專利名稱：可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及集成電路制造領(lǐng)域，特別是涉及ー種可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝
置。
背景技術(shù)：
目前，在半導(dǎo)體エ藝中，反應(yīng)裝置經(jīng)常使用反應(yīng)液例如是氫氟酸(HF)對晶圓上的氧化層進行蝕刻。對于蝕刻時間的控制是整個蝕刻エ藝中的關(guān)鍵控制節(jié)點。請參閱圖I,現(xiàn)有的反應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)包括由內(nèi)槽110和外槽120組成的反應(yīng)槽以及一根帶有控制閥131的補水管130，所述補水管130伸入所述內(nèi)槽110內(nèi)，所述內(nèi)槽110和所述外槽120分別通過連接管路與廠務(wù)排放系統(tǒng)140連接，所述內(nèi)槽110與所述廠務(wù)排放系統(tǒng)140之間的連接管路上設(shè)有控制閥111，所述外槽120與所述廠務(wù)排放系統(tǒng)140之間的連接管路上設(shè)有控制閥121，所述內(nèi)槽110和所述外槽120的連接管路上依次設(shè)有過濾器150、加熱器160和加壓泵170。在進行蝕刻反應(yīng)時，內(nèi)槽110和外槽120之間通過過濾器150、加熱器160和加壓泵170對反應(yīng)槽內(nèi)的反應(yīng)液進行循環(huán)加熱使用。一旦，反應(yīng)裝置出現(xiàn)故障，致使晶圓(未圖示)的蝕刻時間過長時，現(xiàn)有的應(yīng)急機制是，打開控制閥111、121、131，ー邊對內(nèi)槽110和外槽120中的反應(yīng)液進行排放，ー邊向內(nèi)槽110內(nèi)注入純水以稀釋內(nèi)槽110中的反應(yīng)液。但是，由于內(nèi)槽110、外槽120將反應(yīng)液排放至廠務(wù)排放系統(tǒng)140僅僅借助于反應(yīng)液的自身重力，且連接管路較小，因此，反應(yīng)液的流動比較緩慢，不能及時有效地將反應(yīng)液排到廠務(wù)排放系統(tǒng)140內(nèi)，內(nèi)槽110中緩慢稀釋的反應(yīng)液仍將繼續(xù)和晶圓發(fā)生反應(yīng)，造成晶圓因過反應(yīng)而報廢，以致產(chǎn)品良率降低。因此，如何提供一種能夠及時有效地將反應(yīng)液從反應(yīng)槽中排出的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的ー個技術(shù)問題。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提供ー種可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，能夠及時有效地將反應(yīng)液從反應(yīng)槽中排出。為了達到上述的目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案ー種可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，包括反應(yīng)槽和補水管，所述反應(yīng)槽通過連接管路和廠務(wù)排放系統(tǒng)連接，所述補水管伸入所述反應(yīng)槽內(nèi)部，還包括緩沖罐、排放管和真空泵，所述緩沖罐設(shè)置于所述反應(yīng)槽的下方，所述反應(yīng)槽的底部開設(shè)ー個排放ロ，所述排放管的一端接所述反應(yīng)槽的排放ロ，所述排放管的另一端接所述緩沖罐，所述真空泵設(shè)置于所述緩沖罐和所述廠務(wù)排放系統(tǒng)的連接管路上。優(yōu)選地，在上述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述排放ロ是圓形的，所述排放管和所述排放ロ的形狀和大小相匹配。優(yōu)選地，在上述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述排放管的直徑大于或等于 10mnin優(yōu)選地，在上述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述緩沖罐的容積大于或等于所述反應(yīng)槽的容積的2倍。優(yōu)選地，在上述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述反應(yīng)槽包括內(nèi)槽和外槽，所述外槽并排設(shè)置于所述內(nèi)槽的外側(cè)，所述外槽的底部比所述內(nèi)槽的底部高。優(yōu)選地，在上述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述排放ロ設(shè)置于所述內(nèi)槽的底部，所述補水管伸入所述內(nèi)槽的內(nèi)部，所述內(nèi)槽和所述外槽分別通過管路與所述廠務(wù)排放系統(tǒng)連接。 優(yōu)選地，在上述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述內(nèi)槽和所述外槽與所述廠務(wù)排放系統(tǒng)連接的管路上分別設(shè)有控制閥。優(yōu)選地，在上述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置還包括過濾器、加熱器與加壓泵，所述過濾器、加熱器與加壓泵依次設(shè)置于所述內(nèi)槽和所述外槽之間的連接管路上。優(yōu)選地，在上述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述補水管上設(shè)有控制閥。優(yōu)選地，在上述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述補水管至少有兩根。本實用新型提供的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，通過采用緩沖罐、排放管和真空泵，所述緩沖罐設(shè)置于所述反應(yīng)槽的下方，所述反應(yīng)槽的底部開設(shè)ー個排放ロ，所述排放管的一端接所述反應(yīng)槽的排放ロ，所述排放管的另一端接所述緩沖罐，所述真空泵設(shè)置于所述緩沖罐和所述廠務(wù)排放系統(tǒng)的連接管路上，因此，當出現(xiàn)緊急情況需要快速排放反應(yīng)液時，通過開啟真空泵，使得緩沖罐內(nèi)出現(xiàn)負壓，由此可使得反應(yīng)槽內(nèi)的反應(yīng)液快速經(jīng)排放ロ通過排放管流入到緩沖罐內(nèi)，再經(jīng)由補水管對反應(yīng)槽內(nèi)的晶圓進行沖洗，可以防止晶圓在反應(yīng)液中時間過長，從而有效保護晶圓，提聞廣品良率。

本實用新型的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置由以下的實施例及附圖給出。圖I是現(xiàn)有的反應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實用新型實施例的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下將對本實用新型的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置作進ー步的詳細描述。下面將參照附圖對本實用新型進行更詳細的描述，其中表示了本實用新型的優(yōu)選實施例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本實用新型而仍然實現(xiàn)本實用新型的有利效果。因此，下列描述應(yīng)當被理解為對于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對本實用新型的限制。為了清楚，不描述實際實施例的全部特征。在下列描述中，不詳細描述公知的功能和結(jié)構(gòu)，因為它們會使本實用新型由于不必要的細節(jié)而混亂。應(yīng)當認為在任何實際實施例的開發(fā)中，必須作出大量實施細節(jié)以實現(xiàn)開發(fā)者的特定目標，例如按照有關(guān)系統(tǒng)或有關(guān)商業(yè)的限制，由一個實施例改變?yōu)榱愆`個實施例。另外，應(yīng)當認為這種開發(fā)工作可能是復(fù)雜和耗費時間的，但是對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說僅僅是常規(guī)工作。[0025]為使本實用新型的目的、特征更明顯易懂，
以下結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式
作進ー步的說明。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比率，僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。請參閱圖2,這種可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置,包括反應(yīng)槽和補水管230,所述反應(yīng)槽通過連接管路與廠務(wù)排放系統(tǒng)240連接，所述補水管230伸入所述反應(yīng)槽內(nèi)部，所述可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置還包括緩沖罐280、排放管290和真空泵200，所述緩沖罐280設(shè)置于所述反應(yīng)槽的下方，所述反應(yīng)槽的底部開設(shè)ー個排放ロ 212，所述排放管290的一端接所述反應(yīng)槽的排放ロ 212，所述排放管290的另一端接所述緩沖罐280，所述真空泵200設(shè)置于所述緩沖罐280和所述廠務(wù)排放系統(tǒng)240的連接管路上。所述排放管290上設(shè)置有控制閥281，以便于實現(xiàn)對排放管290的啟閉控制。當出現(xiàn)緊急情況需要快速排放反應(yīng)槽內(nèi)的反應(yīng)液時，通過開啟真空泵200，可以使得緩沖罐280內(nèi)出現(xiàn)負壓，由此可使得反應(yīng)槽內(nèi)的反應(yīng)液快速通過排放ロ 212及排放管290流入到緩沖罐280內(nèi)，同時經(jīng)由補水管230對反應(yīng)槽內(nèi)的晶圓(未圖示)進行沖洗，可以有效防止晶圓在反應(yīng)液中時間過長，防止晶圓發(fā)生過反應(yīng)，從而有效保護晶圓，提高產(chǎn)品良率。較佳地，在本實施例的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述排放ロ 212是圓形的，所述排放管290和所述排放ロ 212的形狀和大小相匹配。較佳地，在本實施例中，所述排放管290的直徑大于或等于10mm，經(jīng)實驗表明采用直徑大于IOmm的排放管290時，反應(yīng)液的排放速度可以較好地滿足要求。較佳地，在本實施例的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述緩沖罐280的容積大于或等于所述反應(yīng)槽的容積的2倍。如此，可以有效防止反應(yīng)液倒流。較佳地,在本實施例的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中,所述反應(yīng)槽包括內(nèi)槽210和外槽220，所述外槽220并排設(shè)置于所述內(nèi)槽210的外側(cè)，所述外槽220的底部比所述內(nèi)槽210的底部高，所述排放ロ 212設(shè)置于所述內(nèi)槽210的底部中心處，所述補水管230伸入所述內(nèi)槽210的內(nèi)部，所述內(nèi)槽210和所述外槽220分別通過連接管路與所述廠務(wù)排放系統(tǒng)240連接。所述內(nèi)槽210和所述外槽220與所述廠務(wù)排放系統(tǒng)240連接的管路上分別設(shè)有控制閥211、221。當反應(yīng)裝置正常運行時，可以控制上述控制閥211、221，實現(xiàn)對反應(yīng)槽內(nèi)反應(yīng)液的排放。較佳地，在本實施例的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，還包括過濾器250、加熱器260與加壓泵270，所述過濾器250、加熱器260與加壓泵270依次設(shè)置于所述內(nèi)槽210和所述外槽220之間的連接管路上。通過過濾器250可以實現(xiàn)對反應(yīng)液的過濾功能，通過加熱器260可以實現(xiàn)對反應(yīng)液的加熱作用，通過加壓泵270可以實現(xiàn)反應(yīng)液在內(nèi)槽210和外槽220中的輸送。較佳地，在本實施例的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述補水管230上設(shè)有控制閥231。通過控制閥231可以便于控制補水管230的開啟和關(guān)閉。較佳地，在本實施例的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置中，所述補水管230至少有兩根。通過設(shè)置至少兩根補水管230，可以加大補水力度，從而實現(xiàn)對晶圓上的反應(yīng)液的快速有效清洗，進ー步避免晶圓和反應(yīng)液發(fā)生過反應(yīng)，有效保護晶圓。請繼續(xù)參閱圖2，當出現(xiàn)機臺出現(xiàn)緊急情況，需要快速排放反應(yīng)液時，首先，打開控制閥211、221、281，并開啟真空泵200，緩沖罐280內(nèi)出現(xiàn)負壓，反應(yīng)槽內(nèi)的大部分反應(yīng)液快速經(jīng)排放ロ 212通過排放管290流入到緩沖罐280內(nèi)，反應(yīng)槽內(nèi)的小部分反應(yīng)液依舊經(jīng)過內(nèi)槽210、外槽220與廠務(wù)排放系統(tǒng)240之間的連接管路排放至廠務(wù)排放系統(tǒng)240 ;同時，打開控制閥231，經(jīng)由兩根補水管23對內(nèi)槽210進行補水，實現(xiàn)對內(nèi)槽210內(nèi)晶圓的沖洗，從而可以防止晶圓在反應(yīng)液中時間過長，有效保護晶圓，提聞廣品良率。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，包括反應(yīng)槽和補水管，所述反應(yīng)槽通過連接管路和廠務(wù)排放系統(tǒng)連接，所述補水管伸入所述反應(yīng)槽內(nèi)部，其特征在于，還包括緩沖罐、排放管和真空泵，所述緩沖罐設(shè)置于所述反應(yīng)槽的下方，所述反應(yīng)槽的底部開設(shè)一個排放口，所述排放管的一端接所述反應(yīng)槽的排放口，所述排放管的另一端接所述緩沖罐，所述真空泵設(shè)置于所述緩沖罐和所述廠務(wù)排放系統(tǒng)的連接管路上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，其特征在于，所述排放口是圓形的，所述排放管和所述排放口的形狀和大小相匹配。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，其特征在于，所述排放管的直徑大于或等于10mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，其特征在于，所述緩沖罐的容積大于或等于所述反應(yīng)槽的容積的2倍。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，其特征在于，所述反應(yīng)槽包括內(nèi)槽和外槽，所述外槽并排設(shè)置于所述內(nèi)槽的外側(cè)，所述外槽的底部比所述內(nèi)槽的底部聞。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，其特征在于，所述排放口設(shè)置于所述內(nèi)槽的底部，所述補水管伸入所述內(nèi)槽的內(nèi)部，所述內(nèi)槽和所述外槽分別通過管路與所述廠務(wù)排放系統(tǒng)連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，其特征在于，所述內(nèi)槽和所述外槽與所述廠務(wù)排放系統(tǒng)連接的管路上分別設(shè)有控制閥。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，其特征在于，所述可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置還包括過濾器、加熱器與加壓泵，所述過濾器、加熱器與加壓泵依次設(shè)置于所述內(nèi)槽和所述外槽之間的連接管路上。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，其特征在于，所述補水管和所述排放管上分別設(shè)有控制閥。
10.根據(jù)權(quán)利要求I 9中任意一項所述的可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，其特征在于，所述補水管至少有兩根。
專利摘要本實用新型公開了一種可防止晶圓過反應(yīng)的反應(yīng)裝置，包括反應(yīng)槽和補水管，所述反應(yīng)槽通過連接管路和廠務(wù)排放系統(tǒng)連接，所述補水管伸入所述反應(yīng)槽內(nèi)部，還包括緩沖罐、排放管和真空泵，所述緩沖罐設(shè)置于所述反應(yīng)槽的下方，所述反應(yīng)槽的底部開設(shè)一個排放口，所述排放管的一端接所述反應(yīng)槽的排放口，所述排放管的另一端接所述緩沖罐，所述真空泵設(shè)置于所述緩沖罐和所述廠務(wù)排放系統(tǒng)的連接管路上。當出現(xiàn)緊急情況，需要快速排放反應(yīng)液時，通過開啟真空泵，使得緩沖罐內(nèi)的出現(xiàn)負壓，由此可使反應(yīng)槽內(nèi)的反應(yīng)液快速經(jīng)排放口通過排放管流入到緩沖罐內(nèi)，同時經(jīng)由補水管對反應(yīng)槽內(nèi)的晶圓進行沖洗，可以有效防止晶圓在反應(yīng)液中時間過長，提高產(chǎn)品良率。
文檔編號H01L21/306GK202373562SQ201120513869
公開日2012年8月8日 申請日期2011年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月9日
發(fā)明者杜亮, 楊勇, 賴力彰 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司