。照射從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域的激光L，照射到液柱R1，在液柱Rl內(nèi)發(fā)生漫反射，使液柱Rl發(fā)光。漫反射的激光L到達位于筒狀部IOc內(nèi)部的流路IOe內(nèi)的涂布液R，由于筒狀部IOc由透光性部件形成，所以對流路IOe內(nèi)的涂布液 R也能夠確認其發(fā)光。若利用照相機17攝影該狀態(tài)，則獲得圖7(b)所示的攝影結(jié)果。對于液柱R1，由于激光L的反射光直接到達照相機17，所以能夠確認到最明亮的明亮度V3。而位于噴嘴10 的流路IOe內(nèi)的涂布液R的反射光，由于透過筒狀部IOc到達照相機17，所以能夠確認到明亮度比液柱Rl略低的明亮度V2。此外，透過筒狀部IOc的反射光中一部分會發(fā)生反射而到達照相機17，因此筒狀部IOc能夠作為明亮度更低的明亮度Vl確認到。并且，由于在噴嘴 10與液柱Rl的周圍不存在反射物體，確認到明亮度VO。接著，對本發(fā)明的涂布單元1的判定部9b的判定進行說明。首先，判定部9b使存儲部95存儲基準信息。基準信息是涂布液R從噴嘴10噴出的動作正常動作時，根據(jù)操作者對控制單元9的指示，由照相機17攝影的攝影結(jié)果。因此，在涂布液R的噴出動作正常動作時，例如以200ms的間隔，利用照相機17獲取攝影結(jié)果。該攝影結(jié)果，將由照相機17攝影的模擬圖像轉(zhuǎn)換為例如能夠進行256灰度梯度顯示的規(guī)定分辨率的8比特的數(shù)字信號。 在噴出動作正常動作時獲得的圖像，如上所述，圖7(a)表示正常的停止動作的基準信息， 圖7(b)表示正常的噴出動作的基準信息。存儲部95將這二個圖像作為基準信息存儲。另外，基準信息通過從存儲部95輸出而顯示在顯示操作部8的監(jiān)視器上，以使操作者能夠確認和選擇基準信息。在存儲部95中存儲了基準信息的判定部％，能夠基于將攝影結(jié)果與基準信息的在涂布液R中漫反射的光的明暗進行比較的結(jié)果，判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化。圖6是用于說明判定部9b進行的判定的流程圖。當涂布單元1開始工作時(開始)，判定部％獲取從照相機17輸出的攝影結(jié)果(步驟S101)，并根據(jù)有無來自后述的控制部9a的確認信號的輸入(步驟S102)，判定該攝影結(jié)果與基準信息(圖7(a)或(b))是否相同(步驟S103、S106)。在判定為與基準信息相同的情況下，反復進行上述步驟。而在判定為與基準信息不同的情況下，判定部9b通過圖像分析來確定原因(步驟S104)，在顯示操作部8上顯示與原因相應(yīng)的警告顯示(步驟S105)。具體說來，控制部9a執(zhí)行工藝用程序，使照相機17、噴嘴搬送機構(gòu)20的驅(qū)動機構(gòu) 15、涂布液供給機構(gòu)70、氣動閥72、回吸閥73、激光光源110動作(開始)。然后，在從噴嘴 10噴出涂布液R時，控制部9a對氣動閥72輸出涂布液R的噴出信號，并同時對判定部9b 輸出確認信號。當氣動閥72根據(jù)噴出信號進行開閉，從噴嘴10噴出涂布液R時，照相機17對其動作進行攝影，并向判定部9b輸出獲取的攝影結(jié)果(步驟S101)。判定部％，在判定為存在來自控制部9a的確認信號的輸入的基礎(chǔ)上(步驟S102 是)，對圖像結(jié)果與存儲在存儲部95中的基準信息(圖7(b))的光的明暗進行比較分析。其結(jié)果，在通過判定部9b識別到攝影結(jié)果與基準信息相同的情況下，判定為從噴嘴10噴出了涂布液R(步驟S103 是)。
13這種情況下，判定部9b不對顯示操作部8輸出信號(返回步驟S101)。另外，顯示操作部8 采用在沒有信號從判定部9b輸入時顯示“正?！钡慕Y(jié)構(gòu)。此外，比較分析和圖像分析通過執(zhí)行判定用程序來進行。此外，照相機17進行攝影，將獲取的攝影結(jié)果發(fā)送到判定部9b (步驟S101)。判定部％，在判定為不存在來自控制部9a的確認信號的輸入的基礎(chǔ)上(步驟S102 否)，對攝影結(jié)果與基準信息(圖7(a))的光的明暗進行比較分析。其結(jié)果，在識別到攝影結(jié)果與基準信息相同的情況下，判定為從噴嘴10沒有噴出涂布液R(步驟S106 是)。這種情況下， 判定部9b不對顯示操作部8輸出信號(返回步驟S101)，顯示操作部8保持顯示“正?！?。另一方面，照相機17進行攝影，將獲取的攝影結(jié)果發(fā)送到判定部9b (步驟S101)， 在盡管判定部9b判定為存在來自控制部9a的確認信號的輸入(步驟S102 是)，但通過判定部9b對攝影結(jié)果與基準信息(圖7(b))進行比較分析，結(jié)果識別到攝影結(jié)果與基準信息不相同(步驟S103 否)，而且圖像分析的結(jié)果識別為與圖7 (a)所示的圖像相同的情況下， 判定為沒有從噴嘴10噴出涂布液R(步驟S104)。這種情況下，判定部9b對顯示操作部8 輸出警告信號，使顯示操作部8發(fā)出警告顯示“異常無噴出”(步驟S105)。本發(fā)明的涂布單元1不但能夠如上所述地判定有無涂布液R從噴嘴10噴出，而且還能夠判定從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化。例如，照相機17進行攝影，將獲取的攝影結(jié)果發(fā)送到判定部9b (步驟S101)，在盡管判定部9b判定為不存在來自控制部9a的確認信號的輸入(步驟S102 否)，但通過判定部9b對攝影結(jié)果與基準信息(圖7(a))進行比較分析，結(jié)果識別到攝影結(jié)果與基準信息不相同(步驟S103 否)，而且圖像分析的結(jié)果識別為與圖7(b)所示的圖像不相同的情況下， 判定為涂布液R從噴嘴10噴出的時刻有偏差(步驟S104)。這種情況下，判定部9b對顯示操作部8輸出警告信號，使顯示操作部8發(fā)出警告顯示“異常時間偏差”(步驟S105)。此外，控制部9b在雖然從控制部9a輸入了確認信號，但到攝影結(jié)果(圖7(b))輸入為止存在延時的情況下，也能夠判定為涂布液R從噴嘴10噴出的時刻有偏差。若發(fā)生涂布液R從噴嘴10的前端面IOd向下方分離滴落的“中斷”現(xiàn)象和開始從噴嘴10噴出涂布液R時卷入氣體的“氣泡”現(xiàn)象，則會獲得圖7(c)所示的攝影結(jié)果。對于中斷和氣泡，由于涂布液R的液柱Rl在中途分離，所以反射光無法入射到噴嘴10內(nèi)，噴嘴 10部不發(fā)光。噴出發(fā)生了中斷和氣泡的涂布液R的晶片W會形成不均勻的膜厚的抗蝕劑膜，成為導致曝光不良的原因。例如，在從照相機17輸出了圖7(c)所示的攝影結(jié)果的情況下(步驟S101)，在判定部9b對來自控制部9a的確認信號的輸入進行了判定的基礎(chǔ)上(步驟S102)，判定部9b 做出攝影結(jié)果與基準信息(圖7(a)或(b))不相同的判定(步驟S103:否，S106:否)。判定部9b接著進行圖像分析，通過與預先存儲在存儲部95中的中斷、氣泡的圖像進行比較分析，或利用運算處理來對各明亮度(V0 V3)的面積比進行比較，來判定為發(fā)生中斷、氣泡 (步驟S104)。這種情況下，判定部9b對顯示操作部8輸出警告信號，使顯示操作部8發(fā)出警告顯示“異常中斷、氣泡”(步驟S105)。此外，若發(fā)生從噴嘴10的前端面IOd向下方噴出的涂布液R的液柱Rl變細的“液柱變細”現(xiàn)象，則會獲得圖7(d)所示的攝影結(jié)果。液柱變細是回吸閥73對涂布液R向噴嘴 10內(nèi)的吸引變差，涂布液R從噴嘴10的前端部IOd向下方滴下的現(xiàn)象。另外，也是從噴嘴10噴出涂布液R時噴出較差時發(fā)生的現(xiàn)象。而且也會作為涂布液R發(fā)生上述“中斷”現(xiàn)象的前兆發(fā)生。例如，在從照相機17輸出了圖7(d)所示的攝影結(jié)果的情況下(步驟S101)，在判定部9b對來自控制部9a的確認信號的輸入進行了判定的基礎(chǔ)上(步驟S102)，判定部9b 做出攝影結(jié)果與基準信息(圖7(a)或(b))不相同的判定(步驟S103:否，S106:否)。判定部9b接著進行圖像分析，通過與預先存儲在存儲部95中的液柱變細的圖像進行比較分析，或?qū)z影結(jié)果與基準信息(圖7(b))的液柱Wl的寬度進行比較分析，來判定為發(fā)生液柱變細(步驟S104)。這種情況下，判定部9b對顯示操作部8輸出警告信號，使顯示操作部 8發(fā)出警告顯示“異常液柱變細”(步驟S105)。如上所述，在基準信息(圖7(b))中，確認位于噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R 的明亮度為V2。當判定部對從照相機17輸出的攝影結(jié)果進行分析的結(jié)果為，在上述明亮度 V2所處的范圍內(nèi)識別到明亮度VO或Vl的黑點的情況下，能夠判定為涂布液R中混入了氣泡。這種情況下，判定部9b使顯示操作部8發(fā)出警告顯示“異常氣泡”。此外，在從噴嘴 10的流路IOe內(nèi)的某坐標起上方全部識別為明亮度VO或Vl的情況下，判定為來自供給單元7的涂布液R的供給發(fā)生液體用完。這種情況下，判定部9b使顯示操作部8發(fā)出警告顯示“異常液體用完”。此外，判定部9b能夠根據(jù)從照相機17輸出的攝影結(jié)果進行光強度分析，并根據(jù)激光L的光強度數(shù)據(jù)測定從噴嘴10噴出的涂布液R的反射率。如上所述，在存儲部95中預先存儲有各涂布液R的反射率，判定部％能夠與測定的反射率進行比較，識別當前從噴嘴 10噴出的涂布液R的種類?；谠撔畔?，判定部9b能夠?qū)︼@示操作部8輸出信號，使顯示操作部8顯示“當前噴出的涂布液的種類和噴出量等參數(shù)”。此外，如上所述照相機17以200ms的間隔獲取攝影結(jié)果。判定部9b通過對每經(jīng)過一段時間的攝影結(jié)果進行分析，能夠測定涂布液R發(fā)光的時間。涂布液R發(fā)光的時間能夠視作與涂布液R噴出的時間相同。判定部％根據(jù)攝影結(jié)果測定涂布液R的發(fā)光時間，與預先存儲在存儲部95中的發(fā)光時間進行比較分析，由此能夠判定發(fā)光時間的異常。這種情況下，判定部％能夠?qū)︼@示操作部8輸出警告信號，使顯示操作部8發(fā)出警告顯示“異常 噴出量”。此外，在判定部9b判定為無涂布液R噴出和涂布液R的噴出狀態(tài)發(fā)生異常的情況下，判定部9b對控制部9a輸出異常信號，控制部9a基于該信號執(zhí)行應(yīng)對動作用程序或維護管理用程序，使照相機17、噴嘴搬送機構(gòu)20的驅(qū)動機構(gòu)15、涂布液供給機構(gòu)70、氣動閥 72、回吸閥73、激光光源110動作，執(zhí)行規(guī)定的應(yīng)對動作。根據(jù)上述實施方式，從激光光源110向從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域照射激光L，所以激光L入射到向著晶片W噴出的涂布液R中而在涂布液R反射，由此使涂布液R發(fā)光，能夠利用照相機17攝影該光的明暗。判定部9b基于該攝影結(jié)果，識別當光入射到涂布液R中而在涂布液R反射時的光即在涂布液R中漫反射發(fā)光的光的明暗， 由此能夠判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化——例如涂布液R中混入氣體的氣泡現(xiàn)象、涂布液R滴落的中斷現(xiàn)象、涂布液R的液柱 Rl變細的液柱變細現(xiàn)象——或涂布液R的噴出時間等。因此，涂布單元1能夠正確地判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化，所以能夠抑制涂布液R從噴嘴10的噴出動作發(fā)生異常時的損失，將涂布液R的浪費控制在最小限度。另夕卜，由于光一激光L——僅照射從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域，所以能夠抑制光直接照射到噴嘴10等發(fā)生不必要的光的反射，能夠提高照相機17的攝影結(jié)果的精度。另外，激光光源110向著晶片表面Wl上的從噴嘴10噴出涂布液R的噴出位置T 的前方的照射位置Tl照射激光L，在被晶片表面Wl反射后，照射到從噴嘴10的前端部IOd 到晶片表面Wl間的區(qū)域，由此，照相機17能夠在不捕捉到被晶片表面Wl反射的光的情況下攝影光的明暗，能夠進一步提高攝影結(jié)果的精度。另外，通過用透光性部件形成噴嘴10的筒狀部10c，在噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R中漫反射而發(fā)出的光能夠透過噴嘴10的筒狀部10c。因此，照相機17能夠攝影在噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R中漫反射的光的明暗，判定部9b能夠不僅基于從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域的攝影結(jié)果，還基于噴嘴10的流路IOe內(nèi)的攝影結(jié)果來進行判定，所以能夠更正確地判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化。此外，判定部9b具有存儲部95，用于存儲在噴出動作正常動作時由照相機17攝影的作為攝影結(jié)果的基準信息，判定部9b基于對攝影結(jié)果與基準信息的光的明暗進行比較的結(jié)果，來判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化，所以判定部9b能夠更正確地判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化。此外，具備將噴嘴10在保持于旋轉(zhuǎn)卡盤41的晶片W的上方搬送的噴嘴搬送機構(gòu) 20，在噴嘴搬送機構(gòu)20，11根噴嘴10并排配置在直線上，從配置于直線的外側(cè)區(qū)域的一個激光光源110，對從所有的噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域線狀地照射激光L， 由此，即使具備多個噴嘴10，也能夠使從激光光源110照射的激光L正確地照射從噴嘴10 的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域。在上述實施方式中，保持于噴嘴臂11的噴嘴頭部Ila的11根噴嘴10并排配置在直線上，從安裝于噴嘴臂11的一個激光光源110，對從所有的噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域線狀地照射激光L，但只要對從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域照射光即可。例如，如圖5(b)所示，在噴嘴搬送機構(gòu)20，11根噴嘴10并排配置在直線上，但也可以在與直線平行的直線上按每個噴嘴10配置11根激光光源110a，點狀地照射激光La。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，即使具備多個噴嘴10，也能夠使從激光光源IlOa照射的激光La正確地照射從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域。在上述實施方式中，從激光光源110照射的激光L，從照相機17方向，向著晶片表面Wl上的從噴嘴10噴出涂布液R的噴出位置T的前方的照射位置Tl照射激光L，在被晶片表面Wl反射后，照射從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域，但激光L只要對從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域進行照射即可。例如，如圖8所示，激光光源110也可以向著晶片表面Wl上的從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出位置T照射激光L。 這種情況下，照相機17和激光光源110通過未圖示的固定機構(gòu)安裝在例如殼體30上。
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通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，激光光源110向著從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出位置T 照射激光L，所以照相機17能夠在不捕捉到被晶片表面Wl反射的光的情況下攝影光的明暗，能夠進一步提高攝影結(jié)果的精度。在上述實施方式中，照相機17設(shè)置在能夠攝影保持于噴嘴頭部Ila的噴嘴10與晶片表面Wl間的區(qū)域的位置上，但也能夠如圖9所示，將照相機17設(shè)置在與激光L向涂布液R的入射角度α相等的反射角α區(qū)域。這種情況下，照相機17和激光光源110通過未圖示的固定機構(gòu)安裝在例如殼體30上。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，照相機17能夠在被從噴嘴10噴出的涂布液R反射的光中光強度最高的反射光的光路上進行攝影，能夠提高攝影結(jié)果的精度。〈第二實施方式〉在上述第一實施方式中，從激光光源110向從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl 間的區(qū)域照射激光L，但也可以如圖10所示，從作為光源的紅外照明111對從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域以及噴嘴10照射紅外光I，判定部9b除了通過識別光入射到涂布液R中而在涂布液R反射時的光的明暗來判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的狀態(tài)有無變化之外，還通過識別噴嘴10的流路IOe內(nèi)的光的明暗，來判定噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2有無變化。第二實施方式的涂布單元，包括除了對從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域之外還對噴嘴10照射紅外光I的光源，例如紅外照明111 ；對噴嘴10和從噴嘴10 的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域進行攝影的攝影部，例如CCD照相機等照相機17A ； 輸出用于從噴嘴10向晶片W噴出涂布液R的噴出信號，并使照相機17A開始攝影的控制部 9a (未圖示)；和判定部9b (未圖示)，在紅外光I入射到向著晶片W噴出的涂布液R中而在涂布液R反射時的紅外光I的明暗被攝影后，基于該攝影結(jié)果和對噴嘴10的流路IOe內(nèi)的光的明暗攝影的攝影結(jié)果進行識別，由此判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10 噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化，并判定噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2 有無變化。紅外光照明111例如是紅外線LED照明，能夠?qū)娮?0、從噴嘴10的前端部IOd 到晶片表面Wl間的區(qū)域和晶片表面W照射紅外光I。這種情況下，若照射的光例如為可見光(波長400nm 700nm)，則由于涂布液R的種類不計其數(shù)顏色也各種各樣，在涂布例如呈紅、藍、綠等顏色的抗蝕劑液的情況下，照射的可見光會被抗蝕劑吸收和反射，透過抗蝕劑液的光變?nèi)酰y以準確地捕捉液柱R1。此外，在涂布顏色透明的稀釋劑的情況下，即使使液柱Rl周邊明亮，照射可見光，照相機17A也難以準確地捕捉液柱Rl。關(guān)于這一點，通過照射波長較長的紅外光I，則不論涂布液R的顏色是什么顏色，也能夠使其液柱R1、液面R2穩(wěn)定地顯眼，實現(xiàn)液體的易觀察的共通化。因此，使得液柱Rl和液面R2易于觀察，在通過圖像處理等進行判斷的情況下，也能夠減少誤檢測風險。于是，照射從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域以及噴嘴10的光，優(yōu)選為紅外光I。另外，如圖11所示，紅外照明111設(shè)置有作為第一光源的第一紅外照明Illa和作為第二光源的第二紅外照明Illb這二個。這種情況下，位于對稱位置的第一紅外照明Illa 和第二紅外照明111b，以噴嘴10為垂直軸，分別設(shè)置在與照相機17A的水平方向上的角度 (Y, δ)呈120度 160度的位置上。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，從設(shè)置在兩側(cè)的第一紅外照明Illa和第二紅外照明Illb向著噴嘴10方向照射紅外光I，能夠使從向著晶片W噴出的涂布液R(液柱Rl)的側(cè)部前往照相機17A的反射光和折射光的光強度變高，使液柱Rl的側(cè)部的光的明暗鮮明，使涂布液R中的側(cè)部穩(wěn)定地顯眼，所以能夠提高攝影精度。對設(shè)定于上述噴嘴10的垂直軸進行詳細說明，即，將從照相機17A區(qū)域確認的噴嘴10內(nèi)的涂布液R的兩側(cè)的側(cè)部中，與設(shè)置有第一紅外照明Illa和第二紅外照明Illb的一側(cè)相對的一側(cè)的涂布液R的側(cè)部，作為各自的垂直軸，來設(shè)定第一紅外照明Illa和第二紅外照明Illb的位置(角度Y，δ )(參照圖11)。如圖15所示進行實驗，按照以噴嘴10為垂直軸的紅外照明111與照相機17Α的水平方向上的角度S從90度按每10度變化到180度的方式，將光源移動，每次移動時利用照相機17Α進行攝影。而且，設(shè)置于噴嘴10的右側(cè)的紅外照明111，以作為相對的一側(cè)的涂布液R的左側(cè)的側(cè)部作為垂直軸設(shè)定水平方向的角度δ。并且，全部在紅外照明111的垂直方向的角度β為120度的位置進行攝影。進行實驗的結(jié)果，獲得如圖16所示的攝影結(jié)果的照片。由此可知，當將紅外照明 111設(shè)置在水平方向上的角度S呈120度至160度的位置上時，能夠使液柱Rl的左側(cè)的側(cè)部的光的明暗鮮明，使液柱Rl的側(cè)部穩(wěn)定地顯眼。另一方面可知，當將紅外照明111設(shè)置在水平方向上的角度δ為小于120度的角度的位置上時，液柱Rl的側(cè)部的光的明暗不鮮明，不能夠使液柱Rl的側(cè)部顯眼。此外可知， 當將紅外照明111設(shè)置在水平方向上的角度δ為大于160度的角度的位置上時，從向晶片 W噴出的液柱Rl的側(cè)部前往照相機17Α的反射光和折射光的光強度較低，不能夠使液柱Rl 的側(cè)部顯眼。例如，在水平方向的角度S = 170度、180度時，雖然能夠確認到液柱Rl的中央部的反射光和折射光，但從液柱Rl的側(cè)部前往照相機17Α的反射光和折射光的光強度較低，不能夠使液柱Rl的側(cè)部顯眼。另外，在上述實驗例中，將一個紅外照明111設(shè)置在噴嘴10的右側(cè)，照射紅外線， 使液柱Rl的左側(cè)的側(cè)部的光的明暗鮮明，但通過將另一個紅外照明111設(shè)置在噴嘴10的左側(cè)的對稱位置上，能夠使液柱Rl的左右兩側(cè)的側(cè)部的光的明暗鮮明，使液柱Rl的左右兩側(cè)的側(cè)部穩(wěn)定地顯眼。另外，如圖10所示，第一紅外照明Illa設(shè)置在噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R 的規(guī)定的液面位置P的上方，并設(shè)置在紅外照明Illa與照相機17Α相對于位于液面位置P 的液面R2所成的垂直方向上的角度β為120度至160度的位置處。此外，規(guī)定的液面位置P是指，在涂布液R沒有從噴嘴10的前端部IOd噴出的狀態(tài)下，噴嘴10的流路IOe內(nèi)預先設(shè)定的回吸的涂布液R的液面R2待機的位置。此外，關(guān)于第二紅外照明111b，也設(shè)置在同樣的位置。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，能夠向液面R2照射直接照射到噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2的光和在晶片W上反射后照射到液面R2的光，提高從噴嘴10的流路IOe 內(nèi)的涂布液R的液面R2前往照相機17A的反射光和折射光的光強度，使噴嘴10的流路IOe 內(nèi)的涂布液R的液面R2的光的明暗鮮明，從而使涂布液R的液面R2穩(wěn)定地顯眼，所以能夠提高攝影結(jié)果的精度。如圖17所示進行實驗，按照紅外照明111與照相機17A相對于液面R2所成的垂直方向上的角度β從90度按每10度變化到180度的方式，來移動紅外照明111，在每次移動時照相機17A進行攝影。并且，全部在紅外照明111的水平方向上的角度δ為120度的
位置進行攝影。進行實驗的結(jié)果，獲得如圖18所示的攝影結(jié)果。由此可知，當將紅外照明111設(shè)置在角度β呈120度至160度的位置上時，能夠使噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2的光的明暗鮮明，使涂布液R的液面R2穩(wěn)定地顯眼。另一方面可知，當將紅外照明111設(shè)置在垂直方向上的角度β為小于120度的角度的位置上時，從涂布液R的液面R2前往照相機17Α的反射光和折射光的光強度較低，不能使涂布液R的液面R2顯眼。此外可知，當將紅外照明111設(shè)置在垂直方向上的角度β 為大于160度的角度的位置上時，涂布液R的液面變得R2變得不鮮明，不能夠僅使涂布液 R的液面R2顯眼。例如，在垂直方向的角度β = 170度、180度時，由于例如液面R2下的噴嘴10的流路IOe的反射光，涂布液R的液面R2和流路IOe的邊界變得不鮮明。這種情況下，照相機17Α只要是能夠攝影紅外光I的圖像傳感器即可，但當然也能夠是例如CCD之外的C-MOS型。控制單元9的判定部9b與第一實施方式相同，能夠基于其處理結(jié)果判定有無涂布液R從噴嘴10噴出，從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化，以及噴嘴10的流路 IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2有無變化。另外，在第二實施方式中，其它的部分與上述第一實施方式相同，因此對于相同的部分標記相同的符號省略說明。接著，對從第一紅外照明Illa和第二紅外照明Illb照射的紅外光I的行為進行說明。如圖10、圖11所示，第一紅外照明Illa和第二紅外照明111b，對噴嘴10和從噴嘴 10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域以及晶片表面Wl照射紅外光I。從紅外照明111 照射的紅外光I，即使在涂布液R沒有從噴嘴10的前端部IOd噴出的狀態(tài)下，也照射噴嘴 10和從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域以及晶片表面W1。若利用照相機17A攝影該沒有噴出涂布液R的狀態(tài)，則獲得圖12(a)所示的攝影結(jié)果。由于噴嘴10的周圍不存在反射的物體，所以確認到明亮度Y0。位于對稱位置的第一紅外照明Illa與第二紅外照明111b，以噴嘴10為垂直軸，分別設(shè)置在與照相機17A的水平方向上的角度(Y，S)呈120度 160度的位置上，因此，當流路IOe內(nèi)涂布液R回吸，在流路IOe的前端形成由空氣層構(gòu)成的空間時，由于從設(shè)置于兩側(cè)的第一紅外照明Illa和第二紅外照明Illb向著噴嘴10方向照射紅外光I，所以在形成有該空間的流路IOe的內(nèi)面?zhèn)炔糠瓷涠l(fā)光，確認到最高明亮度W。此外，還在噴嘴10的筒狀部IOc的側(cè)部反射而發(fā)光，確認到最高明亮度W。照射到筒狀部IOc的紅外光I，作為明亮度比上述W低的明亮度TO確認到。而照射到筒狀部IOc內(nèi)的涂布液R的紅外光I中，只有透過涂布液R和筒狀部IOc的紅外光 I到達照相機，所以作為明亮度更低的明亮度Yi確認到。另一方面，如圖12(a)所示，對于在涂布液R沒有從噴嘴10的前端部IOd噴出的狀態(tài)下在噴嘴10的流路IOe內(nèi)待機的涂布液R的液面R2，由于紅外照明IllaUllb設(shè)置在噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的規(guī)定的液面位置P的上方，并且相對于位于液面位置 P的液面R2，紅外照明IllaUllb與照相機17A所成的垂直方向上的角度β設(shè)置為120度至160度的位置，向液面R2照射直接照射到液面R2的紅外光I和在晶片W上反射后照射到液面R2的紅外光I，能夠提高從噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2前往照相機 17A的反射光和折射光的光強度，使噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2的光的明暗鮮明，變得顯眼，因此，確認到最高的明亮度W。圖12(b)是從噴嘴10噴出涂布液R的狀態(tài)下的攝影結(jié)果。從噴嘴10的前端部 IOd噴出的涂布液R，在從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間瞬時地形成液柱Rl。照射的紅外光I中，透過涂布液R的液柱Rl的紅外光I到達照相機17A，所以作為比透過筒狀部 IOc內(nèi)的涂布液R的明亮度Yl略高的明亮度Y2確認到。如圖12(b)所示，對于液柱Rl的側(cè)部，由于位于對稱位置的第一紅外照明Illa 和第二紅外照明111b，以噴嘴10為垂直軸，分別設(shè)置在與照相機17A的水平方向上的角度 (Y，δ)呈120度 160度的位置上，所以從設(shè)置在兩側(cè)的第一紅外照明Illa和第二紅外照明Illb向著從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間照射紅外光I，提高從向著晶片W 噴出的涂布液R的側(cè)部前往攝影部的反射光和折射光的光強度，能夠使向著晶片W噴出的涂布液R的側(cè)部顯眼，因此，能夠確認到最高的明亮度W。這樣，能夠使向著晶片W噴出的涂布液R的側(cè)部的光的明暗鮮明，使涂布液R中的側(cè)部穩(wěn)定地顯眼，液柱Rl及其寬度明確。通過采用上述結(jié)構(gòu)，能夠使液柱Rl的側(cè)部穩(wěn)定地顯眼，因此易于觀察，在通過圖像處理等進行判斷的情況下，能夠減少誤檢測風險。此外，在進行圖像處理的情況下，能夠通過簡單的處理來判定側(cè)部(edge部)，所以控制器的分析負荷降低，能夠控制處理能力， 因此能夠選擇廉價的部件。接著，參照圖4、圖6、圖12和圖13說明第二實施方式的涂布單元的判定部％。首先，判定部9b在涂布液R從噴嘴10噴出的動作正常動作時，將根據(jù)操作者對控制單元9的指示而由照相機17A攝影的攝影結(jié)果即基準信息存儲在存儲部95中。在噴出動作正常動作時獲得的圖像，如上所述，圖12(a)表示正常的停止動作的基準信息，圖12(b)表示正常的噴出動作的基準信息。存儲部95將這二個圖像作為基準信息存儲。在存儲部95中存儲了基準信息的判定部％，能夠基于對攝影結(jié)果與基準信息的光的明暗進行比較的結(jié)果，判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液 R的噴出狀態(tài)有無變化。然后，按照與第一實施方式相同的順序，當氣動閥72根據(jù)噴出信號進行開閉，從噴嘴10噴出涂布液R時，照相機17A對其動作進行攝影，并向判定部9b輸出獲取的攝影結(jié)果(步驟S101)。判定部％，在判定為存在來自控制部9a的確認信號的輸入的基礎(chǔ)上(步驟S102:是)，對圖像結(jié)果與存儲在存儲部95中的基準信息(圖12(b))的光的明暗進行比較分析。其結(jié)果，在通過判定部％識別到攝影結(jié)果與基準信息相同的情況下，判定為從噴嘴10噴出了涂布液R(步驟S103 是)。這種情況下，判定部9b不對顯示操作部8輸出信號(返回步驟S101)。此外，照相機17A進行攝影，將獲取的攝影結(jié)果發(fā)送到判定部9b (步驟S101)。判定部％，在判定為不存在來自控制部9a的確認信號的輸入的基礎(chǔ)上(步驟S102 否)，對攝影結(jié)果與基準信息(圖12(a))的光的明暗進行比較分析。其結(jié)果，在識別到攝影結(jié)果與基準信息相同的情況下，判定為從噴嘴10沒有噴出涂布液R(步驟S106 是)。這種情況下， 判定部9b不對顯示操作部8輸出信號(返回步驟S101)，顯示操作部8保持顯示“正?！?。另一方面，照相機17A進行攝影，將獲取的攝影結(jié)果發(fā)送到判定部9b (步驟S101)，
20在盡管判定部9b判定為存在來自控制部9a的確認信號的輸入(步驟S102 是)，但通過判定部9b對攝影結(jié)果與基準信息(圖12(b))進行比較分析，結(jié)果識別到攝影結(jié)果與基準信息不相同(步驟S103 否)，而且圖像分析的結(jié)果識別為與圖12(a)所示的圖像相同的情況下，判定為沒有從噴嘴10噴出涂布液R(步驟S104)。這種情況下，判定部9b對顯示操作部 8輸出警告信號，使顯示操作部8發(fā)出警告顯示“異常無噴出”(步驟S105)。第二實施方式的涂布單元不但能夠如上所述地判定有無涂布液R從噴嘴10噴出， 而且還能夠判定從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化。例如，若發(fā)生從噴嘴10的前端面IOd向下方噴出的涂布液R的液柱Rl變細的“液柱變細”現(xiàn)象，則會獲得圖12(c)所示的攝影結(jié)果。液柱變細是回吸閥73對涂布液R向噴嘴10內(nèi)的吸引變差，涂布液R從噴嘴10的前端部IOd向下方滴下的現(xiàn)象。另外，也是從噴嘴10噴出涂布液R時噴出較差時發(fā)生的現(xiàn)象。而且也會作為涂布液R發(fā)生上述“中斷”現(xiàn)象的前兆發(fā)生。例如，在從照相機17A輸出了圖12(c)所示的攝影結(jié)果的情況下(步驟S101)，在判定部9b對來自控制部9a的確認信號的輸入進行了判定的基礎(chǔ)上(步驟S102)，判定部 9b做出表示攝影結(jié)果與基準信息(圖12(a)或(b))不相同的判定(步驟S103 否，S106 否)。判定部％接著進行圖像分析，通過與預先存儲在存儲部95中的液柱變細的圖像進行比較分析，或?qū)z影結(jié)果與基準信息(圖12(b))的液柱Rl的寬度進行比較分析，來判定為發(fā)生液柱變細(步驟S104)。這種情況下，判定部9b對顯示操作部8輸出警告信號，使顯示操作部8發(fā)出警告顯示“異常液柱變細”(步驟S105)。第二實施方式的涂布單元，通過基于對噴嘴10的流路IOe內(nèi)的光的明暗攝影的攝影結(jié)果進行識別，能夠進一步判定噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2有無變化。如上所述，在沒有供給涂布涂布液R的情況下，回吸閥73從噴嘴10的前端部IOd 吸引涂布液R，將液面R2保持在噴嘴10的流路IOe內(nèi)的規(guī)定的液面位置P。當回吸閥73 的吸引壓過強，液面R2高于規(guī)定的液面位置P時，會產(chǎn)生涂布液R噴出時容易卷入氣泡，并且噴出時刻出現(xiàn)偏差的問題。而另一方面，當回吸閥73的吸引壓過弱，液面R2低于規(guī)定的液面位置P時，會產(chǎn)生容易發(fā)生液體滴落，并且噴出時刻出現(xiàn)偏差的問題。這種情況下，圖13(a)是表示正常的停止動作的基準信息。即，是液面R2保持在預先設(shè)定的噴嘴10的流路IOe內(nèi)的規(guī)定的液面位置P上的狀態(tài)的攝影結(jié)果。而對于在涂布液R沒有從噴嘴10的前端部IOd噴出的狀態(tài)下在噴嘴10的流路IOe內(nèi)待機的涂布液R 的液面R2，由于紅外照明IllaUllb設(shè)置在噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的規(guī)定的液面位置P的上方，并且相對于位于液面位置P的液面R2，紅外照明IllaUllb與照相機17A 所成的垂直方向上的角度β設(shè)置為120度至160度的位置，向液面R2照射直接照射到液面R2的紅外光I和在晶片W上反射后照射到液面R2的紅外光I，能夠提高從噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2前往照相機17Α的反射光和折射光的光強度，使噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2的顯眼，因此，確認到最高的明亮度W。例如圖13(b)所示，當回吸閥73的吸引壓過強時，液面R2上升，因此入射到液面R2而確認到W的發(fā)光的位置上升。如圖13(a)所示，在表示正常的停止動作的基準信息中，液面R2的形狀為平面。例如圖13(b)所示，當回吸閥73的吸引壓過強時，液面R2成為向上彎曲的形狀。于是，能夠確認液面的形狀有無變化。此外，如圖13(a)所示，當涂布液R在流路IOe內(nèi)回吸，在流路IOe的前端形成由空氣層構(gòu)成的空間時，形成有該空間的流路IOe的內(nèi)面?zhèn)炔糠瓷浼t外光I而發(fā)光。這是因為，位于對稱位置的第一紅外照明Illa和第二紅外照明111b，以噴嘴10為垂直軸，分別設(shè)置在與照相機17A的水平方向上的角度(Y，δ)呈120度 160度的位置上，從設(shè)置在兩側(cè)的第一紅外照明Illa和第二紅外照明Illb向著噴嘴10方向照射紅外光I。因此，例如圖13(b)所示，當回吸閥73的吸引壓過強時，液面R2上升導致空間變大，因此流路IOe的內(nèi)面?zhèn)炔康陌l(fā)光的長度(面積)增大。通過識別上述液面R2的發(fā)光位置、液面R2的形狀和流路IOe的內(nèi)面?zhèn)炔康陌l(fā)光， 能夠確認噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2有無變化。在從照相機17Α輸出了圖13(b)所示的攝影結(jié)果的情況下(步驟S101)，判定部 %，在判定為不存在來自控制部9a的確認信號的輸入的基礎(chǔ)上(步驟S102 否)，對攝影結(jié)果與基準信息(圖13(a))的光的明暗進行比較分析。其結(jié)果，判定為攝影結(jié)果與基準信息不同(步驟S103 否)。判定部9b接著進行圖像分析，通過對例如液面R2的發(fā)光位置、 液面R2的彎曲形狀、流路IOe的內(nèi)面?zhèn)炔康陌l(fā)光部位的長度進行分析，或與預先存儲在存儲部95中的液面上升的圖像進行比較分析，判定為液面R2上升(步驟S104)。這種情況下，判定部9b對顯示操作部8輸出警告信號，使顯示操作部8發(fā)出警告顯示“異常液面上升，，(步驟S105)。此外，在從照相機17A輸出了圖13(c)所示的攝影結(jié)果的情況下(步驟S101)，判定部％，在判定為不存在來自控制部9a的確認信號的輸入的基礎(chǔ)上(步驟S102 否)，對攝影結(jié)果與基準信息(圖13(a))的光的明暗進行比較分析。其結(jié)果，判定為攝影結(jié)果與基準信息不同(步驟S103 否)。判定部9b接著進行圖像分析，通過對例如液面R2的發(fā)光位置、液面R2的彎曲形狀、流路IOe的內(nèi)面?zhèn)炔康陌l(fā)光部位的長度進行分析，或與預先存儲在存儲部95中的液面下降的圖像進行比較分析，判定為液面R2下降(步驟S104)。這種情況下，判定部9b對顯示操作部8輸出警告信號，使顯示操作部8發(fā)出警告顯示“異常液面下降，，(步驟S105)。根據(jù)上述實施方式，由于從紅外照明111向從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl 間的區(qū)域照射紅外光I，所以紅外光I入射到向晶片W噴出的涂布液R中而在涂布液R反射，使涂布液R發(fā)光，能夠利用照相機17攝影該光的明暗。判定部9b通過基于該攝影結(jié)果識別被涂布液R反射時的光的明暗，能夠判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化。因此，第二實施方式的涂布單元，能夠正確地判定有無涂布液R從噴嘴10噴出以及從噴嘴10噴出的涂布液R的噴出狀態(tài)有無變化，所以能夠抑制涂布液R從噴嘴10的噴出動作發(fā)生異常時的損失，將涂布液R的浪費控制在最小限度。此外，紅外照明111對噴嘴10照射紅外光I，判定部9b通過基于對噴嘴10的流路IOe內(nèi)的光的明暗攝影的攝影結(jié)果進行識別，來進行噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R液面R2有無變化的判定，能夠判定噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R液面R2有無變化，例如在噴嘴10的流路IOe內(nèi)待機的涂布液R從規(guī)定的液面位置P上升或下降，并進一步判定液面R2的形狀有無變化。因此，所以能夠抑制涂布液R從噴嘴10的噴出動作發(fā)生異常時的損失，將涂布液R的浪費控制在最小限度。
上述實施方式中，第一紅外照明11 la、第二紅外照明Illb設(shè)置在噴嘴10的流路 IOe內(nèi)的涂布液R的規(guī)定的液面位置P的上方，并且相對于位于液面位置P的液面R2，第一紅外照明111a、第二紅外照明Illb與照相機17A所成的垂直方向上的角度β設(shè)置為120 度至160度的位置，但例如第一紅外照明11 la、第二紅外照明Illb的設(shè)置角度β也能夠適宜地變更設(shè)置，僅對從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域照射紅外光I。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，位于對稱位置的第一紅外照明Illa和第二紅外照明111b， 以噴嘴10為垂直軸，分別設(shè)置在與照相機17A的水平方向上的角度(γ，δ)呈120度 160度的位置上，從設(shè)置在兩側(cè)的第一紅外照明Illa和第二紅外照明Illb向著從噴嘴10 的前端部IOd到晶片表面Wl間照射紅外光I，提高從向著晶片W噴出的涂布液R的側(cè)部前往照相機17Α的反射光和折射光的光強度，能夠使涂布液R的側(cè)部的光的明暗顯眼，使涂布液R中的側(cè)部穩(wěn)定地顯眼，所以能夠提高攝影結(jié)果的精度。上述實施方式中，紅外照明111設(shè)置有第一紅外照明Illa和第二紅外照明Illb 這二個紅外照明111，位于對稱位置的第一紅外照明Illa和第二紅外照明111b，以噴嘴10 為垂直軸，分別設(shè)置在與照相機17A的水平方向上的角度(Y，δ)呈120度 160度的位置上，但也可以如圖14所示，也可以在隔著噴嘴10與照相機17Α相對的一側(cè)設(shè)置一個紅外照明111c，并在隔著噴嘴10與紅外照明lib相對的一側(cè)設(shè)置輔助光源112。這種情況下，紅外照明11 Ic設(shè)置在隔著噴嘴10與照相機17A相對的一側(cè)。設(shè)置在噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的規(guī)定的液面位置P的上方，并設(shè)置在紅外照明Illa與照相機17A相對于位于液面位置P的液面R2所成的垂直方向上的角度β為120度至160 度的位置處。另一方面，輔助光源112例如為紅外線LED照明，設(shè)置在隔著噴嘴10與紅外照明 IllC相對的一側(cè)，能夠?qū)娮?0、從噴嘴10的前端部IOd到晶片表面Wl間的區(qū)域和晶片表面Wl照射紅外光I。通過采用這樣的結(jié)構(gòu)，利用設(shè)置在隔著噴嘴10與照相機17A相對的一側(cè)的紅外照明Illc和輔助光源112，能夠使液柱的照相機17A側(cè)的表面狀態(tài)穩(wěn)定地顯眼，使光的明暗鮮明，所以能夠提高攝影結(jié)果的精度。另外，紅外照明Illc設(shè)置在噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的規(guī)定的液面位置P 的上方，并且相對于位于液面位置P的液面R2，紅外照明Illc與照相機17A所成的垂直方向上的角度β設(shè)置為120度至160度的位置，由此，能夠向液面R2照射直接照射到噴嘴10 的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2的光和在晶片W上反射后照射到液面R2的光，提高從噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2前往照相機17Α的反射光和折射光的光強度， 使噴嘴10的流路IOe內(nèi)的涂布液R的液面R2的光的明暗鮮明，從而使涂布液R的液面R2 穩(wěn)定地顯眼，所以能夠提高攝影結(jié)果的精度。接著，對將上述涂布單元1應(yīng)用于涂布、顯影裝置的一例進行簡單說明。該裝置設(shè)置有承載區(qū)(carrier block) Si，臂C從載置于承載區(qū)Sl的載置臺100a上的密閉型的載置盒(carrier) 100進行交接，取出晶片W，交接到處理區(qū)S2，臂C從處理區(qū)S2進行交接，接收處理完畢的晶片W，返回載置盒100。上述處理區(qū)S2如圖20所示，該例中從下到上依次層疊了用于進行顯影處理的第一區(qū)(DEV層)Bi、用于進行形成在抗蝕劑膜的下層側(cè)的防反射膜的形成處理的第二區(qū)(BCT
23層)B2、用于進行抗蝕劑膜的涂布的第三區(qū)(COT層)B3和用于進行形成在抗蝕劑膜的上層側(cè)的防反射膜的形成的第四區(qū)(TCT層)B4。第二區(qū)(BCT層)B2和第四區(qū)(TCT層)B4，各自包括通過旋轉(zhuǎn)涂布來涂布用于形成防反射膜的藥液的本實施方式的涂布單元1 ；用于進行在該涂布單元1進行的處理的前處理和后處理的加熱/冷卻系統(tǒng)的處理單元組；和設(shè)置在上述涂布單元1和處理單元組之間，在它們之間進行晶片W的交接的搬送臂A2、A4。關(guān)于第三區(qū)(COT層)B3，除了上述藥液為抗蝕劑液之外，均為相同的結(jié)構(gòu)。另一方面，關(guān)于第一區(qū)(DEV層)Bi，如圖21所示，一個DEV層Bl內(nèi)，層疊有2層顯影單元。在該DEV層Bl內(nèi)，設(shè)置有用于對這2層的顯影單元搬送晶片W的搬送臂Al。艮口， 采用對2層的顯影單元共用搬送臂Al的結(jié)構(gòu)。此外，在處理區(qū)S2，設(shè)置有圖19和圖21所示的架單元TO，來自承載區(qū)Sl的晶片 W，被設(shè)置于上述架單元U5附近的升降自如的第一交接臂Dl依次搬送到上述架單元TO的一個交接單元，例如與第二區(qū)(BCT層)B2對應(yīng)的交接單元CPL2。第二區(qū)(BCT層)B2內(nèi)的搬送臂A2，從該交接單元CPL2接收晶片W，搬送到各單元(防反射單元和加熱/冷卻系統(tǒng)的處理單元組)，利用這些單元，在晶片W上形成防反射膜。之后，晶片W經(jīng)由架單元TO的交接單元BF2、交接臂D1、架單元TO的交接單元CPL3 和搬送臂A3，搬入第三區(qū)(COT層)B3，形成抗蝕劑膜。然后，晶片W經(jīng)由搬送臂A3 —架單元 U5的交接單元BF3 —交接臂D1，交接到架單元TO的交接單元BF3。此外，形成有抗蝕劑膜的晶片W也存在在第四區(qū)(TCT層)B4進一步形成防反射膜的情況。這種情況下，晶片W經(jīng)由交接單元CPL4交接到搬送臂A4，在形成防反射膜后由搬送臂A4交接到交接單元TRS4。另一方面，在DEV層Bl內(nèi)的上部設(shè)置有作為專用的搬送機構(gòu)的穿梭臂E，用于將晶片W從設(shè)置于架單元U5的交接單元CPLl 1直接搬送到設(shè)置于架單元U6的交接單元CPL12。 形成有抗蝕劑膜和防反射膜的晶片W，經(jīng)由交接臂Dl從交接單元BF3、TRS4接收，交接到交接單元CPL11，并自此由穿梭臂E直接搬送到架單元U6的交接單元CPL12，進入接口區(qū)S3。 此外，圖21中的標有CPL的交接單元兼作調(diào)溫用的冷卻單元，標有BF的交接單元兼作能夠載置多片晶片W的緩沖單元。接著，晶片W被接口臂B搬送到曝光裝置S4，在此處進行規(guī)定的曝光處理后，載置于架單元TO的交接單元TRS6，返回處理區(qū)S2。返回的晶片W在第一區(qū)(DEV層)Bl進行顯影處理，由搬送臂Al交接到架單元TO的交接臺TRS1。之后，被第一交接臂Dl搬送到架單元U5的處于交接臂C的交接范圍的交接臺，經(jīng)由交接臂C返回載置盒100。另外，圖19中的Ul U4各自是由加熱部和冷卻部層疊而得的熱系統(tǒng)單元組。另外，上述實施方式涉及涂布、顯影裝置中的涂布單元，但本發(fā)明能夠適用于對例如半導體晶片或液晶顯示器用的玻璃基板(LCD基板)等基板表面供給處理液的任意的液處理裝置或應(yīng)用，例如晶片W的清洗處理中使用的片式清洗裝置。因此，作為本發(fā)明中的處理液，除了涂布液以外，也能夠是例如清洗液或顯影液。
權(quán)利要求
1.一種液處理裝置，對水平地保持于基板保持部的基板的表面供給來自處理液供給部的處理液，使所述處理液向所述基板的表面噴出以進行液處理，該液處理裝置的特征在于， 包括形成從所述處理液供給部供給的所述處理液的流路的處理液噴嘴；對從所述處理液噴嘴的前端部到基板表面間的區(qū)域照射光的光源；對所述處理液噴嘴和基板表面間中的至少從所述處理液噴嘴的前端部到所述基板表面間的區(qū)域進行攝影的攝影部；輸出用于從所述處理液噴嘴向所述基板噴出所述處理液的噴出信號，并使所述攝影部開始攝影的控制部；和判定部，在所述光入射到向著所述基板噴出的處理液中而被所述處理液反射時的光的明暗被攝影后，基于該攝影結(jié)果進行識別，由此判定有無所述處理液從所述處理液噴嘴噴出和從所述處理液噴嘴噴出的所述處理液的噴出狀態(tài)有無變化。
2.如權(quán)利要求1所述的液處理裝置，其特征在于所述光源向著基板表面照射所述光，使所述光在所述基板表面反射后，照射到從所述處理液噴嘴的前端部到所述基板表面間的區(qū)域。
3.如權(quán)利要求1所述的液處理裝置，其特征在于所述光源向著所述基板表面的從所述處理液噴嘴噴出的所述處理液的噴出位置照射所述光。
4.如權(quán)利要求2所述的液處理裝置，其特征在于所述攝影部，設(shè)置在與所述光向所述處理液入射的入射角度相等的反射角一側(cè)。
5.如權(quán)利要求1 4中任一項所述的液處理裝置，其特征在于所述處理液噴嘴由透光性部件形成的筒狀體形成，所述攝影部形成為能夠攝影被所述處理液噴嘴的流路內(nèi)的所述處理液反射的光的明暗。
6.如權(quán)利要求1 5中任一項所述的液處理裝置，其特征在于還具備存儲部，用于存儲作為判定有無所述處理液從所述處理液噴嘴噴出和從所述處理液噴嘴噴出的所述處理液的噴出狀態(tài)有無變化的基準的基準信息，所述判定部，基于對所述攝影結(jié)果與所述基準信息的光的明暗進行比較的結(jié)果，判定有無所述處理液從所述處理液噴嘴噴出和從所述處理液噴嘴噴出的所述處理液的噴出狀態(tài)有無變化。
7.如權(quán)利要求6所述的液處理裝置，其特征在于所述基準信息，是在所述處理液從所述處理液噴嘴噴出的動作正常動作時由所述攝影部攝影的攝影結(jié)果。
8.如權(quán)利要求1 7中任一項所述的液處理裝置，其特征在于還具備在保持于所述基板保持部的基板的上方搬送所述處理液噴嘴的噴嘴搬送機構(gòu)，在所述噴嘴搬送機構(gòu)，多個所述處理液噴嘴并排配置在直線上，從配置在直線的側(cè)方方面的一個光源，對從所有的所述處理液噴嘴的前端部到所述基板表面間的區(qū)域線狀地照射所述光。
9.如權(quán)利要求1 7中任一項所述的液處理裝置，其特征在于還具備在保持于所述基板保持部的基板的上方搬送所述處理液噴嘴的噴嘴搬送機構(gòu)，在所述噴嘴搬送機構(gòu)，多個所述處理液噴嘴并排配置在直線上，從在與直線平行的直線上按每個所述處理液噴嘴配置的光源照射所述光。
10.如權(quán)利要求1 3所述的液處理裝置，其特征在于所述光源中，位于對稱位置的第一光源和第二光源，以所述處理液噴嘴為垂直軸，分別設(shè)置在與所述攝影部的水平方向上的角度呈120度 160度的位置上。
11.如權(quán)利要求1 3所述的液處理裝置，其特征在于所述光源設(shè)置在隔著所述處理液噴嘴與所述攝影部相對的一側(cè)，在隔著所述處理液噴嘴與所述光源相對的一側(cè)還設(shè)置有輔助光源。
12.如權(quán)利要求10或11所述的液處理裝置，其特征在于 所述處理液噴嘴由透光性部件形成的筒狀體形成，所述攝影部形成為能夠攝影被所述處理液噴嘴的流路內(nèi)的所述處理液反射的光的明暗。
13.如權(quán)利要求12所述的液處理裝置，其特征在于所述光源還對所述處理液噴嘴照射光，所述判定部通過基于對所述處理液噴嘴的流路內(nèi)的光的明暗攝影的攝影結(jié)果進行識別，來判定所述處理液噴嘴的流路內(nèi)的處理液的液面有無變化。
14.如權(quán)利要求13所述的液處理裝置，其特征在于所述光源設(shè)置在所述處理液噴嘴的流路內(nèi)的所述處理液的規(guī)定的液面位置的上方，并且，所述光源與所述攝影部相對于位于所述液面位置的液面所呈的垂直方向上的角度設(shè)置在120度 160度的位置。
全文摘要
本發(fā)明提供液處理裝置，從處理液供給部(7)對基板(W)的表面供給涂布液(R)，使之向基板表面噴出以進行液處理，該液處理裝置包括形成處理液的流路(10e)的噴嘴(10)；對從噴嘴的前端部(10d)到基板表面W1間的區(qū)域照射光L的光源(110)；對噴嘴與基板表面間的區(qū)域進行攝影的攝影部(17)；輸出用于從噴嘴向基板噴出處理液的噴出信號，并使攝影部開始攝影的控制部(9a)；和判定部(9b)，在光入射到向著基板噴出的處理液中而在處理液反射時的光的明暗被攝影后，基于該攝影結(jié)果進行識別，由此判定有無處理液從噴嘴噴出和從噴嘴噴出的處理液的噴出狀態(tài)有無變化。
文檔編號H01L21/00GK102270560SQ20111012175
公開日2011年12月7日 申請日期2011年5月9日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月21日
發(fā)明者福富亮, 羽山隆史, 野田康朗 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社