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      水浴沉積鍍膜槽的制作方法

      文檔序號(hào):7172956閱讀:328來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:水浴沉積鍍膜槽的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能電池面板技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種應(yīng)用于太陽(yáng)能電池面板基板鍍膜工藝中的水浴沉積鍍膜槽,利用化學(xué)方法制備Cds、ZnS或Zn(OH)等薄膜。
      背景技術(shù)
      太陽(yáng)能作為一種綠色可再生能源,具有無(wú)污染、無(wú)地域限制、全天候利用等優(yōu)點(diǎn), 越來(lái)越受到人們的青睞和重視。太陽(yáng)能的利用方式之一是通過(guò)光電轉(zhuǎn)換器件將太陽(yáng)能轉(zhuǎn)換為電能,然后再對(duì)轉(zhuǎn)換后的電能加以利用。目前商業(yè)化的太陽(yáng)能電池主要有單晶硅、多晶硅及薄膜電池,薄膜電池中主要包括硅基薄膜、CdTe與CIGS。而薄膜電池由于其成本低、易集成、更容易大面積生產(chǎn)而越來(lái)越受到關(guān)注?,F(xiàn)階段制約太陽(yáng)能電池發(fā)展及推廣的主要因素就是生產(chǎn)成本,而其中生產(chǎn)設(shè)備成本則占了相當(dāng)一部分比例。在太陽(yáng)能電池生產(chǎn)中有許多步驟可以利用化學(xué)方法。如減反射膜Si02、CdTe電池中的CdS、CIGS電池中的CdS、ZnS或ZnS(OH)等薄膜。因而,有必要設(shè)計(jì)一種簡(jiǎn)單、方便、成本低的裝置,以實(shí)現(xiàn)對(duì)基板進(jìn)行化學(xué)水浴鍍膜。

      實(shí)用新型內(nèi)容因此,本實(shí)用新型的目的在于提供一種化學(xué)水浴沉積鍍膜槽,本實(shí)用新型的鍍膜槽結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便,可應(yīng)用于太陽(yáng)能電池面板基板的鍍膜工藝,以制備Cds、ZnS或 ZnS(OH)薄膜。本實(shí)用新型提供的一種化學(xué)水浴沉積鍍膜槽,應(yīng)用于太陽(yáng)能電池薄膜的制備工藝中;該鍍膜槽包括,由長(zhǎng)方形底壁及沿所述底壁邊緣圍置的側(cè)壁形成的凹槽,以及設(shè)置于所述凹槽中的攪拌裝置;其中,在所述凹槽的外側(cè)設(shè)置有一對(duì)平行的導(dǎo)軌,所述攪拌裝置的兩端分別設(shè)置于一導(dǎo)軌上,并可以沿所述導(dǎo)軌滑動(dòng),以對(duì)所述凹槽中的鍍膜液體進(jìn)行攪拌??蛇x的,所述凹槽為包括內(nèi)槽和外槽的雙層結(jié)構(gòu),所述外槽套接于所述內(nèi)槽之外, 且所述內(nèi)槽的外壁和外槽的內(nèi)壁壁之間設(shè)置有距離,形成容置空間。優(yōu)選的,在所述凹槽外側(cè)設(shè)置有平行于所述導(dǎo)軌的絲杠,在所述攪拌裝置其中一端部設(shè)置有與該絲杠相配合的絲杠母,所述絲桿母裝配于所述絲杠上。優(yōu)選的,所述絲杠為滾珠絲杠。優(yōu)選的,所述絲杠的一端與動(dòng)力裝置的輸出端相連接。優(yōu)選的,所述動(dòng)力裝置為步進(jìn)電機(jī)。優(yōu)選的,所述攪拌裝置呈板狀,由一塊面板或者兩塊以上的多塊相互平行的面板組成;其板面垂直于所述凹槽底壁或與底壁的底面呈銳角;在所述板狀攪拌裝置兩端頂部各伸出一支撐臂,通過(guò)所述支撐臂支撐于所述導(dǎo)軌上。優(yōu)選的,在所述板狀攪拌裝置上沿其厚度方向還設(shè)置有通孔。可選的,所述內(nèi)槽的深度為8至12厘米,長(zhǎng)度為110至150厘米,寬度為50至70厘米。 可選的,在所述水浴沉積鍍膜槽底壁下面還設(shè)置有加熱裝置??蛇x的,所述加熱裝置為電爐絲??蛇x的,在所述凹槽的開(kāi)口側(cè)的側(cè)壁上設(shè)置有墊片,用于對(duì)設(shè)置于其上的太陽(yáng)能電池面板基板提供支撐和密封,防止沉積溶液溢出??蛇x的,所述容置空間中設(shè)置溶液作為加熱媒介??蛇x的,還包括控制反饋系統(tǒng),以設(shè)定控制水浴加熱的溫度、時(shí)間,設(shè)定控制攪拌裝置攪拌的頻率、幅度及時(shí)間。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型提供的水浴沉積鍍膜槽,包括由長(zhǎng)方形底壁及沿所述底壁邊緣圍置的側(cè)壁形成的凹槽,以及設(shè)置于所述凹槽中的攪拌裝置,在所述凹槽的外側(cè)設(shè)置有一對(duì)平行的導(dǎo)軌,所述攪拌裝置的兩端分別設(shè)置于一導(dǎo)軌上,并可以沿所述導(dǎo)軌滑動(dòng),從而實(shí)現(xiàn)對(duì)所述凹槽中的鍍膜溶液進(jìn)行攪拌,通過(guò)在所述水浴沉積鍍膜槽中設(shè)置鍍膜溶液,在水浴沉積鍍膜槽槽口覆蓋基板,可實(shí)施對(duì)所述基板進(jìn)行鍍膜的工藝;本實(shí)用新型的水浴沉積鍍膜槽結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,易于操作,制造成本低;此外,該鍍膜槽還可以豎直放置進(jìn)行鍍膜操作,可以消除水平放置時(shí)化學(xué)溶液對(duì)玻璃基板的不均勻覆蓋,提高在基板上鍍膜層的均勻性。在本實(shí)用新型的優(yōu)選技術(shù)方案中,所述攪拌裝置為板狀結(jié)構(gòu),在所述板狀結(jié)構(gòu)上可以設(shè)置若干通孔,從而減少攪拌時(shí)的阻力。在本實(shí)用新型的優(yōu)選技術(shù)方案中,所述攪拌裝置的一端通過(guò)絲杠母與絲杠連接, 該絲杠與一步進(jìn)電機(jī)輸出端連接,通過(guò)步進(jìn)電機(jī)帶動(dòng)絲杠正反方向轉(zhuǎn)動(dòng),可實(shí)現(xiàn)攪拌裝置在凹槽中來(lái)回運(yùn)動(dòng)。該攪拌裝置有利于對(duì)整個(gè)凹槽中溶液攪拌的一致性,而且其驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,工作時(shí)穩(wěn)定性好。

      通過(guò)附圖中所示的本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例的更具體說(shuō)明,本實(shí)用新型的上述及其它目的、特征和優(yōu)勢(shì)將更加清晰。在全部附圖中相同的附圖標(biāo)記指示相同的部分。并未刻意按比例繪制附圖,重點(diǎn)在于示出本實(shí)用新型的主旨。圖1為本實(shí)用新型的化學(xué)水浴沉積鍍膜槽的實(shí)施例的俯視圖;圖2為圖1所示出的化學(xué)水浴沉積鍍膜槽的主視圖圖;圖3為圖1沿AA方向剖分后的截面示意圖;圖4為圖1中a部分放大后的示意圖;圖5為圖3中b部分放大后的示意圖。其中,所述示意圖是說(shuō)明性的,而非限制性的,在此不能過(guò)度限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
      具體實(shí)施方式
      為使本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂,
      以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
      做詳細(xì)的說(shuō)明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本實(shí)用新型。但是本實(shí)用新型能夠以很多不同于在此描述的其它方式來(lái)實(shí)施,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本實(shí)用新型內(nèi)涵的情況下做類似推廣。因此本實(shí)用新型不受下面公開(kāi)的具體實(shí)施的限制。實(shí)施例一 圖1為本實(shí)用新型的化學(xué)水浴沉積鍍膜槽的實(shí)施例的俯視圖;圖2為圖1所示出的化學(xué)水浴沉積鍍膜槽的主視圖圖;圖3為圖1沿AA方向剖分后的截面示意圖;請(qǐng)參考圖1、圖2和圖3,本實(shí)用新型的實(shí)施例的水浴沉積鍍膜槽包括凹槽1和攪拌裝置2。其中,所述凹槽1包括長(zhǎng)方形的底壁以及沿所述底壁邊緣圍置的側(cè)壁。底壁和側(cè)壁之間以及相鄰側(cè)壁之間無(wú)縫連接,使得中間形成可盛放溶液的凹槽。所述凹槽1用于盛放應(yīng)用于太陽(yáng)能電池面板基板的鍍膜工藝的溶液,以制備CdS、ZnS或ZnS (OH)薄膜。所述凹槽1的底壁以及側(cè)壁的材質(zhì)可以金屬材質(zhì),也可以是非金屬介質(zhì)材質(zhì)。所述凹槽1的深度以及長(zhǎng)寬尺寸可以根據(jù)工藝需要以及太陽(yáng)能電池面板基板的尺寸而設(shè)計(jì), 例如,本實(shí)施例中,所述凹槽的深度可以是10厘米,凹槽1水平方向截面的長(zhǎng)寬分別為130 厘米和65厘米。本實(shí)施例中,所述凹槽1水平方向截面為長(zhǎng)方形。特殊的,其也可以是正方形。此外,所述凹槽1可以雙層結(jié)構(gòu)。本實(shí)施例中,所述凹槽為包括內(nèi)槽1-2和外槽1 的雙層結(jié)構(gòu),所述外槽1套接于所述內(nèi)槽1-2之外,在所述內(nèi)槽1-2的外壁與所述外槽的內(nèi)壁之間設(shè)置有一定的距離,從而在內(nèi)槽和外槽之間形成一容置空間1-1,如圖5所示,該容置空間可以容置作為加熱媒介的溶液。所述內(nèi)槽1-2中可盛放用于鍍膜的溶液,待鍍膜基板3覆蓋于所述內(nèi)槽1-2之上。該結(jié)構(gòu)通過(guò)中間容置空間1-1的加熱媒介,有利于控制鍍膜溶液的溫度以及溫度的均勻性,從而有利于提高鍍膜的質(zhì)量。在下面的實(shí)施例中,以圖5 所示的雙層結(jié)構(gòu)為例進(jìn)行說(shuō)明。但是需要說(shuō)明的是,本實(shí)用新型中并不必然的選擇雙層結(jié)構(gòu)的凹槽,其也可以是單層結(jié)構(gòu)或者多層結(jié)構(gòu)或者其它結(jié)構(gòu)。在本實(shí)施例中,在所述外槽1的外側(cè)設(shè)置有一對(duì)平行的導(dǎo)軌,分別為第一導(dǎo)軌 2-la和第二導(dǎo)軌2-lb。所述第一導(dǎo)軌2-la和第二導(dǎo)軌2_lb設(shè)置于所述長(zhǎng)方形截面的凹槽的短邊外側(cè),平行于該短邊。但所述兩導(dǎo)軌設(shè)置的位置并不局限于此,其也可以在長(zhǎng)邊外側(cè),平行于長(zhǎng)邊。所述內(nèi)槽1 -2中設(shè)置有攪拌裝置2,所述攪拌裝置2用于對(duì)盛放于內(nèi)槽中的鍍膜溶液進(jìn)行攪拌。以保證溶液中溶質(zhì)濃度的均勻性以及在對(duì)溶液進(jìn)行加熱時(shí)溫度的均勻性。本實(shí)施例中,所述攪拌裝置2在所述內(nèi)槽1-2中的設(shè)置方式如下所述攪拌裝置2 設(shè)置于內(nèi)槽1-2中,由其兩端伸出的支撐臂越過(guò)凹槽側(cè)壁,伸出凹槽之外,并且其兩端分別設(shè)置于上述的一導(dǎo)軌上,使得所述攪拌裝置2可以沿所述的導(dǎo)軌滑動(dòng)。在滑動(dòng)過(guò)程中,實(shí)現(xiàn)對(duì)內(nèi)槽1-2中的鍍膜溶液的攪拌。 其中,在本實(shí)施例中,所述攪拌裝置2呈板狀,設(shè)置于內(nèi)槽1-2中時(shí),板面垂直于內(nèi)槽1-2的底面,在所述板狀結(jié)構(gòu)的攪拌裝置2上還可以設(shè)置若干通孔,以減小攪拌時(shí)的阻力。所述通孔的形狀可以是方形、圓形或者橢圓形等。在所述板狀攪拌裝置2的兩端頂部各伸出一支撐臂,該支撐臂分別通過(guò)滑塊2-2a和滑塊2-2b可滑動(dòng)支撐于第一導(dǎo)軌2-la和第二導(dǎo)軌2-lb上。所述的滑塊與支撐臂之間也可以分離式結(jié)構(gòu),裝配為一體,二者還可以一體成型。此外,所述板狀結(jié)構(gòu)的攪拌裝置2的板面也可以不垂直于底壁表面,而是與底壁表面成一銳角,該設(shè)計(jì)可以減小攪拌時(shí)的阻力,并且避免激烈的攪拌,引起液體飛濺。此外,所述攪拌裝置2還可以設(shè)置為平行的兩塊或多塊面板,每一面板的兩端均獨(dú)立設(shè)置于一上述的導(dǎo)軌上。當(dāng)面板設(shè)置于內(nèi)槽中央時(shí),兩面板平行設(shè)置,且面板的板面垂直于內(nèi)槽的底面。在擺動(dòng)時(shí),兩面板向相反方向分離,至凹槽邊緣時(shí),再相向擺動(dòng)至中央。但是兩塊面板的結(jié)構(gòu)不如上述的一塊面板的情形結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單。本實(shí)施例中以所述攪拌裝置僅有一塊面板的情形為例進(jìn)行說(shuō)明。此外,在所述凹槽1外側(cè)設(shè)置還可以平行于所述第一導(dǎo)軌2-la和第二導(dǎo)軌2_lb 的絲杠2-3,如圖1和圖4所示,在所述攪拌裝置的其中一端部設(shè)置與該絲杠2-3相配合的絲杠母,所述絲杠母裝配于所述絲杠2-3上,在絲杠2-3轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),絲杠母可以帶動(dòng)所述攪拌裝置2沿絲杠方向平動(dòng)。從而可以通過(guò)控制絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)攪拌裝置2的攪拌。在本實(shí)施例中,僅僅示出有一個(gè)絲杠的情形,當(dāng)然在兩導(dǎo)軌側(cè)也可以同時(shí)設(shè)置絲杠,將攪拌裝置2的兩端均設(shè)置于一絲杠上,從而保證攪拌裝置2的兩端同步運(yùn)動(dòng)。有利于攪拌的一致性。其中所述的絲杠2-3可以是現(xiàn)有的任意絲杠,例如普通的僅帶螺紋的絲杠,也可以是滾珠絲杠。絲杠2-3可以用一動(dòng)力裝置的輸出端相連接,例如步進(jìn)電機(jī),通過(guò)該動(dòng)力裝置控制絲杠的正反兩個(gè)方向轉(zhuǎn)動(dòng),從而實(shí)現(xiàn)攪拌裝置2-3在凹槽中來(lái)回運(yùn)動(dòng)。當(dāng)然,所述動(dòng)力裝置并不局限于所述的步進(jìn)電機(jī),其可以是其它裝置。上述實(shí)施例中,通過(guò)在所述水浴沉積鍍膜槽中設(shè)置鍍膜溶液,在水浴沉積鍍膜槽槽口覆蓋基板,可實(shí)施對(duì)所述基板進(jìn)行鍍膜的工藝;本實(shí)用新型的實(shí)施例的水浴沉積鍍膜槽結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,易于操作,制造成本低;此外,該鍍膜槽還可以豎直放置進(jìn)行鍍膜操作,可以消除水平放置時(shí)化學(xué)溶液對(duì)玻璃基板的不均勻覆蓋,提高在基板上鍍膜層的均勻性。。此外,在所述凹槽1底壁下面還可以設(shè)置加熱裝置,以便于對(duì)凹槽1中的鍍膜溶液進(jìn)行加熱或者對(duì)作為加熱媒介的溶液進(jìn)行加熱。其中,所述加熱裝置具體可以是電爐絲。電爐絲加熱主要是通過(guò)傳導(dǎo)的方式,其它加熱方式例如輻射的方式進(jìn)行加熱。這里不再贅述。此外,在所述凹槽1的開(kāi)口側(cè)的側(cè)壁上還可以設(shè)置墊片,用于對(duì)設(shè)置于其上的太陽(yáng)能電池面板基板提供支撐和密封。這里不再詳細(xì)描述。此外,本實(shí)施例的水浴沉積鍍膜槽還可以包括控制反饋系統(tǒng),以設(shè)定控制水浴加熱的溫度、時(shí)間,設(shè)定控制攪拌手?jǐn)嚢璧念l率、幅度及時(shí)間。這里不再詳述。以上所述,僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制。任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍情況下,都可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾,或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此,凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾,均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的保護(hù)范圍內(nèi)。
      權(quán)利要求1.一種水浴沉積鍍膜槽,應(yīng)用于太陽(yáng)能電池薄膜的制備工藝中;其特征在于包括,由長(zhǎng)方形底壁及沿所述底壁邊緣圍置的側(cè)壁形成的凹槽,以及設(shè)置于所述凹槽中的攪拌裝置;其中,在所述凹槽的外側(cè)設(shè)置有一對(duì)平行的導(dǎo)軌,所述攪拌裝置的兩端分別設(shè)置于一導(dǎo)軌上,并可以沿所述導(dǎo)軌滑動(dòng),以對(duì)所述凹槽中的鍍膜液體進(jìn)行攪拌。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,所述凹槽為包括內(nèi)槽和外槽的雙層結(jié)構(gòu),所述外槽套接于所述內(nèi)槽之外,且所述內(nèi)槽的外壁和外槽的內(nèi)壁壁之間設(shè)置有距離,形成容置空間。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,在所述凹槽外側(cè)設(shè)置有平行于所述導(dǎo)軌的絲杠,在所述攪拌裝置其中一端部設(shè)置有與該絲杠相配合的絲杠母,所述絲桿母裝配于所述絲杠上。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,所述絲杠為滾珠絲杠。
      5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,所述絲杠的一端與動(dòng)力裝置的輸出端相連接。
      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,所述動(dòng)力裝置為步進(jìn)電機(jī)。
      7.根據(jù)權(quán)利要求2至6任一所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,所述攪拌裝置呈板狀,由一塊面板或者兩塊以上的多塊相互平行的面板組成;其板面垂直于所述凹槽底壁或與底壁的底面呈銳角;在所述板狀攪拌裝置兩端頂部各伸出一支撐臂,通過(guò)所述支撐臂支撐于所述導(dǎo)軌上。
      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,在所述板狀攪拌裝置上沿其厚度方向還設(shè)置有通孔。
      9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,所述內(nèi)槽的深度為8至12厘米,長(zhǎng)度為110至150厘米,寬度為50至70厘米。
      10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,在所述水浴沉積鍍膜槽底壁下面還設(shè)置有加熱裝置。
      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,所述加熱裝置為電爐絲。
      12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,在所述凹槽的開(kāi)口側(cè)的側(cè)壁上設(shè)置有墊片,用于對(duì)設(shè)置于其上的太陽(yáng)能電池面板基板提供支撐和密封,防止沉積溶液溢出。
      13.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,所述容置空間中設(shè)置溶液作為加熱媒介。
      14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水浴沉積鍍膜槽,其特征在于,還包括控制反饋系統(tǒng),以設(shè)定控制水浴加熱的溫度、時(shí)間,設(shè)定控制攪拌裝置攪拌的頻率、幅度及時(shí)間。
      專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種水浴沉積鍍膜槽,應(yīng)用于太陽(yáng)能電池薄膜的制備工藝中;其特征在于包括,由長(zhǎng)方形底壁及沿所述底壁邊緣圍置的側(cè)壁形成的凹槽,以及設(shè)置于所述凹槽中的攪拌裝置;其中,在所述凹槽的外側(cè)設(shè)置有一對(duì)平行的導(dǎo)軌,所述攪拌裝置的兩端分別設(shè)置于一導(dǎo)軌上,并可以沿所述導(dǎo)軌滑動(dòng),以對(duì)所述凹槽中的鍍膜液體進(jìn)行攪拌。本實(shí)用新型的水浴沉積鍍膜槽結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,易于操作,制造成本低。
      文檔編號(hào)H01L31/18GK202081166SQ201120039119
      公開(kāi)日2011年12月21日 申請(qǐng)日期2011年2月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月16日
      發(fā)明者施成營(yíng), 林光沂 申請(qǐng)人:北京精誠(chéng)鉑陽(yáng)光電設(shè)備有限公司, 福建鈞石能源有限公司
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