專利名稱：導(dǎo)電膜及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在透明支持體的各面上具有高分辨率圖案的銀圖像的導(dǎo)電膜、以及通過使用鹵化銀乳劑層制備該導(dǎo)電膜的方法。
背景技術(shù)：
例如，在日本特開2008-158108和2008-216799中描述了在支持體的各面上形成
導(dǎo)電圖案的常規(guī)方法。在日本特開2008-158108中，一種感光材料具有在透明支持體的兩個面(A面和B 面)的各面上的鹵化銀乳劑層。在不同的光譜增感范圍中對所述A和B面光譜增感。在上述該專利文獻(xiàn)的實(shí)施例中所使用的樣品101中，在A面上形成的圖像具有18μπι的線寬，并且在B面上形成的圖像具有20 μ m的線寬。在日本特開2008-216799中，通過使用光掩模的曝光處理在透明支持體的各面上形成圖像，所述光掩模各具有濾光層，所述濾光層能夠透過具有對應(yīng)支持體各面的光譜敏感度的波長的光。在透明支持體的各面上形成細(xì)線圖案的情況中，當(dāng)支持體的一側(cè)(一面)曝光時， 入射光在透明支持體中散射，由此不利地使透明支持體各背側(cè)上的圖像模糊。通過向其中加入增感性染料可形成具有光譜敏感性的鹵化銀乳劑層。但是，即使在顯影后，染料仍剩余在所述層中，使得所述染料使顯影層的導(dǎo)電性變差，不能得到所期待的導(dǎo)電性。此外，在導(dǎo)電膜具有如日本特開2008-158108和2008-216799中所述的具有大線寬的導(dǎo)電圖案的情況中，當(dāng)將導(dǎo)電膜疊加在液晶顯示裝置的顯示平板的觸摸板上時，將不利地易于產(chǎn)生云紋(moire)。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上問題，本發(fā)明的目的是提供導(dǎo)電膜及其制備方法，所述導(dǎo)電膜能夠在透明支持體的各表面上形成高分辨率的導(dǎo)電圖案，其改進(jìn)了所述導(dǎo)電圖案的導(dǎo)電性，并避免在觸摸平板上產(chǎn)生云紋。[1]根據(jù)本發(fā)明的第一方面所述的導(dǎo)電膜，其包含透明支持體、設(shè)置在所述透明支持體的一個主表面上的第一導(dǎo)電銀圖像和設(shè)置在所述透明支持體的另一主表面上的第二導(dǎo)電銀圖像，通過以下步驟得到第一導(dǎo)電銀圖像和第二導(dǎo)電銀圖像在所述透明支持體的各表面上形成至少一層商化銀乳劑層，然后將所述商化銀乳劑層曝光并顯影，其中第一銀圖像和第二銀圖像在需要透明的區(qū)域各含有網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)包括線寬為10 μ m或更小的細(xì)線，并且所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)形成薄片電阻為50ohm/Sq或更小的導(dǎo)電層。[2]根據(jù)第一方面所述的導(dǎo)電膜，其中所述導(dǎo)電層的薄片電阻為lOohm/sq或更 [3]根據(jù)第一方面所述的導(dǎo)電膜，其中所述第一銀圖像和第二銀圖像各含有所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)和電連接至所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的銀線，并且所述銀線的寬度為10-500 μ m，長度為 IOmm或更大，電阻為300ohm/10mm或更小。[4]根據(jù)第一方面所述的導(dǎo)電膜，其中所述銀線的電阻為lOOohm/lOmm或更小。[5]根據(jù)第一方面所述的導(dǎo)電膜，其中所述鹵化銀乳劑層的銀/粘合劑的體積比為1/1或更大。[6]根據(jù)第一方面所述的導(dǎo)電膜，其中所述鹵化銀乳劑層的銀/粘合劑的體積比為2/1或更大。[7]根據(jù)第一方面所述的導(dǎo)電膜，其中所述鹵化銀乳劑層基本上未被實(shí)施光譜增感，并且其表面電阻值(IogSR)為15或更小，并且其涂覆的銀量為5-30g/m2。[8]根據(jù)第一方面所述的導(dǎo)電膜，其中所述鹵化銀乳劑層的涂覆的銀量為 15-30g/m2。[9]根據(jù)第一方面所述的導(dǎo)電膜，其中所述鹵化銀乳劑層含有鹵化銀顆粒，并且所述鹵化銀顆粒的表面包覆有光譜增感性染料，其包覆率為20 %或更小。[10]根據(jù)第一方面所述的導(dǎo)電膜，其中鹵化銀乳劑層的表面電阻值(IogSR)為13 或更小。[11]根據(jù)第一方面所述的導(dǎo)電膜，其中所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)包含具有多個多邊形的格子圖案，所述格子圖案的排布間距為300 μ m或更小，并且總透光率為80%或更大，并且在所述透明支持體的一個主表面上的有效區(qū)域(排除未設(shè)有第一銀圖像的外圍的有效區(qū)域)的開口率(opening ratio)和在所述透明支持體的另一個主表面上的有效區(qū)域(排除未設(shè)有第二銀圖像的外圍的有效區(qū)域)的開口率之間的差值為或更小。[12]根據(jù)第一方面所述的導(dǎo)電膜，其中所述第一銀圖像和第二銀圖像各具有形成用于觸摸板的電極的部分。[13]根據(jù)本發(fā)明的第二方面所述的方法，其用于制備具有透明支持體、設(shè)置在所述透明支持體的一個主表面上的第一導(dǎo)電銀圖像和設(shè)置在所述透明支持體的另一個主表面上第二導(dǎo)電銀圖像的導(dǎo)電膜，所述方法包括以下步驟在所述透明支持體的各表面上形成至少一層鹵化銀乳劑層，將所述鹵化銀乳劑層曝光，并將曝光后的鹵化銀乳劑層顯影，其中所述第一銀圖像和第二銀圖像在需要透明的區(qū)域中各含有網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)包括線寬為ΙΟμπι或更小的細(xì)線，并且所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)形成薄片電阻為50ohm/Sq或更小的導(dǎo)電層，并且在各表面上的所述鹵化銀乳劑層基本上未被實(shí)施光譜增感，并且所述鹵化銀乳劑層的厚度為4 μ m或更小，涂覆的銀量為5g/m2或更大，并且涂覆的粘合劑量為2. Og/m2或更[14]根據(jù)第二方面所述的方法，其中所述鹵化銀乳劑層的涂覆的銀量為15_30g/m2
ο[15]根據(jù)第二方面所述的方法，其中所述導(dǎo)電層的薄片電阻為lOohm/sq或更小。[16]根據(jù)第二方面所述的方法，其中所述第一銀圖像和第二銀圖像各含有所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)和電連接至所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的銀線，并且所述銀線的寬度為10-500μπι，長度為IOmm 或更大，電阻為300ohm/10mm或更小。[17]根據(jù)第二方面所述的方法，其中所述銀線的電阻為lOOohm/lOmm或更小。[18]根據(jù)第二方面所述的方法，其中所述鹵化銀乳劑層含有鹵化銀顆粒，并且所述鹵化銀顆粒的表面包覆有光譜增感性染料，其包覆率為20 %或更小。[19]根據(jù)第二方面所述的方法，其中使用與所述鹵化銀乳劑層緊密接觸的曝光掩膜進(jìn)行所述曝光步驟。[20]根據(jù)第二方面所述的方法，其中所述鹵化銀乳劑層具有高反差的照相特性 (high contrast photographic property)。[21]根據(jù)第二方面所述的方法，其中形成所述鹵化銀乳劑層作為基本上的最上層。如上所述，在本發(fā)明所述的導(dǎo)電膜和制備所述導(dǎo)電膜的方法中，在所述透明支持體的各表面上可形成高分辨率的導(dǎo)電圖案，可改進(jìn)所述導(dǎo)電圖案的導(dǎo)電性，并且在觸摸板中可避免產(chǎn)生云紋。本發(fā)明的導(dǎo)電膜特別適用于電容式觸摸板。此外，在將含有由細(xì)線構(gòu)成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的透光性導(dǎo)電層用于觸摸板傳感器的情況中，所述傳感器和從所述傳感器中延伸向控制IC電路的部分配線可從所述鹵化銀乳劑層 (所述導(dǎo)電層的前體)同時形成。由此，可易于制備觸摸板組合模塊。結(jié)合以下說明和隨附的附圖，可以更清楚地理解本發(fā)明的以上和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，在所述附圖中通過示例性實(shí)施例顯示了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案。


圖1是局部顯示本發(fā)明的實(shí)施方案中所述的導(dǎo)電膜的截面圖；圖2是本發(fā)明的實(shí)施方案中所述的所述導(dǎo)電膜制備方法的流程圖；圖3A是局部顯示所制備的感光材料的截面圖。圖;3B是顯示所述感光材料的兩面同時曝光的示意圖。圖3C是局部顯示制備的導(dǎo)電膜的截面圖，所述導(dǎo)電膜通過將曝光后的感光材料顯影而制備；圖4是顯示第一和第二曝光處理的示意圖，進(jìn)行第一和第二曝光處理使得在第一感光層的入射光達(dá)不到第二感光層，并且在所述第二感光層上的入射光達(dá)不到所述第二感光層；圖5是顯示第一感光層上的入射光到達(dá)第二感光層，并且第二感光層上的入射光到達(dá)第一感光層的情況中所述光的效果的示意圖；圖6是顯示在第一感光層上的入射光到達(dá)第二感光層，并且第二感光層的入射光到達(dá)第一感光層的情況中的導(dǎo)電圖案變差的示意圖；圖7是局部顯示導(dǎo)電片的截面圖；圖8是局部顯示在透明支持體的一個主表面上形成的第一銀圖像(導(dǎo)電圖案)的實(shí)例的透視圖；圖9是局部顯示圖8的導(dǎo)電圖案的俯視圖；圖10是局部顯示在所述透明支持體的另一主表面上形成的第二銀圖像(導(dǎo)電圖案)的實(shí)例的透視圖；圖11是局部顯示圖10的導(dǎo)電圖案的俯視圖；和圖12是局部顯示上述導(dǎo)電片實(shí)例的俯視圖。
具體實(shí)施例方式參照圖1-12，以下將描述多個本發(fā)明所述的導(dǎo)電膜和導(dǎo)電膜制備方法的實(shí)施方案。應(yīng)注意，在本說明書中，數(shù)值范圍“A-B”包括作為下限和上限值的數(shù)值A(chǔ)和B。如圖1所示，本發(fā)明實(shí)施方案所述的導(dǎo)電膜100包括透明支持體102、設(shè)置在所述透明支持體102的一個主表面上的第一導(dǎo)電銀圖像10 和設(shè)置在所述透明支持體102的另一個主表面上的第二導(dǎo)電銀圖像104b。通過以下步驟制備導(dǎo)電膜100 在透明支持體102 的各表面上形成至少一個感光鹵化銀乳劑層，然后將所述乳劑層曝光并顯影。第一銀圖像10 和第二銀圖像104b各自在需要透明的區(qū)域中含有網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)由線寬為ΙΟμπι或更小的細(xì)線構(gòu)成。所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)形成導(dǎo)電層，并且所述導(dǎo)電層的薄片電阻為50ohm/sq或更小，優(yōu)選lOohm/sq或更小。第一銀圖像10 和第二銀圖像104b各自在不需要透明的區(qū)域中還含有銀線106。 銀線106電連接至所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，并且各自寬度為10-500 μ m,長度為IOmm或更大。銀線 106的電阻為300ohm/10mm或更小，優(yōu)選lOOohm/lOmm或更小。在透明支持體102各表面上的感光鹵化銀乳劑層基本上未被實(shí)施光譜增感。由此，如圖3A所示，在所述透明支持體102的一個主表面上形成的所述感光鹵化銀乳劑層 (以下稱為第一感光層120a)和在所述透明支持體102的另一個主表面上形成的所述感光鹵化銀乳劑層(以下稱為第二感光層120b)基本上未被實(shí)施光譜增感。第一感光層120a 和第二感光層120b的表面電阻值(IogSR)為15或更小，并且涂覆的銀量(涂覆的銀鹽量) 以銀密度計為5-20g/m2。術(shù)語“基本上未被實(shí)施光譜增感”是指在第一感光層120a和第二感光層120b中的鹵化銀顆粒表面包覆有光譜增感性染料，其覆蓋率為20%或更小。第一感光層120a和第二感光層120b的表面電阻值(IogSR)優(yōu)選為13或更小。當(dāng)將所述的一個主表面用作透明支持體102的上表面時，形成第一感光層120a作為基本上最上面的層。術(shù)語“基本上最上面的層”是指堆疊結(jié)構(gòu)中除保護(hù)層之外的最上面的層，但通常形成保護(hù)層作為最上面的層。第一感光層120a和第二感光層120b各自的銀/粘合劑體積比為1/2或更大，優(yōu)選1/1或更大，更優(yōu)選2/1或更大。所述銀/粘合劑體積比進(jìn)一步優(yōu)選為1/1-4/1，最優(yōu)選為1/1-3/1。當(dāng)所述銀/粘合劑體積比在以上范圍內(nèi)時，即使在不同的涂覆銀量下，也可減小電阻差異，由此可得到表面電阻均一的用于觸摸板的導(dǎo)電膜100。通過將所述材料的鹵化銀/粘合劑重量比轉(zhuǎn)換為銀/粘合劑重量比，并進(jìn)一步將銀/粘合劑重量比轉(zhuǎn)換為銀粘合劑體積比可確定所述銀/粘合劑體積比。第一感光層120a和第二感光層120b具有高反差的照相特性，其顯示為在具有相同單位長度的正交X和Y坐標(biāo)的特征曲線上的0. 1-1. 5光密度區(qū)域中的γ值為4或更大， 所述特征曲線表示曝光量的對數(shù)(X軸)和光密度(Y軸)。Y值更優(yōu)選為5-30，進(jìn)一步優(yōu)選 5-10。第一銀圖像10 和第二銀圖像104b各具有含有多個多邊形的格子圖案。所述格子圖案的排布間距為300 μ m或更小，并且總透光率為80%或更大。此外，導(dǎo)電膜100在透明支持體102的一個主表面上的有效區(qū)域(即排除未設(shè)有第一銀圖像10 的外圍的有效區(qū)域)的開口率和在透明支持體102的另一個主表面上的有效區(qū)域(即排除未設(shè)有第二銀圖像104b的外圍的有效區(qū)域)的開口率之間的差值為或更小。
參照圖2-6，以下將描述制備本發(fā)明的一個實(shí)施方案所述的導(dǎo)電膜100的方法。首先，圖2的步驟Sl中制備了長條感光材料122。如圖3A所示，感光材料122具有透明支持體102、在透明支持體102的一個主表面上形成的第一感光層120a和在透明支持體102的另一個主表面上形成的第二感光層120b。在圖2的步驟S2中，將感光材料122曝光。在該曝光步驟中進(jìn)行兩面同時曝光，其包括第一曝光處理和第二曝光處理，所述第一曝光處理用光照射透明支持體102的一個主表面以使第一感光層120a曝光形成第一曝光圖案，所述第二曝光處理用光照射透明支持體102的另一個主表面以使第二感光層120b曝光形成第二曝光圖案。在圖:3B的實(shí)例中， 當(dāng)長條感光材料122沿一個方向輸送時，使用第一光12 (平行光)，通過第一光掩模126a 照射第一感光層120a，并且使用第二光124b (平行光)，通過第二光掩模126b照射第二感光層120b。通過將來自第一光源128a的光通過中間第一準(zhǔn)直鏡130a轉(zhuǎn)換為平行光得到第一光IMa，并且通過將來自第二光源128b的光通過中間第二準(zhǔn)直鏡130b轉(zhuǎn)換為平行光得到第二光124b。盡管在圖:3B的實(shí)例中使用了這兩個光源(第一光源128a和第二光源 128b)，但可僅使用一個光源進(jìn)行曝光。在該情況中，通過光學(xué)系統(tǒng)將來自第一光源的光分為第一光12 和第二光124b，第一光12 和第二光124b用于照射第一感光層120a和第二感光層120b。在圖2的步驟S3中，將曝光后的感光材料122顯影以制備圖3C中所示的導(dǎo)電膜 100。導(dǎo)電膜100具有透明支持體102、在透明支持體102上的一個主表面10 上以第一曝光圖案形成的第一銀圖像l(Ma、和在透明支持體102上的另一個主表面102b上以第二曝光圖案形成的第二銀圖像104b。第一感光層120a和第二感光層120b的優(yōu)選曝光時間和顯影時間取決于第一光源128a和第二光源128b的類型和顯影劑的類型等，因此不能明確確定。 根據(jù)達(dá)到100%的顯影率可選擇所述曝光時間和顯影時間。第一銀圖像10 和第二銀圖像 104b可進(jìn)行電鍍處理以在其上沉積導(dǎo)電金屬。如圖4所示，在該實(shí)施方案的制備方法中的第一曝光處理中，例如，放置第一光掩模U6a，使其與第一感光層120a緊密接觸，設(shè)置第一光源U8a，以使其朝向第一光掩模 126a。然后，第一光12 從第一光源128a發(fā)射向第一光掩模U6a，使第一感光層120a曝光。第一光掩模126a具有由透明的鈉玻璃構(gòu)成的玻璃基質(zhì)和其上形成的掩模圖案(第一曝光圖案132a)。因此，在第一曝光處理中，對應(yīng)第一曝光圖案13 的第一感光層120a中的區(qū)域被曝光。在第一感光層120a和第一光掩模126a之間可形成約2_10 μ m的間隙。相似地，在第二曝光處理中，例如，放置第二光掩模U6b，使其與第二感光層120b 緊密接觸，設(shè)置第二光源U8b，以使其朝向第二光掩模126b。然后，第二光124b從第二光源128b發(fā)射向第二光掩模U6b，使得第二感光層120b曝光。第二光掩模126b和第一光掩模126a同樣具有由透明的鈉玻璃構(gòu)成的玻璃基質(zhì)和其上形成的掩模圖案(第二曝光圖案 132b)。因此，在第二曝光處理中，在第二光掩模126b中的對應(yīng)第二曝光圖案132b的第二感光層120b中的區(qū)域曝光。在該情況中，在第二感光層120b和第二光掩模126b之間可形成約2-10 μ m的間隙。在第一和第二曝光處理中，從第一光源128a發(fā)射出第一光源12 和從第二光源 128b發(fā)射出第二光源124b可同時進(jìn)行或單獨(dú)進(jìn)行。當(dāng)進(jìn)行同時發(fā)射時，第一感光層120a 和第二感光層120b可在一個曝光步驟中同時曝光，從而減少曝光時間。
當(dāng)?shù)谝桓泄鈱?20a和第二感光層120b都未被光譜增感時，在感光材料122的兩側(cè)進(jìn)行曝光中，在一側(cè)上的入射光可影響另一側(cè)(背側(cè))的圖像形成。由此，如圖5所示，來自第一光源128a的第一光12 到達(dá)第一感光層120a，并由第一感光層120a中的鹵化銀顆粒散射，并且部分散射光通過透明支持體102透射并到達(dá)第二感光層120b。然后使第二感光層120b和透明支持體102之間的邊界上的大的區(qū)域曝光， 從而形成潛像134。由此，第二感光層120b不但受到來自第二光源128b的第二光124b曝光，而且受到來自第一光源128a的第一光12 曝光。如圖6所示，當(dāng)使第二感光層120b顯影以產(chǎn)生導(dǎo)電膜100時，形成對應(yīng)第二曝光圖案132b的導(dǎo)電圖案108(第二銀圖像104b)， 并且由于來自第一光源128a的第一光IMa，在導(dǎo)電圖案108之間還形成薄導(dǎo)電層136，從而不能得到所期待的圖案108(對應(yīng)第二曝光圖案132b)。對于第一感光層120a也是如此。如圖5所示，來自第二光源128b的第二光124b 到達(dá)第二感光層120b，并由第二感光層120b中的鹵化銀顆粒散射，并且部分散射光通過透明支持體102透射并到達(dá)第一感光層120a。然后使第一感光層120a和透明支持體102之間的邊界上的大的區(qū)域曝光，從而形成潛像134。由此，第一感光層120a不但被來自第一光源128a的第一光12 曝光，而且被來自第二光源12 的第二光124b曝光。如圖6所示，當(dāng)使第一感光層120a顯影時，形成對應(yīng)第一曝光圖案13 的導(dǎo)電圖案108(第一銀圖像10 )，并且由于來自第二光源128b的第二光1Mb，在導(dǎo)電圖案108之間還形成薄導(dǎo)電層136，從而不能得到所期待的圖案(對應(yīng)第一曝光圖案13 )。例如，當(dāng)將這樣的導(dǎo)電膜100用于在液晶顯示板上的觸摸板時，顯示屏上的圖像可能被薄導(dǎo)電層136屏蔽，由此該觸摸板可能無法使用。該問題可通過以下步驟解決在第一感光層120a和透明支持體102之間和在第二感光層120b和透明支持體102之間固著染料，從而抑制光透射到背側(cè)。因為染料使最終產(chǎn)物的透明度變差，因此例如在顯影步驟中必須去除染料(使染料無不利影響)。另一方面， 為了得到所期待的導(dǎo)電性，必須增大第一感光層120a和第二感光層120b的厚度。在該情況中，在顯影步驟中不能容易地去除染料。由此，制備方法變得復(fù)雜并且不易進(jìn)行。經(jīng)深入研究發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，如果在特定范圍內(nèi)選擇第一感光層120a和第二感光層 120b的厚度或涂覆的銀量，入射光可被鹵化銀本身吸收，從而抑制光透射到背側(cè)。在該實(shí)施方案中，第一感光層120a和第二感光層120b的厚度可以為1-4 μ m。其上限優(yōu)選為2. 5 μ m。 此外，第一感光層120a和第二感光層120b的涂覆的銀量可以為5-20g/m2。在上述的接觸式兩面曝光技術(shù)中，曝光可被粘附在膜表面的灰塵等抑制，從而產(chǎn)生圖像缺陷。已知通過向所述膜涂覆導(dǎo)電性物質(zhì)如金屬氧化物或?qū)щ娦跃酆衔锟煞乐够覊m的粘附。但是，金屬氧化物等剩余在經(jīng)加工的產(chǎn)品中，使得最終產(chǎn)物的透明度變差，并且導(dǎo)電性聚合物的穩(wěn)定儲存等不利。經(jīng)深入研究后發(fā)現(xiàn)，粘合劑含量下降的鹵化銀顯示出令人滿意的防靜電電荷的導(dǎo)電性。由此，在第一感光層120a和第二感光層120b中控制銀/粘合劑的體積比。在第一感光層120a和第二感光層120b中的銀/粘合劑的體積比為1/1或更大，優(yōu)選2/1或更大。如上所述，如圖4所示，當(dāng)控制第一感光層120a和第二感光層120b的厚度、涂覆的銀量或銀/粘合劑體積比時，從第一光源128a發(fā)射向第一感光層120a的第一光12 達(dá)不到第二感光層120b。相似地，從第二光源128b發(fā)射向第二感光層120b的第二光124b達(dá)不到第一感光層120a。由此，如圖1所示，在以下制備導(dǎo)電膜100的顯影中，在透明支持體 102的一個主表面上只形成對應(yīng)第一曝光圖案132a(形成第一銀圖像10 圖案)的導(dǎo)電圖案108，并且在透明支持體102的另一個主表面上只形成對應(yīng)第二曝光圖案132b (形成第二銀圖像104b圖案)的導(dǎo)電圖案108，從而可得到所期待的圖像。在根據(jù)該實(shí)施方案的用于導(dǎo)電膜的方法中，第一感光層120a和第二感光層120b 可兼具令人滿意的導(dǎo)電性和兩面曝光的適用性，并且通過上述曝光可以在透明支持體102 的表面上形成相同或不同的圖案。因此，例如可易于形成觸摸板的電極，并且觸摸板可制造得較薄(較小)。此外，在接觸式兩面曝光技術(shù)中，顯影步驟中形成的第一銀圖像10 和第二銀圖像104b中的導(dǎo)電圖案108可具有10 μ m或更小的線寬。當(dāng)線寬為10 μ m或更小時，通過將導(dǎo)電膜100疊加在液晶顯示裝置等上可避免產(chǎn)生云紋。下面描述一個實(shí)例，其中將該實(shí)施方案的導(dǎo)電膜100應(yīng)用于用于觸摸板的導(dǎo)電片 10。如圖7所示，在導(dǎo)電片10中，通過一次式(one-shot)曝光和顯影在一個透明支持體102的一個主表面10 和另一主表面10 上分別形成第一銀圖像10 和第二銀圖像 104b。第一銀圖像10 具有需要透明的區(qū)域(感應(yīng)區(qū)150)和不需要透明的區(qū)域(圖8所示的第一端配線區(qū)15 和圖10所示的第二端配線區(qū)152b)。第一銀圖像10 和第二銀圖像104b各在感應(yīng)區(qū)150中含有網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)由線寬為IOym或更小的細(xì)金屬線構(gòu)成。在第一銀圖像10 和第二銀圖像104b中， 所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)(所述導(dǎo)電層)的薄片電阻各為50ohm/sq或更小。在第一銀圖像10 中，在第一端配線區(qū)15 中的第一端配線圖案42a電連接至感應(yīng)區(qū)150中的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)(見圖8)。在第二銀圖像104b中，在第二端配線區(qū)152b中的第二端配線圖案42b電連接至所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)(見圖10)。第一端配線圖案4 和第二端配線圖案42b由寬度為10-500 μ m，長度為IOmm或更大的金屬線(銀線)構(gòu)成。所述金屬線(銀線)的電阻為300ohm/10mm或更小，優(yōu)選lOOohm/lOmm或更小。如圖8所示，在第一銀圖像10 中，在透明支持體102的一個主表面10 (即上表面)上的感應(yīng)區(qū)150中以網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)形成兩個或更多個第一導(dǎo)電性大格子16A。第一大格子 16A各含有兩個或更多個小格子18的組合(參見圖9)。在第一大格子16A的各側(cè)附近形成未與第一大格子16A連接的第一虛設(shè)圖案(dummy pattern) 20A (第一非連接圖案)。在第一大格子16A之間形成第一連接部22A，并且通過第一連接部22A將各相鄰的兩個第一大格子16A電連接。第一連接部22A各含有一個或多個中格子M (24a-24d)，并且中格子M 的間距是小格子18的間距的η倍(其中η是大于1的實(shí)數(shù))。小格子18具有最小的方形形狀。第一大格子16Α的邊長優(yōu)選為3-10mm，更優(yōu)選為4_6mm。當(dāng)所述邊長小于所述下限時，例如在觸摸板中使用導(dǎo)電片10的情況中，第一大格子16A在測試過程中表現(xiàn)出較低的靜電電容，并且觸摸板易于造成檢測困難。另一方面，當(dāng)所述邊長大于所述上限時，可使位置檢測精確度變差。由于同樣的原因，在第一大格子16A中的各小格子18的邊長優(yōu)選為 50-500 μ m，更優(yōu)選為150-300 μ m。當(dāng)小格子18的邊長在該范圍時，導(dǎo)電片10具有高透明度，并由此可適用于顯示裝置的前部并具有優(yōu)異的可見度。
沿χ方向(第一方向)排布兩個或更多個第一大格子16A與設(shè)置于其間的第一連接部22A以形成一個第一導(dǎo)電圖案沈A。沿垂直于χ方向的y方向(第二方向)排布兩個或更多個第一導(dǎo)電圖案26A。在相鄰的第一導(dǎo)電圖案26A之間設(shè)置電絕緣的第一隔離件 28A。同時，如圖10所示，在第二銀圖像104b中，在透明支持體102的另一個主表面 102b (即背面)上的感應(yīng)區(qū)150中以網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)形成兩個或更多個第二導(dǎo)電性大格子16B。第二大格子16B各含有兩個或更多個小格子18的組合(參見圖11)。在第二大格子16B的各側(cè)附近形成未與第二大格子16B連接的第二虛設(shè)圖案20B (第二非連接圖案)。在第二大格子16B之間形成第二連接部22B，并且通過第二連接部22B將各相鄰的兩個第二大格子16B 電連接。第二連接部22B各含有一個或多個中格子，并且中格子M的間距是小格子18的間距的η倍(其中η是大于1的實(shí)數(shù))。第二大格子16Β的邊長與第一大格子 16Α的邊長同樣優(yōu)選為3-10mm，更優(yōu)選為4_6mm。沿y方向(第二方向)排布兩個或更多個第二大格子16B與設(shè)置在其間的第二連接部22B以形成一個第二導(dǎo)電圖案^B。沿χ方向(第一方向)排布兩個或更多個第二導(dǎo)電圖案^B。在相鄰的第二導(dǎo)電圖案26B之間設(shè)置電隔離的第二隔離件^B。下面描述導(dǎo)電圖案的一個具體實(shí)例，其中在感應(yīng)區(qū)150中，在透明支持體102的一個主表面10 上形成第一銀圖像104a，在透明支持體的另一主表面102b上形成第二銀圖像 104b。如圖9所述，在感應(yīng)區(qū)150中的透明支持體102的一個主表面10 上的圖案中， 第一大格子16A的四條邊各具有直線形狀。在四條邊中，第一條邊3 和第二條邊32b在不與相鄰的第一大格子16A連接的一個頂角30a上，并且第三條邊32c和第四條邊32d在不與相鄰的第一大格子16A連接的另一個頂角30b上。也就是說，第一條邊3 和第二條邊32b的直線交叉處形成第一大格子16A的一個頂角30a，并且第三條邊32c和第四條邊 32d的直線交叉處形成第一大格子16A的另一頂角30b。在第一連接部22A中，以曲折方式排布4個中格子M (第一中格子Ma-第四中格子Md)，并且各中格子Ma的尺寸相當(dāng)于四個小格子18的總尺寸。在第二條邊32b和第四條邊32d的交叉處設(shè)置第二中格子Ma，并與一個小格子18形成L型空間。在第一中格子Ma的一條邊上設(shè)置第二中格子Mb，并形成在陣型中排布4個小格子18且切除中心交叉的方形空間。第三中格子2 與第一中格子Ma的頂點(diǎn)和第二中格子Mb的一邊相鄰， 并且其與第二中格子24b的形狀相同。在第三條邊32c和第一條邊32a的交叉處設(shè)置第四中格子Md，并且其與第二中格子Mb的頂點(diǎn)和第三中格子Mc的一邊相鄰，并與第一中格子2 相似地與一個小格子18組合形成L型空間。當(dāng)小格子18的排布間距為P時，中格子M的排布間距為2P。在第一大格子16A的4條邊(第一條邊3 至第四條邊32d)的各條邊附近形成上述的第一虛設(shè)圖案20A。形成第一虛設(shè)圖案20A，使兩個或更多個各具有相當(dāng)于部分切除的小格子18的形狀的部件沿相應(yīng)的直邊排布。在圖9的實(shí)例中，所述部件具有通過切除小格子18的一條邊而得到的形狀，并由此所述形狀具有兩個邊角和一個開口(簡稱為近似U 型)，并且排布10個所述部件，以使其開口向遠(yuǎn)離第一大格子16A的相應(yīng)邊的方向開放。所述部件的排布間距是第一大格子16A中的小格子18的排布間距P的兩倍。例如，第一條邊3 的直線形狀與第一虛設(shè)圖案20A的近似U型之間的最短距離約等于小格子18的內(nèi)周的邊長。對于第二條邊32b至第四條邊32d同樣如此。在第一隔離件28A中形成未與第一大格子16A連接的第一絕緣圖案34A。第一絕緣圖案34A具有第一組合圖案部分36a，所述第一組合圖案部分36a含有所排布的兩個或更多個小格子18和3個不含小格子18的空白部38 (38a至38c)。具體地，第一組合圖案部分36a含有由多個小格子18構(gòu)成的4條直線(兩條長直線和兩條短直線)的組合。通過排布多個小格子18形成各條直線以連接小格子18的頂點(diǎn)。 對于其間插入第一隔離件2名k的相鄰的兩個第一大格子16A，所述3個空白部38包括第一空白部38a、第二空白部38b和第三空白部38c，第一空白部38a不含小格子18，并由第一組合圖案部分36a包圍，第二空白部38b不含小格子18并在一個第一大格子16A的另一頂角 30b附近形成，第三空白部38c不含小格子18，并在另一個第一大格子16A的一個頂角30a 附近形成。例如，4條直線中，通過排布7個小格子18以使其頂點(diǎn)連接而形成兩條長直線。在一條長直線一端的小格子18緊鄰沿一個第一大格子16A的第三條邊32c排布的第一虛設(shè)圖案20A，所述一條長直線一端的小格子18與一個第一大格子16A的另一頂角30b的間距與所述第一虛設(shè)圖案20A與一個第一大格子16A的另一頂角30b的間距相同，并且在一條長直線另一端的小格子18緊鄰沿另一個第一大格子16A的第一條邊3 排布的第一虛設(shè)圖案20A，所述一條長直線另一端的小格子18與另一個第一大格子16A的一個頂角30b的間距與所述第一虛設(shè)圖案20A與另一個第一大格子16A的的一個頂角30b的間距相同。相似地，在另一條長直線一端的小格子18緊鄰沿一個第一大格子16A的第四條邊32d排布的第一虛設(shè)圖案20A，所述另一條長直線一端的小格子18與一個第一大格子16A的另一頂角 30b的間距與所述第一虛設(shè)圖案20A與一個第一大格子16A的另一頂角30b的間距相同，并且在另一條長直線另一端的小格子18緊鄰沿另一個第一大格子16A的第二條邊32b排布的第一虛設(shè)圖案20A，所述另一條長直線另一端的小格子18與另一個第一大格子16A的一個頂角30b的間距與所述第一虛設(shè)圖案20A與另一個第一大格子16A的一個頂角30b的間距相同。在兩條短直邊中，一條短直邊含有兩個小格子18，從其一端與在一條長直邊上的第二小格子18連接，并且從其一端與另一條長直邊上的第二小格子18連接。相似地，另一條短直邊含有兩個小格子18，從其另一端與在一條長直邊上的第二小格子18連接，并且從其另一端與另一條長直邊上的第二小格子18連接。當(dāng)小格子18的排布間距為P時，第一隔離件2名k的寬度為mP (其中m是1或更大的整數(shù))。將第一隔離件^A的寬度定義為相鄰的第一導(dǎo)電圖案26A之間的最短距離(即一個第一大格子16A的另一頂角30b與另一個大格子16A的一個頂角30a之間的距離)。 由此，第一絕緣圖案34A在第一隔離件28k的寬度方向上的最大長度為mP或更小。所述最大長度是在面向一個第一大格子16A的另一頂角30b的一條短直邊上的部分與面向另一個第一大格子16A的一個頂角30a的另一條短直邊上的部分之間的距離。如圖8所示，在上述構(gòu)造的導(dǎo)電圖案中，在各第一導(dǎo)電圖案的一端，第一連接部22A不在第一大格子16A的開口端形成。在第一導(dǎo)電圖案2隊的另一端，通過第一端配線區(qū)15 中的第一線連接部40a使第一大格子16A的該端與對應(yīng)的第一端配線圖案42a電連接。如圖11所示，透明支持體102的另一個主表面102b上的第二大格子16B具有與第一大格子16A不同的近似八角形形狀。第二大格子16B具有四條短邊44 (第一條短邊44a 至第四條短邊44d)和四條長邊46(第一條長邊46a和第四條長邊46d)。對于在y方向上彼此相鄰的第二大格子16B，在一個第二大格子16B的第一條短邊4 和另一個第二大格子 16B的第二條短邊44b之間形成第二連接部22B。對于在χ方向上彼此相鄰的第二大格子 16Β，在一個第二大格子16Β的第三條短邊Mc和另一個第二大格子16Β的第四條短邊44d 之間形成第二隔離件^B。第二大格子16B的四條長邊46各具有直線形狀。在四條長邊46中，第一條長邊 46a和第二條長邊46b與面向一個第二隔離件28B的第三條長邊Mc相鄰，并且第三條長邊 46c和第四條長邊46d與面向另一個第二隔離件^B的第四條長邊44d相鄰。在第二連接部22B中，以曲折的方式排布四個中格子24(第五中格子2 至第八中格子Mh)，并且各個中格子M的尺寸等于四個小格子18的總尺寸。將第五個中格子2 設(shè)置在第一短邊4 上，并與一個小格子18組合形成L型空間。將第六中格子24f設(shè)置在第五個中格子2 的一條邊上，并形成在陣列中排布四個小格子18且切除中心交叉的方形空間。第七中格子24g與第五中格子2 的一個頂點(diǎn)和第六中格子24f的一條邊相鄰，并具有與第六中格子24f相同的形狀。設(shè)置在第二條短邊44b上的第八中格子24h與第六中格子Mf的一個頂點(diǎn)和第七中格子Mg的一條邊相鄰，并與第五中格子2 相似地與一個小格子18組合形成L型空間。當(dāng)小格子18的排布間距為P時，中格子M的排布間距為2P。在鄰近第二大格子16B的4條長邊46 (第1長邊46a至第4長邊46d)的各條邊上形成上述的第二虛設(shè)圖案20B。形成第二虛設(shè)圖案20B以使沿對應(yīng)的直邊排布各具有相當(dāng)于部分切除的小格子18的形狀的兩個或多個部件。在圖11的實(shí)例中，該部件具有通過從小格子18切去一條邊而形成的形狀，并由此所述形狀具有近似U型，并排布10個該部件以使開口向遠(yuǎn)離第二大格子16B的對應(yīng)長條邊的方向開放。所述部件的排布間距是第二大格子16B中的小格子18的排布間距P的兩倍。例如，第一長邊46a的直線形狀和第二虛設(shè)圖案20B的近似U型之間的最短距離約等于小格子18的內(nèi)周邊長。對于第二長邊46b至第四長邊46d同樣如此。在第二隔離件^B中形成未與第二大格子16B連接的第二絕緣圖案34B。第二絕緣圖案34B具有第二組合圖案部分36b，第二組合圖案部分36b含有兩個或更多個排布的小格子、各含有兩個近似U型的第一彎曲圖案部分48a和第二彎曲圖案部分48b以及不含小格子18的第四空白部38d。具體地，通過在陣列中排布多個小格子18以連接小格子18的頂點(diǎn)而形成第二組合圖案部分36b。如圖9所示，小格子18的數(shù)量(如6個)使得它們可容納于第一導(dǎo)電圖案中的第一絕緣圖案34A的第一空白部38a中。第一彎曲圖案部分48a具有兩個近似U型，其形成于第二絕緣圖案34B的一端(在一個第二大格子16B中的第四條短邊44d和第三條長邊46c的交叉處之間和在另一個第二大格子16B中的第三條短邊Mc和第一條長邊46a的交叉處之間)。兩個近似U型的端點(diǎn)連接，由端點(diǎn)處的邊形成的角度約為90°。相似地，第二彎曲圖案部分48b具有兩個近似U型，其形成于第二絕緣圖案34B的另一端(在一個第二大格子16B中的第四條短邊44d和第四條長邊46d的交叉處之間和在另一個第二大格子16B中的第三條短邊Mc和第二條長邊46b的交叉處之間)。兩個近似 U型的端點(diǎn)連接，由端點(diǎn)處的邊形成的角度約為90°。第四空白部38d包括不含小格子18的空白區(qū)域，并且具有可容納如圖9所示的第一隔離件34A中的第一組合圖案部分36a的四條直邊的形狀。當(dāng)小格子18的排布間距為P時，第二隔離件28B的寬度為nP (其中η是1或更大的整數(shù))。將第二隔離件28Β定義為相鄰的第二導(dǎo)電圖案26Β之間的最短距離(即一個第二大格子16Β的第四條短邊44d和另一個第二大格子16B的第三條短邊Mc之間的距離)。 由此，第二絕緣圖案34B在第二隔離件^B的寬度方向上的最大長度為nP或更小，優(yōu)選小于nP。所述最大長度是在第二組合圖案部分36b中，面向一個第二大格子16B的第四條短邊44d的部分與面向另一個第二大格子16B的第三條短邊44c的部分之間的距離。如圖10所示，在上述構(gòu)造的導(dǎo)電圖案中，在各第二導(dǎo)電圖案26B的一端，第二連接部22B不在第二大格子16B的開口端形成。在第二導(dǎo)電圖案^B的另一端，通過第二端配線區(qū)152b中的第二線連接部40b使第二大格子16B的該端與對應(yīng)的第二端配線圖案42b 電連接。如圖12所示，在透明支持體102的一個主表面10 上形成的第一銀圖像10 與其另一主表面上形成的第二銀圖像104b之間的位置圖案關(guān)系是第一導(dǎo)電圖案2隊的第一連接部22k和第二導(dǎo)電圖案^B的第二連接部22B彼此面對地排布，并且透明支持體102 插于其中，并且第一導(dǎo)電圖案26A的第一隔離件28A和第二導(dǎo)電圖案26B的第二隔離件28B 彼此面對地排布，并且透明支持體102插于其中。盡管通過粗線和細(xì)線分別突出顯示第一導(dǎo)電圖案26A和第二導(dǎo)電圖案^B以清楚地表示它們在圖12中的位置，但實(shí)際上它們的線寬相同。當(dāng)從上方觀察導(dǎo)電片10時，第一大格子16A之間的間隙由第二大格子16B填充。 由此，感應(yīng)區(qū)150由所述大格子覆蓋。在該情況中，第一虛設(shè)圖案20A和第二虛設(shè)圖案20B 彼此重疊以形成第一大格子16A和第二大格子16B之間的組合圖案。所述組合圖案的寬度等于或大于小格子18的邊長。所述組合圖案的寬度定義為投影在透明支持體102的一個主表面10 上的最短距離，如第一大格子16A的第一條邊3 和第二大格子16B的第二條長邊46b (面向第一條邊32a)之間的距離。在圖12的實(shí)例中，所述組合圖案的寬度是小格子18的邊長的兩倍。對于第一大格子16A的第二條邊32b至第四條邊32d和第二大格子 16B的第二條長邊46b至第四條長邊46d之間的關(guān)系同樣如此。由此，從上方觀察，在第一虛設(shè)圖案20A中的近似U型開口沿第一大格子16A由第二大格子16B的直長邊連接和閉合，并且在第一虛設(shè)圖案20A中的近似U型底部沿第二大格子16B由沿第二大格子16B的第二虛設(shè)圖案20B的近似U型開口的底部連接。相似地， 在第二虛設(shè)圖案20B中的近似U型開口沿第二大格子16B由第一大格子16B的直長邊連接和閉合，并且在第二虛設(shè)圖案20B中的近似U型的底部沿第一大格子16A由在第一虛設(shè)圖案20A中的近似U型開口的底部連接。由此，從上方觀察，排布了多個小格子18，并且難以發(fā)現(xiàn)第一大格子16A和第二大格子16B之間的邊界。例如，在不形成第一虛設(shè)圖案20A和第二虛設(shè)圖案20B的情況中，形成了對應(yīng)于組合圖案寬度的空白區(qū)域，由此第一大格子16A和第二大格子16B的邊角是清晰可見的，這導(dǎo)致可視性的下降。該問題可通過將第一大格子16A的各邊與第二大格子的對應(yīng)長邊重疊以防止所述空白區(qū)域的形成而解決。但是，當(dāng)堆疊位置精確度略微下降時，所述直線的重疊的寬度大(所述直線加粗)，由此第一大格子16A和第二大格子16B之間的邊界是清晰可見的，這導(dǎo)致可視性的下降。相比之下，在該實(shí)施方案中，第一虛設(shè)圖案20A和第二虛設(shè)圖案20B按以上的方式堆疊，從而使第一大格子16A和第二大格子16B之間的邊界更不可見以改進(jìn)可視性。當(dāng)從上方觀察第一連接部22A和第二連接部22B的重疊時，第二連接部22B中的第五中格子2 和第七中格子Mg的連接點(diǎn)大致位于第一連接部22A中的第二中格子24b 的中心，并且第二連接部22B中的第六中格子24f和第八中格子Mh的連接點(diǎn)大致位于第一連接部22A中的第三中格子Mc的中心。由此，第一中格子2 至第八中格子24h組合形成多個小格子18。因此，通過相互重疊的第一連接部22A和第二連接部22B的組合形成小格子18。這樣形成的小格子18與第一大格子16A和第二大格子16B中包圍的小格子18 沒有不同，從而改進(jìn)了可視性。當(dāng)從上方觀察第一隔離件28A的第一絕緣圖案34A和第二隔離件28B的第二絕緣圖案34B的重疊時，第一絕緣圖案34A的第一組合圖案部分36a面向第二絕緣圖案34B的第四空白部38d，并且第一絕緣圖案34A的第一空白部38a面向第二絕緣圖案34B的第二組合圖案部分36b。此外，第一絕緣圖案34A的第二空白部38b面向第二絕緣圖案34B的第一彎曲圖案部分48a，并且第一絕緣圖案34A的第三空白部38c面向第二絕緣圖案34B的第二彎曲圖案部分48b。在該情況中，從上方觀察，第一彎曲圖案部分48a的開口由鄰近第一大格子16A的另一頂角30b的第三條邊32c和第四條邊32d的直線形連接和閉合，并且第二彎曲圖案部分48b的開口由鄰近第一大格子16A的一個頂角30a的第一條邊3 和第三條邊32c的直線形連接和閉合。因此，第一絕緣圖案34A和第二絕緣圖案34B形成多個小格子18組合。這樣形成的小格子18與第一大格子16A和第二大格子16B中周圍的小格子 18沒有不同，從而改進(jìn)了可視性。當(dāng)將導(dǎo)電片10用于觸摸板時，在第一銀圖像10 和第二銀圖像104b上各形成保護(hù)層，并且第一銀圖像10 中從第一導(dǎo)電圖案26A延伸出的第一端配線圖案4 和第二銀圖像104b中從第二導(dǎo)電圖案26B延伸出的第二端配線圖案42b連接至IC電路如掃描控制電路。優(yōu)選地，在第一導(dǎo)電圖案26A和第一端配線圖案4 之間的第一線連接部40a是直線排布的，并且在第二導(dǎo)電圖案26B和第二端配線圖案42b之間的第二線連接部40b是直線排布的，從而使導(dǎo)電片10的外部區(qū)域(在液晶顯示裝置的顯示屏周圍的外框區(qū)域)最小化。當(dāng)手指接觸所述保護(hù)層時，信號從手指觸摸位置對應(yīng)的第一導(dǎo)電圖案26A和第二導(dǎo)電圖案26B傳輸至IC電路。在IC電路中根據(jù)所傳輸?shù)男盘栍嬎闶种赣|摸位置。由此， 即使當(dāng)兩個手指同時接觸所述保護(hù)層時，仍可檢測手指的觸摸位置。盡管在以上的導(dǎo)電片10中的小格子18為方形，但它也可以是其它多邊形。小格子18的各邊可以是直線形、曲線形或弧線形。例如當(dāng)小格子18具有弧線形邊時，兩個相對的邊可具有向外突出的弧形，并且另外兩個相對的邊可具有向內(nèi)凹陷的弧形?？蛇x地，各邊可具有含有連續(xù)形成的向外突出的弧形和向內(nèi)凹陷的弧形的波浪形。所以，各邊可具有正弦曲線形狀。
盡管在以上的導(dǎo)電片10中的第一連接部22A和第二連接部22B中的中格子M的排布間距為小格子18的排布間距P的兩倍，它可根據(jù)中格子M的數(shù)量進(jìn)行合適的選擇。中格子M的排布間距可以為小格子18的排布間距P的1. 5倍、3倍等。當(dāng)中格子M的排布間距過小或過大時，可能難以排布第一大格子16A和第二大格子16B，這導(dǎo)致外觀較差。由此，中格子M的排布間距優(yōu)選為小格子18的排布間距P的1-10倍，更優(yōu)選為1-5倍。此外，小格子18的尺寸(包括邊長和對角線長)、在第一大格子16A中的小格子 18的數(shù)量和在第二大格子16B中的小格子18的數(shù)量可根據(jù)采用所述導(dǎo)電片的觸摸板的尺寸和分辨率(線數(shù)量)進(jìn)行適當(dāng)選擇。以下將描述通過使用照相特性感光鹵化銀材料制備根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案所述導(dǎo)電膜的另一個優(yōu)選方法。本發(fā)明制備導(dǎo)電膜100的方法包括在感光材料122和顯影處理方面不同的以下三種方法。(1)包括對無物理顯影核的感光黑-和-白鹵化銀材料進(jìn)行化學(xué)或熱顯影以在感光材料122上形成導(dǎo)電圖案108的方法。(2)包括對具有含有物理顯影核的鹵化銀乳劑層的感光黑-和-白鹵化銀材料進(jìn)行溶液物理顯影以在感光材料122上形成導(dǎo)電圖案108的方法。(3)包括對無物理顯影核的感光黑-和-白鹵化銀材料的堆疊體和具有含有物理顯影核的非感光層的圖像接受片進(jìn)行擴(kuò)散轉(zhuǎn)移顯影以在非感光圖像接受片上形成導(dǎo)電圖案108的方法。在方法(1)中，用完整的黑-和-白顯影方法在感光材料122上形成可透過的導(dǎo)電膜，如透光導(dǎo)電膜。所得的銀是含有高比表面積絲的化學(xué)或熱顯影的銀，并由此在以下的電鍍或物理顯影處理中顯示出高活性。在方法O)中，將鹵化銀顆粒熔融并沉積在曝光區(qū)域中的物理顯影核上以在感光材料122上形成可透過的導(dǎo)電膜，如透光導(dǎo)電膜。在該方法中還使用完整的黑-和-白顯影方法。由于在顯影中鹵化銀沉積在物理顯影核上，盡管可達(dá)到高活性，但是經(jīng)顯影的銀具有比表面小積的球形形狀。在方法(3)中，將鹵化銀顆粒熔融在非曝光區(qū)域中，并且在圖像接受片的顯影核上擴(kuò)散和沉積，以在圖像接受片上形成可透過的導(dǎo)電膜，如透光導(dǎo)電膜。在該方法中，使用了所謂的獨(dú)立型過程，從感光材料122剝下所述圖像接受片。在所述方法中可使用陰性或反向顯影處理。在擴(kuò)散轉(zhuǎn)移顯影中，使用自動陽性感光材料可進(jìn)行陰性顯影處理?；瘜W(xué)顯影、熱顯影、溶液物理顯影和擴(kuò)散轉(zhuǎn)移顯影具有本領(lǐng)域中通常已知的含義， 并且在常規(guī)感光化學(xué)課本，如 Siin-ichi Kikuchi, “ Shashin Kagaku(Photographic Chemistry) “ , Kyoritsu Shuppan Co., Ltd. ,1955 禾口 C.Ε· K. Mees, “ The Theory of Photographic Processes，第4版〃，Mcmillan，1977中有解釋。盡管本發(fā)明中通常使用液體處理，但也可使用其他顯影處理，如熱顯影處理。例如，本發(fā)明中可以使用在日本特開 2004-184693,2004-33407 和 2005-010752 和日本專利申請 2004-244080 和 2004-085655 中所述的技術(shù)。以下將詳細(xì)描述以上實(shí)施方案的導(dǎo)電膜100中的各層結(jié)構(gòu)。
[透明支持體102]透明支持體102可以是塑料膜、塑料板、玻璃板等。用于所述塑料膜和塑料板的材料實(shí)例包括聚酯如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET) 和聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)；聚烯烴如聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯和EVA;乙烯基樹脂；聚碳酸酯(PC)；聚酰胺；聚酰亞胺；丙烯酸樹脂；和三乙?；w維素(TAC)。透明支持體102優(yōu)選是熔點(diǎn)為約290°C或更低的塑料的膜或板，所述塑料如 PET(熔點(diǎn) 258°C )、PEN(熔點(diǎn) 269°C )、PE(熔點(diǎn) 135°C )、PP(熔點(diǎn) 163°C )、聚苯乙烯(熔點(diǎn) 230°C )、聚氯乙烯(熔點(diǎn)180°C )、聚偏二氯乙烯(熔點(diǎn)212°C )或TAC(熔點(diǎn)290°C )。從透光率、可加工性等角度考慮，特別優(yōu)選PET。用于觸摸板的導(dǎo)電膜100需要是透明的，因此透明支持體102優(yōu)選具有高透明度。[第一感光層120a和第二感光層120b]第一感光層120a和第二感光層120b各含有銀鹽和粘合劑，并可進(jìn)一步含有溶劑和添加劑。在該實(shí)施方案中所使用的銀鹽可以是無機(jī)銀鹽，如鹵化銀或有機(jī)銀鹽，如乙酸銀。 在該實(shí)施方案中使用鹵化銀，因為鹵化銀具有優(yōu)異的照相特性。第一感光層120a和第二感光層120b各涂覆的銀量(所涂覆的銀鹽量)以銀密度計優(yōu)選為5-30g/m2，更優(yōu)選8-30g/m2，進(jìn)一步優(yōu)選15_30g/m2。當(dāng)所涂覆的銀量在以上范圍中時，可進(jìn)行感光材料122的曝光，使得入射在第一感光層120a的第一光12 達(dá)不到第二感光層120b，并且入射在第二感光層120b的第二光124b達(dá)不到第一感光層120a。在該實(shí)施方案中所使用的粘合劑的實(shí)例包括明膠、聚乙烯基醇(PVA)、聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)、多聚糖如淀粉、纖維素及它們的衍生物、聚環(huán)氧乙烷、聚乙烯基胺、殼聚糖、聚賴氨酸、聚丙烯酸、聚藻酸、聚透明質(zhì)酸和羧基纖維素。取決于官能團(tuán)的離子性，所述粘合劑顯示出中性、陰離子性或陽離子性。在該實(shí)施方案中，對第一感光層120a和第二感光層120b各層中的粘合劑量沒有特別限制，并且可適當(dāng)?shù)剡x擇以得到充分的分散和粘合性質(zhì)。第一感光層120a和第二感光層120b各層優(yōu)選的粘合劑量為0. 2-2g/m2?！慈荦R[J>對用于形成第一感光層120a和第二感光層120b的溶劑沒有特別限制，并且其實(shí)例包括水、有機(jī)溶劑(例如醇如甲醇、酮如乙酮、酰胺如甲酰胺、亞砜如二甲基亞砜、酯如乙酸乙酯、醚)、離子液體和它們的混合物。在該實(shí)施方案中，在第一感光層120a和第二感光層120b各層中，溶劑對銀鹽、粘合劑等的總量的比例為30質(zhì)量％ -90質(zhì)量％，優(yōu)選50質(zhì)量％ -80質(zhì)量％?！雌渌砑觿祵υ谠搶?shí)施方案中所使用的添加劑沒有特別限制，并且可優(yōu)選地選自已知的添加劑。例如，可使用各種消光劑控制表面粗糙度。優(yōu)選將所述消光劑在所述顯影步驟中溶解并去除，從而它不使所得膜的透明度變差。[其它層]在第一感光層120a上可形成保護(hù)層(未顯示)。在該實(shí)施方案中所使用的保護(hù)層含有粘合劑如明膠或高分子聚合物，并且將其設(shè)置在第一感光層120a上以改進(jìn)防刮擦性或力學(xué)性質(zhì)。所述保護(hù)層優(yōu)選的厚度為0.5μπι或更小。對涂覆或形成所述保護(hù)層的方法沒有特別限制，并且可適當(dāng)?shù)剡x自已知的涂覆或形成方法。此外，在第一感光層120a和透明支持體102之間和在第二感光層120b和透明支持體102之間可形成抗暈層。以下將描述制備導(dǎo)電膜100的步驟。[曝光]如上所述，對在透明支持體102上具有第一感光層120a和第二感光層120b的感光材料122進(jìn)行兩面同時曝光。在曝光中可使用電磁波。例如，電磁波可以是光，如可見光或紫外光，或者是放射性射線，如X射線。可使用具有波長分布或特定波長的光源進(jìn)行曝光。[顯影]在該實(shí)施方案中，在曝光后對第一感光層120a和第二感光層120b進(jìn)行顯影。 在本發(fā)明中可使用感光銀鹽膜、感光紙、印刷刻膜、用于光掩膜的乳膠掩膜等常規(guī)顯影技術(shù)。對顯影處理中所使用的顯影劑沒有特別限制，并且其可以是PQ顯影劑、MQ顯影劑、 MAA顯影劑等?？捎糜诒景l(fā)明的市售顯影劑的實(shí)例包括可購自FUJIFILM Corporation的 CN-16、CR-56、CP45X、FD-3 和 PAPIT0L，可購自 Eastman Kodak Company 的 C_41、E-6、RA_4、 D-19和D-72及以試劑盒形式含有它們的顯影劑。所述顯影劑可以是利斯顯影劑(Iith developer)0在本發(fā)明中，所述顯影步驟可包括用于去除在非曝光區(qū)域中的銀鹽以穩(wěn)定所述材料的定影處理。在本發(fā)明中可使用用于感光銀鹽膜、感光紙、印刷刻膜、用于光掩膜的乳膠掩膜等的定影技術(shù)。在所述定影處理中，定影溫度優(yōu)選為約20°C -50°C，更優(yōu)選為25°C _40°C。定影時間優(yōu)選為5秒-1分鐘，更優(yōu)選7-50秒。對于每Im2處理的感光材料122，定影劑的用量優(yōu)選為600ml/m2或更少，更優(yōu)選500ml/m2或更少，特別優(yōu)選300ml/m2或更少。經(jīng)顯影和定影的感光材料122優(yōu)選進(jìn)行水洗處理或穩(wěn)定化處理。對于每Im2感光材料122，在水洗或穩(wěn)定化處理中的水用量通常為20L或更少，并且可以是3L或更少。水量可以是0，由此感光材料122可用儲存水洗滌。顯影后在曝光區(qū)域(所述導(dǎo)電圖案)中所含的金屬銀對曝光前在所述區(qū)域中所含的銀的比值優(yōu)選為50質(zhì)量％或更大，更優(yōu)選80質(zhì)量％或更大。當(dāng)該比值為50質(zhì)量％或更大時，可得到高導(dǎo)電性。在該實(shí)施方案中，通過顯影得到的色調(diào)(色階)優(yōu)選為大于4.0，但其不受特別限制。當(dāng)顯影后的色調(diào)大于4. 0時，導(dǎo)電性金屬部分可顯示出增大的導(dǎo)電性，同時透光部分保持高透光率。例如，通過摻雜銠或銥離子或通過向所述顯影劑加入聚環(huán)氧乙烷衍生物可得到4.0或更大的色調(diào)。(顯影后的膜硬化處理)優(yōu)選地，在第一感光層120a和第二感光層120b顯影后，應(yīng)將所得物浸漬在硬化劑中，并由此進(jìn)行膜硬化處理。所述硬化劑的實(shí)例包括日本特開02-141279所述的明礬、二醛 (如戊二醛、己二醛和2，3- 二羥基-1，4- 二噁烷)和硼酸。通過以上步驟得到導(dǎo)電膜100。所得導(dǎo)電膜100的表面電阻優(yōu)選在0. I-IOOohm/ sq的范圍。其下限優(yōu)選為lohm/sq或更大，3ohm/sq或更大，5ohm/sq或更大，或10ohm/sq。其上限值優(yōu)選為70ohm/Sq或更小，或50ohm/Sq或更小。當(dāng)所述表面電阻控制在該范圍中時，即使在面積為IOcmX IOcm或更大的大觸摸板中也可進(jìn)行位置檢測。所得的導(dǎo)電膜100的體積電阻率優(yōu)選為160 μ ohm · cm或更小，更優(yōu)選 1. 6-16 μ ohm · cm,進(jìn)一步優(yōu)選 1. 6-10 μ ohm · cm。[壓延處理]在該實(shí)施方案的制備方法中，可以對經(jīng)顯影的導(dǎo)電圖案108進(jìn)行平滑處理。通過所述平滑處理可顯著提高導(dǎo)電圖案108的導(dǎo)電性。當(dāng)合適地設(shè)定在第一銀圖像10 和第二銀圖像104b中的導(dǎo)電圖案108的區(qū)域和透光部分時，所得觸摸板的導(dǎo)電膜100可兼有優(yōu)異的導(dǎo)電性和可視性。使用壓延輥單元可進(jìn)行所述的平滑處理。所述壓延輥單元通常具有成對的輥。以下將使用所述壓延輥的平滑處理稱為壓延處理。在壓延處理中使用的輥可以由金屬或塑料(如環(huán)氧化物、聚酰亞胺、聚酰胺或聚酰亞胺-酰胺)組成。特別是在所述感光材料在各表面上具有乳劑層時，優(yōu)選地使用成對的金屬輥將其處理。在所述感光材料僅在一個表面上具有乳劑層的情況中，考慮到防皺，可使用金屬輥和塑料輥的組合將其處理。線壓力(line pressure)的下限值優(yōu)選為1960N/ cnK200kgf/cm，相當(dāng)于699. 4kgf/cm2的表面壓力)或更大，更優(yōu)選^40N/cm(300kgf/cm，相當(dāng)于935. 8kgf/cm2的表面壓力)或更大。線壓力的上限值為6880N/cm(700kgf/cm)或更小。 優(yōu)選在10°C (不進(jìn)行溫度控制下)-IOO0C的溫度下進(jìn)行平滑處理，如壓延處理。盡管優(yōu)選的處理溫度范圍取決于金屬網(wǎng)圖案或金屬配線圖案的密度和形狀、粘合劑類型等， 所述溫度通常更優(yōu)選為10°c (不進(jìn)行溫度控制下)_50°C。[用蒸氣接觸處理]在該實(shí)施方案的制備方法中，在平滑處理后的蒸氣接觸步驟中可將所述導(dǎo)電圖案與蒸氣接觸。在所述蒸氣接觸步驟中，經(jīng)平滑處理的導(dǎo)電圖案108可與過熱蒸氣或加壓蒸氣(或加壓飽和蒸氣)接觸。通過該步驟可在短時間內(nèi)容易地改進(jìn)導(dǎo)電性和透明度。在該步驟中，可部分去除水溶性粘合劑，從而可提高導(dǎo)電金屬物質(zhì)之間的粘結(jié)。在該實(shí)施方案的制備方法中，在使用過熱或加壓蒸氣處理后優(yōu)選對導(dǎo)電圖案108 進(jìn)行水洗。通過過熱或加壓蒸氣溶解或脆化的粘合劑在蒸氣接觸處理后可通過水洗去除以改進(jìn)其導(dǎo)電性。[電鍍處理]在該實(shí)施方案中，除了平滑處理之外，還可對導(dǎo)電圖案108進(jìn)行電鍍處理。通過電鍍處理，可進(jìn)一步降低表面電阻以改進(jìn)其導(dǎo)電性。平滑處理可在電鍍處理之前或之后進(jìn)行。 當(dāng)平滑處理在電鍍處理之前進(jìn)行時，可更有效地進(jìn)行電鍍處理以形成均勻的電鍍層。所述電鍍處理可以是電解處理或無電處理。用于電鍍層的材料優(yōu)選是具有充分電導(dǎo)性的金屬， 如銅。[氧化處理]在該實(shí)施方案中，優(yōu)選地對通過顯影處理形成的導(dǎo)電圖案108或通過電鍍處理形成的導(dǎo)電金屬部分進(jìn)行氧化處理。例如，通過所述氧化處理可去除少量的沉積在透光部分上的金屬，使得透光部分的透光率可提高至約100%。
以下將描述得到的導(dǎo)電膜100的多項優(yōu)選性質(zhì)。[第一銀圖像10 和第二銀圖像104b]第一銀圖像10 和第二銀圖像104b中的各導(dǎo)電圖案108的線寬為10 μ m或更小。在觸摸板中，為了防止云紋的產(chǎn)生，所述線寬優(yōu)選為5-10 μ m,更優(yōu)選5-9 μ m,進(jìn)一步優(yōu)選5-8 μ m。為了與控制IC電路連接、接地等，導(dǎo)電圖案108可具有線寬大于10 μ m的部分。特別是在觸摸板中使用導(dǎo)電膜100的情況中，優(yōu)選地，第一銀圖像10 和第二銀圖像104b具有由多個多邊形組成的格子形導(dǎo)電圖案108，所述格子形導(dǎo)電圖案108具有 300 μ m或更小的排布間距和80%或更大的總透光率，并且第一銀圖像10 的開口率和第二銀圖像104b的開口率之間的差異為或更小。在此所使用的術(shù)語“第一銀圖像10 的開口率”是指透明支持體102的一個主表面上的有效區(qū)域的開口率(排除未設(shè)有第一銀圖像10 的外圍的有效區(qū)域)，在此所使用的術(shù)語“第二銀圖像104b的開口率”是指透明支持體102的另一個主表面上的有效區(qū)域的開口率(排除未設(shè)有第二銀圖像104b的外圍的有效區(qū)域)。第一銀圖像10 的開口率是透光部分(非導(dǎo)電圖案108)對第一銀圖像10 整個表面的比值，并且第二銀圖像104b的開口率是透光部分(非導(dǎo)電圖案108)對第二銀圖像104b整個表面的比值[透光部分]在該實(shí)施方案中，在導(dǎo)電膜100中，所述透光部分是除導(dǎo)電圖案108之外的具有透光性的區(qū)域。如上所述，所述透光部分的透光率(在此其為不考慮透明支持體102的光吸收和反射的、在380-780nm的波長范圍中的最小透光率值)為90%或更大，優(yōu)選95%或更大，更優(yōu)選97 %或更大，進(jìn)一步優(yōu)選98 %或更大，最優(yōu)選99 %或更大。[導(dǎo)電膜100]在該實(shí)施方案的導(dǎo)電膜100中，透明支持體102的厚度優(yōu)選為5_350μπι，更優(yōu)選 30-150 μ m。當(dāng)其厚度為5-350 μ m時，可得到所期待的可見光透光率，并且透明支持體102
可易于操作。通過控制涂覆在透明支持體102上的第一感光層120a和第二感光層120b的厚度可適當(dāng)?shù)剡x擇在透明支持體102上形成的導(dǎo)電圖案108的厚度。在觸摸板中使用導(dǎo)電膜 100的情況中，導(dǎo)電圖案108優(yōu)選地具有較小的厚度。由于厚度減小，顯示平板的可視角和可視性得以改進(jìn)。由此，各導(dǎo)電圖案108的厚度優(yōu)選為0. 5-3 μ m,更優(yōu)選1. 0-2. 5 μ m。在該實(shí)施方案中用于制備導(dǎo)電膜100的方法中不必進(jìn)行電鍍等。這是因為根據(jù)該實(shí)施方案用于制備導(dǎo)電膜100的該方法中，通過控制所涂覆的銀量和第一感光層120a和第二感光層120b的銀/粘合劑體積比可得到所期待的表面電阻。壓延處理等可按需進(jìn)行。本發(fā)明可適當(dāng)?shù)嘏c在以下表1和2中所示的專利公開和國際專利小冊子中所述的技術(shù)相結(jié)合。省略“日本特開”、“公開號”、“小冊子號”等。表 權(quán)利要求
1.導(dǎo)電膜，其包含透明支持體(102)、設(shè)置在透明支持體(10 的一個主表面上的第一導(dǎo)電銀圖像(104a)和設(shè)置在透明支持體(102)的另一主表面上的第二導(dǎo)電銀圖像(104b)， 通過以下步驟得到所述第一導(dǎo)電銀圖像和第二導(dǎo)電銀圖像(104a、104b)在透明支持體 (102)的各表面上形成至少一層鹵化銀乳劑層，然后將所述鹵化銀乳劑層曝光并顯影，其中第一銀圖像(104a)和第二銀圖像(104b)各在需要透明的區(qū)域中含有網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)， 所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)包含線寬為10 μ m或更小的細(xì)線，并且所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)形成薄片電阻為50ohm/Sq或更小的導(dǎo)電層。
2.權(quán)利要求1的導(dǎo)電膜，其中所述導(dǎo)電層的薄片電阻為lOohm/sq或更小。
3.權(quán)利要求1的導(dǎo)電膜，其中所述第一銀圖像(104a)和第二銀圖像(104b)各含有所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)和電連接至所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的銀線(106)，并且所述銀線(106)的寬度為10-500 μ m，長度為IOmm或更大，電阻為300ohm/10mm或更
4.權(quán)利要求3的導(dǎo)電膜，其中所述銀線(106)的電阻為lOOohm/lOmm或更小。
5.權(quán)利要求1的導(dǎo)電膜，其中所述鹵化銀乳劑層的銀/粘合劑的體積比為1/1或更大。
6.權(quán)利要求1的導(dǎo)電膜，其中所述鹵化銀乳劑層的銀/粘合劑的體積比為2/1或更大。
7.權(quán)利要求1的導(dǎo)電膜，其中所述鹵化銀乳劑層基本上未被實(shí)施光譜增感，并且其表面電阻值(IogSR)為15或更小，并且其涂覆的銀量為5g/m2-30g/m2。
8.權(quán)利要求7的導(dǎo)電膜，其中所述鹵化銀乳劑層的涂覆的銀量為15g/m2-30g/m2。
9.權(quán)利要求7的導(dǎo)電膜，其中所述鹵化銀乳劑層含有鹵化銀顆粒，并且所述鹵化銀顆粒的表面包覆有光譜增感性染料，其包覆率為20%或更小。
10.權(quán)利要求7的導(dǎo)電膜，其中所述鹵化銀乳劑層的表面電阻值(IogSR)為13或更小。
11.權(quán)利要求1的導(dǎo)電膜，其中所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)包含含有多個多邊形的格子圖案，所述格子圖案的排布間距為300 μ m或更小，并且總透光率為80%或更大，并且在所述透明支持體(102)的一個主表面上的有效面積的開口率和在所述透明支持體 (102)的另一個主表面上的有效面積的開口率之間的差值為或更小，所述透明支持體 (102)的一個主表面上的有效面積是排除未設(shè)有第一銀圖像(104a)的外周的有效面積，所述透明支持體(10 的另一個主表面上的有效面積是排除未設(shè)有第二銀圖像(104b)的外周的有效面積。
12.權(quán)利要求1的導(dǎo)電膜，其中所述第一銀圖像(104a)和第二銀圖像(104b)各具有形成用于觸摸板的電極的部分。
13.制備導(dǎo)電膜(100)的方法，所述導(dǎo)電膜(100)具有透明支持體(102)、設(shè)置在透明支持體(10 的一個主表面上的第一導(dǎo)電銀圖像(104a)和設(shè)置在透明支持體(10 的另一個主表面上的第二導(dǎo)電銀圖像(104b)的導(dǎo)電膜，所述方法包括以下步驟在透明支持體(10 的各表面上形成至少一層鹵化銀乳劑層；將所述鹵化銀乳劑層曝光，并且將曝光后的鹵化銀乳劑層顯影，其中所述第一銀圖像(104a)和第二銀圖像(104b)各在需要透明的區(qū)域中含有網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)包含線寬為10 μ m或更小的細(xì)線， 所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)形成薄片電阻為50ohm/Sq或更小的導(dǎo)電層，并且在各表面上的所述鹵化銀乳劑層基本上未被實(shí)施光譜增感，并且其厚度為4 μ m或更小，其涂覆的銀量為5g/m2或更大，并且涂覆的粘合劑量為2. Og/m2或更小。
14.權(quán)利要求13的方法，其中所述鹵化銀乳劑層涂覆的銀量為15g/m2-30g/m2。
15.權(quán)利要求13的方法，其中所述導(dǎo)電層的薄片電阻為lOohm/sq或更小。
16.權(quán)利要求13的方法，其中所述第一銀圖像(104a)和第二銀圖像(104b)各含有所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)和電連接至所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的銀線(106)，并且所述銀線(106)的寬度為10μπι-500μπι，長度為IOmm或更大，電阻為300ohm/10mm或更小。
17.權(quán)利要求16的方法，其中所述銀線(106)的電阻為lOOohm/lOmm或更小。
18.權(quán)利要求13的方法，其中所述鹵化銀乳劑層含有鹵化銀顆粒，并且所述鹵化銀顆粒的表面包覆有光譜增感性染料，其包覆率為20%或更小。
19.權(quán)利要求13的方法，其中使用與所述鹵化銀乳劑層緊密接觸的曝光掩膜進(jìn)行所述曝光步驟。
20.權(quán)利要求13的方法，其中所述鹵化銀乳劑層具有高反差的照相特性。
21.權(quán)利要求13的方法，其中形成所述鹵化銀乳劑層作為基本上的最上層。
全文摘要
本發(fā)明公開了導(dǎo)電膜(100)，其具有透明支持體(102)、設(shè)置在透明支持體(102)的一個主表面上的第一導(dǎo)電銀圖像(104a)和設(shè)置在透明支持體(102)的另一主表面上的第二導(dǎo)電銀圖像(104b)。通過以下步驟得到第一導(dǎo)電銀圖像和第二導(dǎo)電銀圖像(104a、104b)在透明支持體(102)的各表面上形成至少一層鹵化銀乳劑層，然后將所述鹵化銀乳劑層曝光并顯影。第一銀圖像(104a)和第二銀圖像(104b)各在需要透明的區(qū)域含有網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)包含線寬為10μm或更小的細(xì)線，并形成薄片電阻為50ohm/sq或更小的導(dǎo)電層。
文檔編號H01B5/14GK102290129SQ201110169259
公開日2011年12月21日 申請日期2011年6月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月18日
發(fā)明者一木晃 申請人:富士膠片株式會社