專利名稱：利用壓縮空氣的襯底處理裝置的制作方法
利用壓縮空氣的襯底處理裝置相關(guān)串請(qǐng)本發(fā)明關(guān)于一種利用壓縮空氣的處理裝置，該處理裝置經(jīng)設(shè)置以處理用以形成光伏電池、多層印刷電路的襯底，或更一般而言，用以形成任何電子電路的襯底。具體地，基于伯努利原理(Bernoulli principle),根據(jù)本發(fā)明的處理裝置通過(guò)利用壓縮空氣來(lái)支撐并固持襯底。本發(fā)明的各個(gè)方面可用于在制造光伏電池的生產(chǎn)線中(諸如，在絲網(wǎng)印刷、激光印刷、噴墨印刷或其它類似生產(chǎn)線中)的不同操作位置之間(例如，在工作站之間)夾持并移動(dòng)襯底。
背景技術(shù)：
利用真空以及伯努利原理將襯底固持并移動(dòng)至存在于生產(chǎn)線中的襯底處理站，或在該襯底處理站內(nèi)部固持并移動(dòng)襯底的處理裝置為已知的。移動(dòng)操作包括(例如)在處理站、儲(chǔ)存站、輸送帶或其它類似裝置之間夾持、移動(dòng)、堆疊、卸載襯底。已知的處理裝置包括夾持端,該夾持端可通過(guò)自動(dòng)移動(dòng)件而活動(dòng)，該夾持端與接收組件相關(guān)聯(lián)來(lái)接收設(shè)置于該夾持端下方的襯底。接收組件由(例如)橡膠或其它類似材料制成，該接收組件根據(jù)具有預(yù)定厚度的平面環(huán)形輪廓(例如，圓形、橢圓形或其它形狀)、以及根據(jù)在利用期間朝向待夾持的襯底所設(shè)置的平面接觸部分來(lái)成形。接收組件經(jīng)設(shè)置以界定底座區(qū)域，底座區(qū)域用于在其中制造減壓區(qū)，或界定用于在其中產(chǎn)生次大氣壓區(qū)的區(qū)，以將襯底吸引至接收組件且保持該襯底穩(wěn)定附接至接觸部分。夾持端還具備與底座區(qū)域流體連通的空氣導(dǎo)入管，壓縮空氣經(jīng)由該空氣導(dǎo)入管以預(yù)定壓力導(dǎo)入；及一個(gè)或多個(gè)排出孔，當(dāng)襯底即將附著并隨后確實(shí)附著至接收組件時(shí)，被導(dǎo)入于該底座區(qū)域中的空氣經(jīng)由排出孔排出。如此，可以實(shí)現(xiàn)并維持諸如次大氣壓的低壓的期望條件，以使得襯底如所期望般附著至夾持組件并移動(dòng)。利用真空來(lái)固持襯底的已知的處理裝置的一個(gè)缺點(diǎn)在于，將襯底吸引至夾持組件的吸引力為不可控制的，因?yàn)橐r底接近接收組件的加速取決于產(chǎn)生于鄰近該襯底的表面的區(qū)域的真空壓力值。在極低真空壓力條件下，即極低次大氣壓條件下，襯底相對(duì)接收組件的移動(dòng)及沖擊可能處于過(guò)高的速度。此外，并非總是可以按照襯底相對(duì)于接收組件的定位而獲得受控制的移動(dòng)，這可引起空間上不均勻的襯底接觸。這可導(dǎo)致襯底或電池的可能的破裂、斷裂或損壞，進(jìn)而導(dǎo)致工作次品增多且因此導(dǎo)致生產(chǎn)線的生產(chǎn)能力降低。另外，已知的處理裝置僅在襯底與處理裝置之間的距離較小時(shí)才能有效發(fā)揮功能，這必然需要在保持襯底的處理中精確控制處理裝置的夾持組件相對(duì)于襯底的位置及距離，因此增加了襯底轉(zhuǎn)移時(shí)間。常規(guī)伯努利裝置(Bernoulli devices)的另一缺點(diǎn)在于，為了在襯底移動(dòng)期間或其它工作步驟期間保持襯底穩(wěn)定地與接收組件相關(guān)聯(lián)，需要在襯底的鄰近區(qū)域中制造較低壓力。此條件必然需要在導(dǎo)入孔與排出孔之間存在高速氣流，而高速氣流在某些條件下會(huì)生成局部紊流(turbulence)或穴蝕(cavitation),使得襯底在附著至處理裝置期間產(chǎn)生不需要的振動(dòng)或振蕩，進(jìn)而增加了襯底的易碎晶體結(jié)構(gòu)破裂的可能性。
本發(fā)明的一個(gè)目的在于，實(shí)現(xiàn)一種利用壓縮空氣的襯底處理裝置，該處理裝置允許襯底在生產(chǎn)線中以穩(wěn)定且安全的方式被撿取，進(jìn)而防止或最小化被轉(zhuǎn)移的襯底的破裂、損壞或斷裂。本發(fā)明的另一目的在于，實(shí)現(xiàn)一種利用壓縮空氣的襯底處理裝置，該處理裝置可最小化移動(dòng)時(shí)間，且因此改良襯底的生產(chǎn)線的生產(chǎn)能力。本發(fā)明的另一目的在于，實(shí)現(xiàn)一種利用壓縮空氣的襯底處理裝置，該處理裝置具有較低生產(chǎn)成本。本申請(qǐng)人已設(shè)計(jì)、試驗(yàn)并實(shí)施本發(fā)明，以克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)并獲得這些及其它目的及優(yōu)勢(shì)。

發(fā)明內(nèi)容

在獨(dú)立權(quán)利要求中闡述本發(fā)明及描述本發(fā)明的特征，而從屬權(quán)利要求則描述本發(fā)明的其它特征或?qū)χ饕l(fā)明構(gòu)思的變型。依照上述目的，根據(jù)本發(fā)明的利用壓縮空氣的處理裝置用以在生產(chǎn)線(例如，光伏電池的生產(chǎn)線)的不同操作位置或工作站之間夾持并移動(dòng)襯底或晶片，襯底或晶片包括例如含硅材料、陶瓷材料或塑料材料。該處理裝置包括夾持端，該夾持端經(jīng)成形以便界定空心底座區(qū)域，空心底座區(qū)域設(shè)置成在利用期間朝向待處理的襯底，在該空心底座區(qū)域中實(shí)現(xiàn)次大氣壓，這使得該襯底被推向該空心底座區(qū)域。該處理裝置至少包括供襯底所用的接收組件，該接收組件與該夾持端相關(guān)聯(lián)，且與該空心底座區(qū)域協(xié)同設(shè)置，并界定接觸表面，其中該襯底在附著至該裝置時(shí)擱置于該接觸表面上。該夾持端還具備與該空心底座區(qū)域成流體連通的空氣導(dǎo)入孔，其中壓縮空氣經(jīng)由該空氣導(dǎo)入孔導(dǎo)入；及一個(gè)或多個(gè)排出孔，其中當(dāng)該襯底即將附著并隨后確實(shí)附著至該接收組件時(shí)，已導(dǎo)入于該空心底座區(qū)域中的空氣經(jīng)經(jīng)由排出孔排出。根據(jù)本發(fā)明的特征，該接收組件可通過(guò)第一位置調(diào)節(jié)構(gòu)件來(lái)相對(duì)于該夾持端移動(dòng)，以便通過(guò)利用在該接收組件與該夾持組件之間所設(shè)置的可調(diào)節(jié)的排出孔或所形成的縫隙，來(lái)使該接收組件相對(duì)于該空心底座區(qū)域移動(dòng)。如此，總是可能根據(jù)待處理襯底的特定類型(即襯底的實(shí)際重量和/或尺寸)，通過(guò)調(diào)節(jié)在空心底座區(qū)域中次大氣壓所集中的區(qū)以及排出孔的縫隙二者，來(lái)獲得期望的次大氣壓以?shī)A持襯底。根據(jù)本發(fā)明的變型，與該空心底座區(qū)域相對(duì)應(yīng)地，該夾持端經(jīng)成形為翼形輪廓，大體上呈曲線，以使得流向該排出孔的氣流為層流，從而使得該流動(dòng)空氣沿著該翼形輪廓流動(dòng)。如此，被導(dǎo)入至該空心底座中的該空氣以受控制的方式經(jīng)由該排出孔排出，從而防止不需要的紊流或穴蝕，且因此防止該襯底在其由該處理裝置保持時(shí)產(chǎn)生不需要的振蕩及振動(dòng)。另外，該處理裝置相對(duì)于待移動(dòng)的襯底的定位比現(xiàn)有技術(shù)的裝置更快，這獲得裝置的更高效率，因?yàn)樵撗b置無(wú)需總是在有限且預(yù)定的距離內(nèi)相對(duì)于待移動(dòng)的襯底作定位。根據(jù)本發(fā)明的另一變型，該處理裝置包括攔截組件，該攔截組件與該夾持端耦接且與該空心底座區(qū)域及該空氣導(dǎo)入孔協(xié)同設(shè)置。該攔截組件經(jīng)成形以與該翼形輪廓配合，以便于其二者界定開(kāi)口，進(jìn)而控制該壓縮空氣自該空心底座區(qū)域排放的速度。如此，可以增大或減小空氣排放速度，從而促進(jìn)至該空心底座區(qū)域中并至該翼形輪廓上的作為層流的流動(dòng)，以便在該空心底座區(qū)域中獲得期望的負(fù)壓。本發(fā)明的變型提供與該攔截組件相關(guān)聯(lián)的第二調(diào)節(jié)構(gòu)件或第二調(diào)節(jié)裝置，該第二調(diào)節(jié)構(gòu)件或第二調(diào)節(jié)裝置能夠從與該排放開(kāi)口的預(yù)定的開(kāi)啟或關(guān)閉狀態(tài)相對(duì)應(yīng)的無(wú)作用位置處來(lái)調(diào)節(jié)該攔截組件相對(duì)于該空心底座區(qū)域的位置。如此，可以通過(guò)變更該開(kāi)口的縫隙(即該攔截組件相對(duì)于該空心底座區(qū)域的該翼形輪廓的位置)，來(lái)控制該氣流的速度，以便根據(jù)該導(dǎo)入管的入口處的壓力實(shí)際值來(lái)將該氣流保持在層流狀態(tài)。根據(jù)本發(fā)明的另一變型，由于被導(dǎo)入至該空心底座區(qū)域中的空氣的推力效應(yīng)，該攔截組件可至少調(diào)節(jié)至額外排放位置，進(jìn)而使得該開(kāi)口的縫隙增大。該攔截組件在自該無(wú)作用位置至該額外排放位置的移動(dòng)中還借助于彈性組件形成對(duì)比，其中該彈性組件與該攔截組件相關(guān)聯(lián)且能使該攔截組件返回至其無(wú)作用位置。如此，除調(diào)節(jié)該攔截組件的該無(wú)作用位置(還即該開(kāi)口的該縫隙)之外，還可以根 據(jù)該空氣的導(dǎo)入壓力來(lái)動(dòng)態(tài)地變更該開(kāi)口的孔徑。這必然需要對(duì)該空氣的層流流動(dòng)的速度進(jìn)行進(jìn)一步且更加精確地調(diào)節(jié)，進(jìn)而允許動(dòng)態(tài)地控制在該空心底座區(qū)域中生成的該次大氣壓，且因此產(chǎn)生可將該襯底以一速度吸引向該接收組件的更低工作壓力，以便防止經(jīng)常易碎的襯底(諸如太陽(yáng)能電池類襯底)產(chǎn)生斷裂或破裂。本發(fā)明的變型指出，第二調(diào)節(jié)構(gòu)件還與該彈性組件相關(guān)聯(lián)，以便該無(wú)作用位置的調(diào)節(jié)允許調(diào)節(jié)該第二調(diào)節(jié)構(gòu)件的彈性響應(yīng)，且因此改變?cè)搹椥越M件施加于該攔截組件的力的量。如此，若較高壓力傳送至介于攔截組件與該夾持端(例如，夾持盤)之間的空間，則可以例如通過(guò)增大該彈性組件所產(chǎn)生的反作用阻力或作用力，來(lái)進(jìn)一步變更該攔截組件相對(duì)于該無(wú)作用位置的動(dòng)態(tài)范圍。本發(fā)明的另一變型指出，該空心底座區(qū)域包括膨脹隔間，以均勻地(例如環(huán)形地)分布該空氣且使該導(dǎo)入孔中的空氣壓力均衡，以避免引發(fā)脈動(dòng)條件及不理想的過(guò)量增壓條件。本發(fā)明的實(shí)施例可進(jìn)一步提供用于夾持襯底的處理裝置，其包括夾持盤，其具有圍繞第一軸線徑向?qū)ΨQ的第一表面；環(huán)形接收支撐件，其設(shè)置于該夾持盤的該第一表面上，且具有襯底接觸表面及第二表面，其中一個(gè)或多個(gè)排出孔形成于該夾持盤的該第一表面與該環(huán)形接收支撐件的該第二表面之間；以及一個(gè)或多個(gè)位置調(diào)節(jié)裝置，其與該夾持盤及該接收支撐件接觸，其中該一個(gè)或多個(gè)位置調(diào)節(jié)裝置相對(duì)于該夾持盤的位置可經(jīng)調(diào)節(jié)，以調(diào)節(jié)該一個(gè)或多個(gè)排出孔的尺寸。本發(fā)明的實(shí)施例可進(jìn)一步提供用于夾持襯底的處理裝置，其包括夾持盤，其具有第一表面；支撐件，其設(shè)置于該夾持盤的該第一表面上，且具有襯底接觸表面及第二表面，其中在該夾持盤的該第一表面與該接收支撐件的該第二表面之間形成縫隙；以及一個(gè)或多個(gè)位置調(diào)節(jié)裝置，其與該夾持盤及該支撐件接觸，其中該一個(gè)或多個(gè)位置調(diào)節(jié)裝置相對(duì)于該夾持盤的位置可經(jīng)調(diào)節(jié)，以調(diào)節(jié)所形成的該縫隙的尺寸。該處理裝置還可包括具有第一表面的夾持盤，該第一表面具有翼形輪廓，以便提供經(jīng)過(guò)所形成的該縫隙(例如，一個(gè)或多個(gè)排出孔)的層流氣流，其中該氣流傳送自以流體方式耦接至底座區(qū)域的氣源，該底座區(qū)域至少部分地由該夾持盤的該第一表面來(lái)界定，且圍繞該夾持盤的對(duì)稱軸線的至少一部分。


本發(fā)明的這些及其它特性在以下對(duì)實(shí)施例的優(yōu)選形式的描述中變得顯而易見(jiàn)，該描述參照附圖以非限制性的實(shí)例給出，其中圖I為利用根據(jù)本發(fā)明的利用壓縮空氣的處理裝置的處理系統(tǒng)的透視圖；圖2為圖I中所示的系統(tǒng)的示意平面圖；圖3為根據(jù)本發(fā)明的處理裝置的側(cè)視圖；圖4為圖3中根據(jù)本發(fā)明的裝置的示意側(cè)視圖；圖5為根據(jù)本發(fā)明的自圖4上方俯視的視圖；圖6為圖4及圖5中根據(jù)本發(fā)明的裝置的透視圖； 圖7為圖4中根據(jù)本發(fā)明的處理裝置的前視圖；以及圖8為根據(jù)本發(fā)明的在圖4中通過(guò)利用自VIII延伸至VIII的剖面線而產(chǎn)生的橫截面圖。為便于理解，在可能情況下已利用相同組件符號(hào)來(lái)代表諸圖所共有的相同組件?？梢灶A(yù)期的，一個(gè)實(shí)施例的組件及特征可有利地并入其它實(shí)施例中而無(wú)需進(jìn)一步敘述。
具體實(shí)施例方式參閱圖I至圖3，例如，根據(jù)本發(fā)明的利用壓縮空氣來(lái)定位襯底的處理裝置10可用以在襯底處理系統(tǒng)或系統(tǒng)100中快速夾持并轉(zhuǎn)移襯底150。在圖I及圖2中，所示的系統(tǒng)100為印刷系統(tǒng)，該印刷系統(tǒng)用于在襯底150上印刷諸如導(dǎo)電糊膏材料的印刷材料，以在襯底150上形成導(dǎo)體軌跡。在某些情況下，襯底150可為用于電子裝置等(例如，硅基晶片)中的平板型組件，以制造光伏電池。圖I為系統(tǒng)100的透視圖。在一個(gè)實(shí)施例中，系統(tǒng)100 —般包括兩個(gè)進(jìn)料輸送器
111、致動(dòng)器組件140、多個(gè)處理套件131、多個(gè)印刷頭102、兩個(gè)出料輸送器112及系統(tǒng)控制器 101。進(jìn)料輸送器111經(jīng)設(shè)置為平行工作構(gòu)造，以使得每個(gè)進(jìn)料輸送器可從諸如輸入輸送器113的輸入裝置接收未處理的襯底150，并將每個(gè)未處理的襯底150轉(zhuǎn)移至耦接于致動(dòng)器組件140的處理套件131。又，出料輸送器112經(jīng)平行設(shè)置以使得每個(gè)出料輸送器可從處理套件131接收經(jīng)處理的襯底150，并將每個(gè)經(jīng)處理的襯底150轉(zhuǎn)移至諸如退出輸送器114的襯底移除裝置。在一個(gè)實(shí)施例中，每個(gè)退出輸送器114能夠傳遞經(jīng)處理的襯底150經(jīng)過(guò)烘箱199，以便熱處理由印刷頭102沉積于襯底150上的材料。在一個(gè)實(shí)施例中，襯底150為由微晶娃材料形成的襯底,用于在襯底上處理太陽(yáng)能電池。在另一實(shí)施例中，襯底150為生瓷帶(green tape)陶瓷襯底或類似襯底。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，系統(tǒng)100為包括絲網(wǎng)印刷部件的絲網(wǎng)印刷處理系統(tǒng)，絲網(wǎng)印刷部件經(jīng)設(shè)置以根據(jù)材料的圖案在襯底150上絲網(wǎng)印刷一層。在另一實(shí)施例中，系統(tǒng)100為處理系統(tǒng)，該處理系統(tǒng)包括諸如激光器的材料移除部件，以移除或雕刻襯底150的一個(gè)或多個(gè)區(qū)域。在其它實(shí)施例中，系統(tǒng)100可包括其它襯底處理模塊，該襯底處理模塊需要移動(dòng)襯底并精確定位襯底以進(jìn)行處理。
根據(jù)本發(fā)明的處理裝置10用于將襯底150自前一處理步驟轉(zhuǎn)移至系統(tǒng)100中存在的絲網(wǎng)印刷裝置。舉例而言，處理裝置10經(jīng)設(shè)置以將襯底150自儲(chǔ)存區(qū)轉(zhuǎn)移至輸入輸送器113，或?qū)⒁r底150自烘箱199撿取并將襯底150轉(zhuǎn)移至后續(xù)處理步驟，或?qū)⒁r底150轉(zhuǎn)移而儲(chǔ)存于后續(xù)儲(chǔ)存站中。裝置或處理裝置10連接至系統(tǒng)控制器101，從而以與一個(gè)或多個(gè)當(dāng)前處理循環(huán)協(xié)同的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)襯底150的移動(dòng)。圖2為圖I中所示的系統(tǒng)100的示意平面圖。圖I及圖2圖示具有兩個(gè)處理套件131 (處于位置“ I ”及位置“3”)的系統(tǒng)100的構(gòu)造，其中每個(gè)處理套件均經(jīng)定位以將經(jīng)處理的襯底150轉(zhuǎn)移向出料輸送器112，并自進(jìn)料輸送 器111接收未處理的襯底150。如此，在系統(tǒng)100中，襯底150的移動(dòng)一般沿著圖I及圖2中所示的路徑“A”進(jìn)行。在此構(gòu)造中，另外兩個(gè)處理套件131(處于位置“2”及位置“4”)中的每個(gè)處理套件定位于印刷頭102的下方，以使得位于各個(gè)處理套件131上的未處理的襯底150可被處理(例如，絲網(wǎng)印刷處理)。此平行處理構(gòu)造可提高生產(chǎn)能力而同時(shí)最小化處理系統(tǒng)尺寸，盡管所示的系統(tǒng)100具有兩個(gè)印刷頭102及四個(gè)處理套件131，然而系統(tǒng)100可在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下包括額外印刷頭102和/或處理套件131。在一個(gè)實(shí)施例中，進(jìn)料輸送器111及出料輸送器112至少包括帶116，以利用與系統(tǒng)控制器101連通的致動(dòng)器(未圖示)來(lái)支撐襯底150并朝向系統(tǒng)100中的期望位置傳遞襯底150。盡管圖I及圖2 —般地展示具有兩個(gè)帶的襯底轉(zhuǎn)移系統(tǒng)類型，然而其它類型的轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)可在不脫離本發(fā)明的主要目的的情況下用于執(zhí)行相同的襯底轉(zhuǎn)移及定位功能。在一個(gè)實(shí)施例中，系統(tǒng)100還包括適于在進(jìn)行處理之前及之后識(shí)別并檢驗(yàn)襯底150的檢驗(yàn)系統(tǒng)200。檢驗(yàn)系統(tǒng)200可包括一個(gè)或多個(gè)攝影機(jī)120，攝影機(jī)120經(jīng)定位以檢驗(yàn)定位于裝入/卸載位置“I”及“3”中的襯底150，如圖I及圖2所示。檢驗(yàn)系統(tǒng)200—般包括至少一個(gè)攝影機(jī)120(例如，CXD攝影機(jī))及能夠識(shí)別、檢驗(yàn)并將結(jié)果傳達(dá)至系統(tǒng)控制器101的其它電子部件。在一個(gè)實(shí)施例中，檢驗(yàn)系統(tǒng)200識(shí)別進(jìn)入的襯底150的某些特征的位置，且將檢驗(yàn)結(jié)果傳達(dá)至系統(tǒng)控制器101，以分析襯底150的方位及位置，從而在進(jìn)行襯底150的處理前，協(xié)助將襯底150精準(zhǔn)定位于印刷頭102下方。在一個(gè)實(shí)施例中，檢驗(yàn)系統(tǒng)200檢驗(yàn)襯底150，以使得已損壞或處理不良的襯底可從生產(chǎn)線中移除。在一個(gè)實(shí)施例中，每個(gè)處理套件131可包括燈或其它類似的光學(xué)照射裝置，以照亮定位于處理套件131上的襯底150，從而使得襯底可更加容易地由檢驗(yàn)系統(tǒng)200來(lái)檢驗(yàn)。系統(tǒng)控制器101促進(jìn)整個(gè)系統(tǒng)100的控制及自動(dòng)化，且可包括中央處理單元(CPU)(未示出)、存儲(chǔ)器(未示出)及支持電路(或1/0)(未示出)。CPU可為任何形式的計(jì)算機(jī)處理器中的一個(gè)，其中該計(jì)算機(jī)處理器用于工業(yè)環(huán)境中以控制多種腔室處理及硬件(例如，輸送器、檢測(cè)器、電機(jī)、流體傳送硬件等)，并監(jiān)視系統(tǒng)及腔室處理(例如，襯底位置、處理時(shí)間、檢測(cè)器信號(hào)等)。存儲(chǔ)器連接至CPU，且可以是一個(gè)或多個(gè)容易取得的存儲(chǔ)器，諸如隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)、只讀存儲(chǔ)器(ROM)、軟盤、硬盤或任何其它形式的本地端或遠(yuǎn)程數(shù)字儲(chǔ)存器。軟件指令及數(shù)據(jù)可經(jīng)編碼并儲(chǔ)存于存儲(chǔ)器內(nèi)以用于指示CPU。支持電路還連接至CPU，用于以常規(guī)方式支持處理器。支持電路可包括高速緩存、電源供應(yīng)器、時(shí)鐘電路、輸入/輸出電路、子系統(tǒng)等。可由系統(tǒng)控制器101讀取的程序(或計(jì)算機(jī)指令)決定哪些任務(wù)可在襯底上執(zhí)行。較佳地，該程序?yàn)榭捎上到y(tǒng)控制器101讀取的軟件，該軟件包括代碼以生成并儲(chǔ)存至少襯底位置信息、多種受控制的部件的移動(dòng)序列、襯底檢驗(yàn)系統(tǒng)信息及其任何組合。在一個(gè)實(shí)施例中，用于系統(tǒng)100中的兩個(gè)印刷頭102可為獲得自AppliedMaterials Baccini S. p. A.的常規(guī)絲網(wǎng)印刷頭，該絲網(wǎng)印刷頭適于將材料以期望的圖案沉積于定位在處理套件131上的襯底150的表面上，其中該處理套件131在絲網(wǎng)印刷處理中處于位置“2”或“4”中。在一個(gè)實(shí)施例中，印刷頭102包括多個(gè)致動(dòng)器，例如，致動(dòng)器105 (例如，步進(jìn)電機(jī)、伺服電機(jī))，致動(dòng)器105與系統(tǒng)控制器101連通，且用以調(diào)節(jié)設(shè)置于印刷頭102中的印刷網(wǎng)或絲網(wǎng)印刷掩模(未圖示于圖I及圖2中)相對(duì)于所印刷的襯底150的位置和/或角度方位。在一個(gè)實(shí)施例中，絲網(wǎng)印刷掩模為帶有多個(gè)孔、狹縫或制造于該孔或狹縫之間的其它孔的金屬箔或金屬板(例如由不銹鋼制成)，以便界定印刷于襯底150的表面上的材料的圖案。在一個(gè)實(shí)施例中，絲網(wǎng)印刷材料可包括墨水或?qū)щ姾唷诫s凝膠、雕刻凝膠、一個(gè)或多個(gè)掩模材料、或其它導(dǎo)體或介電質(zhì)材料。
一般而言，必須沉積于襯底150的表面上的絲網(wǎng)印刷圖案可與襯底150自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)，從而利用致動(dòng)器105及由系統(tǒng)控制器101從檢驗(yàn)系統(tǒng)200接收的信息來(lái)定向絲網(wǎng)印刷掩模。在一個(gè)實(shí)施例中，印刷頭102適于將含金屬或含介電質(zhì)的材料沉積于太陽(yáng)能電池襯底150上，其中太陽(yáng)能電池襯底150的寬度介于約125mm與約156mm之間，且長(zhǎng)度介于約70mm與約156mm之間。參閱圖3至圖8，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的處理裝置10包括夾持盤12，且具備空氣導(dǎo)入入口 24、與夾持盤12耦接的接收支撐件30、及還與夾持盤12耦接的攔截錐體44 (圖5、圖6及圖8)。在一個(gè)實(shí)施例中，裝置10包括位置調(diào)節(jié)裝置或第一調(diào)節(jié)螺絲36，以附接并調(diào)節(jié)接收支撐件30的位置，且包括第二調(diào)節(jié)裝置或第二調(diào)節(jié)螺絲50，第二調(diào)節(jié)裝置或第二調(diào)節(jié)螺絲50用于調(diào)節(jié)攔截錐體44相對(duì)于夾持盤12的位置。夾持盤12、接收支撐件30及攔截錐體44是由例如具有剛性的塑料材料制成，以便支撐所施加的應(yīng)力。在某些實(shí)施例中，夾持盤12、接收支撐件30及攔截錐體44還可由金屬材料(例如鋁)制成，以便可在例如腐蝕性、高溫或其它環(huán)境的特定類型氛圍中發(fā)揮功能。夾持盤12具有大體上圓形或環(huán)形的形狀，并具備前表面，前表面設(shè)置成在使用期間朝向待撿取或待處理的襯底150。該表面成形為翼形曲線輪廓且大體上呈凸?fàn)睿撘硇吻€輪廓具有尖峰部分12a及分別朝夾持盤12的中心部分及周圍邊緣向下傾斜的部分，其中尖峰部分12a具有與夾持盤12的中間直徑相對(duì)應(yīng)的最大凸度。在一個(gè)構(gòu)造中，夾持盤12為軸向?qū)ΨQ的，例如，繞著穿過(guò)夾持盤12的中心的軸線“X”對(duì)稱。 在一個(gè)構(gòu)造中，夾持盤12的翼形輪廓為相對(duì)于穿過(guò)夾持盤12的中心的對(duì)稱軸“X”徑向?qū)ΨQ，以便與夾持盤12的中心部分相對(duì)應(yīng)地界定在利用時(shí)鄰近于襯底而設(shè)置的空心底座區(qū)域13。在空心底座區(qū)域13中制造低壓條件(該低壓條件為次大氣壓或負(fù)壓條件)，這允許襯底150被推向接收支撐件30，以使得襯底150可附著至接收支撐件30。另外，空心底座區(qū)域13適于與攔截錐體44 (或還稱為攔截組件44)協(xié)作，下文將對(duì)此進(jìn)行更詳細(xì)的解釋。夾持盤12的中心部分在底表面15上提供腔室區(qū)域14，其中導(dǎo)入入口 24開(kāi)口于腔室區(qū)域14內(nèi)，以便為導(dǎo)入腔室區(qū)域14中的空氣界定環(huán)形膨脹及分配隔間。這使得可避免在空心底座區(qū)域13中引發(fā)氣體壓力脈沖及可能發(fā)生不期望的過(guò)量增壓條件的局部區(qū)域。在底表面15 (圖8)中，制造有具圓柱形狀的孔20，孔20能夠與攔截錐體44協(xié)作，且用作支撐件及滑動(dòng)導(dǎo)軌?？?0從腔室區(qū)域14沿著夾持盤12的后部突起物21延伸。后部突起物21具備具有比孔20更大直徑的對(duì)比部分21。夾持盤12還包括三個(gè)第一孔16 (例如，圖8所示的一個(gè)第一孔16)，該第一孔16貫穿夾持盤12的相對(duì)表面而形成且彼此以約120°的等距設(shè)置于夾持盤12的周圍邊緣上。該第一孔16中的每一個(gè)允許第一螺絲36插入，以附接并調(diào)節(jié)接收支撐件30的位置，下文將對(duì)此進(jìn)行描述?？諝鈱?dǎo)入入口 24設(shè)置于與夾持盤12的前表面相反的表面上，因而允許空心底座區(qū)域13與空氣導(dǎo)入入口 24流體連通。在一個(gè)構(gòu)造中，該空氣導(dǎo)入入口 24以流體方式耦接至空氣導(dǎo)入管25及裝置26，其中空氣導(dǎo)入管25及裝置26用于傳送期望壓力的壓縮空氣。

接收支撐件30(例如，由與夾持盤12相同的材料制成)成形為類似平面圓形冠，其中該平面圓形冠的外部直徑大體上等于夾持盤12的直徑，且該平面圓形冠在徑向方向上的寬度相對(duì)于夾持盤12的翼形輪廓的最大凸度的位置為固定的。接收支撐件30與夾持盤12機(jī)械地耦接且同心并平行地設(shè)置于夾持盤12上，并且因此與空心底座區(qū)域13具有期望的空間關(guān)系。接收支撐件30相對(duì)于夾持盤12而定位，以便界定縫隙或排出孔28供從裝置26傳送的空氣所用。接收支撐件30包括朝向夾持盤12突出且彼此以約120°的等距設(shè)置的支撐柱33。每個(gè)支撐柱33包括第二通孔34 (圖5至圖6)，第二通孔34的尺寸與形成于夾持盤12中的第一孔16相同。當(dāng)接收支撐件30與夾持盤12鄰近設(shè)置時(shí)，第一螺絲36插入至第二通孔34中，以便將接收支撐件30裝配且穩(wěn)定支撐至夾持盤12。第一螺絲36還允許通過(guò)相對(duì)于接收支撐件30調(diào)節(jié)第一螺絲36 (例如，將螺絲旋入或旋出接收支撐件或夾持盤)、和/或通過(guò)插入或移除處在形成于夾持盤12的表面與支撐柱33之間的縫隙中的間隔物或其它適合的縫隙控制組件(例如，墊圈)，來(lái)調(diào)節(jié)接收支撐件30相對(duì)于夾持盤12的位置。此構(gòu)造允許變更排出縫隙或孔28的厚度，且因此允許在利用期間變更通過(guò)從裝置26傳送壓縮空氣而形成于空心底座區(qū)域13中的低壓或次大氣壓或負(fù)壓。接收支撐件30還包括用于襯墊38的引導(dǎo)脊32 (圖8)，該引導(dǎo)脊32沿著接收支撐件30的整個(gè)內(nèi)部周邊而制造，且根據(jù)翼形輪廓口來(lái)成形。脊32與襯墊38的內(nèi)部邊緣協(xié)作且由軟材料制成，以便不損壞經(jīng)處理的襯底。襯墊38還具有比脊32稍大的厚度，且一般成形為與支撐件30具有相同外徑的類似環(huán)形冠。因此，當(dāng)襯底轉(zhuǎn)移時(shí)，襯墊38界定供襯底150所用的接觸表面。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，襯墊38為大體上平坦的，以便允許與待處理的襯底150的平坦表面進(jìn)行有效接觸。在另一實(shí)施例中，襯墊38具有至少部分凹入的橫向輪廓(例如，球形或圓柱形)，以便允許在襯墊38與可具有至少部分球形或圓柱形形狀的不同種類的襯底之間形成所需的夾持及接觸。在這樣的實(shí)施例中，夾持盤12的翼形輪廓還以與襯墊38的輪廓配合的方式來(lái)成形，以便總是獲得襯底附著至處理裝置10的有效條件。部分地設(shè)置于空心底座區(qū)域13中的攔截錐體44包括錐形部分45，該錐形部分45具備朝向接收支撐件30而設(shè)置的平面基座45a、且具備側(cè)向表面45b，該側(cè)向表面45b具有與夾持盤12的翼形輪廓配合的曲線輪廓。攔截錐體44還具備連接至錐形部分45的配合特征或圓柱形桿46，且具有在利用期間與軸線“X”重合的軸線。桿46在尺寸上比孔20的直徑稍小，以便允許桿46在孔20內(nèi)軸向滑動(dòng)。因此，由于從入口 24進(jìn)入且撞擊一部分側(cè)向表面45b的壓縮空氣的推力效應(yīng)，攔截錐體44可沿著軸“X” (圖8)對(duì)準(zhǔn)并移動(dòng)。在一個(gè)構(gòu)造中，對(duì)稱形狀(例如孔20和/或桿46的圓柱形形狀)可約束攔截錐體44相對(duì)于夾持盤12朝向與圓柱形狀的軸平行的方向的線性移動(dòng)。舉例而言，桿46受到孔20約束，以使攔截錐體44受限制而相對(duì)于夾持盤12在平行于軸“X”的方向上移動(dòng)。錐體44的軸向位移決定排放孔或開(kāi)口 47的形成，其中該排放孔或開(kāi)口 47夾置于夾持盤12的表面與攔截錐體44的側(cè)向表面45b之間，且具有由夾持盤12的翼形輪廓及錐體44的配合輪廓決定的徑向形狀。在利用期間，開(kāi)口 47根據(jù)傳送自諸如裝置26的流體源的空氣的入口壓力而具有可變縫隙。 在錐體44的基座45a上，還形成矩形貫穿中央底座區(qū)域，以便在第二螺絲50旋緊時(shí)對(duì)螺絲刀的作用起反作用。桿46還具備縱向形成的帶孔底座區(qū)域，且第二調(diào)節(jié)螺絲50插入至該帶孔底座區(qū)域中。第二調(diào)節(jié)螺絲50可通過(guò)利用彈性管形組件58來(lái)調(diào)節(jié)攔截錐體44相對(duì)于夾持盤12的無(wú)作用位置，其中彈性管形組件58將在下文中進(jìn)一步描述。例如，彈性管形組件58可由硅樹(shù)脂材料制成，圍繞桿46的一端，并定位于螺絲50的頭部50a與夾持盤12的對(duì)比部分21a之間。彈性管形組件58還可定位在耦接于頭部50a的墊圈51與夾持盤12的對(duì)比部分21a之間。彈性管形組件58經(jīng)設(shè)置以施加對(duì)比作用或阻力、且還在桿46的較低端處用作氣動(dòng)密封組件，其中該對(duì)比作用或阻力對(duì)攔截錐體44相對(duì)于夾持盤12的動(dòng)態(tài)位移起反作用，攔截錐體44相對(duì)于夾持盤12的動(dòng)態(tài)位移可經(jīng)由入口 24導(dǎo)入的空氣的壓力所產(chǎn)生。因此，調(diào)節(jié)螺絲50允許通過(guò)變更形成于攔截錐體44與夾持盤12的表面之間的開(kāi)口 47的尺寸，來(lái)調(diào)節(jié)攔截錐體44在空心底座區(qū)域13中的無(wú)作用位置。在一個(gè)實(shí)例中，開(kāi)口 47在盤的表面與側(cè)向表面45b之間形成零縫隙。在此構(gòu)造中，側(cè)向表面45b設(shè)置成大體上與夾持盤12的翼形輪廓接觸。如此，通過(guò)變更開(kāi)口 47的縫隙(即，攔截錐體44相對(duì)于空心底座區(qū)域13的翼形輪廓的位置)，可以來(lái)控制氣流的速度，以便根據(jù)供應(yīng)于入口 24處的壓力的實(shí)際值而使氣流保持于層流狀態(tài)。螺絲50的調(diào)節(jié)還允許調(diào)節(jié)彈性管形組件58上的壓縮性或非壓縮性，以便變更彈性管形組件58的實(shí)際彈性響應(yīng)。如此，若較高氣體操作壓力提供于入口 24處，例如，則可以通過(guò)增大彈性管形組件58所傳送的對(duì)比阻力、阻力，來(lái)進(jìn)一步變更攔截錐體44相對(duì)于無(wú)作用位置的動(dòng)態(tài)范圍。前述的處理裝置10大體而言按如下所述來(lái)發(fā)揮功能并微調(diào)。裝置10的微調(diào)(例如，根據(jù)轉(zhuǎn)移步驟期間待處理及移動(dòng)的襯底150的重量及實(shí)際尺寸)可通過(guò)調(diào)節(jié)第一螺絲36相對(duì)于夾持盤12的位置來(lái)調(diào)節(jié)。因此，可調(diào)節(jié)并控制接收支撐件30的位置(即，接收支撐件30朝向或遠(yuǎn)離夾持盤12的移動(dòng))，且因此可調(diào)節(jié)并控制排出孔28的相對(duì)變寬或變窄。因此，可能獲得期望的低壓或次大氣壓或負(fù)壓，以通過(guò)調(diào)節(jié)低壓在空心底座區(qū)域13中所集中的區(qū)及排出孔28的縫隙兩者來(lái)夾持襯底。微調(diào)處理還可包括通過(guò)調(diào)節(jié)螺絲50相對(duì)于桿46的位置來(lái)調(diào)節(jié)攔截錐體44的無(wú)作用位置。此調(diào)節(jié)允許將錐體44設(shè)置于空心底座區(qū)域13中的預(yù)定位置，以便界定壓縮空氣所流經(jīng)的開(kāi)口 47的期望尺寸。如此，流經(jīng)裝置的壓縮氣流總能受到控制，且還允許調(diào)節(jié)并保證流經(jīng)排出孔28的氣流大體上為層流。如上所述，層流的產(chǎn)生允許流動(dòng)的氣體附著至夾持盤12的翼形輪廓。因此，層流防止在氣流中形成不期望的尾流或失速紊流或穴蝕，且因此在襯底150設(shè)置于接收支撐件30上時(shí)，防止襯底150被保持在處理裝置10上時(shí)產(chǎn)生彎曲或撓曲振蕩及振動(dòng)。通過(guò)調(diào)節(jié)第二螺絲50，還可能變更彈性管形組件58的彈性響應(yīng)，且因此根據(jù)被導(dǎo)入至空心底座區(qū)域13中的空氣的壓力來(lái)改變攔截錐體44的無(wú)作用位置。通過(guò)彈性管形組件58施加至攔截錐體44的力與所供應(yīng)的入口壓力成比例。這允許通過(guò)調(diào)節(jié)管形組件58的壓縮或偏轉(zhuǎn)來(lái)調(diào)節(jié)攔截錐體44相對(duì)于其無(wú)作用位置的最大位移范圍。
此外，由于夾持盤12的翼形曲線輪廓，故根據(jù)第二螺絲50相對(duì)于桿46的位置的特定調(diào)節(jié)而對(duì)進(jìn)入空心底座區(qū)域13或補(bǔ)償腔室中的空氣的導(dǎo)入壓力所進(jìn)行的調(diào)節(jié)，允許以期望的精確度動(dòng)態(tài)地獲得使排出的空氣總是層流的條件，且因此空心底座區(qū)域13中的壓力可動(dòng)態(tài)地控制。如此，可能施加將襯底150吸引至處理裝置10的受控吸引力，以避免在襯底150與接收支撐件30的襯墊38接觸時(shí)產(chǎn)生較高加速度及沖擊力。另外，通過(guò)控制空氣出口氣流，以使該空氣出口氣流其總是為層流，可以保持襯底150緊靠接收支撐件30并保證所施加的低壓不會(huì)過(guò)大，這可進(jìn)一步降低通常用于形成太陽(yáng)能電池裝置的襯底150的易碎晶體結(jié)構(gòu)產(chǎn)生損壞或斷裂的可能性。顯而易見(jiàn)的是，可在不脫離本發(fā)明的領(lǐng)域及范圍的情況下對(duì)前述的處理裝置10進(jìn)行部分的變更和/或增補(bǔ)。還顯而易見(jiàn)的是，雖然參照某些特定實(shí)例描述本發(fā)明，但本領(lǐng)域技術(shù)人員定然能夠?qū)崿F(xiàn)處理裝置10的許多其它等價(jià)形式，這些等價(jià)形式具有權(quán)利要求書中所闡述的特征且因此均落入權(quán)利要求書所界定的保護(hù)領(lǐng)域。
權(quán)利要求
1.一種用于夾持襯底(150)的處理裝置，其包括 夾持盤(12),其具有第一表面； 支撐件(30)，其設(shè)置于所述夾持盤(12)的所述第一表面上，且具有襯底接觸表面及第二表面，其中縫隙(28)形成于所述夾持盤(12)的所述第一表面與所述支撐件(30)的所述第二表面之間；以及 一個(gè)或多個(gè)位置調(diào)節(jié)裝置(36)，其與所述夾持盤(12)及所述支撐件(30)接觸，其中所述一個(gè)或多個(gè)位置調(diào)節(jié)裝置(36)相對(duì)于所述夾持盤(12)的位置能夠經(jīng)調(diào)節(jié)，以調(diào)節(jié)所形成的所述縫隙(28)的尺寸。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的處理裝置，進(jìn)一步包括 攔截組件(44)，其具有與所述夾持盤(12)的所述第一表面配合的表面、以及與所述夾 持盤(12)的一部分可滑動(dòng)地嚙合的配合特征。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理裝置，其中所述夾持盤(12)的所述第一表面及所述攔截組件(44)的所述表面都圍繞第一軸線對(duì)稱。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理裝置，其中所述夾持盤(12)的所述第一表面具有翼形輪廓且所述攔截組件(44)的所述表面具有曲線輪廓，所述曲線輪廓經(jīng)設(shè)置以與所述第一表面的至少一部分配合。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的處理裝置，進(jìn)一步包括 攔截組件(44)，其具有配合特征(46)，所述配合特征(46)與所述夾持盤(12)的一部分嚙合，致使所述攔截組件(44)受約束而相對(duì)于所述夾持盤(12)沿著與第一方向平行的方向移動(dòng)；以及 彈性組件(58)，其設(shè)置于所述攔截組件(44)與所述夾持盤(12)之間，且所述彈性組件(58)經(jīng)設(shè)置以向所述夾持盤(12)及所述攔截組件(44)供應(yīng)一力，所述力與所述攔截組件(44)相對(duì)于所述夾持盤(12)沿著所述第一方向的位移成比例。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的處理裝置，其中所述彈性組件(58)包括硅材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的處理裝置，進(jìn)一步包括 攔截組件(44)，其具有側(cè)向表面及配合特征(46)，所述配合特征(46)與所述夾持盤(12)的一部分可滑動(dòng)地嚙合；以及 調(diào)節(jié)裝置(50)，其耦接至所述攔截組件(44)，其中所述調(diào)節(jié)裝置(50)能相對(duì)于所述夾持盤(12)的所述第一表面調(diào)節(jié)所述攔截組件(44)的所述側(cè)向表面的位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的處理裝置，進(jìn)一步包括 彈性組件(58)，其設(shè)置于所述調(diào)節(jié)裝置(50)與所述夾持盤(12)之間，且所述彈性組件(58)經(jīng)設(shè)置以向所述夾持盤(12)及所述攔截組件(44)供應(yīng)一力，所述力與所述攔截組件(44)的所述側(cè)向表面相對(duì)于所述夾持盤(12)的所述第一表面的位移成比例。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的處理裝置，其中所述第一表面具有翼形輪廓，以便提供經(jīng)過(guò)所形成的所述縫隙(28)的層流氣流，且其中所述氣流從氣源傳送，所述氣源以流體方式耦接至底座區(qū)域，所述底座區(qū)域至少部分地由所述夾持盤(12)的所述第一表面來(lái)界定，且所述底座區(qū)域圍繞所述夾持盤(12)的對(duì)稱軸的至少一部分。
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的處理裝置，其中所述第一表面具有翼形輪廓，所述翼形輪廓具有與所述夾持盤(12)的中間直徑相對(duì)應(yīng)的最大凸度部分、以及從所述最大凸度朝向所述夾持盤(12)的中心部分及周圍邊緣傾斜離開(kāi)的附加部分。
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的處理裝置，其中所述襯底接觸表面是平面。
12.根據(jù)權(quán)利要求I所述的處理裝置，其中所述襯底接觸表面在豎直方向上至少部分地凹入。
13.根據(jù)權(quán)利要求I所述的處理裝置，進(jìn)一步包括 攔截組件(44)，其具有與所述夾持盤(12)的一部分可滑動(dòng)地嚙合的配合特征(46)； 彈性組件(58)，其設(shè)置于所述攔截組件(44)與所述夾持盤(12)之間；以及 氣源，其經(jīng)設(shè)置而以變化的壓力來(lái)供應(yīng)氣體至形成于所述攔截組件(44)的表面與所、述夾持盤(12)的所述第一表面之間的空間，其中形成于所述攔截組件(44)的所述表面與所述夾持盤(12)的所述第一表面之間的縫隙(28)可通過(guò)控制供應(yīng)至所述縫隙(28)的氣體的壓力來(lái)調(diào)節(jié)。
14.一種用于夾持襯底的處理裝置(150)，其包括 夾持盤(12)，其具有圍繞第一軸線徑向?qū)ΨQ的第一表面； 環(huán)形支撐件(30)，其處于所述夾持盤(12)的所述第一表面上，且所述環(huán)形支撐件(30)具有襯底接觸表面及第二表面，其中縫隙(28)形成于所述夾持盤(12)的所述第一表面與所述環(huán)形支撐件(30)的所述第二表面之間； 攔截組件(44)，其具有與所述夾持盤(12)的所述第一表面配合的側(cè)向表面、以及與所述夾持盤(12)的一部分嚙合的配合特征(46);以及 一個(gè)或多個(gè)位置調(diào)節(jié)裝置(36)，其與所述夾持盤(12)及所述支撐件(30)接觸，其中所述一個(gè)或多個(gè)位置調(diào)節(jié)裝置(36)相對(duì)于所述夾持盤(12)的位置能夠經(jīng)調(diào)節(jié)，以調(diào)節(jié)所形成的所述縫隙(28)的尺寸。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的處理裝置，其中所述第一表面具有翼形輪廓，以便提供經(jīng)過(guò)所形成的所述縫隙(28)的層流氣流，且其中氣流從氣源傳送，所述氣源以流體方式耦接至底座區(qū)域，所述底座區(qū)域至少部分地由所述夾持盤(12)的所述第一表面來(lái)界定，且所述底座區(qū)域圍繞所述第一軸線的至少一部分。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的處理裝置，其中所述翼形輪廓具有與所述夾持盤(12)的中間直徑相對(duì)應(yīng)的最大凸度部分、以及從所述最大凸度朝向所述夾持盤(12)的中心部分及周圍邊緣傾斜離開(kāi)的附加部分。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的處理裝置，其中所述夾持盤(12)的所述第一表面具有翼形輪廓且所述攔截組件(44)的所述表面具有曲線輪廓，所述曲線輪廓經(jīng)設(shè)置以與所述第一表面的至少一部分配合，且所述夾持盤(12)的所述第一表面及所述攔截組件(44)的所述表面都圍繞所述第一軸線對(duì)稱。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的處理裝置，其中所述配合特征(46)經(jīng)約束而相對(duì)于所述夾持盤(12)沿著與所述第一軸線平行的第一方向上移動(dòng)，且所述處理裝置進(jìn)一步包括 彈性組件(58)，其設(shè)置于所述攔截組件(44)與所述夾持盤(12)之間，且經(jīng)設(shè)置以向所述夾持盤(12)及所述攔截組件(44)供應(yīng)一力，所述力與所述攔截組件(44)相對(duì)于所述夾持盤(12)沿著所述第一方向的位移成比例。
全文摘要
本發(fā)明的實(shí)施例大體包括一種處理裝置，其利用壓縮空氣在生產(chǎn)線中的不同操作位置或工作站之間夾持并移動(dòng)襯底。該處理裝置包括夾持端，該夾持端經(jīng)成形以便界定空心底座區(qū)域，在該空心底座區(qū)域中實(shí)現(xiàn)次大氣壓，以使得鄰近定位的襯底被推向設(shè)置于該空心底座區(qū)域附近的接收組件。在某些實(shí)施例中，該夾持端經(jīng)成形為翼形輪廓或大體上呈曲線，以使得流過(guò)形成于該襯底、接收組件與該夾持端之間的排出孔的氣流為層流。
文檔編號(hào)H01L21/683GK102741997SQ201180007651
公開(kāi)日2012年10月17日 申請(qǐng)日期2011年1月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月27日
發(fā)明者喬達(dá)諾·洛克 申請(qǐng)人:應(yīng)用材料公司