專利名稱：一種利用保護(hù)層形成光電元件的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光電元件的方法，尤其是一種利用保護(hù)層形成光電元件的方法。
背景技術(shù)：
本發(fā)明揭露一種利用保護(hù)層形成光電元件的方法。本發(fā)明在有機(jī)電激發(fā)光材料上生成一層無(wú)反應(yīng)性材料的超薄保護(hù)層，阻絕制程環(huán)境中溶劑或氣體與材料之直接接觸，使材料得以利用光微影技術(shù)形成圖樣，形成有機(jī)發(fā)光二極體(OLED)顯示器之像素。此保護(hù)層的厚度極小，在完成後不需由材料表面除去，可留存為顯示器之一部分。由于此保護(hù)層的超薄厚度，對(duì)顯示器性能并無(wú)負(fù)面影響，甚至有提升顯示器性能的功效
發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種利用保護(hù)層形成光電元件的方法。本發(fā)明揭露一種利用保護(hù)層形成光電元件的方法。本發(fā)明在有機(jī)電激發(fā)光材料上生成一層無(wú)反應(yīng)性材料的超薄保護(hù)層，阻絕制程環(huán)境中溶劑或氣體與材料之直接接觸，使材料得以利用光微影技術(shù)形成圖樣，形成有機(jī)發(fā)光二極體(OLED)顯示器之像素。此保護(hù)層的厚度極小，在完成後不需由材料表面除去，可留存為顯示器之一部分。由于此保護(hù)層的超薄厚度，對(duì)顯示器性能并無(wú)負(fù)面影響，甚至有提升顯示器性能的功效。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明揭露一種利用保護(hù)層形成光電元件的方法。本發(fā)明在有機(jī)電激發(fā)光材料上生成一層無(wú)反應(yīng)性材料的超薄保護(hù)層，阻絕制程環(huán)境中溶劑或氣體與材料之直接接觸，使材料得以利用光微影技術(shù)形成圖樣，形成有機(jī)發(fā)光二極體(OLED)顯示器之像素。此保護(hù)層的厚度極小，在完成後不需由材料表面除去，可留存為顯示器之一部分。由于此保護(hù)層的超薄厚度，對(duì)顯示器性能并無(wú)負(fù)面影響，甚至有提升顯示器性能的功效。一種利用保護(hù)層形成光電元件的方法，至少包含提供一基板；涂布一第一電激發(fā)光材料於該基板表面上成為一第一發(fā)光層；形成一第一保護(hù)層於該第一發(fā)光層上；進(jìn)行第一圖樣制程，形成一第一光阻層於該第一保護(hù)層上，形成一第一光罩，藉以在該第一光阻層上定義出所需圖樣，曝光除去部份該第一光阻層，留存一其余的該第一光阻層；除去部分之該第一保護(hù)層，系無(wú)該第一光阻層所遮蔽；蝕刻該第一發(fā)光層；去除該其余的該第一光阻層，且該第一發(fā)光層仍受該第一保護(hù)層保護(hù)；涂布一第二電激發(fā)光材料覆蓋於該基板表面上，該第一發(fā)光層與該第一保護(hù)層上，成為一第二發(fā)光層；形成一第二保護(hù)層於該第二發(fā)光層上；進(jìn)行第二圖樣制程，形成一第二光阻層於該第二保護(hù)層上，使用適當(dāng)遮罩與曝光制程，定義該第二光阻層所需圖樣，曝光除去部份該第二光阻層，留存一其余的該第二光阻層；除去部分之該第二保護(hù)層，系無(wú)該第二光阻層所遮蔽；蝕刻該第二發(fā)光層；去除該其余的該第二光阻層，且該第二發(fā)光層仍受該第二保護(hù)層保護(hù)；涂布一第三電激發(fā)光材料覆蓋於該基板表面上，該第一發(fā)光層，該第一保護(hù)層，該第二發(fā)光層與該第二保護(hù)層上，成為一第三發(fā)光層；形成一第三保護(hù)層於該第三發(fā)光層上；進(jìn)行第三圖樣制程，形成一第三光阻層於該第三保護(hù)層上，使用適當(dāng)遮罩與曝光制程，定義該第三光阻層所需圖樣，曝光除去部份該第三光阻層，留存其余的該第三光阻層；除去部分之該第三保護(hù)層，系無(wú)該第三光阻層所遮蔽；蝕刻該第三發(fā)光層；去除該其余的該第三光阻層，且該第三發(fā)光層仍受該第三保護(hù)層保護(hù)；以及形成一陰極層於該第一保護(hù) 層，該第二保護(hù)層，及該第三保護(hù)層上，藉以形成具保護(hù)層之光電元件。
權(quán)利要求
1. 一種利用保護(hù)層形成光電元件的方法，至少包含提供一基板；涂布一第一電激發(fā)光材料於該基板表面上成為一第一發(fā)光層；形成一第一保護(hù)層於該第一發(fā)光層上；進(jìn)行第一圖樣制程，形成一第一光阻層於該第一保護(hù)層上，形成一第一光罩，藉以在該第一光阻層上定義出所需圖樣，曝光除去部份該第一光阻層，留存一其余的該第一光阻層；除去部分之該第一保護(hù)層，系無(wú)該第一光阻層所遮蔽；蝕刻該第一發(fā)光層；去除該其余的該第一光阻層，且該第一發(fā)光層仍受該第一保護(hù)層保護(hù)。
全文摘要
本發(fā)明揭露一種利用保護(hù)層形成光電元件的方法。本發(fā)明在有機(jī)電激發(fā)光材料上生成一層無(wú)反應(yīng)性材料的超薄保護(hù)層，阻絕制程環(huán)境中溶劑或氣體與材料之直接接觸，使材料得以利用光微影技術(shù)形成圖樣，形成有機(jī)發(fā)光二極體(OLED)顯示器之像素。此保護(hù)層的厚度極小，在完成後不需由材料表面除去，可留存為顯示器之一部分。由于此保護(hù)層的超薄厚度，對(duì)顯示器性能并無(wú)負(fù)面影響，甚至有提升顯示器性能的功效。
文檔編號(hào)H01L51/56GK102779951SQ201110122840
公開日2012年11月14日 申請(qǐng)日期2011年5月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月13日
發(fā)明者費(fèi)金華 申請(qǐng)人:吳江華誠(chéng)復(fù)合材料科技有限公司