專利名稱：一種接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種接觸器，特別是涉及一種接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
接觸器是一種自動化的控制電器，它是利用線圈流過電流產(chǎn)生磁場，使觸頭閉合， 以達(dá)到控制負(fù)載的電器。接觸器通常由電磁系統(tǒng)、觸頭系統(tǒng)、滅弧裝置、絕緣外殼及附件等組成，電磁系統(tǒng)一般包括有電磁線圈、動鐵芯和靜鐵芯，觸頭系統(tǒng)包括有動觸頭，動觸頭通常是與動鐵芯連在一起互相聯(lián)動的，滅弧裝置通常用來迅速切斷電弧，免于燒壞觸頭系統(tǒng)。 當(dāng)接觸器的電磁線圈通電后，會產(chǎn)生很強(qiáng)的磁場，使靜鐵芯產(chǎn)生電磁吸力吸引動鐵芯，動鐵芯吸向靜鐵芯時帶動了動觸頭動作，使得動觸頭的動觸點(diǎn)與對應(yīng)的靜觸頭相接觸，從而接通負(fù)載電源；當(dāng)電磁線圈斷電時，磁場吸力消失，動鐵芯聯(lián)動部分依靠彈簧的反作用力而分離，使動觸頭斷開，即動觸頭的動觸點(diǎn)與對應(yīng)的靜觸頭相分離，從而切斷負(fù)載電源。這種接觸器通常還包括有用來支撐動觸頭的觸頭支持件，在動觸頭移動時，該觸頭支持件也一塊移動，因此，在接觸器中就要設(shè)置觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，現(xiàn)有的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)包括了設(shè)在觸頭支持件兩側(cè)的側(cè)表面和設(shè)在軀殼內(nèi)腔兩側(cè)的內(nèi)導(dǎo)向槽，軀殼的導(dǎo)向槽是由平滑的表面構(gòu)成，觸頭支持件安裝在軀殼內(nèi)，觸頭支持件的兩側(cè)配合在軀殼的導(dǎo)向槽內(nèi)，觸頭支持件的兩側(cè)的側(cè)表面滑動配合在軀殼的導(dǎo)向槽的平滑表面上，使得觸頭支持件可以沿著導(dǎo)向槽的平滑表面移動，由于觸頭支持件具有一定的尺寸，為了保證觸頭支持件在軀殼的導(dǎo)向槽內(nèi)滑動，這樣就不能將觸頭支持件在厚度方向上與軀殼導(dǎo)向槽之間的配合間隙做得太小，太小了就會影響觸頭支持件的移動，而這一點(diǎn)就恰恰影響到了導(dǎo)向的精確度，另外， 由于觸頭支持件是兩側(cè)表面配合于導(dǎo)向槽的平滑表面，兩者的接觸面積較大，也使得擦阻力較大，不利于觸頭支持件的運(yùn)動，因而就需要提高兩者的接觸面的光滑度要求，使得零件不容易生產(chǎn)。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)之不足，提供一種接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，是用組裝在一起的兩個零件來對觸頭支持件的運(yùn)動進(jìn)行導(dǎo)向，同時，利用了凸臺與凹槽之間的配合，使得觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)之間在厚度方向上的間隙可以做得更小，這樣導(dǎo)向就可以更精確；另一方向也使得導(dǎo)向結(jié)構(gòu)之間的接觸面積更小，摩擦面更小，摩擦阻力更小，有利于觸頭支持件的運(yùn)動，也降低了對導(dǎo)向結(jié)構(gòu)的光滑度要求，使零件更容易生產(chǎn)。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，所述接觸器包括基座、安裝在基座頂部的基板和活動安裝在基板與基座所圍成的容腔內(nèi)的觸頭支持件；觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)包括觸頭支持件的頂表面以及由所述頂表面向上凸伸的至少一個第一凸臺；觸頭支持件的底表面以及由所述底表面向下凸伸的至少一個第二凸臺；[0007]基座容腔內(nèi)底板的板表面向下凹入的至少一個狹長形的第一凹槽以及由所述板表面向上凸伸的第三凸臺；該狹長形形狀為沿著觸頭支持件的長度方向；所述觸頭支持件的第二凸臺配合在第一凹槽中，基座的第三凸臺的臺表面與觸頭支持件的底表面相接觸；基板的底面向上凹入的至少一個狹長形的第二凹槽以及由所述底面向下凸伸的第四凸臺；該狹長形形狀為沿著觸頭支持件的長度方向；所述觸頭支持件的第一凸臺配合在第二凹槽中，基板的第四凸臺的臺表面與觸頭支持件的頂表面相接觸。所述的第一凸臺的高度尺寸大于第四凸臺的高度尺寸。所述的第一凸臺的高度尺寸小于第四凸臺的高度尺寸與第二凹槽的深度尺寸之和。 所述的第二凸臺的高度尺寸大于第三凸臺的高度尺寸。所述的第二凸臺的高度尺寸小于第三凸臺的高度尺寸與第一凹槽的深度尺寸之和。所述的第一凸臺的側(cè)表面與第二凹槽的槽壁的表面相接觸。所述的第二凸臺的側(cè)表面與第一凹槽的槽壁的表面相接觸。本實(shí)用新型的一種接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，觸頭支持件頂部及底部設(shè)有導(dǎo)向凸臺即第一凸臺和第二凸臺，導(dǎo)向凸臺側(cè)表面與觸頭支持件頂部、底部表面共同構(gòu)成觸頭支持件沿長度方向運(yùn)動時的導(dǎo)向面。與觸頭支持件相配的基座底部設(shè)有凸臺與狹長凹槽，即第三凸臺和第一凹槽，基座凸臺即第三凸臺的上表面與觸頭支持件的底部表面構(gòu)成一組導(dǎo)向面，基座的第一凹槽的側(cè)表面與觸頭支持件底部的第二凸臺的側(cè)表面構(gòu)成另外一組導(dǎo)向面。與觸頭支持件相配的基板底部設(shè)有凸臺與狹長凹槽，即第四凸臺和第二凹槽，基板凸臺即第四凸臺頂部表面即臺表面與觸頭支持件的頂部表面構(gòu)成一組導(dǎo)向面，基板的第二凹槽的側(cè)表面與觸頭支持件頂部凸臺即第一凸臺的側(cè)表面構(gòu)成另外一組導(dǎo)向面。本實(shí)用新型的有益效果是，由于采用了觸頭支持件的頂表面以及由所述頂表面向上凸伸的至少一個第一凸臺、觸頭支持件的底表面以及由所述底表面向下凸伸的至少一個第二凸臺、基座容腔內(nèi)底板的板表面向下凹入的至少一個狹長形的第一凹槽以及由所述板表面向上凸伸的第三凸臺、基板的底面向上凹入的至少一個狹長形的第二凹槽以及由所述底面向下凸伸的第四凸臺來共同構(gòu)成觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，且所述觸頭支持件的第二凸臺配合在第一凹槽中，基座的第三凸臺的臺表面與觸頭支持件的底表面相接觸，所述觸頭支持件的第一凸臺配合在第二凹槽中，基板的第四凸臺的臺表面與觸頭支持件的頂表面相接觸。該結(jié)構(gòu)中，觸頭支持件頂部、底部所設(shè)置的凸臺(即第一凸臺和第二凸臺)因?yàn)榫嚯x工作時發(fā)熱的觸頭位置更遠(yuǎn)，因發(fā)熱所造成的變形更小，凸臺徑向尺寸與基座、基板上凹槽的寬度的配合間隙可以做得更小，導(dǎo)向也可以更精確；基板、基座上的導(dǎo)向凸臺(即第一凸臺和第二凸臺)頂部表面與觸頭支持件頂部、底部表面的接觸面積更小，摩擦面更小，摩擦阻力更小，有利于觸頭支持件的運(yùn)動，也降低了對基座及基板凸臺所在的大表面的光滑度要求，零件更容易生產(chǎn)。
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明；但本實(shí)用新型的一種接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)不局限于實(shí)施例。

[0018]圖1是本實(shí)用新型的觸頭支持件的構(gòu)造示意圖；圖2是本實(shí)用新型的觸頭支持件(翻轉(zhuǎn)一個角度)的構(gòu)造示意圖；圖3是本實(shí)用新型的基座的構(gòu)造示意圖；圖4是本實(shí)用新型的基板的構(gòu)造示意圖；圖5是本實(shí)用新型的觸頭支 持件和基座、基板的配合示意圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例，參見附圖所示，本實(shí)用新型的一種接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，所述接觸器包括基座1、安裝在基座頂部的基板2和活動安裝在基板與基座所圍成的容腔內(nèi)的觸頭支持件3 ；觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)包括觸頭支持件3的頂表面31以及由所述頂表面向上凸伸的至少一個第一凸臺32 ；觸頭支持件3的底表面33以及由所述底表面向下凸伸的至少一個第二凸臺34 ；基座1容腔內(nèi)底板的板表面向下凹入的至少一個狹長形的第一凹槽11以及由所述板表面向上凸伸的第三凸臺12 ；該狹長形形狀為沿著觸頭支持件的長度方向；所述觸頭支持件的第二凸臺34配合在第一凹槽11中，基座的第三凸臺12的臺表面與觸頭支持件的底表面33相接觸；基板2的底面向上凹入的至少一個狹長形的第二凹槽21以及由所述底面向下凸伸的第四凸臺22 ；該狹長形形狀為沿著觸頭支持件的長度方向；所述觸頭支持件的第一凸臺32配合在第二凹槽21中，基板的第四凸臺22的臺表面與觸頭支持件的頂表面31相接觸。所述的第一凸臺32的高度尺寸大于第四凸臺22的高度尺寸。所述的第一凸臺32的高度尺寸小于第四凸臺22的高度尺寸與第二凹槽21的深度尺寸之和。所述的第二凸臺34的高度尺寸大于第三凸臺12的高度尺寸。所述的第二凸臺34的高度尺寸小于第三凸臺12的高度尺寸與第一凹槽11的深度尺寸之和。所述的第一凸臺32的側(cè)表面與第二凹槽21的槽壁的表面相接觸。所述的第二凸臺34的側(cè)表面與第一凹槽11的槽壁的表面相接觸。本實(shí)用新型的一種接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，觸頭支持件頂部及底部設(shè)有導(dǎo)向凸臺即第一凸臺32和第二凸臺34，導(dǎo)向凸臺側(cè)表面與觸頭支持件頂部、底部表面共同構(gòu)成觸頭支持件沿長度方向運(yùn)動時的導(dǎo)向面。與觸頭支持件相配的基座底部設(shè)有凸臺與狹長凹槽，即第三凸臺12和第一凹槽11，基座凸臺即第三凸臺12的上表面與觸頭支持件的底部表面33構(gòu)成一組導(dǎo)向面，基座的第一凹槽11的側(cè)表面與觸頭支持件底部的第二凸臺34 的側(cè)表面構(gòu)成另外一組導(dǎo)向面。與觸頭支持件相配的基板底部設(shè)有凸臺與狹長凹槽，即第四凸臺22和第二凹槽21，基板凸臺即第四凸臺22頂部表面即臺表面與觸頭支持件的頂部表面31構(gòu)成一組導(dǎo)向面，基板的第二凹槽21的側(cè)表面與觸頭支持件頂部凸臺即第一凸臺 32的側(cè)表面構(gòu)成另外一組導(dǎo)向面。上述實(shí)施例僅用來進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的一種接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，但本實(shí)用新型并不局限于實(shí)施例，凡是依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均落入本實(shí)用新型技術(shù)方案的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，所述接觸器包括基座、安裝在基座頂部的基板和活動安裝在基板與基座所圍成的容腔內(nèi)的觸頭支持件；其特征在于觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)包括觸頭支持件的頂表面以及由所述頂表面向上凸伸的至少一個第一凸臺；觸頭支持件的底表面以及由所述底表面向下凸伸的至少一個第二凸臺；基座容腔內(nèi)底板的板表面向下凹入的至少一個狹長形的第一凹槽以及由所述板表面向上凸伸的第三凸臺；該狹長形形狀為沿著觸頭支持件的長度方向；所述觸頭支持件的第二凸臺配合在第一凹槽中，基座的第三凸臺的臺表面與觸頭支持件的底表面相接觸；基板的底面向上凹入的至少一個狹長形的第二凹槽以及由所述底面向下凸伸的第四凸臺；該狹長形形狀為沿著觸頭支持件的長度方向；所述觸頭支持件的第一凸臺配合在第二凹槽中，基板的第四凸臺的臺表面與觸頭支持件的頂表面相接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第一凸臺的高度尺寸大于第四凸臺的高度尺寸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第一凸臺的高度尺寸小于第四凸臺的高度尺寸與第二凹槽的深度尺寸之和。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第二凸臺的高度尺寸大于第三凸臺的高度尺寸。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第二凸臺的高度尺寸小于第三凸臺的高度尺寸與第一凹槽的深度尺寸之和。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第一凸臺的側(cè)表面與第二凹槽的槽壁的表面相接觸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第二凸臺的側(cè)表面與第一凹槽的槽壁的表面相接觸。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種接觸器的觸頭支持件的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，包括觸頭支持件的頂表面以及由所述頂表面向上凸伸的至少一個第一凸臺、觸頭支持件的底表面以及由所述底表面向下凸伸的至少一個第二凸臺、基座容腔內(nèi)底板的板表面向下凹入的至少一個狹長形的第一凹槽以及由所述板表面向上凸伸的第三凸臺、基板的底面向上凹入的至少一個狹長形的第二凹槽以及由所述底面向下凸伸的第四凸臺，所述觸頭支持件的第二凸臺配合在第一凹槽中，基座的第三凸臺的臺表面與觸頭支持件的底表面相接觸，所述觸頭支持件的第一凸臺配合在第二凹槽中，基板的第四凸臺的臺表面與觸頭支持件的頂表面相接觸。該結(jié)構(gòu)既可以使得導(dǎo)向更精確，又降低了對導(dǎo)向結(jié)構(gòu)的光滑度要求，使零件更容易生產(chǎn)。
文檔編號H01H50/54GK202134470SQ201120223800
公開日2012年2月1日 申請日期2011年6月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月27日
發(fā)明者曹永 申請人:廈門宏美電子有限公司