專利名稱：吸附臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過吸附而對印制電路基板和液晶基板等基板(后文稱為工件)進(jìn)行保持的吸附臺以及裝載該吸附臺的曝光裝置。
背景技術(shù)：
光刻法被廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域，利用曝光裝置，在涂敷了光致抗蝕劑等感光材料的工件的表面，對既定掩模圖形進(jìn)行曝光，然后通過刻蝕工序在基板上形成掩模圖形，印制電路基板和液晶基板等也使用曝光裝置來制造。在這種曝光裝置中，利用投影透鏡，使透過形成有既定圖形的掩模的曝光光成像在工件的表面，從而將既定的掩模圖形形成在工件上。在這種曝光裝置中公知一種吸附臺，該吸附臺通過吸附方式保持工件，使曝光光成像于工件表面的期望的位置處(例如，參考專利文獻(xiàn)I)。在原有的曝光裝置的吸附臺上，在作為載放臺的基板夾持臺上設(shè)置有貫穿貫通孔而可上下移動的接受銷和由孔形成的吸盤。在該吸附臺上，以從基板夾持臺的載放面伸出的接受銷的上端來承接由搬送臂搬送來的工件，使搬送臂后退，然后將接受銷降低，從而把該工件放置在基板夾持臺的載放面上，從而可以利用吸盤吸附該工件的方式來保持該工件。(現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn))(專利文獻(xiàn)I)日本特開2004-186681號公報這種曝光裝置是借助曝光光的成像而將掩模圖形形成在工件上，因而要求保持在載放面上的工件相對成像面呈平坦的狀態(tài)。然而，在上述過去的吸附臺中，僅僅是放置在高面精度的基板加以吸附，因而，很難將工件在由接受銷支承的狀態(tài)下出現(xiàn)的撓曲(也稱為起伏不平和翹曲。無論整體上還是局部上)。為此，一般考慮采取如下結(jié)構(gòu)，即借助多個卡爪推壓載放面上的工件使工件變成平坦?fàn)顟B(tài)后再由吸盤吸附。但是，若像這樣構(gòu)成，則需要使卡爪向放置在承載面上的工件上伸出和放入，這樣就導(dǎo)致掩模圖形形成所需要的時間(加工能力)的增大；此外，借助多個卡爪推壓工件可能會使工件表面擦傷，卡爪的動作也可能使工件沾染灰塵。進(jìn)而，由于上述情況而存在導(dǎo)致產(chǎn)品精度降低的可能性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明正是鑒于上述情況而提出，其目的在于提供一種不會導(dǎo)致作業(yè)時間增大和產(chǎn)品精度的降低、而可以以平坦的狀態(tài)來保持工件的吸附臺。技術(shù)方案I中所述的發(fā)明涉及一種吸附臺，使工件保持在平坦的載放面上，在該工件上曝光光被成像而使既定的掩模圖形曝光，其特征在于，包括固定吸附機(jī)構(gòu)，可吸附所述工件而使所述工件相對所述載放面的姿態(tài)固定；平面吸附機(jī)構(gòu)，可吸附所述工件而使所述工件的面與所述載放面抵接，所述平面吸附機(jī)構(gòu)具有多個在所述載放面上開設(shè)的平面吸附孔，從所述載放面上的任意一點起朝向所述載放面的外緣，逐步進(jìn)行利用所述平面吸附孔的吸附動作。技術(shù)方案2中所述的發(fā)明的特征在于，在技術(shù)方案I中所述的吸附臺中，所述平面吸附機(jī)構(gòu)在所述載放面上具有多個吸附分區(qū)，在該各吸附分區(qū)內(nèi)具有至少I個所述平面吸附孔，并且按照所述各吸附分區(qū)單位進(jìn)行所述各平面吸附孔的吸附動作。技術(shù)方案3中所述的發(fā)明的特征在于，在技術(shù)方案I或2中所述的吸附臺中，所述固定吸附機(jī)構(gòu)在所述載放面上具有至少2個固定吸附部，該各固定吸附部可以以其上端面吸附到所述工件上。技術(shù)方案4中所述的發(fā)明的特征在于，在技術(shù)方案3中所述的吸附臺中，所述各各固定吸附部在已將所述工件吸附保持的狀態(tài)下，所述固定吸附部的上端面可以沿所述載放面的方向改變位置。技術(shù)方案5中所述的發(fā)明的特征在于，在技術(shù)方案3中所述的吸附臺中，還具有相對所述載放面沿所述載放面的正交方向自如進(jìn)退的、上端具有吸附面的升降銷，所述各固定吸附部能夠在使所述固定吸附部的上端面從所述載放面起沿所述正交方向伸出的狀態(tài)下，對所述工件吸附保持，而且在吸附保持所述工件的狀態(tài)下，所述固定吸附部的上端面和所述載放面能夠成為同一水平面。技術(shù)方案6中所述的發(fā)明的特征在于，在技術(shù)方案I或2中所述的吸附臺中，所述平面吸附機(jī)構(gòu)從所述載放面的中心位置起朝向所述載放面的周緣部，按順序進(jìn)行利用所述各平面吸附孔的吸附動作。技術(shù)方案7中所述的發(fā)明的特征在于，在技術(shù)方案I或2中所述的吸附臺中，所述平面吸附機(jī)構(gòu)從所述載放面的緣部起朝向穿過所述載放面的中心位置的方向，按順序進(jìn)行利用所述各平面吸附孔的吸附動作。技術(shù)方案8中所述的發(fā)明的特征在于，在技術(shù)方案I或2中所述的吸附臺中，除了上述結(jié)構(gòu)之外，所述平面吸附機(jī)構(gòu)根據(jù)已進(jìn)行吸附動作的所述平面吸附孔的吸附狀態(tài)，進(jìn)行利用接下來的所述平面吸附孔的吸附動作。技術(shù)方案9中所述的發(fā)明的特征在于，在技術(shù)方案I或2中所述的吸附臺中，所述平面吸附機(jī)構(gòu)根據(jù)由所述固定吸附機(jī)構(gòu)保持的所述工件的撓曲，對所述各平面吸附孔的吸附動作的順序進(jìn)行設(shè)定。技術(shù)方案10中所述的發(fā)明是一種對所述工件相對所述曝光光成像的基準(zhǔn)平面而言的位置以及姿態(tài)進(jìn)行控制的載放臺，其特征在于，采用在技術(shù)方案I或2中所述的吸附臺。技術(shù)方案11的曝光裝置的特征在于，采用在技術(shù)方案I或2中所述的吸附臺。根據(jù)本發(fā)明的吸附臺可知，由于平面吸附機(jī)構(gòu)從載放面上的任意一點起朝向外緣按順序進(jìn)行吸附動作，所以，即使工件出現(xiàn)有撓曲也能夠使由該撓曲引起的工件浮起向載放面的外側(cè)(外緣)躲讓，因而，可以將工件適宜地吸附在平坦的載放面上。由此，可以使工件呈平坦的狀態(tài)吸附和保持。此外，由于所述平面吸附機(jī)構(gòu)可以通過多個在載放面上開設(shè)的平面吸附孔來吸引 (抽真空)，使工件成為平坦的狀態(tài)，因而，吸附臺可以防止產(chǎn)品精度的降低。而且，由于所述平面吸附機(jī)構(gòu)可以通過多個在載放面上開設(shè)的平面吸附孔來吸引 (抽真空)，使工件達(dá)成平坦的狀態(tài)，因而，若工件被放置在載放面上，則可以立刻由各平面吸附孔進(jìn)行吸引(抽真空)，從而可以縮短掩模圖形形成所需要的時間(加工能力)。除了上述結(jié)構(gòu)以外，平面吸附機(jī)構(gòu)在所述載放面上具有多個吸附分區(qū)，在每一吸附分區(qū)內(nèi)具有至少I個平面吸附孔，并且按照各吸附分區(qū)單位進(jìn)行各平面吸附孔的吸附動作，因而，可以在平面吸附機(jī)構(gòu)內(nèi)按照吸附分區(qū)進(jìn)行用于執(zhí)行吸附動作的控制，可以以簡單的結(jié)構(gòu)使工件達(dá)成平坦?fàn)顟B(tài)。除了上述結(jié)構(gòu)以外，由于固定吸附機(jī)構(gòu)在載放面上具有至少2個固定吸附部，該固定吸附部可以以其上端面吸附到所述工件上，因而，可以通過簡單的結(jié)構(gòu)以固定吸附結(jié)構(gòu)進(jìn)行吸附保持而防止工件姿態(tài)的變化。除了上述結(jié)構(gòu)以外，各固定吸附部在吸附保持工件的狀態(tài)下，固定吸附部的上端面可以沿載放面的方向變位，因而，可以一直維持著工件的姿態(tài)，并通過由平面吸附機(jī)構(gòu)帶來的分階段吸附動作，使因撓曲引起的工件浮起易于向外側(cè)躲讓。除了上述結(jié)構(gòu)以外，還具有相對載放面沿載放面的正交方向自如進(jìn)退的、上端具有吸附面的升降銷，各固定吸附部能夠在使固定吸附部的上端面從載放面起沿所述正交方向伸出的狀態(tài)下，對所述工件吸附保持，而且在吸附保持工件的狀態(tài)下，能夠使固定吸附部的上端面和載放面成為同一水平面，因而，可以防止當(dāng)與升降銷之間對工件的保持狀態(tài)進(jìn)行轉(zhuǎn)移時給工件施加的負(fù)荷。此外，可以一直維持著工件的姿態(tài)，將工件安靜地放置在載放面上。除了上述結(jié)構(gòu)以外，平面吸附機(jī)構(gòu)從載放面的中心位置起朝向載放面的周緣部， 逐步進(jìn)行利用平面吸附孔的吸附動作，因而，可以進(jìn)一步防止工件浮起引起的偏移，由此可以一直更加可靠地維持著由固定吸附機(jī)構(gòu)的各固定吸附部的吸附而確定的位置以及姿態(tài)， 實現(xiàn)工件平坦化。除了上述結(jié)構(gòu)以外，平面吸附機(jī)構(gòu)從載放面的緣部起朝向穿過載放面的中心位置的方向，逐步進(jìn)行利用平面吸附孔的吸附動作，因而，使由撓曲引起的工件浮起向另一方的緣部躲讓，由此可以將工件適當(dāng)?shù)匚皆谄教沟妮d放面上，可以將工件在平坦的狀態(tài)下吸附保持。除了上述結(jié)構(gòu)以外，平面吸附機(jī)構(gòu)根據(jù)已進(jìn)行吸附動作的平面吸附孔的吸附狀態(tài)，進(jìn)行依接下來的平面吸附孔而定的吸附動作，因而，在先行進(jìn)行了吸附動作的部位(平面吸附孔)，以適當(dāng)方式將工件吸附在載放面上之后，可以再利用接下來的平面吸附孔進(jìn)行吸附動作，從而可以更進(jìn)一步實現(xiàn)工件平坦化。除了上述結(jié)構(gòu)以外，平面吸附機(jī)構(gòu)根據(jù)由固定吸附機(jī)構(gòu)保持的工件的撓曲，對各平面吸附孔的吸附動作的順序進(jìn)行設(shè)定，因而，可以依工件撓曲而定的順序而進(jìn)行各平面吸附孔的吸附動作，可以使工件更進(jìn)一步實現(xiàn)平坦化。在采用了上述吸附臺的載放臺中，由于工件在吸附臺上以極高精度達(dá)成平坦的狀態(tài)，因而可以使工件相對于曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行曝光的部位位于合適位置。在采用了上述吸附臺的曝光裝置中，工件在吸附臺上以極高精度實現(xiàn)平坦化，可以使掩模圖形以適當(dāng)?shù)姆绞狡毓庥诠ぜ稀?br>

圖I是模式化表示本申請發(fā)明所涉及的曝光裝置10的結(jié)構(gòu)的說明圖。
圖2是模式化表示載放臺30的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖3是沿圖2的I-I線得到的截面圖。
圖4是與圖2同樣的立體圖，表示在載放臺30中的底座部件31、兩Y軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)32、Y軸移動件33、兩X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34以及兩X軸移動件35的狀況。
圖5是與圖2同樣的立體圖，表示在圖4中又增加了 XY調(diào)整板36以及連結(jié)部(51、52、53、54)的狀況。
圖6是用于說明兩X軸移動件35、XY調(diào)整板36以及各連結(jié)部(51、52、53、54)的位置關(guān)系的說明圖。
圖I是模式化表示第I連結(jié)部51的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖8是模式化表示第2連結(jié)部52的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖9是模式化表示第3連結(jié)部53的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖10是模式化表示第4連結(jié)部54的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖11是與圖2同樣的立體圖，表示在圖5中又增加了各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37的狀況。
圖12是與圖3同樣的立體圖，表示為說明Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37A的結(jié)構(gòu)而將它的驅(qū)動本體部的周邊放大。
圖13是模式化表示升降機(jī)構(gòu)39的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖14是表示載放臺30的功能結(jié)構(gòu)的框圖。
圖15是模式化表示吸板40的周邊結(jié)構(gòu)的立體圖，表示各升降銷39b朝向載放面40b的上方伸出的狀態(tài)。
圖15A是與圖15同樣的立體圖，表示將由在圖15中所示的單點點劃線包圍的范圍放大。
圖16與圖15同樣是模式化表示吸板40的周邊結(jié)構(gòu)的立體圖，表示各升降銷39b被拉向載放面40b的下方的狀態(tài)。
圖17是從上方觀看吸板40的模式化主視圖。
圖18與圖17同樣是用于說明3個吸附劃分區(qū)(77 79)的主視圖。
圖19是從背面?zhèn)扔^看吸板40的模式化立體圖。
圖20與圖17同樣是用于說明進(jìn)行其它例的吸附動作的方向的主視圖。
附圖標(biāo)記說明
10曝光裝置
22工件
30載放臺
39b升降銷
40 (作為吸附臺的)吸板
40b載放面
60固定吸附機(jī)構(gòu)
61 (作為固定吸附部的)凸緣吸附部
70平面吸附機(jī)構(gòu)
71平面吸附孔
具體實施例方式下面，參考

本申請發(fā)明所涉及的載放臺30的實施方式。(實施例)首先，對于采用了本申請發(fā)明所涉及的載放臺30的曝光裝置10的概要結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。圖I是模式化表示作為本申請發(fā)明所涉及的曝光裝置的一例的曝光裝置10的結(jié)構(gòu)的說明圖。曝光裝置10如圖I所示，沿光軸方向自出射側(cè)起依序具有光源11、冷鏡12、曝光快門13、紫外線帶通濾波器14、積分透鏡15、準(zhǔn)直透鏡16、平面鏡17、掩模臺18、掩模盲區(qū)部19、投影透鏡20、倍率校正部21和載放臺30 (投影曝光臺)。該曝光裝置10的曝光光采用紫外線。光源11出于紫外線的照射的目的而設(shè)置，所述紫外線是用于曝光的曝光光。本實施例中，光源11的水銀燈Ila構(gòu)成為配置在橢圓反射鏡(橢圓鏡)Ilb的第I焦點位置。在該光源11中，從水銀燈Ila出射的出射光反射到橢圓反射鏡11b，并向冷鏡12行進(jìn)。冷鏡12使入射進(jìn)來的光之中的紅外線區(qū)域的紅外線透過，并且反射其它波長范圍的光，從而可以從入射光中分離出紅外線區(qū)域的紅外線。由此，從光源11發(fā)出的出射光， 在由冷鏡12分離紅外線區(qū)域的紅外線后，朝向曝光快門13或者紫外線帶通濾波器14行進(jìn)。就所述曝光快門13而言，在冷鏡12朝向紫外線帶通濾波器14的光路(后述照射光路)上可自由出入，從而能夠?qū)睦溏R12反射的出射光在透過以及遮斷之間進(jìn)行切換。 該曝光快門13從光路上躲讓，則如后所述可以將工件22曝光；若位于光路上，則使后述的工件22的曝光停止。紫外線帶通濾波器14僅允許入射進(jìn)來的光之中的紫外線透過。在本實施例中，由允許波長為365nm的水銀的光譜線、即i線透過的i線帶通濾波器構(gòu)成。因而，由冷鏡12 反射的出射光，經(jīng)過紫外線帶通濾波器14而僅留紫外線(i線)的波長范圍的光(實際是在i線的波長范圍附近的高強(qiáng)度的光)，并朝向積分透鏡15行進(jìn)。積分透鏡15用于消除入射光的照度不均，使照射面上的照度分布明亮均勻地分布至周邊。因而，通過紫外線帶通濾波器14而成為僅是紫外線(i線)的波長范圍的光的入射光，經(jīng)過積分透鏡15后照度均勻分布，進(jìn)而朝向積分透鏡16行進(jìn)。準(zhǔn)直透鏡16將入射進(jìn)來的光作為平行光(光束)出射。因而，經(jīng)積分透鏡15而成為照度均勻分布的出射光，在準(zhǔn)直透鏡16作用下成為平行光并向平面鏡17行進(jìn)，由該平面鏡17反射朝向掩模臺18行進(jìn)。掩模臺18使形成有圖形的掩模18a位于由平面鏡17反射的出射光的光路上，且在與該光路的光軸正交的方向上可移動保持。此外，在圖中沒有進(jìn)一步表示，掩模臺18的掩模18a是可裝拆的，可以替換成形成有其它不同圖形的掩模。接下來，由平面鏡17反射的出射光，透過掩模18a而依照形成在掩模18a上的圖形的形狀朝投影透鏡20行進(jìn)。根據(jù)上述內(nèi)容，在曝光裝置10中，發(fā)自光源11且經(jīng)過冷鏡12、曝光快門13、紫外線帶通濾波器14、積分透鏡15、準(zhǔn)直透鏡16以及平面鏡17的光路，作為用于由作為曝光光用的紫外線(i線)照射掩模18a的照射光學(xué)系統(tǒng)發(fā)揮功能。在所述掩模臺18和投影透鏡20之間設(shè)置有掩模盲區(qū)部19。掩模盲區(qū)部19進(jìn)退自如地設(shè)置在經(jīng)過掩模18a的出射光的光路上，為了使在掩模18a的掩模圖形之中的、僅是期望區(qū)域的掩模圖形適當(dāng)?shù)匦纬稍诒环胖糜谳d放臺30的后述工件22上，而將掩模盲區(qū)部 19根據(jù)掩模18a的掩模圖形適當(dāng)?shù)夭宓焦饴飞?。投影透鏡20用來將形成在掩模18a上的圖形恰當(dāng)?shù)仄毓庠谳d放臺30上的后述工件22上，并且適當(dāng)改變保持在掩模臺18上的掩模18a的圖形(以下也稱為掩模圖形)的倍數(shù)而形成在放置于載放臺30的后述工件22的表面。也就是說，投影透鏡20以放置于載放臺30的狀態(tài)下的工件22的表面作為成像面，該成像面與掩模18a在光學(xué)方面形成共軛的位置關(guān)系。如上所述，在曝光裝置10中，紫外線(i線)用作曝光光，因而，投影透鏡20可對紫外線(i線)進(jìn)行高精度像差校正。因而，若透過了掩模18a的出射光被入射，則投影透鏡20可將掩模18a的掩模圖形恰當(dāng)?shù)匦纬稍谳d放臺30上的成像面(后述工件22上)。在投影透鏡20和載放臺30之間設(shè)置有倍率校正部21。根據(jù)在載放臺30上放置的后述工件22的應(yīng)變，倍率校正部21使形成在載放臺30上的成像面上的掩模圖形變形。 該倍率校正部21是通過使沿正交于光路的面上的、任意方向上的倍率適當(dāng)改變，使得成像面內(nèi)的掩模圖形變形。倍率校正部21可以通過如下結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)，S卩該結(jié)構(gòu)例如構(gòu)成為以與投影透鏡20的光軸相正交的方式插入數(shù)張玻璃板、并使各玻璃板適當(dāng)彎曲或者旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。像這樣，在曝光裝置10中，掩模盲區(qū)部19、投影透鏡20以及倍率校正部21作為投影光學(xué)系統(tǒng)發(fā)揮作用，在所述投影光學(xué)系統(tǒng)中，使從形成有既定圖形的掩模18a穿過的作為曝光光用的紫外線，作為掩模圖形成像于載放臺30上的成像面(后述工件22上)。在載放臺30上放置工件22以便掩模圖形的曝光。關(guān)于該載放臺30，可以以使所放置的工件22的表面與投影透鏡20的成像面保持一致的方式來保持工件22，而且還能夠使保持的工件22沿與投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸相正交的面進(jìn)行移動。該載放臺30中的工件22 的移動是在設(shè)置在載放臺30內(nèi)部的驅(qū)動控制部43 (參考圖14)的控制下進(jìn)行的。后面對該載放臺30的結(jié)構(gòu)進(jìn)行描述。另外，載放臺30中的工件22的移動可以手動進(jìn)行。該工件22按照如下方式形成，在硅片、玻璃基板或者印制電路基板等上涂敷或者貼附對于紫外線α線)出現(xiàn)光反應(yīng)的光致抗蝕劑等感光材料。因而，工件22能夠利用紫外線α線)的照射進(jìn)行曝光。在曝光裝置10中，在照射光學(xué)系統(tǒng)中從光源11出射的出射光經(jīng)過冷鏡12、紫外線帶通濾波器14、積分透鏡15、準(zhǔn)直透鏡16以及平面鏡17，向掩模臺18傳遞，從而可利用紫外線(i線)同樣地對保持在掩模臺18上的掩模18a進(jìn)行照射。于是，在曝光裝置10中， 利用作為投影光學(xué)系統(tǒng)的掩模盲區(qū)部19、投影透鏡20以及倍率校正部21的作用，使利用紫外線(i線)得到的掩模圖形適當(dāng)?shù)匦纬稍谳d放臺30上。據(jù)此，在曝光裝置10中，將工件 22放置于沿成像面的適當(dāng)?shù)奈恢?姿態(tài))，由此可以使掩模圖形恰當(dāng)?shù)仄毓庠诠ぜ?2上。 工件22相對該掩模圖形的位置、即工件22相對于經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)的掩模18a的位置，可以通過使由載放臺30保持的工件22在成像面上適當(dāng)移動來調(diào)整(對準(zhǔn))。在本發(fā)明涉及的曝光裝置10中所采用的載放臺30如圖2以及圖3所示，具有底座部件31、2個Y軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)32、Y軸移動器件33、2個X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34、2個X軸移動器件 35、XY調(diào)整板36、3個Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37、Z軸調(diào)整板38、升降機(jī)構(gòu)39和吸板40。底座部件31是在對工件22相對于上述投影光學(xué)系統(tǒng)(參考圖I)的位置關(guān)系進(jìn)行設(shè)定時，沿當(dāng)作基準(zhǔn)的基準(zhǔn)平面延伸的板狀部件，相對投影光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行固定。該基準(zhǔn)平面是借助上述投影光學(xué)系統(tǒng)來成像掩模圖形的位置、即基準(zhǔn)平面是通過投影透鏡20而與掩模18a在光學(xué)方面形成共軛的位置關(guān)系的成像面。在本實施例中，基準(zhǔn)面是以投影光學(xué)系統(tǒng)作為Z軸而與該Z軸垂直正交的、且平行于X-Y平面的平面。Z軸的正向是從載放臺 30起指向上述投影光學(xué)系統(tǒng)的一側(cè)(參考圖2)。底座部件31沿X-Y平面延伸，在該底座部件31的上表面設(shè)置有2個Y軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)32。2個Y軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)32如圖2至圖4中所示，在底座部件31的上表面設(shè)在沿X軸方向的兩端位置。所述兩Y軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)32對Y軸移動器件33施加沿底座部件31的Y軸方向的驅(qū)動力。該Y軸移動器件33呈在中央具有貫通孔33a的板狀，沿基準(zhǔn)平面設(shè)置。各Y軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)32都是與后述X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34同樣的結(jié)構(gòu)，具有Y軸固定元件 32a、一對底座側(cè)Y軸引導(dǎo)部件32b、省略圖示的Y軸活動元件和一對移動器件側(cè)Y軸引導(dǎo)部件。在底座部件31的上表面，Y軸固定元件32a是以多個永磁體沿Y軸方向以不同磁極相互鄰接的方式排列形成的，從而構(gòu)成所謂的電磁軌道。兩底座側(cè)Y軸引導(dǎo)部件32b在底座部件31的上表面，以夾持Y軸固定元件32a的方式成對設(shè)置而成，并沿Y軸方向延伸。所述兩底座側(cè)Y軸引導(dǎo)部件32b與設(shè)置在Y軸移動器件33的下表面(背面)的一對移動器件側(cè)Y軸引導(dǎo)部件(未圖示)，沿延伸方向(Y軸方向)滑動自如地嵌合一起。省略圖示的 Y軸活動元件在Y軸移動器件33的下表面(背面)，以與Y軸固定元件32a相互對置的方式設(shè)置在這對移動器件側(cè)Y軸引導(dǎo)部件(未圖示)之間。在該Y軸活動元件(未圖示)中容納有可外加電流的線圈。對于各Y軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)32，通過使由磁力引起的吸引排斥力適當(dāng)作用于Y軸活動元件(未圖示)和Y軸固定元件32a之間，從而可以使固定有Y軸活動元件的Y軸移動器件 33沿Y軸方向移動。而且，在本實施例中，Y軸方向作為沿基準(zhǔn)平面的第I方向發(fā)揮作用， 兩Y軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)32作為第I驅(qū)動機(jī)構(gòu)發(fā)揮作用，Y軸移動器件33作為第I滑動器件發(fā)揮作用。此外，為了檢測在底座部件31中的Y軸移動器件33的位置，而設(shè)置有位置檢測元件 (省略圖示)。另外，對于兩Y軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)32，兩者同步控制以使單個Y軸移動器件33移動。在載放臺30中，通過設(shè)置在其內(nèi)部的驅(qū)動控制部43(參考圖14)，同步控制對兩Y 軸活動元件(未圖示)施加的外加電流，使兩Y軸活動元件和兩Y軸固定元件32a之間作用由磁力引起的吸引排斥力，從而引起固定有兩Y軸活動元件的Y軸移動器件33移動。此時，由于在驅(qū)動控制部43中利用由磁力引起的吸引排斥力進(jìn)行移動，因而，根據(jù)位置檢測元件(未圖示)檢測出的位置信息進(jìn)行伺服控制，可適當(dāng)?shù)爻蛞呀?jīng)設(shè)定的移動目標(biāo)位置移動。在Y軸移動器件33上設(shè)置有2個X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34。2個X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34被設(shè)置在Y軸移動器件33的上表面的沿Y軸方向的兩端位置。所述各X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34對對應(yīng)的X軸移動器件35 (35A、35B)施加指向Y軸移動器件 33的X軸方向的驅(qū)動力。所述兩X軸移動器件35呈長度大體相等的板狀，在Z軸方向上等高(上下位置)，沿X軸配置。各X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34具有X軸固定元件34a、一對底座側(cè)X軸引導(dǎo)部件34b、X軸活動元件34c和一對移動器件側(cè)X軸引導(dǎo)部件34d。在Y軸移動器件33的上表面，X軸固定元件34a以多個永磁體沿X軸方向以不同磁極相互鄰接的方式排列形成，從而構(gòu)成所謂的電磁軌道。兩底座側(cè)X軸引導(dǎo)部件34b在Y軸移動器件33的上表面，以夾持X軸固定元件34a的方式成對設(shè)置而成，并沿X軸方向延伸。所述兩底座側(cè)X軸引導(dǎo)部件34b與設(shè)置在X 軸移動器件35的下表面(背面)的一對移動器件側(cè)X軸引導(dǎo)部件34d，沿延伸方向滑動自如地嵌合一起。X軸活動元件34c在X軸移動器件35的下表面(背面)，以與X軸固定元件34a相互對置的方式設(shè)置(參考圖3)。在該X軸活動元件34c中容納有可外加電流的線圈。所述2個X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34，其中一方(單獨描述時稱為34A)以對應(yīng)于X軸移動器件35A的方式設(shè)置；另一方(單獨描述時稱為34B)以對應(yīng)于X軸移動器件35B的方式設(shè)置。即，X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34A使為了使一方的X軸移動器件35A沿X軸方向移動而設(shè)置，X軸活動兀件34c設(shè)置在X軸移動器件35A的下表面；另外，X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34B是為了使另一方的X軸移動器件35B沿X軸方向移動而設(shè)置，X軸活動元件34c設(shè)置在X軸移動器件35B的下表面。各X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34，通過使由磁力引起的吸引排斥力作用于X軸活動元件34c和 X軸固定元件34a之間，從而可以使由對應(yīng)的X軸移動器件35 (35A或者35B)沿X軸方向移動。而且，在本實施例中，將X軸方向作為沿基準(zhǔn)平面的、并且正交于第I方向的第2方向發(fā)揮作用，將各X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34作為第2驅(qū)動機(jī)構(gòu)發(fā)揮作用，將各X軸移動器件35作為第2滑動器件發(fā)揮作用。為了檢測所述Y軸移動器件33上的各X軸移動器件35A、35B的位置,而設(shè)置有省略圖示的位置檢測元件。另外,在本實施例中,將由兩X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34進(jìn)行的驅(qū)動控制(朝X軸方向的移動)的基準(zhǔn)位置規(guī)定為位于X軸移動器件35A和X軸移動器件35B可以沿X軸移動的范圍的中央位置，并且其狀態(tài)是在X軸移動器件35A和X軸移動器件35B在Y軸移動器件33的上表面，沿Y軸方向排列形成(參考圖4等)。在載放臺30中，通過設(shè)置在其內(nèi)部的驅(qū)動控制部43 (參考圖14)，分別控制向各X 軸活動元件34c輸送的外加電流，使由磁力引起的吸引排斥力在X軸活動元件34c和X軸固定元件34a之間以適當(dāng)方式產(chǎn)生作用，從而使由X軸活動元件34c固定的X軸移動器件 35(35A或者35B)單獨或整體地移動。此時，由于該移動在驅(qū)動控制部43中利用由磁力引起的吸引排斥力進(jìn)行的，因而，根據(jù)位置檢測元件(未圖示)檢測出的位置信息進(jìn)行伺服控制，以向已經(jīng)設(shè)定的移動目標(biāo)位置適當(dāng)移動。XY調(diào)整板36以架設(shè)在所述2個X軸移動器件 35之間的方式設(shè)置(參考圖5)。XY調(diào)整板36用于對工件22 (參考圖I)的在X_Y方向上的位置以及沿X_Y平面的旋轉(zhuǎn)姿態(tài)進(jìn)行設(shè)定(調(diào)整)而設(shè)置。如圖5所示，該XY調(diào)整板36呈板狀，沿基準(zhǔn)平面以架設(shè)在兩X軸移動器件35的上方的方式延伸。XY調(diào)整板36借助第I連結(jié)部51連結(jié)在X軸移動器件35Α上，同時還借助第2連結(jié)部52連結(jié)在X軸移動器件35Β上。在本實施例中，除了借助第I連結(jié)部51以及第2連結(jié)部52，還借助第3連結(jié)部53連結(jié)在X軸移動器件35Α 上，借助第4連結(jié)部54連結(jié)在X軸移動器件35Β上。所述各連結(jié)部(51、52、53、54)沿Z軸延伸，均以Z軸的正向一側(cè)的一端連接XY調(diào)整板36，并以Z軸的負(fù)向一側(cè)的另一端連接兩 X軸移動器件35 (35Α、35Β)。在此處，如圖6所示，在XY調(diào)整板36上，連接第I連結(jié)部51的部位是板側(cè)第I支承點Sbl，連接第2連結(jié)部52的部位是板側(cè)第2支承點Sb2，連接第3連結(jié)部53的部位是板側(cè)第3支承點Sb3，連接第4連結(jié)部54的部位是板側(cè)第4支承點Sb4。此外，在X軸移動器件35A上，連接第I連結(jié)部51的部位是移動器件側(cè)第I支承點Ssl，連接第3連結(jié)部53的部位是移動器件側(cè)第3支承點Ss3。而且，在X軸移動器件35B上，連接第2連結(jié)部52的部位是移動器件側(cè)第2支承點Ss2，連接第4連結(jié)部54的部位是移動器件側(cè)第4支承點Ss4。 在本實施例中，從Z軸正向觀看，XY調(diào)整板36上的各支承點(Sbl、Sbl2、Sb3、Sb4)按照描繪成正方形的方式配置。對于第I連結(jié)部51而言，板側(cè)第I支承點Sbl和移動器件側(cè)第I支承點Ssl從Z 軸正向一側(cè)觀看是在同一條直線上，并且將X軸移動器件35A和XY調(diào)整板36按下述方式連結(jié)在一起，即要允許X軸移動器件35A和XY調(diào)整板36在相對位置關(guān)系已經(jīng)固定的狀態(tài)下，圍繞穿過2支承點SbUSsl的基準(zhǔn)軸Ba而相對旋轉(zhuǎn)。在本實施例中，第I連結(jié)部51 如圖7所示，具有固定在X軸移動器件35A上而沿Z軸方向延伸的連結(jié)基部分51a和以可相對于該連結(jié)基部分51a的延伸端部分51b旋轉(zhuǎn)的方式設(shè)置的旋轉(zhuǎn)部分51c。該連結(jié)基部分51a呈圓筒狀，且規(guī)定它的中心軸沿Z軸。旋轉(zhuǎn)部分51c呈將連結(jié)基部分51a的延伸端部分51b環(huán)繞起來的環(huán)狀，并圍繞連結(jié)基部分51a的中心軸，可相對延伸端部分51b自如旋轉(zhuǎn)。而且，第I連結(jié)部51的旋轉(zhuǎn)部分51c固定在XY調(diào)整板36上。在第I連結(jié)部51中，由于連結(jié)基部分51a和旋轉(zhuǎn)部分51c可以繞連結(jié)基部分51a 的中心軸旋轉(zhuǎn)，因而，既允許設(shè)置有連結(jié)基部分51a的X軸移動器件35A與設(shè)置有旋轉(zhuǎn)部分 51c的XY調(diào)整板36的圍繞中心軸的相對旋轉(zhuǎn)，還將X軸移動器件35A和XY調(diào)整板36連結(jié)在一起。因而，在第I連結(jié)部51中，連結(jié)基部分51a的中心軸是基準(zhǔn)軸Ba，連結(jié)基部分51a 的中心位置是移動器件側(cè)第I支承點Ssl，旋轉(zhuǎn)部分51c的中心位置是板側(cè)第I支承點Sb I。第2連結(jié)部52按照如下方式將X軸移動器件35B和XY調(diào)整板36連結(jié)起來，即 不僅允許板側(cè)第2支承點Sb2和移動器件側(cè)第2支承點Ss2朝向沿X-Y平面的第3方向使相對位置發(fā)生改變，而且還允許X軸移動器件35B和XY調(diào)整板36圍繞Z軸相對旋轉(zhuǎn)(參考圖6等)。所述第2連結(jié)部52如圖8所示具有固定在X軸移動器件35B上而沿Z軸方向延伸的連結(jié)基部分52a ;可相對于該連結(jié)基部分52a旋轉(zhuǎn)的連結(jié)旋轉(zhuǎn)部分52b ;固定在其上端面的軌道保持部分52c ;可滑動地保持在該軌道保持部分52c上的軌道52d ;和固定在該軌道52d上的安裝部分52e。所述連結(jié)基部分52a呈圓筒狀且它的中心軸沿Z軸。連結(jié)旋轉(zhuǎn)部分52b呈直徑尺寸比連結(jié)基部分52a更小一些的圓柱狀，設(shè)置在與連結(jié)基部分52a 同心的位置上。所述連結(jié)旋轉(zhuǎn)部分52b可繞連結(jié)基部分52a的中心軸自如旋轉(zhuǎn)。軌道保持部分52c以可向如下第3方向滑動的方式保持軌道52d，該第3方向是在沿X-Y平面的方向并與X軸(第2方向)以及Y軸(第3方向)相對斜交的方向。軌道52d呈在第3方向上延伸的桿狀并固定在安裝部分52e。安裝部分52e呈圓柱狀并固定在XY調(diào)整板36上。因而，軌道52d經(jīng)安裝部分52e而被固定到XY調(diào)整板36上。在本實施例中，在XY調(diào)整板36 上，軌道52d的延伸方向即第3方向，是與將板側(cè)第2支承點Sb2和板側(cè)第I支承點Sbl連結(jié)起來的這部分直線的方向相一致，進(jìn)而是由各支承點(Sbl、Sb2、Sb3、Sb4)所描繪的正方形的對角線相一致。因而，第3方向相對于X軸(第2方向)以及Y軸(第I方向)，均具有45度的角度。另外，對于第3方向，在本實施例中，可以相對于XY調(diào)整板36加以固定， 也可以相對于X軸移動器件35B加以固定。在第2連結(jié)部52中，軌道52d和軌道保持部分52c可以朝向第3方向相對移動， 而且，連結(jié)旋轉(zhuǎn)部分52b和連結(jié)基部分52a也可繞設(shè)置有該軌道保持部分52c的連結(jié)旋轉(zhuǎn)部分52b的中心軸而相對旋轉(zhuǎn)。因而，第2連結(jié)部52不僅允許設(shè)置有連結(jié)基部分52a的X 軸移動器件35B和設(shè)置有軌道52d (安裝部分52e)的XY調(diào)整板36朝向第3方向使相對位置發(fā)生改變，還允許X軸移動器件35B和XY調(diào)整板36圍繞連結(jié)基部分52a (連結(jié)旋轉(zhuǎn)部分 52b)的中心軸相對旋轉(zhuǎn)，并且將X軸移動器件35B和XY調(diào)整板36連結(jié)起來。因而，在第2 連結(jié)部52中，連結(jié)基部分52a的中心位置是移動器件側(cè)第2支承點Ss2，軌道52d(安裝部分52e)的中心位置是板側(cè)第2支承點Sb2。該第2連結(jié)部52按下述方式進(jìn)行設(shè)置，即將板側(cè)第2支承點Sb2和移動器件側(cè)第2支承點Ss2分別設(shè)置在X軸移動器件35B和XY調(diào)整板36上，且當(dāng)X軸移動器件35A和X軸移動器件35B位于驅(qū)動控制的基準(zhǔn)位置時，使板側(cè)第2支承點Sb2和移動器件側(cè)第2支承點Ss2從Z軸正向一側(cè)觀看位于同一直線上(軌道52d的中心位置(安裝部分52e的中心軸)和連結(jié)基部分52a的中心軸成為一致)。第3連結(jié)部53按照如下方式將X軸移動器件35A和XY調(diào)整板36連結(jié)起來，即 不僅允許板側(cè)第3支承點Sb3和移動器件側(cè)第3支承點Ss3朝向沿X-Y平面的方向使相對位置發(fā)生改變，而且還允許X軸移動器件35A和XY調(diào)整板36圍繞Z軸相對旋轉(zhuǎn)(參考圖 6等)。所述第3連結(jié)部53如圖9所示具有固定在X軸移動器件35A上的第I軌道53a ； 可滑動地保持該第I軌道53a的第I軌道保持部分53b ;固定在該第I軌道保持部分53b上的固定板部分53c ;固定在該固定板部分53c上的第2軌道保持部分53d ;可滑動地保持在該第2軌道保持部分53d的第2軌道53e ;固定在該第2軌道53e上的旋轉(zhuǎn)軸部分53f ;和以可相對該旋轉(zhuǎn)軸部分53f旋轉(zhuǎn)的方式設(shè)置的旋轉(zhuǎn)部分53g。所述第I軌道53a呈沿Y軸方向延伸的桿狀。第I軌道保持部分53b以沿延伸方向滑動的方式保持第I軌道53a。固定板部分53c呈桿狀，在它的下表面?zhèn)仍O(shè)置有第I軌道保持部分53b，同時在上表面?zhèn)仍O(shè)置有第2軌道保持部分53d,對第I軌道保持部分53b和第2軌道保持部分53d的位置關(guān)系進(jìn)行固定。第2軌道保持部分53d以沿X軸方向滑動的方式保持第2軌道53e。第2軌道 53e呈沿X軸方向延伸的桿狀，在其延伸方向上自如滑動而被保持在第2軌道保持部分53d 上。旋轉(zhuǎn)軸部分53f呈圓柱狀，中心軸沿Z軸而被固定在第2軌道53e上。旋轉(zhuǎn)部分53g 呈將旋轉(zhuǎn)軸部分53f圍繞起來的環(huán)狀，可圍繞旋轉(zhuǎn)軸部分53f的中心軸自如旋轉(zhuǎn)。而且將旋轉(zhuǎn)部分53g固定在XY調(diào)整板36上。在第3連結(jié)部53中，第I軌道53a和第I軌道保持部分53b能夠向Y軸方向相對移動，且第2軌道保持部分53d和第2軌道53e能夠向X軸方向相對移動，而且，旋轉(zhuǎn)軸部分 53f和旋轉(zhuǎn)部分53g，圍繞設(shè)置在第2軌道53e上的旋轉(zhuǎn)軸部分53f的中心軸而相對旋轉(zhuǎn)。 因而，第3連結(jié)部53按照如下方式將X軸移動器件35A和XY調(diào)整板36連結(jié)起來，即不僅允許設(shè)置有第I軌道53a的X軸移動器件35A和設(shè)置有旋轉(zhuǎn)部分53g的XY調(diào)整板36朝向沿X-Y平面的方向使相對位置發(fā)生改變，而且還允許X軸移動器件35A和XY調(diào)整板36圍繞旋轉(zhuǎn)軸部分53f的中心軸相對旋轉(zhuǎn)。因而，在第3連結(jié)部53中，第I軌道53a的中心位置是移動器件側(cè)第3支承點Ss3，旋轉(zhuǎn)部分53g的中心位置是板側(cè)第3支承點Sb3。所述第 3連結(jié)部53按下述方式進(jìn)行設(shè)置，即將板側(cè)第3支承點Sb3和移動器件側(cè)第3支承點Ss3 分別設(shè)置在X軸移動器件35A和XY調(diào)整板36上，且當(dāng)X軸移動器件35A和X軸移動器件 35B位于驅(qū)動控制的基準(zhǔn)位置時，使板側(cè)第3支承點Sb3和移動器件側(cè)第3支承點Ss3從Z 軸正向一側(cè)觀看位于同一直線上(旋轉(zhuǎn)軸部分53f的中心軸與穿過第I軌道53a的中心位置而沿Z軸的直線成為一致)。即，從Z軸的正向一側(cè)觀看第3連結(jié)部53，板側(cè)第3支承點Sb3和移動器件側(cè)第3支承點Ss3之間的間隔不變動(將間隔維持在既定的大小)，可以使板側(cè)第3支承點Sb3和移動器件側(cè)第3支承點Ss3朝向沿X-Y平面的方向的相對位置產(chǎn)生變動。第4連結(jié)部54按照如下方式將X軸移動器件35B和XY調(diào)整板36連結(jié)起來，即 不僅允許板側(cè)第4支承點Sb4和移動器件側(cè)第4支承點Ss4朝向沿X-Y平面的方向使相對位置發(fā)生改變，而且還允許X軸移動器件35B和XY調(diào)整板36圍繞Z軸相對旋轉(zhuǎn)(參考圖6 等)。所述第4連結(jié)部54如圖10所示具有固定在X軸移動器件35B上的第I軌道54a ； 可滑動地保持該第I軌道54a的第I軌道保持部分54b ;固定在該第I軌道保持部分54b上的固定板部分54c ;固定在該固定板部分54c上的第2軌道保持部分54d ;可滑動地保持在該第2軌道保持部分54d的第2軌道54e ;固定在該第2軌道54e上的旋轉(zhuǎn)軸部分54f ;和以可相對該旋轉(zhuǎn)軸部分54f旋轉(zhuǎn)的方式設(shè)置的旋轉(zhuǎn)部分54g。所述第I軌道54a呈沿X軸方向延伸的桿狀。第I軌道保持部分54b以沿延伸方向滑動的方式保持第I軌道54a。固定板部分54c呈桿狀，在它的下表面?zhèn)仍O(shè)置有第I軌道保持部分54b，同時在上表面?zhèn)仍O(shè)置有第2軌道保持部分54d,對第I軌道保持部分54b和第2軌道保持部分54d的位置關(guān)系進(jìn)行固定。第2軌道保持部分54d以沿Y軸方向滑動的方式保持第2軌道54e。第2軌道 54e呈沿Y軸方向延伸的桿狀，在其延伸方向上自如滑動而被保持在第2軌道保持部分54d 上。旋轉(zhuǎn)軸部分54f呈圓柱狀，中心軸沿Z軸而被固定在第2軌道54e上。旋轉(zhuǎn)部分54g 呈將旋轉(zhuǎn)軸部分54f圍繞起來的環(huán)狀，可圍繞旋轉(zhuǎn)軸部分54f的中心軸自如旋轉(zhuǎn)。而且將旋轉(zhuǎn)部分54g固定在XY調(diào)整板36上。在第4連結(jié)部54中，可以使第I軌道54a和第I軌道保持部分54b朝向X軸方向相對移動，且使第2軌道保持部分54d和第2軌道54e朝向Y軸方向相對移動，而且，還可以使旋轉(zhuǎn)部分54g和旋轉(zhuǎn)軸部分54f圍繞設(shè)置在該第2軌道54e上的旋轉(zhuǎn)軸部分54f的中心軸而相對旋轉(zhuǎn)。因而，對于第4連結(jié)部54，一邊是不僅允許設(shè)置在第I軌道54a上的X軸移動器件35B、和設(shè)置在旋轉(zhuǎn)部分54g上的XY調(diào)整板36朝向沿X-Y平面的方向使相對位置發(fā)生改變，還允許圍繞旋轉(zhuǎn)軸部分54f的中心軸的相對旋轉(zhuǎn)，另一邊將X軸移動器件35B和 XY調(diào)整板36連結(jié)起來。因而，在第4連結(jié)部54中，第I軌道54a的中心位置是移動器件側(cè)第4支承點Ss4，旋轉(zhuǎn)部分54g的中心位置是板側(cè)第4支承點Sb4。所述第4連結(jié)部54按下述方式進(jìn)行設(shè)置，即將板側(cè)第4支承點Sb4和移動器件側(cè)第4支承點Ss4分別設(shè)置在X 軸移動器件35A和XY調(diào)整板36上，且當(dāng)X軸移動器件35A和X軸移動器件35B位于驅(qū)動控制的基準(zhǔn)位置時，使板側(cè)第4支承點Sb4和移動器件側(cè)第4支承點Ss4從Z軸正向一側(cè)觀看位于同一直線上(旋轉(zhuǎn)軸部分54f的中心軸與穿過第I軌道54a的中心位置而沿Z軸的直線成為一致)。即，從Z軸的正向一側(cè)觀看第4連結(jié)部54，板側(cè)第4支承點Sb4和移動器件側(cè)第4支承點Ss4之間的間隔不變動(將間隔維持在既定的大小)，可以使板側(cè)第4支承點Sb4和移動器件側(cè)第4支承點Ss4在朝向沿X-Y平面的方向的相對位置產(chǎn)生變動。因而，對于XY調(diào)整板36，通過使Y軸移動器件33在底座部件31上沿Y軸方向適當(dāng)移動，可以調(diào)整在Y軸方向上的位置；而且，通過使兩X軸移動器件35(35A、35B) —同沿 X軸方向移動，可以調(diào)整在X軸方向上的位置，由此XY調(diào)整板36可自如沿X-Y平面的方向移動。此外，XY調(diào)整板36如圖6所示，通過使X軸移動器件35A和X軸移動器件35B單獨地在底座部件31上沿X軸方向適當(dāng)移動，從而可以以基準(zhǔn)軸Ba為旋轉(zhuǎn)中心進(jìn)行繞Z軸的旋轉(zhuǎn)姿態(tài)的調(diào)整(參考箭頭Al)。此時，在XY調(diào)整板36上，以基準(zhǔn)軸Ba為基點進(jìn)行旋轉(zhuǎn)會產(chǎn)生如下變動量，該變動量是板側(cè)第2支承點Sb2和移動器件側(cè)第2支承點Ss2、板側(cè)第 3支承點Sb3和移動器件側(cè)第3支承點Ss3、以及板側(cè)第4支承點Sb4和移動器件側(cè)第4支承點Ss4在沿X-Y平面的方向的變動部分，所述變動部分利用第2連結(jié)部52在向第3方向的變位以及第3連結(jié)部53和第4連結(jié)部54在向沿X-Y平面方向的變位來吸收，因而，可以由兩X軸移動器件35(35A、35B)支承。此外，由于采用了在XY調(diào)整板36中僅允許第2連結(jié)部52向第3方向進(jìn)行變位的結(jié)構(gòu)，所以能夠使X軸移動器件35B相對X軸移動器件35A 的位置關(guān)系與XY調(diào)整板36繞基準(zhǔn)軸Ba的旋轉(zhuǎn)姿態(tài)建立一一對應(yīng)。因而，在本實施例中， XY調(diào)整板36作為平面調(diào)整板發(fā)揮作用，兩X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34和兩X軸移動器件35發(fā)揮旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)的作用。在該XY調(diào)整板36中，設(shè)置有3個以包圍中心位置的方式設(shè)置的支承部插通孔 36a、36b、36c和設(shè)置在其中央的中央貫通孔36d。3個支承部插通孔36a、36b、36c與3個Z 軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37相對應(yīng)而設(shè)。從Z軸正向一側(cè)觀看，中央貫通孔36d的尺寸規(guī)定比Y軸移動器件33的貫通孔33a小一些，當(dāng)X軸移動器件35A和X軸移動器件35B位于驅(qū)動控制的基準(zhǔn)位置時，中央貫通孔36d位于貫通孔33a的中心。3個Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37均被設(shè)置在XY調(diào)整板36下側(cè)(背面?zhèn)?(參考圖I以及圖 12)。各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37是為了對工件22 (參考圖I)的在Z軸方向的位置以及相對于Z 軸的傾斜進(jìn)行設(shè)定(調(diào)整)而設(shè)定的。在本實施例中，3個Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37如圖11所示，I 個(單獨描述時稱之為37A)位于X軸移動器件35A的上方，剩余的2個(單獨描述時稱之為37B、37C)位于X軸移動器件35B的上方。所述各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37由于基本結(jié)構(gòu)相等， 因而下面就Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37A的概要結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明而將其它部分省略。Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37A如圖12所示具有驅(qū)動馬達(dá)37a、變換部37b、傳遞軸37c、移動軸承部37d、第I移動部37e、第I引導(dǎo)部37f、第2引導(dǎo)部37g、第2引導(dǎo)保持部37h、第2移動部37i、第3引導(dǎo)部37 j、第3引導(dǎo)保持部37k、球鉸軸371、球面軸承部37m和Z軸移動部 37η。對于驅(qū)動馬達(dá)37a，通過設(shè)置在載放臺30的內(nèi)部的驅(qū)動控制部43 (參考圖14)將外加電流適當(dāng)控制，使其受驅(qū)動旋轉(zhuǎn)。該驅(qū)動馬達(dá)37a中采用步進(jìn)馬達(dá)。驅(qū)動馬達(dá)37a的輸出軸連接到變換部37b上。傳遞軸37c連接到變換部37b上，將驅(qū)動馬達(dá)37a的旋轉(zhuǎn)運動變換成傳遞軸37c在Y軸方向上的進(jìn)退運動。傳遞軸37c呈在Y軸方向延伸的桿狀，并且沿Y軸方向進(jìn)退自如地保持在移動軸承部37d上。在XY調(diào)整板36的背面固定著移動軸承部37d，該移動軸承部37d起到對受來自驅(qū)動馬達(dá)37a輸出的驅(qū)動力作用的傳遞軸37c在 Y軸方向進(jìn)退移動輔助作用。第I移動部37e固定在傳遞軸37c上。第I移動部37e呈上表面沿X-Y平面、下表面相對X-Y平面傾斜的所謂楔形狀，上表面借助第I引導(dǎo)部37f滑動自如地保持。第I引導(dǎo)部37f呈在Y軸方向上延伸的桿狀，固定在XY調(diào)整板36的背面。因而，第I移動部37e 能夠伴隨傳遞軸37c朝Y軸方向上的進(jìn)退移動而朝Y軸方向進(jìn)退移動。第2引導(dǎo)部37g沿著在第I移動部37e的下面而被固定。該第2引導(dǎo)部37g呈桿狀且沿Y-Z平面并斜交到Y(jié)軸上的方向延伸。第2引導(dǎo)部37g保持在第2引導(dǎo)保持部37h 上。第2引導(dǎo)保持部37h以在延伸方向上滑動自如的方式保持第2引導(dǎo)部37g，第2引導(dǎo)保持部37h被固定在第2移動部37i上。第2移動部37i呈柱狀，具有沿Y周方向延伸的臂部分370。臂部分37ο的上面與第I移動部37e的下表面平行。第2引導(dǎo)保持部37h固定在臂部分37ο的上面。在第2移動部37i中，從Y軸的正向一側(cè)觀看，第3引導(dǎo)部37j固定在與臂部分37ο延伸出的一側(cè)相反的一側(cè)。第3引導(dǎo)部37j呈桿狀，沿Z軸方向延伸。第3引導(dǎo)部37j被保持在第3引導(dǎo)保持部37k上。第3引導(dǎo)保持部37k在延伸方向上將第3引導(dǎo)部37j自如滑動地保持，固定在XY調(diào)整板36的伸出壁36e上。伸出壁36e從XY調(diào)整板36的背面，沿Z軸朝向下側(cè)延伸。由此，對于第2移動部37i，若第I移動部37e沿Y軸方向進(jìn)退移動，則經(jīng)過第2 引導(dǎo)部37g以及第2引導(dǎo)保持部37h連接到第I移動部37e上，因而，沿第3引導(dǎo)部37j和第3引導(dǎo)保持部37k的引導(dǎo)方向、即Z軸方向進(jìn)退移動。即，若傳動軸37c前進(jìn)(第I移動部37e與驅(qū)動馬達(dá)37a分離)，則第2移動部37i朝Z軸的負(fù)方向移動；若傳動軸37c后退 (第I移動部37e接近驅(qū)動馬達(dá)37a)，則第2移動部37i朝Z軸的正方向移動。可以實現(xiàn)該運動的是各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37，這是由于各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37是所謂的楔形機(jī)構(gòu)。對于沿Z 軸方向進(jìn)退移動的第2移動部37i以及第3引導(dǎo)部37j、固定在XY調(diào)整板36上而在Z軸方向上的高度取為恒定的伸出壁36e以及第3引導(dǎo)保持部37k，它們的下部都位于X軸移動器件35A和X軸移動器件35B之間的空間內(nèi)。在第2移動部37i的上部設(shè)置有球鉸軸371。該球鉸軸371沿Z軸方向延伸設(shè)置， 延伸端形成球狀(37p)。球鉸軸371的球狀部37p由球面軸承部37m保持。球面軸承部37m 使球鉸軸371的球狀部37p沿它的球面形狀滑動自如地保持。在球面軸承部37m的上方設(shè)置有Z軸移動部37n。Z軸移動部37η呈柱狀。Z軸移動部37η相對第2移動部37i，繞球鉸軸371的球狀部37p的中心位置而自如擺動。因而，在Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37A中，在驅(qū)動馬達(dá)37a適當(dāng)驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的作用下，第I移動部37e向Y軸方向進(jìn)退移動，則伴隨第I移動部37e向Y軸方向的進(jìn)退移動，第2移動部 37 向Z軸方向進(jìn)退移動，從而，相對于經(jīng)移動軸承部37d、第I移動部37e以及第3引導(dǎo)保持部37k而被安裝的XY調(diào)整板36而言，經(jīng)球鉸軸371以及球面軸承部37m而安裝在該第 2移動部37i上的Z軸移動部37η沿Z軸方向進(jìn)退移動。各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37如上所述，分別被設(shè)置在XY調(diào)整板36的各支承部插通孔(36a、 36b,36c)中。具體而言，在圖11中所示，Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37A的Z軸移動部37η插在支承部插通孔36a中，Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37B的Z軸移動部37η插在支承部插通孔36b中，Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37C的Z軸移動部37η插在支承部插通孔36c中。在Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37各自的Z軸移動部 37η上方，設(shè)置有用于支承Z軸調(diào)整板38的調(diào)整板支承部(37q、37r、37s)。因而，在本實施例中，Z軸成為與基準(zhǔn)平面正交的第4方向，Z軸調(diào)整板38作為第4方向調(diào)整板發(fā)揮作用， 各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37作為第4方向驅(qū)動機(jī)構(gòu)發(fā)揮作用。此外，在各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37中，驅(qū)動馬達(dá)37a、變換部37b、傳遞軸37c、移動軸承部37d、第I移動部37e、第I引導(dǎo)部37f、第2 引導(dǎo)部37g、第2引導(dǎo)保持部37h、第2移動部37i、第3引導(dǎo)部37j、第3引導(dǎo)保持部37k、球鉸軸371、球面軸承部37m和Z軸移動部37η，均作為驅(qū)動本體部發(fā)揮作用。作為設(shè)置在Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37Α的Z軸移動部37η上的調(diào)整板支承部37q，呈圓柱狀并被固定在Z軸調(diào)整板38的背面的既定位置。即，由于將調(diào)整板支承部37q設(shè)置在利用球鉸軸371和球面軸承部37m而變得擺動自如的Z軸移動部37η上，所以，調(diào)整板支承部37q 一邊允許Z軸調(diào)整板38相對X-Y平面的傾斜變化，一邊以既定位置來支承Z軸調(diào)整板38。 而且，調(diào)整板支承部37q作為第4方向驅(qū)動機(jī)構(gòu)的第I支承部發(fā)揮作用。在Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37B的Z軸移動部37η上設(shè)置的調(diào)整板支承部37r，具有長導(dǎo)軌， 且導(dǎo)軌由設(shè)置在Z軸調(diào)整板38 (省略圖示)的背面的導(dǎo)軌保持部可滑動地保持，從而連接到Z軸調(diào)整板38的背面。該導(dǎo)軌按照如下方式設(shè)置，即Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37A的調(diào)整板支承部37q(Z軸移動部37η)的軸線位于導(dǎo)軌的延伸方向上，換言之向所述軸線延伸。在利用球鉸軸371和球面軸承部37m而變得擺動自如的Z軸移動部37η上設(shè)置調(diào)整板支承部37r，該調(diào)整板支承部37r —邊允許Z軸調(diào)整板38相對X-Y平面的傾斜變化，一邊以沿導(dǎo)軌的延伸方向自如變位的方式支承Z軸調(diào)整板38的背面。而且，調(diào)整板支承部37r為第4方向驅(qū)動機(jī)構(gòu)的第2支承部發(fā)揮作用。設(shè)置在Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37C的Z軸移動部37η上的調(diào)整板支承部37s，呈圓柱狀并自如滑動地抵接在Z軸調(diào)整板38的背面。即，在利用球鉸軸371和球面軸承部37m而變得擺動自如的Z軸移動部37η上設(shè)置調(diào)整板支承部37s，該調(diào)整板支承部37s —邊允許Z軸調(diào)整板38相對X-Y平面的傾斜變化，一邊自如移動地支承Z軸調(diào)整板38。而且，調(diào)整板支承部 37s為第4方向驅(qū)動機(jī)構(gòu)的第3支承部發(fā)揮作用。如圖2所示，Z軸調(diào)整板38是可以放置對工件22 (參考圖I)進(jìn)行吸附保持的吸板40的板狀部件。Z軸調(diào)整板38是通過同步驅(qū)動各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37來調(diào)整Z軸方向的高度。此外，通過以適當(dāng)方式單獨地驅(qū)動各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37，從而可以調(diào)整Z軸調(diào)整板38相對X-Y平面的傾斜變化。此時，在Z軸調(diào)整板38中，對Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37A的調(diào)整板支承部 37q進(jìn)行固定的部位作為基點，由該調(diào)整板支承部37q、Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37B的調(diào)整板支承部 37r以及Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37C的調(diào)整板支承部37s的高度差異引起的各自的間隔的變動部分， 通過在調(diào)整板支承部37r上的導(dǎo)軌的在延伸方向的變位和在調(diào)整板支承部37s上的變位來吸收，因而，能夠利用各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37進(jìn)行支承。此外，在Z軸調(diào)整板38中，由于采用了僅允許Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37B的調(diào)整板支承部37r沿導(dǎo)軌的延伸方向上改變位置的結(jié)構(gòu)，所以把對Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37A的調(diào)整板支承部37q進(jìn)行固定的部位當(dāng)作基點，可以防止繞Z軸旋轉(zhuǎn)。如圖3所示，在Z軸調(diào)整板38中設(shè)置有工具顯微鏡41和超聲波傳感器42。工具顯微鏡41和超聲波傳感器42固定在省略圖示的中央插通孔38a的內(nèi)周緣部。工具顯微鏡 41從中央插通孔38a起向著下方，在X軸移動器件35A和X軸移動器件35B之間的空間以及XY調(diào)整板36的中央貫通孔36d內(nèi)延伸。工具顯微鏡41是用于對與曝光裝置10的投影光學(xué)系統(tǒng)相對的Z軸調(diào)整板38 (XY調(diào)整板36)的基準(zhǔn)位置進(jìn)行調(diào)整的顯微鏡，在經(jīng)中央插通孔38a而被固定的Z軸調(diào)整板38處于基準(zhǔn)姿態(tài)的狀態(tài)下，工具顯微鏡41的光軸與Z軸一致。所謂“Z軸調(diào)整板38的基準(zhǔn)姿態(tài)”是指成為由各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37 (調(diào)整板支承部 (37q.37r.37s))支承的高度相等的狀態(tài)，也就是說，底座部件31作為基準(zhǔn)沿X_Y平面的狀態(tài)。工具顯微鏡41按照如下方式配置，即工具顯微鏡41的光軸與曝光裝置10的投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸成為一致，從與X-Y平面正交的方向觀看，Z軸調(diào)整板38 (XY調(diào)整板36)的位置作為基準(zhǔn)位置。此外，在工件22已經(jīng)被吸附保持在吸板40上時，工件22規(guī)定沿基準(zhǔn)平面，因而，工具顯微鏡41還可以用于安裝有吸板40的Z軸調(diào)整板38的沿Z軸方向的位置(高度)。超聲波傳感器42從Z軸調(diào)整板38的中央插通孔38a起向著下方，在X軸移動器件35A和X軸移動器件35B之間的空間以及XY調(diào)整板36的中央貫通孔36d內(nèi)延伸。超聲波傳感器42用于判別是否工件22被吸附保持(放置)在吸板40上。超聲波傳感器42具有在Z軸調(diào)整板38成為基準(zhǔn)姿態(tài)的狀態(tài)下與Z軸等同的檢測方向。如圖2以及圖3所示，將升降機(jī)構(gòu)39 (參考圖2以及圖3)設(shè)置在Z軸調(diào)整板38 的下方。升降機(jī)構(gòu)39用于使吸板40上的工件22(參考圖I)沿Z軸方向移動。升降機(jī)構(gòu) 39如圖13所示，具有升降底座39a、多個升降銷39b、上下驅(qū)動部39c、升降銷第I吸引部 39d(參考圖14)和升降銷第2吸引部39e(參考圖14)。升降底座39a是利用上下驅(qū)動部 39c以向Z軸方向自如變動位置的方式保持的框架部件。上下驅(qū)動部39c的圖示被省略， 該上下驅(qū)動部39c的上端面被固定在Z軸調(diào)整板38的背面。因而，對于升降底座39a，并不僅限定于Z軸調(diào)整板38相對X-Y平面的傾斜，從與Z軸調(diào)整板38的板面正交的方向觀看，通過上下驅(qū)動部39c，XY調(diào)整板36相對Z軸調(diào)整板38的位置(Z軸上的位置)是自由改變的。各升降銷39b設(shè)置在所述升降底座39a上。各升降銷39b是從升降底座39a沿Z軸正向一側(cè)伸出的筒狀部件，在上端設(shè)置有升降銷吸附面39f。該升降銷吸附面39f由具有撓性的材料形成，呈上方敞開的碗形狀(參考圖15A等)。下述內(nèi)容圖示省略，各升降銷39b與升降銷第I吸引部39d或者升降銷第2 吸引部39e連接(參考圖14)。所述升降銷第I吸引部39d或者升降銷第2吸引部39e，從對應(yīng)的各升降銷39b的基端部起連通到它們的內(nèi)部空間，從而可以對該空間抽真空以及解除抽真空。在所述各升降銷39b中，在工件22(參考圖I)放置在升降銷吸附面39f上的狀態(tài)下，利用升降銷第I吸引部39d或者升降銷第2吸引部39e對內(nèi)部的空間進(jìn)行抽真空，從而將工件22 (參考圖I)吸附保持。在本實施例中，在升降底座39a上，在內(nèi)部配置2個升降銷39b (也稱為升降銷39bl);在外部配置4個升降銷39b (也稱為升降銷39b2)，升降銷第I吸引部39d與2個升降銷39bI連接，升降銷第2吸引部39e與4個升降銷39b2連接 (參考圖14)。因而，在升降機(jī)構(gòu)39中，能夠分別對2個升降銷39b I和4個升降銷39b2 進(jìn)行抽真空。各升降銷39b能夠穿過設(shè)置在Z軸調(diào)整板38上的銷插通孔38b (參考圖3等)以及設(shè)置在吸板40上的銷插通孔40a(參考圖3以及圖15A等),向著吸板40 (后述載放面 40b)的上方伸出。所述升降機(jī)構(gòu)39由設(shè)置在載置臺30內(nèi)部的驅(qū)動控制部43 (參考圖14) 控制。該驅(qū)動控制部43如圖14所示，可以控制2個Y軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)32、2個X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)34、 各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37、升降機(jī)構(gòu)39、后述的固定吸附機(jī)構(gòu)60以及平面吸附機(jī)構(gòu)70，可以獲得從后述的姿態(tài)獲得機(jī)構(gòu)44發(fā)送的檢測信號。在升降機(jī)構(gòu)39中，在各升降銷39b已經(jīng)向吸板40的上方伸出的狀態(tài)下(參考圖15)，對放置在各升降銷39b的上端面上的工件22 (參考圖I)進(jìn)行吸附保持，此后將升降底座39a降低，把各升降銷39b拉向吸板40 —側(cè)(參考圖16)，從而可以把吸附保持的工件22放置在吸板40 (后述載放面40b)上。如圖15以及圖16所示，吸板40呈長方形板狀，在高精度平坦而成的上表面形成用于放置工件22(參考圖I)的載放面40b。吸板40按照如下方式設(shè)定，即在Z軸調(diào)整板 38成為基準(zhǔn)姿態(tài)的狀態(tài)下，載放面40b沿基準(zhǔn)平面(X-Y平面)。將固定吸附機(jī)構(gòu)60以及平面吸附機(jī)構(gòu)70設(shè)置在吸板40中。
對于固定吸附機(jī)構(gòu)60，在將由升降機(jī)構(gòu)39 (各升降銷39b)吸附保持的工件22 (參考圖I)放置在吸板40的載放面40b上時，不會導(dǎo)致姿態(tài)的變化，將相對載放面40b的位置固定而加以保持。所述固定吸附機(jī)構(gòu)60具有作為固定吸附部的多個凸緣吸附部61。如圖 15A所示，該凸緣吸附部61分別設(shè)置在各吸附凹處40c內(nèi)，所述各吸附凹處40c以使載放面40b下凹的方式設(shè)置在吸板40上。各凸緣吸附部61呈筒狀，上端作為凸緣吸附面61a， 從而能夠通過后述的凸緣吸引部(62 65 (參考圖14))的作用，以凸緣吸附面61a吸附保持工件22 (參考圖I)。所述各凸緣吸附部61在已經(jīng)吸附保持工件22的狀態(tài)下，凸緣吸附面61a(保持位置)能夠沿載放面40b的方向上改變位置，而且，在凸緣吸附面61a(保持位置)從載放面40b沿載放面40b的正交方向(Z軸方向)伸出的狀態(tài)下，可以對工件22吸附保持，并且在已經(jīng)將工件22吸附保持的狀態(tài)下，可使凸緣吸附面61a (保持位置)與載放面40b成為同一水平面。各凸緣吸附部61由具有撓性的樹脂材料形成，并且構(gòu)成沿載放面 40b的正交方向(Z軸方向)延伸的蛇腹?fàn)畹耐膊考?。所述凸緣吸附?1如圖15以及圖16所示，總共設(shè)置有12個，即沿載放面40b的各邊在每一邊各設(shè)置3個，依照各邊分成4組。下面，就每一組描述凸緣吸附部61時，出于方便，如圖17所示將其稱為第11組凸緣吸附部6認(rèn)、618、61(、610(11是指I 4的整數(shù))。 即，第I組凸緣吸附部61A、第2組凸緣吸附部61B、第3組凸緣吸附部61C、第4組凸緣吸附部61D分別具有3個凸緣吸附部61。各凸緣吸附部61與省略圖示的凸緣吸引部(62 65 (參考圖14))相連接。所述凸緣吸引部(62 65)，從與之對應(yīng)的各凸緣吸附部61的基端部起連通到其內(nèi)部的空間，并能夠?qū)υ摽臻g進(jìn)行抽真空以及解除抽真空。在工件22 (參考圖I)被放置在凸緣吸附面61a 的狀態(tài)下，將在各凸緣吸附部61內(nèi)部的空間由凸緣吸引部(62 65)抽成真空，從而可以吸附和保持工件22 (參考圖I)。此外，就各凸緣吸附部61而言，其被做成具有撓性的蛇腹?fàn)畹耐矤畈考蚨?，不僅它的凸緣吸附面61a(保持位置)可以在沿載放面40b的方向上變位，而且可以通過凸緣吸引部(62 65)的吸引而沿Z軸折疊收縮。在本實施例中，如上所述，各凸緣吸附部61通過折疊收縮，可使凸緣吸附面61a (保持位置)與載放面40b位于同一水平面。在本實施例中，如圖14所示，凸緣第I吸引部62連接第I組凸緣吸附部61A，凸緣第2吸引部63連接第2組凸緣吸附部61B，凸緣第3吸引部64連接第3組凸緣吸附部 61C，凸緣第4吸引部65連接第4組凸緣吸附部61D。因而，對于固定吸附機(jī)構(gòu)60，能夠分別將各第11組凸緣吸附部6認(rèn)、618、61(、610(11是指1 4的整數(shù))抽成真空。利用多個凸緣吸附部61 (至少2個)對工件22進(jìn)行吸附和保持，從而可以防止工件22的姿態(tài)的改變。 在此處，所謂“工件22的姿態(tài)”是以工件22相對基準(zhǔn)平面的在X、Y、Z軸方向上的相對傾斜來表示。另外，就各凸緣吸附部61的凸緣吸附面61a(保持位置)沿載放面40b的方向的改變位置來說，只要沿載放面40b的方向的力不作用于受到吸附保持的工件22的自身，則移動方向并不一致且保持彈性，因而不使已經(jīng)受吸附保持的工件22在沿X-Y平面的方向上移動。由此，對于固定吸附機(jī)構(gòu)60，既允許已經(jīng)將工件22吸附保持的各凸緣吸附部61的保持位置在沿載放面40b的方向上改變位置，而且還可以沿與載放面40b正交的方向，向載放面40b —側(cè)移動。因而，固定吸附機(jī)構(gòu)60可以將與載放面40b分離著受到吸附保持的工件 22放置在載放面40b上。
平面吸附機(jī)構(gòu)70使放置在載放面40b上的工件成為平坦?fàn)顟B(tài)，在載放面40b上進(jìn)行吸附和保持。該平面吸附機(jī)構(gòu)70具有多個平面吸附孔71。各平面吸附孔71是沿高度方向?qū)⑽?0貫通的貫通孔(參考圖3)，以分布在載放面40b的整個區(qū)域的方式設(shè)置。在本實施例中，各平面吸附孔71設(shè)置在數(shù)個環(huán)狀槽72上，環(huán)狀槽72設(shè)置在載放面40b上，位于同一環(huán)狀槽72上的平面吸附孔71彼此連通(參考圖15A等)。所述各環(huán)狀槽72按照如下方式設(shè)置，即呈以載放面40b的中心位置為中心的長方形形狀，且從載放面40b的中央附近的位置起到各邊附近的位置，使內(nèi)部的面積分階段地擴(kuò)大。當(dāng)單獨表示各環(huán)狀槽72的情況下，從內(nèi)側(cè)起依序被稱為環(huán)狀槽72A 環(huán)狀槽72G。省略圖示的平面孔吸引部(73 75 (參考圖14))與各平面吸附孔71連接。在吸板40的背面?zhèn)?，平面孔吸引?73 75(參考圖14))與對應(yīng)的各平面吸附孔71連通，并能夠?qū)υ搩?nèi)部的空間進(jìn)行抽真空以及解除抽真空。在各平面吸附孔71中，在將工件22(參考圖I)放置在載放面40b上的狀態(tài)下，利用平面孔吸引部(73 75(參考圖14))將內(nèi)部的空間抽真空，從而可以把工件22(參考圖I)吸附保持在載放面40b上。在本實施例中， 由于各平面吸附孔71設(shè)置在環(huán)狀槽72A 環(huán)狀槽72G上，因而，借助各平面吸附孔71被平面孔吸引部(73 75 (參考圖14))抽真空，環(huán)狀槽72A 環(huán)狀槽72G可以將工件22(參考圖I)吸附保持在載放面40b上。由此，吸板40作為如下吸附臺發(fā)揮作用，即該吸附臺利用固定吸附機(jī)構(gòu)60以及平面吸附機(jī)構(gòu)70，可以將工件22(參考圖I)吸附保持在載放面40b 上。各環(huán)狀槽72如圖18所示，分成內(nèi)側(cè)的環(huán)狀槽72A 環(huán)狀槽72C、中間的環(huán)狀槽 72D 環(huán)狀槽72F和外側(cè)的環(huán)狀槽72G這樣三組(參考附圖標(biāo)記77、78、79)。因而，設(shè)置有與各個組對應(yīng)的3個平面孔吸引部(73、74、75 (參考圖14))，平面第I孔吸引部73連接內(nèi)側(cè)的環(huán)狀槽72A 環(huán)狀槽72C，平面第2孔吸引部74連接中間的環(huán)狀槽72D 環(huán)狀槽72F，平面第3孔吸引部75連接外側(cè)的環(huán)狀槽72G。在吸板40的背面?zhèn)刃纬捎卸鄠€吸引室76 (參考圖19)以用于連接。如圖19所示，各吸引室76按照如下方式形成，即吸板40的背面構(gòu)成凹狀，且由肋部劃分的凹狀部位由省略圖示的密封部件來封堵。所述各吸引室76具有內(nèi)側(cè)的吸引室 76A、環(huán)抱該內(nèi)側(cè)的吸引室76A的吸引室76B和環(huán)抱各邊的4個吸引室76C。圖示省略了如下內(nèi)容，吸引室76A與環(huán)狀槽72A 環(huán)狀槽72C上的各平面吸附孔71 (參考圖18等)連通， 吸引室76B與環(huán)狀槽72D 環(huán)狀槽72F上的各平面吸附孔71 (參考圖18等)連通，4個吸引室76C與環(huán)狀槽72G上的各平面吸附孔71 (參考圖18等)連通。此外，圖示省略了如下內(nèi)容，平面第I孔吸引部73連接吸引室76A，平面第2孔吸引部74連接吸引室76B，平面第 3孔吸引部75連接吸引室76C(參考圖14)。因而，平面吸附機(jī)構(gòu)70如圖18所示，利用平面第I孔吸引部73 (參考圖14)進(jìn)行抽真空，從而，可以是經(jīng)過吸引室76A(參考圖19)以及與之連通的各平面吸附孔71，將環(huán)狀槽72A 環(huán)狀槽72C內(nèi)抽成真空。此時，環(huán)狀槽72A 環(huán)狀槽72C在載放面40b上相互鄰接包圍中心位置，所以，在從載放面40b的中心位置起到環(huán)狀槽72C的周邊位置為止的既定區(qū)域(規(guī)定是第I吸附分區(qū)77)內(nèi)，可以將載放面40b與其上被放置的工件22之間抽成真空。由此，對于平面吸附機(jī)構(gòu)70，通過平面第I孔吸引部73進(jìn)行抽真空，從而可以將工件 22借助其與載放面40b的協(xié)同工作，吸附保持在從載放面40b的中心位置起到環(huán)狀槽72C的周邊位置為止的第I吸附分區(qū)77內(nèi)。同樣，對于平面吸附機(jī)構(gòu)70，通過平面第2孔吸引部74進(jìn)行抽真空，經(jīng)過吸引室76B以及與之連通的各平面吸附孔71，將環(huán)狀槽72D 環(huán)狀槽72F內(nèi)抽成真空，從而，可以將工件22借助其與載放面40b的協(xié)同工作，吸附保持在從第 I吸附分區(qū)77的外部到環(huán)狀槽72F的周邊位置為止的第2吸附分區(qū)78內(nèi)。此外，同樣，對于平面吸附機(jī)構(gòu)70，通過平面第3孔吸引部75進(jìn)行抽真空，經(jīng)過4個吸引室76C以及與之連通的各平面吸附孔71，將環(huán)狀槽72G內(nèi)抽成真空，從而，可以將工件22借助其與載放面 40b的協(xié)同工作，吸附保持在從第2吸附分區(qū)78的外部到環(huán)狀槽72G的周邊位置為止的第 3吸附分區(qū)79內(nèi)。另外，在本實施例中，位于升降機(jī)構(gòu)39、固定吸附機(jī)構(gòu)60以及平面吸附機(jī)構(gòu)70中的各吸引部(39d、39e、62 65、73 75)，圖示被省略，由單個真空泵、與之相互連接的多個配管和設(shè)置在各配管中的閥門機(jī)構(gòu)構(gòu)成，使所述閥門機(jī)構(gòu)適當(dāng)進(jìn)行開閉動作，從而可以對各吸引部進(jìn)行抽真空以及解除抽真空。該平面吸附機(jī)構(gòu)70的動作與升降機(jī)構(gòu)39、固定吸附機(jī)構(gòu)60的動作，均是在設(shè)置在載放臺30的內(nèi)部的驅(qū)動控制部43的控制下進(jìn)行的(參考圖 14)。后面對該控制進(jìn)行詳細(xì)說明。在載放臺30中，對于已放置在向吸板40的上方伸出的各升降銷39b的上端面上的工件22 (參考圖I)進(jìn)行吸附保持，通過升降機(jī)構(gòu)39的動作，將工件22吸附保持在吸板 40上。此后，在載放臺30中，根據(jù)由吸板40吸附保持的工件22的姿態(tài)，使工件22 —邊沿曝光裝置10的投影光學(xué)系統(tǒng)的成像面(基準(zhǔn)平面)形成合適的姿態(tài)，一邊擺放在相對投影光學(xué)系統(tǒng)合適的位置上。具體而言，在底座部件31上，使兩Y軸移動器件33沿Y軸方向、 而且兩X軸移動器件35(35A、35B)沿X軸方向適當(dāng)移動，從而，經(jīng)過吸板40、Z軸調(diào)整板38 以及各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37，對設(shè)置在XY調(diào)整板36上的工件22的沿X-Y平面的位置以及旋轉(zhuǎn)姿態(tài)進(jìn)行調(diào)整。此外，通過適當(dāng)改變利用各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37支承的位置，從而對經(jīng)過吸板 40以及Z軸調(diào)整板38而設(shè)置在XY調(diào)整板36上的工件22的在Z軸方向的位置(高度)以及相對于X-Y平面的傾斜度進(jìn)行調(diào)整。由此，可以將掩模圖形適當(dāng)?shù)仄毓庥诠ぜ?2上。接下來，參考圖I至圖19，對利用升降機(jī)構(gòu)39、固定吸附機(jī)構(gòu)60以及平面吸附機(jī)構(gòu)將工件22以平坦的狀態(tài)被吸附保持在吸板40 (載放面40b)的工序進(jìn)行說明。另外，如上所述，該工序是利用設(shè)置在載放臺30的內(nèi)部的驅(qū)動控制部43來進(jìn)行的(參考圖14)。此外，在圖2、圖3以及圖15至圖18中，為了便于理解結(jié)構(gòu)以及動作，將工件22的圖示省略。放置在載放面30上的工件22 (參考圖I)，其圖示被省略，在由搬送手(搬送臂) 保持的狀態(tài)下被搬送到吸板40。該搬送手是公知的結(jié)構(gòu)，可以以從下方支承工件22的方式吸附保持，能夠一直維持該保持狀態(tài)。可以利用超聲波傳感器42 (參考圖3)檢測是否工件 22已經(jīng)由搬送手(搬送臂)搬送到吸板40上。若工件22在吸板40上被運送，則如圖15所示，在載放臺30上，升降機(jī)構(gòu)39使各升降銷39b向吸板40 (載放面40b)的上方伸出并將各升降銷吸附面39f抵接到工件22的背面。然后，升降機(jī)構(gòu)39借助利用升降銷第I吸引部39d(參考圖14)的抽真空，由2個升降銷39bl吸附保持工件22的中央附近，接著利用升降銷第2吸引部39e(參考圖14)的抽真空，由4個升降銷39b2吸附保持工件22的4個角部附近。由此，升降機(jī)構(gòu)39能夠一直維持著吸附保持在搬送手(未圖示)上的工件22的姿態(tài)，由各升降銷39b (升降銷吸附面 39f)吸附和保持工件22。另外，在本實施例的曝光裝置10中，在將工件22吸附保持在搬送手(未圖示)上的狀態(tài)下，由姿態(tài)獲得機(jī)構(gòu)44獲得工件22的姿態(tài)。此后，如圖16所示， 升降機(jī)構(gòu)39將各升降銷39b拉向吸板40 —側(cè)，并使各唇狀吸附部61的凸緣吸附面61a的背面抵靠受到吸附保持的工件22的背面。在載放臺30中，如圖16以及圖17所示，在固定吸附機(jī)構(gòu)60中，進(jìn)行利用各凸緣吸引部62 65 (參考圖14)的抽真空，并由各唇狀吸附部61 (凸緣吸附面61a)吸附保持工件22。此后，升降機(jī)構(gòu)39將利用升降銷39b引起的吸附保持解除，把各升降銷39b拉進(jìn)吸板40內(nèi)。在固定吸附機(jī)構(gòu)60中，繼續(xù)進(jìn)行利用各凸緣吸引部62 65的抽真空,在一直吸附保持著工件22的狀態(tài)下，將各凸緣吸附部61 —直收縮(折疊)并到達(dá)如下高度處，即 在該高度上凸緣吸附面61a(保持位置)和載放面40b成為同一平面。由此，在固定吸附機(jī)構(gòu)60中，可以是一邊在維持著被吸附保持在升降機(jī)構(gòu)39中的工件22的姿態(tài)下，由各唇狀吸附部61吸附保持，一邊將工件22放置在載放面40b上。另外，盡管固定吸附機(jī)構(gòu)60采取了分組劃分成第η組凸緣吸附部61A、61B、61C、61D(n是指I 4的整數(shù))的結(jié)構(gòu)，然而， 在本實施例中，它們也可一同進(jìn)行所有的吸附動作。此后，在載放臺30中，進(jìn)行依平面吸附機(jī)構(gòu)70而定的分階段吸附動作。平面吸附機(jī)構(gòu)70如圖18所示，在本實施例中，首先，利用平面第I孔吸引部73(參考圖14)的抽真空，在載放面40b的第I吸附分區(qū)77進(jìn)行工件22的吸附保持。由此，在平面吸附機(jī)構(gòu)70 中，可以是一邊在維持著被吸附保持在固定吸附機(jī)構(gòu)60中的工件22的姿態(tài)下，一邊將工件 22吸附在載放面40b的第I吸附分區(qū)77。接下來，在平面吸附機(jī)構(gòu)70中，利用平面第2孔吸引部74(參考圖14)的抽真空，在載放面40b的第2吸附分區(qū)78進(jìn)行工件22的吸附保持。然后，在平面吸附機(jī)構(gòu)70中，利用平面第3孔吸引部75(參考圖14)的抽真空，在載放面40b的第3吸附分區(qū)79進(jìn)行工件22的吸附保持。通過依該平面吸附機(jī)構(gòu)70而定的分階段吸附動作，工件22 —直維持著被吸附保持在固定吸附機(jī)構(gòu)60中的工件22的姿態(tài)，成為平坦的狀態(tài)被吸附在載放面40b (吸板40)上。下面對此內(nèi)容進(jìn)行說明。在一些情況下，工件22在保持在升降機(jī)構(gòu)39 (各升降銷39b)上的狀態(tài)下出現(xiàn)了撓曲。所謂“撓曲”是指無論在整體上還是在局部上，只要平板狀的工件22自身變得彎曲都認(rèn)為是，也可以是指起伏不平或者翹曲。這種撓曲會妨礙曝光裝置10的投影光學(xué)系統(tǒng)對掩模圖形進(jìn)行正常曝光，因而，最好是在已經(jīng)消除了撓曲的狀態(tài)下保持在載放面40b(吸板 40)，即在使工件22呈平坦的狀態(tài)保持在載放面40b (吸板40)上。如上所述，在平面吸附機(jī)構(gòu)70中，最初是將工件22吸附在平坦的載放面40b的第 I吸附分區(qū)77。其原因在于，在工件22被吸附保持在固定吸附機(jī)構(gòu)60上的狀態(tài)下，工件22 由于自身重量而出現(xiàn)彎曲成中央下垂那樣的撓曲。由此，工件22原封不動地維持吸附保持在固定吸附機(jī)構(gòu)60上的姿態(tài)，其中央附近被吸附在載放面40b上而變得平坦。此后，平面吸附機(jī)構(gòu)70 —直維持著在第I吸附分區(qū)77的吸附，將工件22吸附在載放面40b的第2吸附分區(qū)78。于是，在工件22上，以從首先吸附的中央附近向著放射方向的外側(cè)的方式吸附在載放面40b上，因而，使由撓曲引起的工件22的浮起以中央附近為中心向放射方向外側(cè)躲讓，從而把中央附近包圍起來的部位(相當(dāng)于第2吸附分區(qū)78的區(qū)域)被吸附在載放面 40b上而變得平坦。此時，工件22被固定吸附機(jī)構(gòu)60的各凸緣吸附部61吸附保持，然而， 所述各凸緣吸附部61形成具有撓性的蛇腹?fàn)畹耐膊考?，允許凸緣吸附面61a(保持位置) 沿載放面40b的方向上改變位置，因而利用各凸緣吸附部61進(jìn)行吸附保持不會產(chǎn)生問題。此后，平面吸附機(jī)構(gòu)70 —直維持著在第I吸附分區(qū)77以及第2吸附分區(qū)78的吸附，就這樣將工件22吸附在載放面40b的第3吸附分區(qū)79上。于是，工件22從最先受到吸附的中央附近以及其外部起再到放射方向外側(cè)，被吸附在載放面40b上，所以把已經(jīng)受吸附的部位作為中心，使由撓曲引起的工件22的浮起向放射方向外側(cè)躲讓，由此將中央附近包圍起來的部位(相當(dāng)于第3吸附分區(qū)79的區(qū)域)被吸附在載放面40b上而變得平坦。也就是說， 在本實施例中是從載放面40b的中心位置起到放射方向外側(cè)的外周緣部，按照順序進(jìn)行吸附動作。由此，利用吸板40不會使由搬送手(未圖示)吸附保持的工件22的姿態(tài)改變，而可以使工件22保持平坦的狀態(tài)吸附(吸附保持)在載放面40b上。本實施例的載放臺30如上所述，在已經(jīng)由搬送手(未圖示)吸附保持的狀態(tài)下， 由姿態(tài)獲得機(jī)構(gòu)44(參考圖14)獲得工件22的姿態(tài)。如上所述，即使在經(jīng)過升降機(jī)構(gòu)39 以及固定吸附機(jī)構(gòu)60并借助平面吸附機(jī)構(gòu)70成為平坦的狀態(tài)，所獲得的工件22的姿態(tài)不會改變。為此，在載放臺30中，根據(jù)由吸板40吸附保持工件22后的、再由姿態(tài)獲得機(jī)構(gòu) 44 (參考圖14)獲得的工件22的姿態(tài)，一邊在底座部件31上使兩Y軸移動器件33沿Y軸方向、X軸移動器件35(35A、35B)沿X軸方向適當(dāng)移動，一邊改變各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37的支承位置，從而可以使利用曝光裝置10的投影光學(xué)系統(tǒng)對工件22進(jìn)行曝光的部位，以適當(dāng)?shù)臓顟B(tài)位于作為投影光學(xué)系統(tǒng)的成像面的基準(zhǔn)平面上。由此，利用曝光裝置10可以適當(dāng)?shù)貙⒀谀D形曝光在工件22上。像這樣，由于平面吸附機(jī)構(gòu)70在載放面40b從包含中心位置在內(nèi)的第I吸附分區(qū) 77起經(jīng)過第2吸附分區(qū)78朝第3吸附分區(qū)79，指向外緣依次進(jìn)行吸附動作，即使在工件22 產(chǎn)生撓曲的情況下，也可以使由該撓曲引起的工件22的浮起朝向放射方向外側(cè)躲讓，因而可以使工件22吸附到平坦的載放面40b上。從而，作為本發(fā)明所涉及的平臺的吸板40可以使工件22保持平坦的狀態(tài)進(jìn)行吸附保持。此外，在吸板40中，平面吸附機(jī)構(gòu)70通過開設(shè)在載放面40b的多個平面吸附孔71 進(jìn)行吸引(抽真空)使工件22成為平坦的狀態(tài)，因而，可以防止產(chǎn)品精度的降低。之所以這樣做，其原因在于例如在采用了以卡爪將工件22推壓在載放面40b上而成為平坦的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)的情況下，借助卡爪會使工件22的表面擦傷，卡爪的動作使工件22沾染灰塵，從而存在導(dǎo)致產(chǎn)品精度降低的可能性。而且，在吸板40中，平面吸附機(jī)構(gòu)70通過開設(shè)在載放面40b的多個平面吸附孔71 進(jìn)行吸引(抽真空)使工件22成為平坦的狀態(tài)，因而，一旦工件22被放置在載放面40b上， 則可以立刻進(jìn)行利用各平面吸附孔71的吸引(抽真空)，可以縮短掩模圖形形成所需要的時間(加工能力)。之所以這樣做，其原因在于例如在采用了以卡爪將工件22推壓在載放面40b上而成為平坦的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)的情況下，則需要使卡爪向放置在承載面上40b的工件22上伸出和放入，這是導(dǎo)致掩模圖形形成所需要的時間(加工能力)增大的主要因素。由于平面吸附機(jī)構(gòu)70使由撓曲引起的浮起向長方形形狀的第3吸附分區(qū)79的外部躲讓，所以可以分散工件22的浮起，因而，吸板40可以通過固定吸附機(jī)構(gòu)60的各凸緣吸附部61的吸附來一直維持著已經(jīng)被確定的位置以及姿態(tài)，實現(xiàn)平坦化。尤其在本實施例中，由于使工件22的浮起從載放面40b的中心位置向放射方向外側(cè)躲讓，所以可以避免在工件22浮起中誘發(fā)偏向一方，因而，可以通過固定吸附機(jī)構(gòu)60的各凸緣吸附部61的吸附來一直維持著已經(jīng)被確定的位置以及姿態(tài)，更加可靠地維持而實現(xiàn)平坦化。由于在平面吸附機(jī)構(gòu)70上設(shè)置有多個吸附分區(qū)(上述實施例中的77 79)，所以可以按照不同吸附分區(qū)進(jìn)行用于吸附動作的控制，從而，吸板40可以以簡單的控制使工件 22成為平坦的狀態(tài)。由于作為平面吸附機(jī)構(gòu)70的各平面吸附孔71，以分布在載放面40b的全部區(qū)域， 因而，吸板40既可以使工件22更進(jìn)一步保持平坦的狀態(tài)，又可以對工件22吸附保持。由于在平面吸附機(jī)構(gòu)70中，開設(shè)在載放面40b的多個平面吸附孔71由環(huán)狀槽72 連通起來，因而，吸板40不會使各平面孔吸引部(73 75(參考圖14))的負(fù)擔(dān)增加，即可在載放面40b上的廣闊的區(qū)域內(nèi)吸附工件22。由于在平面吸附機(jī)構(gòu)70上設(shè)置有多個環(huán)狀槽72(在上述實施例中是環(huán)狀槽 72A 72G)，因而，吸板40可以以簡單的結(jié)構(gòu)形成具有位于載放面40b上的至少I個平面吸附孔71的多個吸附分區(qū)(在上述實施例中是77 79)。由于在平面吸附機(jī)構(gòu)70上設(shè)置有多個環(huán)狀槽72(在上述實施例中是環(huán)狀槽 72A 72G)，因而，吸板40可以以簡單的結(jié)構(gòu)，從載放面40b的中心位置起朝向放射方向外側(cè)依次進(jìn)行吸附動作。在吸板40中，在以固定吸附機(jī)構(gòu)60中的多個凸緣吸附部61吸附保持工件22的狀態(tài)下，允許凸緣吸附面61a(保持位置)沿載放面40b的方向上改變位置，因而一直維持著工件22的姿態(tài)并通過利用平面吸附機(jī)構(gòu)70采用的分階段吸附動作，從而，可以避免出現(xiàn)影響由撓曲引起的工件22的浮起向放射方向外側(cè)躲讓的情況。在讓凸緣吸附面61a(保持位置)從載放面40b沿載放面40b的正交方向(Z軸方向)伸出的狀態(tài)下，固定吸附機(jī)構(gòu)60的各凸緣吸附部61可以對工件22吸附保持，因而，在與升降機(jī)構(gòu)39之間進(jìn)行工件22的吸附保持狀態(tài)的轉(zhuǎn)移時，吸板40可以防止出現(xiàn)負(fù)荷施加給工件22的情況。由于可以以固定吸附機(jī)構(gòu)60中的各凸緣吸附部61，在讓凸緣吸附面61a(保持位置)從載放面40b沿載放面40b的正交方向(Z軸方向)伸出的狀態(tài)下，對工件22進(jìn)行吸附保持，而且在已經(jīng)將工件22吸附保持的狀態(tài)下，可使凸緣吸附面61a (保持位置)與載放面40b成為同一水平面，因而，吸板40可以原封不動地維持工件22的姿態(tài)并安靜地將工件 22放置在載放面40b上。在固定吸附機(jī)構(gòu)60中由多個凸緣吸附部61吸附保持工件22，因而，吸板40可以防止工件22的姿態(tài)的變化。通過多個凸緣吸附部61，固定吸附機(jī)構(gòu)60對已經(jīng)由升降機(jī)構(gòu)39的各升降銷39b 吸附保持著的狀態(tài)的工件22進(jìn)行吸附保持，因而，吸板40可以在一直維持已由升降機(jī)構(gòu)39 吸附保持的工件22的姿態(tài)，將工件22吸附保持。在吸板40中，平面吸附機(jī)構(gòu)70由多個平面吸附孔71對借助固定吸附機(jī)構(gòu)60的各凸緣吸附部61所吸附保持著的工件22進(jìn)行吸附保持，因而，可以一直維持工件22由固定吸附機(jī)構(gòu)60吸附保持著的姿態(tài)、即工件22被吸附保持在升降機(jī)構(gòu)39上的姿態(tài)，對工件 22進(jìn)行吸附保持。在吸板40中，升降機(jī)構(gòu)39利用多個升降銷39b對借助搬送手(未圖示)吸附保持的工件22進(jìn)行吸附保持，因而，可以一直維持工件22被吸附保持在搬送手的姿態(tài)，對工件22進(jìn)行吸附保持。在吸板40中，固定吸附機(jī)構(gòu)60的各凸緣吸附部61由具有撓性的樹脂材料形成， 并且構(gòu)成沿載放面40b的正交方向(Z軸方向)延伸的蛇腹?fàn)畹耐膊考蚨?，能夠以簡單的結(jié)構(gòu)，在吸附保持工件22的狀態(tài)下，使凸緣吸附面61a (保持位置)沿載放面40b的方向上改變位置；而且，在凸緣吸附面61a(保持位置)從載放面40b沿載放面40b的正交方向 (Z軸方向)伸出的狀態(tài)下，可以對工件22吸附保持；并且還可以在已經(jīng)將工件22吸附保持的狀態(tài)下，使凸緣吸附面61a (保持位置)與載放面40b成為同一水平面。在吸板40中，超聲波傳感器42用于判別是否工件22被吸附保持(放置)在吸板 40的上方，因而，可以不受吸板40上的高度(Z軸上的位置)限制檢測是否有工件22。因為工件22在吸板40上以極高精度處于平坦的狀態(tài)，所以曝光裝置10可以將掩模圖形適當(dāng)?shù)仄毓庥诠ぜ?2上。在曝光裝置10中，利用姿態(tài)獲得機(jī)構(gòu)44(參考圖14)獲得的由搬送手(未圖示) 吸附保持狀態(tài)下的工件22的姿態(tài)，并根據(jù)在由吸板40吸附保持工件22后、再由姿態(tài)獲得機(jī)構(gòu)44獲得的工件22的姿態(tài)，一邊在底座部件31上使兩Y軸移動器件33沿Y軸方向、 X軸移動器件35 (35A、35B)沿X軸方向適當(dāng)移動，一邊改變由各Z軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)37支承的位置，從而可以使利用曝光裝置10的投影光學(xué)系統(tǒng)對工件22進(jìn)行曝光的部位，以適當(dāng)?shù)臓顟B(tài)位于作為投影光學(xué)系統(tǒng)的成像面的基準(zhǔn)平面上，從而可以縮短掩模圖形形成所需要的時間 (加工能力)。因而，本發(fā)明所涉及的吸板40(吸附臺)，不會導(dǎo)致作業(yè)時間的增大和產(chǎn)品精度的降低，而能夠以平坦的狀態(tài)保持工件22。另外，在上述實施例中，對于作為本發(fā)明涉及的吸附臺的一例的吸板40進(jìn)行了說明，然而，并不限定于上述實施例，也可是如下這樣的吸附臺，使工件保持在平坦的載放面上，在該工件上曝光光被成像而使既定的掩模圖形曝光，其特征在于，包括固定吸附機(jī)構(gòu)， 可吸附所述工件而使所述工件相對所述載放面的姿態(tài)固定，平面吸附機(jī)構(gòu)，可吸附所述工件而使所述工件的面與所述載放面抵接，所述平面吸附機(jī)構(gòu)具有多個在所述載放面上開設(shè)的平面吸附孔，從所述載放面上的任意一點起朝向所述載放面的外緣，按順序進(jìn)行依所述平面吸附孔而定的吸附動作。此外，在上述實施例中，盡管采用了平面吸附機(jī)構(gòu)70在載放面40b上劃分為3個吸附分區(qū)77 79而依次進(jìn)行吸附動作的結(jié)構(gòu)，但是并不限定于上述實施例，若從載放面 40b上的任意一點起朝向載放面的外緣，按順序進(jìn)行依各平面吸附孔71而定的吸附動作的話，也可以使由撓曲引起的工件的浮起向外側(cè)躲讓，因而也可不設(shè)置吸附分區(qū)。另外，所謂 “從載放面40b上的任意一點起朝向載放面的外緣”的含義是指如上述實施例中所述的那樣，作為載放面40b取為長方形形狀,若任意一點是載放面40b的中心位置,貝U表不從該中心位置起算的間隔從小指向大(從中心位置起的放射方向)；若任意一點在載放面40b的角部附近，則如圖20中箭頭A2所示，表示指向?qū)蔷€方向；若任意一點在載放面40b的邊部附近，則如圖20中箭頭A3所示，表示指向相向的邊部。而且，在上述實施例中，盡管采用了平面吸附機(jī)構(gòu)70在載放面40b上劃分為3個吸附分區(qū)77 79而按照第I吸附分區(qū)77、第2吸附分區(qū)78、第3吸附分區(qū)79的順序進(jìn)行吸附動作的結(jié)構(gòu)，但是并不限定于上述實施例，若從載放面40b上的任意一點起朝向載放面的外緣，按順序進(jìn)行吸附動作的話，則吸附分區(qū)(不過至少具有I個平面吸附孔71)的個數(shù)以及進(jìn)行吸附動作的方向可以適當(dāng)設(shè)定(例如，根據(jù)工件22中出現(xiàn)的撓曲的趨勢來設(shè)定
在上述實施例中，在平面吸附機(jī)構(gòu)70中各平面吸附孔71由多個環(huán)狀槽72(72A 72G)連通起來，但是并不限定于上述實施例，也可不設(shè)置所述各環(huán)狀槽72。在上述實施例中，在平面吸附機(jī)構(gòu)70中呈同心狀設(shè)置有多個環(huán)狀槽72 (在上述實施例中是72A 72G)，但是并不限定于上述實施例，所述環(huán)狀槽只要使用于形成吸附分區(qū)的多個平面吸附孔71連通，則環(huán)狀槽的形狀以及個數(shù)可適當(dāng)設(shè)定。在上述實施例中，采用的結(jié)構(gòu)是在平面吸附機(jī)構(gòu)70中，按照第I吸附分區(qū)77、第2 吸附分區(qū)78、第3吸附分區(qū)79的順序進(jìn)行吸附動作。但是，也可以采取如下結(jié)構(gòu)，即根據(jù)進(jìn)行過吸附動作的吸附分區(qū)的吸附狀態(tài)，來進(jìn)行接下來的吸附分區(qū)的吸附動作。其可以通過如下方式來實現(xiàn)，例如，在圖14中以雙點劃線表示，設(shè)置可以獲得各吸附分區(qū)的吸附狀態(tài)的吸附狀態(tài)取得機(jī)構(gòu)45，根據(jù)從該吸附狀態(tài)取得機(jī)構(gòu)45發(fā)送的輸出信號、即吸附得是否合適的內(nèi)容，驅(qū)動控制部43(參考圖14)對各平面孔吸引部73、74、75(參考圖14)進(jìn)行適當(dāng)驅(qū)動控制。所述吸附狀態(tài)取得機(jī)構(gòu)45，通過對各平面吸附孔71、各平面孔吸引部73、74、 75或者各吸引室76中的壓力變動進(jìn)行檢測，以簡單的結(jié)構(gòu)達(dá)到實現(xiàn)。在采用這樣的結(jié)構(gòu)的情況下，在先行進(jìn)行吸附動作的吸附分區(qū)中，在工件22被適當(dāng)?shù)匚皆谳d放面40b上以后， 再進(jìn)行在接下來的吸附分區(qū)中的吸附動作，從而可以使工件22平坦?fàn)顟B(tài)尤其合適。在上述實施例中，采用了的結(jié)構(gòu)是在平面吸附機(jī)構(gòu)70中將載放面40b劃分成同心狀的3個吸附分區(qū)77 79，并按照第I吸附分區(qū)77、第2吸附分區(qū)78、第3吸附分區(qū)79 的順序進(jìn)行吸附動作。然而，在以從載放面40b上的任意一點起朝向外緣按順序進(jìn)行吸附動作作為前提下，也可采用如下結(jié)構(gòu)，即把載放面40b劃分成任意吸附分區(qū)，且根據(jù)搬送手(未圖示)、升降機(jī)構(gòu)39或者吸附保持在固定吸附機(jī)構(gòu)60上的工件22的撓曲，適當(dāng)設(shè)定在各吸附分區(qū)進(jìn)行吸附動作的順序。在這種情況下，或可以是至少2個吸附分區(qū)以包含載放面40b在內(nèi)的方式劃分載放面40b，或可以是劃分成即使從載放面40b的中心位置起的間隔相同，在X軸方向以及/或者Y軸方向的位置也不相同的至少2個吸附分區(qū)。此外，可以使用姿態(tài)獲得機(jī)構(gòu)44 (參考圖14)或用于照射光學(xué)系統(tǒng)的銷調(diào)整的光學(xué)系統(tǒng)(未圖示)來檢測工件22的撓曲。在像這樣構(gòu)成的情況下，可以根據(jù)工件22的撓曲的位置和方向性，通過驅(qū)動控制部43(參考圖14)對與各吸附分區(qū)對應(yīng)的平面孔吸引部進(jìn)行適當(dāng)驅(qū)動控制，從而可以實現(xiàn)。在采用這樣的結(jié)構(gòu)的情況下，根據(jù)工件22的撓曲按照順序進(jìn)行各吸附分區(qū)的吸附動作，可以使工件22平坦?fàn)顟B(tài)尤其合適。這樣做與不設(shè)置吸附分區(qū)而按照順序利用多個平面吸附孔71進(jìn)行吸附動作的情況是一樣的。在上述實施例中，盡管在固定吸附機(jī)構(gòu)60中設(shè)置有6個凸緣吸附部61，但是這并不限定于上述實施例，從維持工件22的姿態(tài)的角度考慮，也可以具有至少2個凸緣吸附部 61。在上述實施例中，在固定吸附機(jī)構(gòu)60中，可以一起進(jìn)行利用4個第η組凸緣吸附部61A、61B、61C、61D (η是指I 4的整數(shù))處理的吸附動作，然而，也可根據(jù)實際的工件22 的撓曲和工件22的撓曲趨勢，依次進(jìn)行吸附動作，因此并不限定于上述實施例。在上述實施例中，固定吸附機(jī)構(gòu)60的各凸緣吸附部61由具有撓性的樹脂材料形成，并且構(gòu)成沿載放面40b的正交方向(Z軸方向)延伸的蛇腹?fàn)畹耐膊考欢?，只要能夠?qū)崿F(xiàn)下述內(nèi)容，那么采取其它結(jié)構(gòu)例如在可彈性變形的中空的球體上設(shè)置凸緣吸附面的吸附孔和抽真空用的吸引孔也是可以的，即在吸附保持工件22的狀態(tài)下，可使凸緣吸附面 61a(保持位置)沿載放面40b的方向上改變位置，而且，在讓凸緣吸附面61a(保持位置) 從載放面40b沿載放面40b的正交方向(Z軸方向)伸出的狀態(tài)下，可以對工件22吸附保持，并且在已經(jīng)將工件22吸附保持的狀態(tài)下，可使凸緣吸附面61a(保持位置)與載放面 40b成為同一水平面，因此并不限定于上述實施例。以上基于實施例對本發(fā)明的吸附臺、使用該吸附臺的載放臺以及使用其的曝光裝置進(jìn)行了說明，然而，具體的結(jié)構(gòu)并不限定于所述實施例，只要不脫離本發(fā)明的主旨，允許進(jìn)行設(shè)計的變更或追加等。
權(quán)利要求
1.一種吸附臺，使工件保持在平坦的載放面上，在該工件上曝光光被成像而使既定的掩模圖形曝光，其特征在于，包括固定吸附機(jī)構(gòu)，可吸附所述工件而使所述工件相對所述載放面的姿態(tài)固定，平面吸附機(jī)構(gòu)，可吸附所述工件而使所述工件的面與所述載放面抵接，所述平面吸附機(jī)構(gòu)具有多個在所述載放面上開設(shè)的平面吸附孔，從所述載放面上的任意一點起朝向所述載放面的外緣，按順序進(jìn)行利用所述平面吸附孔的吸附動作。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的吸附臺，其特征在于，所述平面吸附機(jī)構(gòu)在所述載放面上具有多個吸附分區(qū)，在該各吸附分區(qū)內(nèi)具有至少I 個所述平面吸附孔，并且按照所述各吸附分區(qū)單位進(jìn)行所述各平面吸附孔的吸附動作。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的吸附臺，其特征在于，所述固定吸附機(jī)構(gòu)在所述載放面上具有至少2個固定吸附部，該各固定吸附部可以以其上端面吸附到所述工件上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的吸附臺，其特征在于，所述各固定吸附部在已將所述工件吸附保持的狀態(tài)下，所述固定吸附部的上端面可以沿所述載放面的方向改變位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的吸附臺，其特征在于，還具有相對所述載放面沿所述載放面的正交方向自如進(jìn)退的、上端具有吸附面的升降銷，所述各固定吸附部能夠在使所述固定吸附部的上端面從所述載放面起沿所述正交方向伸出的狀態(tài)下，對所述工件吸附保持，而且在吸附保持所述工件的狀態(tài)下，所述固定吸附部的上端面和所述載放面能夠成為同一水平面。
6.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的吸附臺，其特征在于，所述平面吸附機(jī)構(gòu)從所述載放面的中心位置起朝向所述載放面的周緣部，按順序進(jìn)行利用所述各平面吸附孔的吸附動作。
7.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的吸附臺，其特征在于，所述平面吸附機(jī)構(gòu)從所述載放面的緣部起朝向穿過所述載放面的中心位置的方向，按順序進(jìn)行利用所述各平面吸附孔的吸附動作。
8.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的吸附臺，其特征在于，所述平面吸附機(jī)構(gòu)根據(jù)已進(jìn)行吸附動作的所述平面吸附孔的吸附狀態(tài)，進(jìn)行利用接下來的所述平面吸附孔的吸附動作。
9.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的吸附臺，其特征在于，所述平面吸附機(jī)構(gòu)根據(jù)由所述固定吸附機(jī)構(gòu)保持的所述工件的撓曲，對所述各平面吸附孔的吸附動作的順序進(jìn)行設(shè)定。
10.一種載放臺，對所述工件相對所述曝光光進(jìn)行成像的基準(zhǔn)平面而言的位置以及姿態(tài)進(jìn)行控制，其特征在于，采用權(quán)利要求I或2中所述的吸附臺。
11.一種曝光裝置，其特征在于，采用在權(quán)利要求I或2中所述的吸附臺。
全文摘要
本發(fā)明提供一種吸附臺，不會導(dǎo)致作業(yè)時間的增大和產(chǎn)品精度的降低，而能夠以平坦的狀態(tài)保持工件。吸附臺(40)，使工件(22)保持在平坦的載放面(40b)上，在該工件(22)上曝光光被成像而使既定的掩模圖形曝光，其中，包括固定吸附機(jī)構(gòu)(60)，可吸附工件(22)而使工件(22)相對載放面(40b)的姿態(tài)固定；平面吸附機(jī)構(gòu)(70)，可吸附工件(22)而與載放面(40b)面抵接，平面吸附機(jī)構(gòu)(70)具有多個在載放面(40b)上開設(shè)的平面吸附孔(71)，從載放面(40b)上的任意一點到載放面(40b)的外緣，按照順序進(jìn)行利用各平面吸附孔(71)的吸附動作。
文檔編號H01L21/683GK102608872SQ20121001559
公開日2012年7月25日 申請日期2012年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月21日
發(fā)明者吉田茂, 落合亮 申請人:株式會社拓普康