專(zhuān)利名稱(chēng)：用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置和使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
所描述的技術(shù)通常涉及用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置和使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法。
背景技術(shù)：
具有多種優(yōu)點(diǎn)(例如快速響應(yīng)速度、低功耗和寬視角)的有機(jī)發(fā)光顯示器已經(jīng)廣泛地用作電影顯示設(shè)備。此外，可以在低溫環(huán)境中制備有機(jī)發(fā)光顯示器，因?yàn)槠浠诂F(xiàn)有的半導(dǎo)體工藝技術(shù)，所以簡(jiǎn)化了其制備過(guò)程。因此，作為下一代平板顯示器，有機(jī)發(fā)光顯示器已經(jīng)引起了廣泛的關(guān)注。

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明的一個(gè)方面是用于制備可以改進(jìn)處理產(chǎn)率的有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置和使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法。另一方面是用于制備可以減少因氣氛中產(chǎn)生的空氣而導(dǎo)致的缺陷的有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置、以及使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法。另一方面是用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置，包括第一輥，膜卷繞在所述第一輥上，從而被連續(xù)地拉拽；第二輥，設(shè)置為面向所述第一輥，并且所述膜連續(xù)地卷繞在所述第二輥上；多個(gè)腔，設(shè)置在所述第一輥和第二輥之間，所述膜通過(guò)所述多個(gè)腔，并且通過(guò)在所述膜上形成的轉(zhuǎn)移層，在所述多個(gè)腔中在襯底上進(jìn)行激光熱轉(zhuǎn)印(LITI);以及閘單元，安裝在所述多個(gè)腔的至少一個(gè)中，并且設(shè)置在所安裝的腔的膜入口和膜出口的至少一個(gè)處，以在所述膜通過(guò)時(shí)，保持內(nèi)部真空度。多個(gè)腔可以包括第一腔，從第一輥釋放的膜輸入第一腔中，第一腔具有沉積單元，沉積單元用于在膜的一個(gè)表面形成轉(zhuǎn)移層和向外部輸出其上形成有轉(zhuǎn)移層的膜。沉積單元可以包括多個(gè)支撐輥、多個(gè)輔助輥和沉積源，多個(gè)支撐輥支撐膜的另一表面，多個(gè)輔助輥支撐除了膜的一個(gè)表面的沉積區(qū)域之外的區(qū)域，沉積源向膜的一個(gè)表面噴射用于轉(zhuǎn)移層的材料。多個(gè)腔可以包括第二腔，第二腔設(shè)置在第一腔附近，從第一腔輸出的膜輸入第二腔，第二腔具有組合單元，組合單元使膜和襯底緊密地彼此接觸，以使膜的轉(zhuǎn)移層面向襯底，第二腔將彼此緊密地接觸的膜和襯底輸出到外部。組合單元可以包括襯底輸入設(shè)備，襯底輸入設(shè)備使得輸入到第二腔中的襯底接觸膜和多個(gè)上部和下部組合輥，多個(gè)上部和下部組合輥的每個(gè)從上側(cè)和下側(cè)支撐彼此接觸的膜和襯底，其中上部和下部組合輥中的至少一個(gè)具有凹進(jìn)的中央部分。多個(gè)腔可以包括第三腔，第三腔設(shè)置在第二腔附近，從第二腔輸出的彼此接觸的膜和襯底輸入到第三腔中，第三腔具有轉(zhuǎn)移單元，轉(zhuǎn)移單元通過(guò)將激光束照射在膜或襯底上將轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底上，第三腔將彼此緊密接觸的膜和襯底輸出到外部。轉(zhuǎn)移單元可以包括將激光束照射到膜或襯底上的光束照射器、插入到光束照射器和膜或襯底之間的掩模、和對(duì)準(zhǔn)掩模和襯底的對(duì)準(zhǔn)器。多個(gè)腔可以包括第四腔，第四腔設(shè)置在第三腔附近，從第三腔輸出的彼此接觸的膜和襯底輸入到第四腔中，第四腔具有將襯底與膜分離的分離單元，且將襯底輸出到外部。第二輥可以設(shè)置在第四腔中。分離單元可以包括分離輥，分離輥在一個(gè)方向上卷繞膜，以將膜與襯底分離。
襯底可以設(shè)置在膜的上面。閘單元可以包括閘塊對(duì)、多個(gè)墊單元和多個(gè)真空抽吸孔，閘塊對(duì)設(shè)置為彼此面對(duì)并且被驅(qū)動(dòng)為彼此接近和分開(kāi)，多個(gè)墊單元設(shè)置在彼此面向的多個(gè)閘塊的表面上且支撐多個(gè)膜，多個(gè)真空抽吸孔安裝在多個(gè)閘塊和多個(gè)墊中，以分別與多個(gè)墊單元對(duì)應(yīng)。多個(gè)墊單元的每個(gè)可以還包括抽吸單元，抽吸單元具有在膜附近延伸的邊緣，通過(guò)膜的壓力使邊緣彈性形變。另一方面是制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法，包括制備第一輥，膜卷繞所述第一輥；將所述膜從所述第一輥連續(xù)地拉拽，在膜上形成轉(zhuǎn)移層，使所述膜通過(guò)多個(gè)腔，在所述膜通過(guò)多個(gè)腔的過(guò)程中，進(jìn)行激光熱轉(zhuǎn)印(LITI)，以將所述膜上形成的轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底；當(dāng)所述膜通過(guò)所述多個(gè)腔時(shí)，通過(guò)閘單元保持每個(gè)所述腔中的真空度，所述閘單元安裝在所述多個(gè)腔的至少一個(gè)處并且設(shè)置在所安裝的所述多個(gè)腔的每個(gè)的膜入口和膜出口的至少一個(gè)處；以及在與所述第一輥對(duì)應(yīng)設(shè)置的第二輥周?chē)?，連續(xù)地卷繞通過(guò)所述多個(gè)腔的所述膜。多個(gè)腔可以包括第一腔，從第一輥輸出的膜輸入到第一腔中，在第一腔中，轉(zhuǎn)移層形成在膜的一個(gè)表面上。形成轉(zhuǎn)移層的步驟可以包括使用多個(gè)支撐輥支撐膜的另一表面，使用多個(gè)輔助輥支撐除了膜的一個(gè)表面的沉積區(qū)域之外的區(qū)域，并且使用沉積源向膜的一個(gè)表面噴射用于轉(zhuǎn)移層的材料。多個(gè)腔可以包括第二腔，第二腔設(shè)置在第一腔附近，從第一腔輸出的膜輸入第二腔，在第二腔中，膜和襯底緊密地接觸，以使膜的轉(zhuǎn)移層面向襯底。使膜和襯底緊密地彼此接觸的步驟可以包括使用襯底輸入設(shè)備將輸入第二腔的襯底與膜接觸，使用多個(gè)上部和下部組合輥分別從上側(cè)和下側(cè)支撐彼此接觸的膜和襯底，其中上部和下部組合輥中的至少一個(gè)具有凹進(jìn)的中央部分。多個(gè)腔可以包括第三腔，第三腔設(shè)置在第二腔附近，從第二腔輸出的彼此接觸的膜和襯底輸入到第三腔中，在第三腔中通過(guò)將激光束照射在膜或襯底上將轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底上。將轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底上的步驟可以包括對(duì)準(zhǔn)掩模和襯底，以及將激光束照射到膜或襯底上。多個(gè)腔可以包括第四腔，第四腔設(shè)置在第三腔附近，從第三腔輸出的彼此接觸的膜和襯底輸入到第四腔，在第四腔中，襯底與膜分開(kāi)。第二輥可以設(shè)置在第四腔中。在將襯底與膜分離時(shí)，支撐膜的分離輥可在與襯底分離的方向上卷繞膜。襯底可以設(shè)置在膜的上面。閘單元可以包括閘塊對(duì)、多個(gè)墊單元和多個(gè)真空抽吸孔，閘塊對(duì)彼此面對(duì)地設(shè)置，并且被驅(qū)動(dòng)為彼此接近和分離，多個(gè)墊單元設(shè)置在閘塊彼此面對(duì)的表面上且支撐膜，多個(gè)真空抽吸孔安裝在閘塊和墊中，以分別與多個(gè)墊單元對(duì)應(yīng)，并且在彼此接近的閘塊對(duì)將模支撐在多個(gè)墊單元之間的狀態(tài)中，通過(guò)多個(gè)真空抽吸孔使多個(gè)墊單元之間的間隔變成真空。
多個(gè)墊單元中的每個(gè)可以還包括抽吸單元，抽吸單元具有在多個(gè)膜附近延伸的邊緣，通過(guò)膜的壓力使該邊緣彈性地變形。


圖I是示意地示出了根據(jù)實(shí)施方式通過(guò)用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置及使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法而制備的有機(jī)發(fā)光顯示面板的結(jié)構(gòu)的截面圖。圖2是根據(jù)實(shí)施方式設(shè)成輥對(duì)輥形式的供體膜的截面圖。圖3是根據(jù)實(shí)施方式示意地示出了用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置的結(jié)構(gòu)的視圖。圖4是示意地示出了圖3的加料腔的結(jié)構(gòu)的視圖。圖5是示意地示出了圖3的第一腔的結(jié)構(gòu)的視圖。圖6是示意地示出了圖5的沉積單元的結(jié)構(gòu)的視圖。圖7是示意地示出了圖3的第二腔的結(jié)構(gòu)的視圖。圖8是示意地示出了圖7的上部組合輥和下部組合輥的結(jié)構(gòu)的視圖。圖9是示意地示出了圖3的第三腔的結(jié)構(gòu)的視圖。圖10是示意地示出了圖9的掩模、第一相機(jī)單元和第二相機(jī)單元的結(jié)構(gòu)的視圖。圖11是示意地示出了圖3的第四腔的結(jié)構(gòu)的視圖。圖12是示意地示出了閘單元的結(jié)構(gòu)的視圖。圖13是圖12的部分A的放大截面圖。
具體實(shí)施例方式對(duì)有機(jī)發(fā)光層進(jìn)行構(gòu)圖的方法包括激光熱轉(zhuǎn)印(LITI)。LITI是將光源照射出的激光轉(zhuǎn)換成熱能且利用該熱能將圖案形成材料轉(zhuǎn)移到目標(biāo)襯底的方法，從而形成圖案。為了使用該方法，需要在其上形成轉(zhuǎn)移層的供體膜、光源和目標(biāo)襯底。根據(jù)LITI，供體膜覆蓋作為受體的整個(gè)目標(biāo)襯底，并且供體膜和目標(biāo)襯底固定在臺(tái)上。在供體膜上進(jìn)行激光轉(zhuǎn)印，以完成構(gòu)圖。但是，LITI的某些過(guò)程在接近于真空的情況下進(jìn)行，另外一些過(guò)程在大氣壓下進(jìn)行。因此，在供體膜和目標(biāo)襯底相結(jié)合的過(guò)程中，因?yàn)榭諝獗幌拗圃诠w膜和目標(biāo)襯底之間，所以會(huì)產(chǎn)生空洞(void)。因此，產(chǎn)生結(jié)合缺陷。此外，當(dāng)供體膜和目標(biāo)襯底彼此分開(kāi)時(shí)，由于填充供體膜和目標(biāo)襯底之間的間隙的空氣，所以有機(jī)物質(zhì)附著于供體膜。結(jié)果，生產(chǎn)率降低且處理時(shí)間延長(zhǎng)。在整個(gè)說(shuō)明書(shū)中，本文中使用的諸如“第一”和“第二”的術(shù)語(yǔ)僅用于描述各種組成元件，不應(yīng)通過(guò)該術(shù)語(yǔ)限制組成元件。該術(shù)語(yǔ)僅用于將一個(gè)組成元件與另一組成部分相區(qū)分。例如，第一組成元件可以稱(chēng)作第二組成元件，反之亦然。本說(shuō)明書(shū)中使用的術(shù)語(yǔ)僅用于解釋實(shí)施方式。因此，本說(shuō)明書(shū)中單數(shù)的表示包括復(fù)數(shù)的表示，除非上下文中明確的規(guī)定。同時(shí)，諸如“包括”或“包含”的術(shù)語(yǔ)可視為表示某一特征、數(shù)量、步驟、操作、組成元件或其組合，不應(yīng)視為排除一個(gè)或多個(gè)其他特征、數(shù)字、步驟、操作、組成元件或其組合的存在或增加的可能性。將參照附圖詳細(xì)地描述實(shí)施方式。在附圖中，相同的參考標(biāo)記表示相同的元件。 圖I是示意地示出了根據(jù)實(shí)施方式通過(guò)用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置及使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法而制備的有機(jī)發(fā)光顯示面板100的結(jié)構(gòu)的截面圖。參照?qǐng)D1，有機(jī)發(fā)光顯示面板100包括第一襯底101。第一襯底101可以由諸如玻璃或塑料的絕緣襯底形成。也可以使用具有絕緣處理表面的金屬襯底。緩沖層102形成在第一襯底101上。緩沖層102由有機(jī)物質(zhì)或無(wú)機(jī)物質(zhì)形成，或者具有有機(jī)物質(zhì)和無(wú)機(jī)物質(zhì)交替沉積的結(jié)構(gòu)。緩沖層102具有阻擋氧氣和水分的功能，同時(shí)具有防止從第一襯底101產(chǎn)生的水分或雜質(zhì)的散布的功能。具有預(yù)定圖案的半導(dǎo)體活性層103形成在緩沖層102上。半導(dǎo)體活性層103可以由非晶硅或多晶硅形成。半導(dǎo)體活性層103還可以由氧化物半導(dǎo)體形成。例如，半導(dǎo)體活性層103可以是G-I-Z-O層[(In203)a(Ga203)b(Zn0)c層](a、b和c分別是實(shí)數(shù)，并滿足a彡0，b彡0，c>0)。此外，半導(dǎo)體活性層103也可以由有機(jī)半導(dǎo)體材料形成。源極區(qū)104和漏極區(qū)105形成在半導(dǎo)體活性層103上。溝道區(qū)106是源極區(qū)104和漏極區(qū)105之間的區(qū)域。由柵絕緣層107覆蓋半導(dǎo)體活性層103。柵絕緣層107可以由SiO2的單層或SiO2和SiNx的雙層形成。在柵絕緣層107的上表面上的預(yù)定區(qū)域中形成柵電極108。柵電極108連接到施加薄膜晶體管開(kāi)/關(guān)信號(hào)的柵極線(未示出)。柵電極108可以由一種金屬或多種金屬形成，并且可由Mo、MoW、Cr、Al、Al合金、Mg、Al、Ni、W、Au等的單層膜或其組合的多層膜形成。層間絕緣層109形成在柵電極108的上表面上。源電極110經(jīng)由接觸孔電連接到源極區(qū)104。漏電極111電連接到漏極區(qū)105。保護(hù)層112或者鈍化和/或平坦化層112形成在源電極110和漏電極111的上表面上。保護(hù)層112可以由有機(jī)材料(例如壓克力或苯并環(huán)丁烯(BCB))或無(wú)機(jī)材料(例如SiNx)形成，并且可以具有各種變型，例如單層、雙層或多層。有機(jī)發(fā)光裝置114的第一電極115形成在保護(hù)層112的上表面上。像素限定層(PDU113可以由有機(jī)和/或無(wú)機(jī)材料形成，像素限定層113形成為覆蓋第一電極115的邊緣。第一電極115電連接到源電極110和漏電極111之一。有機(jī)層116形成在第一電極115的上表面上。有機(jī)發(fā)光裝置114的第二電極117形成在有機(jī)層116的上表面上。在有機(jī)發(fā)光裝置114的電極中，第一電極115用作陽(yáng)極并且可以由各種傳導(dǎo)材料形成。在本實(shí)施方式中，第一電極115可以以透明電極或反射電極形成。例如，當(dāng)用作透明電極時(shí),第一電極115可以由ITO、IZ0、Zn0或In2O3形成。當(dāng)?shù)谝浑姌O115用作反射電極時(shí)，反射層由Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、或其化合物形成，然后由ITO、IZO、ZnO、或In2O3形成的層形成在反射層上。在有機(jī)發(fā)光裝置114的電極中，第二電極117用作陰極并且可以形成為透明電極或反射電極。當(dāng)?shù)诙姌O117用作透明電極時(shí)，具有低功函數(shù)的金屬(即Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或其化合物)沉積在有機(jī)層116上，以具有較薄的厚度，然后可以使用形成透明電極的材料形成輔助電極層或總線電極線。當(dāng)用作反射電極時(shí)，通過(guò)將Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或其化合物沉積在顯示器的整個(gè)表面上來(lái)形成第二電極117。當(dāng)以透明電極或反射電極形成時(shí)，第一電極115可以具有與每個(gè)子像素的開(kāi)口形狀相對(duì)應(yīng)的形狀。可以通過(guò)將透明電極或反射電極沉積在顯示區(qū)的整個(gè)表面上，以形成第二電極117。第二電極117可以不必沉積在整個(gè)表面上，并且可以以各種圖案形成。第一電 極115和第二電極117可以沉積在相對(duì)的位置處。對(duì)于有機(jī)層116，可以使用小分子或聚合物有機(jī)層。當(dāng)使用小分子有機(jī)材料時(shí)，有機(jī)層116可以包括空穴注入傳輸層(HITL)、發(fā)光層(EML)和電子注入傳輸層(EITL)，它們沉積在單一結(jié)構(gòu)或復(fù)合結(jié)構(gòu)中。此外，對(duì)于有機(jī)層116，可以使用各種可用的有機(jī)材料，例如，酞菁銅(CuPc) N，N’ - 二(萘-I-基)-N，N’ - 二苯基-聯(lián)苯胺(NPB)、三-8-羥基喹啉鋁(Alq3)?？梢酝ㄟ^(guò)諸如真空沉積方法的方法形成這些小分子有機(jī)材料。當(dāng)使用聚合物有機(jī)材料時(shí)，有機(jī)層116可以包括HITL和EML。PEDOT用作HITL，諸如基于聚亞苯基乙烯(PPV)的材料或基于聚芴的材料的聚合物有機(jī)材料用作EML，其可以通過(guò)絲網(wǎng)印刷法或噴墨印刷法形成。有機(jī)層116不限于上述說(shuō)明，其多種實(shí)施方式都可以使用。第二襯底118設(shè)在有機(jī)發(fā)光裝置114上面。第二襯底118可以是玻璃襯底或塑料襯底。代替第二襯底118，可通過(guò)使用覆蓋有機(jī)發(fā)光裝置114的薄膜，將有機(jī)發(fā)光裝置114密封，以不受外部空氣影響。在本說(shuō)明書(shū)中，襯底120是指在形成包括EML的有機(jī)層116之前的狀態(tài)中的襯底。襯底120可以包括在有機(jī)層116中形成HITL的狀態(tài)。圖2是根據(jù)實(shí)施方式以輥對(duì)輥形式設(shè)置的供體膜200的截面圖。參照?qǐng)D2，供體膜200包括基底膜203、設(shè)置在基底膜203上面的轉(zhuǎn)移層205、設(shè)置在基底膜203和轉(zhuǎn)移層205之間的光熱轉(zhuǎn)換層204。在向供體膜200照射激光束時(shí)，光熱轉(zhuǎn)換層204將光能轉(zhuǎn)換成熱能，因此轉(zhuǎn)移層205轉(zhuǎn)移到襯底120。用于實(shí)施特定功能(例如阻擋水分)的功能層可以進(jìn)一步設(shè)置在轉(zhuǎn)移層205的上表面、轉(zhuǎn)移層205和光熱轉(zhuǎn)換層204之間以及光熱轉(zhuǎn)換層204和基底膜203之間的任一處。在本說(shuō)明書(shū)，沒(méi)有形成轉(zhuǎn)移層205的狀態(tài)稱(chēng)為第一膜201，完全形成轉(zhuǎn)移層205的狀態(tài)稱(chēng)為第二膜202。在一個(gè)實(shí)施方式中，當(dāng)供體膜200連續(xù)地通過(guò)多個(gè)腔時(shí)，以激光熱轉(zhuǎn)印(LITI)方法制備有機(jī)發(fā)光顯示面板。圖3是根據(jù)實(shí)施方式示意地示出了用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置的結(jié)構(gòu)的視圖。參照?qǐng)D3，用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置包括連續(xù)排列的第一、第二、第三和第四腔310、320、330和340。加料腔350和卸料腔360分別與第一腔310和第四腔340連通。在一個(gè)實(shí)施方式中，第一至第四腔310-340是獨(dú)立的真空腔。圖4是示意地示出了圖3的加料腔350的結(jié)構(gòu)的視圖。加料腔350與第一腔310連通，且將第一膜201提供到第一腔310。至少一個(gè)第一輥205設(shè)置在加料腔350中。加料腔350可以包括加載鎖定腔，以便于分離和安裝第一輥205。當(dāng)以新的第一輥更換使用中的第一輥205a時(shí)，可以在僅僅是加料腔350進(jìn)行排氣操作之后的產(chǎn)品維護(hù)(PM)操作期間，進(jìn)行該更換。也就是說(shuō)，已處于準(zhǔn)備狀態(tài)的第一輥205b的第一膜201b被結(jié)合到正進(jìn)行操作的第一輥205a的第一膜201a上，然后在切斷點(diǎn)C2處切斷第一膜201a。此后，對(duì)加料腔350進(jìn)行真空泵抽。圖5是示意地示出了圖3的第一腔310的結(jié)構(gòu)的視圖。第一腔310包括安裝在內(nèi)部的沉積單元315。第一膜201從加料腔350通過(guò)第一腔310的一側(cè)進(jìn)入。沉積單元315通過(guò)在第一膜201的一個(gè)表面上形成轉(zhuǎn)移層205，而形成第二膜 202。第二膜202通過(guò)第一腔310的另一側(cè)輸出到第一腔310的外部。沉積單元315包括多個(gè)支撐輥311、多個(gè)輔助輥312和沉積源314。支撐輥311連接到獨(dú)立的驅(qū)動(dòng)源(未示出)，以在一個(gè)方向上轉(zhuǎn)動(dòng)，并且支撐棍311可以支撐第一膜201的下表面。輔助輥312可以支撐第一膜201的上表面。如圖6所示，凹進(jìn)部分313形成在輔助輥312的中央部分，以支撐除第一膜201的上表面的沉積區(qū)域之外的其他區(qū)域，從而可以防止在第一膜201的上表面上形成的轉(zhuǎn)移層205損壞。輔助輥312可以設(shè)置在從沉積源314輸出用于轉(zhuǎn)移層205的材料的區(qū)域的外部。設(shè)置在第一膜201上面的沉積源314向第一膜201的上表面噴射用于轉(zhuǎn)移層205的材料。第一腔310可以處于真空狀態(tài)。雖然在圖5和6所示的實(shí)施方式中，沉積源314設(shè)置在第一膜201的上面并且在第一膜201的上表面上形成轉(zhuǎn)移層205，但是沉積源314可以設(shè)置在第一膜201的下面，以在第一膜201的下表面上形成轉(zhuǎn)移層205。圖7是示意地示出了圖3的第二腔320的結(jié)構(gòu)的視圖。第二腔320設(shè)置在第一腔310附近，從第一腔310輸出的第二膜202通過(guò)第二腔320的一側(cè)輸入到第二腔320中。組合單元328設(shè)置在第二腔320中。組合單元328抵靠襯底120在第二腔320中緊壓第二膜。與襯底120緊密接觸的第二膜202通過(guò)第二腔320的另一側(cè)輸出到外部。組合單元328包括襯底輸入設(shè)備329、多個(gè)上部組合輥326和多個(gè)下部組合輥325。襯底輸入設(shè)備329包括支撐單元321和傳送單元322，支撐單元321用于支撐通過(guò)獨(dú)立的輸入門(mén)輸入到第二腔320中的襯底120，傳送單元322用于從支撐單元321接收襯底120并傳送襯底120。傳送單元322包括多個(gè)驅(qū)動(dòng)輥324和用于接收支撐單元321的接收單元323?？梢杂啥鄠€(gè)腿部形成支撐單元321。在每個(gè)腿部插入到接收單元323時(shí)，將襯底120容納在置于驅(qū)動(dòng)輥324上的第二膜202上。當(dāng)轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)輥324，以向上部組合輥326和下部組合輥325傳送第二膜202時(shí)，上部組合輥326支撐襯底120，下部組合輥325支撐第二膜202。組合輥326和325擠壓插入它們之間的第二膜202和襯底120，以使第二膜202和襯底120彼此緊密地接觸。如圖8所示，每個(gè)上部組合輥326在其中央部分具有凹進(jìn)部分327，凹進(jìn)部分327以稍小于襯底120厚度的距離凹進(jìn)。因此，每個(gè)上部組合輥326的中央部分通過(guò)擠壓襯底120的上表面來(lái)支撐襯底120。
第二腔320可以處于等于或小于第一腔310的真空度的真空狀態(tài)。在圖7和8的實(shí)施方式中，雖然襯底120容納在第二膜202的上表面上，但是襯底120也可以容納在第二膜202的下表面上。圖9是示意地示出了圖3的第三腔330的結(jié)構(gòu)的視圖。參照?qǐng)D9，第三腔330設(shè)置在第二腔320附近，從第二腔320輸出的與襯底120緊密接觸的第二膜202輸入到第三腔330中。用于通過(guò)向第二膜202或襯底120上照射激光以將轉(zhuǎn)移層205轉(zhuǎn)移到襯底120的轉(zhuǎn)移單元336安裝在第三腔330中。轉(zhuǎn)移單元336包括光束照射器335、掩模332和對(duì)準(zhǔn)器337，光束照射器335用于向第二膜202或襯底120上照射激光束，掩模332插入在光束照射器335和第二膜202或襯底120之間，對(duì)準(zhǔn)器337用于對(duì)準(zhǔn)掩模332和襯底120。通過(guò)第三腔330中的多個(gè)驅(qū)動(dòng)輥331，將襯底120和第二膜202傳送到圖9的左偵牝并且將襯底120和第二膜202容納在掩模332上。如圖10所示，在掩模332中形成用于傳輸激光束的圖案。該圖案與在襯底120上形成的像素圖案相對(duì)應(yīng)。
通過(guò)對(duì)準(zhǔn)器337對(duì)準(zhǔn)掩模332和襯底120。首先，第一相機(jī)單元333識(shí)別在襯底120上形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，用于識(shí)別像素起點(diǎn)的第二相機(jī)單元334將掩模332與襯底120對(duì)準(zhǔn)。獨(dú)立的驅(qū)動(dòng)裝置連接到掩模332，從而可以通過(guò)對(duì)掩模332的精細(xì)調(diào)整，使掩模332對(duì)準(zhǔn)襯底120。在掩模332和襯底120對(duì)準(zhǔn)之后，由光束照射器335照射激光束，以使第二膜202上形成的轉(zhuǎn)移層205轉(zhuǎn)移到襯底120。第三腔330可以處于基本等于或小于第二腔320的
真空度的真空狀態(tài)。雖然圖9示出了光束照射器335設(shè)置在第三腔330的內(nèi)部，但光束照射器335也可以設(shè)置在第三腔330的外部，激光束可以通過(guò)聚光透鏡在第二膜202的光熱轉(zhuǎn)換層204處聚焦。圖11是示意地示出了圖3的第四腔340的結(jié)構(gòu)的視圖。參照?qǐng)D11，第四腔340設(shè)置在第三腔330附近，與從第三腔330輸出的襯底120緊密接觸的第二膜202輸入到第四腔340中。用于將第二膜202和襯底120彼此分開(kāi)的分離單元342設(shè)置在第四腔340中。分離單元342包括分離輥341，分離輥341支撐第二膜202且在一個(gè)方向上卷繞第二膜202，以使第二膜202與襯底120分開(kāi)。在圖11的實(shí)施方式中，分離輥341在向下方向上卷繞第二膜202，以連接到第二輥206。為了快速的分離處理，第二輥206可以設(shè)置在第四腔340中，并且可以在PM操作期間更換第二輥206。當(dāng)在如上所述的第三腔330中完成LITI時(shí)，第二膜202的轉(zhuǎn)移層205以與掩模332的圖案相對(duì)應(yīng)的圖案轉(zhuǎn)移到襯底120。在此狀態(tài)中，與掩模332的圖案相對(duì)應(yīng)的第二膜
202(轉(zhuǎn)移層205已從其上除去)通過(guò)分離輥341，以被卷繞在第二輥206上。為了便于分離處理，襯底120可以設(shè)置在上側(cè)中，而第二膜202可以設(shè)置在下側(cè)中。如圖2所示，第二膜202包括光熱轉(zhuǎn)換層204，光熱轉(zhuǎn)換層204將激光束轉(zhuǎn)換為熱能。轉(zhuǎn)移層205由于熱能轉(zhuǎn)移到襯底120。轉(zhuǎn)移層205由于熱能融化且粘至襯底120的表面。熔化和粘著之后，由于重力，第二膜202趨于自然落下。在此狀態(tài)中，當(dāng)分離輥341向第二膜202'施加力，以使第二膜202'面向下時(shí)，第二膜202'自然地與襯底120分開(kāi)。第四腔340可以處于基本等于或小于第三腔330的真空度的真空狀態(tài)。
已經(jīng)通過(guò)處理的襯底120被傳送到如圖3所示的卸料腔360中，并且在隨后的處
理中取出。在一個(gè)實(shí)施方式中，如圖12和13所示，閘單元400安裝在至少一個(gè)腔的膜入口和膜出口中的至少一個(gè)處，以在供體膜200通過(guò)時(shí)，保持內(nèi)部真空度。例如，閘單元400可以安裝在加料腔350和第一腔310之間、第一和第二腔310和320之間、第三和第四腔330和340之間、和/或第四腔340和卸料腔360之間。圖12是示意地示出了安裝在加料腔350和第一腔310之間的閘單元400的實(shí)施例的視圖。圖13是圖12的部分A的放大截面圖。第一閘塊410和第二閘塊420設(shè)置為彼此面對(duì)，并且可以被驅(qū)動(dòng)為彼此接近和分開(kāi)。第一和第二閘塊410和420都可以被驅(qū)動(dòng)，或者閘塊410和420中的一個(gè)可以被固定， 而另一個(gè)被驅(qū)動(dòng)。多個(gè)第一墊單元411形成在第一閘塊410面向第二閘塊420的表面上，多個(gè)第二墊單元421形成在第二閘塊420面向第一閘塊410的表面上。第一墊單元411和第二墊單元421從彼此面對(duì)的第一和第二閘塊410和420的表面突出。當(dāng)驅(qū)動(dòng)第一和第二閘塊410和420以彼此接近時(shí)，也就是說(shuō)實(shí)施關(guān)閉操作時(shí)，第一墊單元411和第二墊單元421彼此接觸。第一真空抽吸孔412形成在第一閘塊410中，并且延伸到每個(gè)第一墊單元411。第二真空抽吸孔422形成在第二閘塊420中，并且延伸到每個(gè)第二墊單元421。每個(gè)第一墊單元411還包括第一抽吸單元413，第一抽吸單元413位于每個(gè)第一墊單元411面對(duì)每個(gè)第二墊單元421的表面上。第一抽吸單元413延伸，以使其邊緣向下彎曲。當(dāng)向下擠壓第一抽吸單元413時(shí)，邊緣向上彈性形變。每個(gè)第二墊單元421還包括第二抽吸單元423，第二抽吸單元423位于每個(gè)第二墊單元421面對(duì)每個(gè)第一墊單元411的表面上。第二抽吸單元423延伸，以使其邊緣向上彎曲。當(dāng)向上擠壓第二抽吸單元423時(shí)，邊緣向下彈性形變。第一抽吸單元413和第二抽吸單元423可以由彈性材料形成，例如橡膠、氨基甲酸酯或硅。在圖13中，第一抽吸單元413示出為大于第二抽吸單元423。但是，第二抽吸單元423也可以形成為大于第一抽吸單元413?？蛇x地，第一抽吸單元413和第二抽吸單元423可以具有相同的尺寸。第一真空抽吸孔412和第二真空孔422可以分別延伸到第一抽吸單元413和第二抽吸單元423。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，當(dāng)閘單元400關(guān)閉時(shí)，第一和第二塊410和420之間的間隔的真空度高于連接的腔，也就是說(shuō)，經(jīng)由第一和第二真空抽吸孔412和422、第一和第二墊單元411和421、特別是第一和第二抽吸單元413和423，第一腔310可以利用真空壓力的差異吸住第一膜201。如上所述，因?yàn)榈谝缓偷诙槲鼏卧?13和423由彈性材料形成，從而彈性地變形并緊密地接觸第一膜201。因此,可以使用閘單元400保持第一腔310的密封。當(dāng)閘單元400打開(kāi)時(shí)，第一和第二閘塊410和420之間的間隔可以減小。在一個(gè)實(shí)施方式中，第一膜201的厚度為約0. Olmm到約1mm，因此除了在與襯底120 —起移動(dòng)的情況下，第一和第二閘塊410和420之間的間隔可以保持為盡可能地窄。因此，可以保持安裝閘單元400的腔的真空度。因此，每當(dāng)在每個(gè)腔中進(jìn)行操作時(shí)，關(guān)閉閘單元400以保持密封。當(dāng)傳遞膜201時(shí)，閘單元400是打開(kāi)的，以使真空損失盡可能地低。接著，將要描述使用根據(jù)實(shí)施方式的有機(jī)發(fā)光顯示面板制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法。首先，如圖I所示，制備襯底120，在襯底120中，第一電極115和像素限定層113形成在保護(hù)層112上。在襯底120中，有機(jī)層116的HITL可以形成在第一電極115和像素限定層113上。制備如圖2所示的第一膜201。第一膜201卷繞在如圖3所示的第一輥205上。
在處理的最初階段，繞第一輥205卷繞的第一膜201可以卷繞在位于第四腔340中的第二輥206上。這旨在以輥對(duì)輥的處理方法進(jìn)行全面處理。獨(dú)立地保持每個(gè)腔的真空度。當(dāng)進(jìn)行處理時(shí)，安裝在相鄰腔之間的閘單元400打開(kāi)，第一膜201從加料腔350移動(dòng)到第一腔310。在第一腔310中，由支撐輥311支撐第一膜201的下表面，由輔助輥312支撐第一膜201的上表面。輔助輥312支撐除了第一膜201的上表面的沉積區(qū)域之外的區(qū)域。沉積源314向第一膜201的上表面噴射用于轉(zhuǎn)移層205的材料。因此,轉(zhuǎn)移層205形成在第一膜201的上表面上，當(dāng)?shù)谝荒?01離開(kāi)第一腔310時(shí)，第一膜201變成第二膜202。在沉積期間，關(guān)閉閘單元400，從而可以保持第一腔310的真空度。當(dāng)加料腔350和第一腔310的真空度基本相同時(shí)，可以打開(kāi)加料腔350和第一腔310之間的閘單元400。當(dāng)?shù)谝磺?10和第二腔320的真空度相同時(shí)，可以打開(kāi)第一腔310和第二腔320之間的閘單元400。接著，打開(kāi)第一和第二腔310和320之間的閘單元400，從第一腔310輸出的第二膜202傳送到第二腔320。傳送之后，關(guān)閉第一和第二腔310和320之間的閘單元400，并且可以在第二腔320中進(jìn)行處理。但是，當(dāng)?shù)谝缓偷诙?10和320的真空度相同時(shí)，可以打開(kāi)兩個(gè)腔310和320之間的閘單元400。襯底120通過(guò)獨(dú)立的入口輸入到第二腔320中。由支撐單元321支撐輸入到第二腔320中的襯底120。當(dāng)支撐部分321下降且插入接收單元323中時(shí)，襯底120容納在置于驅(qū)動(dòng)輥324上的第二膜202上。在此狀態(tài)中，當(dāng)轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)輥324以向上部組合輥326和下部組合輥325傳送第二膜202時(shí)，上部組合輥326支撐襯底120，下部組合輥325支撐第二膜202。上部和下部組合輥326和325擠壓插入它們之間的第二膜202和襯底120，以使第二膜202和襯底120彼此緊密地接觸。因?yàn)樯喜拷M合輥326的中央部分具有凹進(jìn)部分327，如圖8所示，凹進(jìn)部分327以稍微小于襯底120的厚度凹進(jìn)，因此上部組合輥326的中央部分?jǐn)D壓和支撐襯底120的上表面。接著，打開(kāi)第二腔320和第三腔330之間的閘單元400，從第二腔320輸出的第二膜202和襯底120傳送到第三腔330。傳送之后，關(guān)閉第二和第三腔320和330之間的閘單元400，并且可以在第三腔330中進(jìn)行處理。但是，當(dāng)?shù)诙偷谌?20和330的真空度基本相同時(shí)，可以在處理期間打開(kāi)腔320和330之間的閘單元400。
通過(guò)第三腔330中的驅(qū)動(dòng)輥331將襯底120和第二膜202 —起傳送，并且將襯底120和第二膜202容納在掩模332上。第一相機(jī)單元333識(shí)別在襯底120上形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。通過(guò)用于識(shí)別像素的開(kāi)始部分的第二相機(jī)單元334對(duì)準(zhǔn)掩模332和襯底120。掩模332連接到獨(dú)立的驅(qū)動(dòng)裝置，因此可以通過(guò)對(duì)掩模332的精細(xì)調(diào)整使掩模332對(duì)準(zhǔn)襯底120。在掩模332和襯底120對(duì)準(zhǔn)之后，光束照射器335照射激光束，以將形成在第二膜202上的轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底120。接著，打開(kāi)第三腔330和第四腔340之間的閘單元400，從第三腔330輸出的第二 膜202和襯底120傳送到第四腔340。通過(guò)使第三和第四腔330和340的真空度相同，可以打開(kāi)第三腔330和第四腔340之間的閘單元400。在第四腔340中，因?yàn)榉蛛x輥341從第二膜202的下面卷繞將連接到第二輥206的第二膜202，所以第二膜202與襯底120分開(kāi)。如此，為了便于分離處理，第二輥206可以設(shè)置在第四腔340中。如上所述，第二膜202設(shè)置在襯底120下面。上述的輥對(duì)輥處理可以通過(guò)改變每個(gè)腔的位置進(jìn)行各種改變。例如，如圖5所示，可以反轉(zhuǎn)第一膜的輸入方向，以在圖5的沉積處理中，使沉積源314設(shè)置在第一膜201的下面。在這種情況下，第二至第四腔320-340和卸料腔360設(shè)置在第一腔310的上面或下面，從而可以反轉(zhuǎn)從第一腔310輸出的第二膜202的上/下側(cè)和行進(jìn)方向。流向的反轉(zhuǎn)可以出現(xiàn)在第一和第二腔310和320之間、第二和第三腔320和330之間、和/或第三和第四腔330和340之間?？梢栽诘谝磺?10的前端進(jìn)一步設(shè)置測(cè)試區(qū)，也就是說(shuō)，在加料腔350中或在加料腔350和第一腔310之間，從而可以檢測(cè)第一膜201的缺陷。此外，可以在第四腔340中進(jìn)一步設(shè)置測(cè)試區(qū)。因此，已經(jīng)完成LITI處理的第二膜202'的缺陷可以通過(guò)復(fù)查測(cè)試進(jìn)行檢測(cè)，因此可以改進(jìn)第一至第四腔310-340中的每個(gè)處理。根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施方式中的至少一個(gè)，輥對(duì)輥型LITI方法在某些部分中連續(xù)地或非連續(xù)地呈現(xiàn)。因此，可以更加高效地制備有機(jī)發(fā)光顯示面板。此外，因?yàn)榭梢元?dú)立地保持每個(gè)腔的真空度并且在處理期間防止了襯底和/或膜暴露于空氣，因此可以防止由于空氣產(chǎn)生的缺陷(即在供體膜和襯底結(jié)合的過(guò)程中，當(dāng)空氣被限制在供體膜和襯底之間時(shí)形成的空洞)。此外，可以防止根據(jù)上述使生產(chǎn)率降低的問(wèn)題而導(dǎo)致的結(jié)合缺陷。此外，當(dāng)供體膜與襯底彼此分開(kāi)時(shí)，可以防止背面轉(zhuǎn)印現(xiàn)象，在背面轉(zhuǎn)印現(xiàn)象中，當(dāng)供體膜和襯底彼此分開(kāi)時(shí)，由于侵入在供體膜和襯底之間的空氣，有機(jī)物質(zhì)附著于供體膜上。因此，可以改善產(chǎn)率且可以減少處理時(shí)間。雖然已經(jīng)參照附圖描述了上述實(shí)施方式，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，在不背離權(quán)利要求的精神和范圍的情況下，本發(fā)明的形式和細(xì)節(jié)可以進(jìn)行各種改變。
權(quán)利要求
1.一種用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置，包括 第一輥，膜卷繞在所述第一輥上，從而被連續(xù)地拉拽； 第二輥，設(shè)置為面向所述第一輥，并且所述膜連續(xù)地卷繞在所述第二輥上； 多個(gè)腔，設(shè)置在所述第一輥和第二輥之間，所述膜通過(guò)所述多個(gè)腔，并且基于在所述膜上形成的轉(zhuǎn) 移層，在所述多個(gè)腔中在襯底上進(jìn)行激光熱轉(zhuǎn)印；以及 閘單元，安裝在所述多個(gè)腔的至少一個(gè)中，并且設(shè)置在所安裝的腔的膜入口和膜出口的至少一個(gè)處，以在所述膜通過(guò)時(shí)，保持所述腔中的基本真空狀態(tài)。
2.如權(quán)利要求I所述的裝置，其中，所述多個(gè)腔包括第一腔，所述第一腔配置為接收由所述第一輥釋放的所述膜，其中所述第一腔包括沉積單元，所述沉積單元配置為在所述膜的第一表面上形成所述轉(zhuǎn)移層，并且其中所述第一腔配置為輸出其上形成有所述轉(zhuǎn)移層的所述膜。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其中，所述沉積單元包括 多個(gè)支撐輥，配置為支撐所述膜的第二表面，其中所述第二表面與所述第一表面相對(duì)； 多個(gè)輔助輥，支撐除了所述膜的所述第一表面的沉積區(qū)域之外的區(qū)域；以及 沉積源，配置為向所述膜的所述第一表面噴射用于所述轉(zhuǎn)移層的材料。
4.如權(quán)利要求2所述的裝置，其中，所述多個(gè)腔包括第二腔，所述第二腔設(shè)置為鄰近于所述第一腔，并且所述第二腔配置為接收從所述第一腔輸出的所述膜，其中所述第二腔包括組合單元，所述組合單元配置為使所述膜和所述襯底彼此緊密接觸，以使所述膜的所述轉(zhuǎn)移層面向所述襯底，并且其中所述第二腔進(jìn)一步配置為輸出所述膜和襯底。
5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其中，所述組合單元包括i)襯底輸入設(shè)備和ii)多個(gè)上部和下部組合輥，所述襯底輸入設(shè)備配置為使輸入到所述第二腔中的所述襯底接觸所述膜，所述多個(gè)上部和下部組合輥分別從上側(cè)和下側(cè)支撐所述膜和襯底； 并且其中，所述上部和下部組合輥中的至少一個(gè)具有凹進(jìn)的中央部分。
6.如權(quán)利要求4所述的裝置，其中，所述多個(gè)腔包括第三腔，所述第三腔設(shè)置為鄰近于所述第二腔，并且所述第三腔配置為接收從所述第二腔輸出的所述膜和襯底，其中所述第三腔包括轉(zhuǎn)移單元，所述轉(zhuǎn)移單元配置為基于照射在所述膜或所述襯底上的激光束，使所述轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到所述襯底，并且其中所述第三腔進(jìn)一步設(shè)置為輸出所述膜和襯底。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其中，所述轉(zhuǎn)移單元包括i)光束照射器、ii)掩模和iii)對(duì)準(zhǔn)器，所述光束照射器配置為將激光束照射在所述膜或所述襯底上，所述掩模插入在所述光束照射器和所述膜或所述襯底之間，所述對(duì)準(zhǔn)器配置為對(duì)準(zhǔn)所述掩模和所述襯底。
8.如權(quán)利要求6所述的裝置，其中，所述多個(gè)腔包括第四腔，所述第四腔設(shè)置為鄰近于所述第三腔，并且所述第四腔配置為接收從所述第三腔輸出的所述膜和襯底，其中所述第四腔包括分離單元，所述分離單元配置為將所述襯底與所述膜分離，并且其中所述第四腔進(jìn)一步配置為輸出所述襯底。
9.如權(quán)利要求8所述的裝置，其中，所述第二輥設(shè)置在所述第四腔中。
10.如權(quán)利要求8所述的裝置，其中，所述分離單元包括分離輥，所述分離輥在一個(gè)方向上卷繞所述膜，以使所述膜與所述襯底分開(kāi)。
11.如權(quán)利要求I所述的裝置，其中，所述襯底設(shè)置在所述膜的上面。
12.如權(quán)利要求I所述的裝置，其中，所述閘單元包括i)一對(duì)閘塊、ii)多個(gè)墊單元和iii)多個(gè)真空抽吸孔，所述一對(duì)閘塊設(shè)置為彼此面對(duì)并且被驅(qū)動(dòng)為彼此接近和分開(kāi)，所述多個(gè)墊單元設(shè)置在所述閘塊彼此面向的表面上且支撐所述膜，所述多個(gè)真空抽吸孔安裝在所述閘塊和墊中，以分別與所述墊單元對(duì)應(yīng)。
13.如權(quán)利要求12所述的裝置，其中，每個(gè)所述墊單元還包括抽吸單元，所述抽吸單元具有延伸接近所述膜的邊緣，并且其中所述邊緣配置為基于從所述膜施加的壓力彈性形變。
14.一種制備有機(jī)發(fā)光顯不面板的方法,包括 制備第一輥，膜卷繞所述第一輥； 將所述膜從所述第一輥連續(xù)地拉拽，以使所述膜通過(guò)多個(gè)腔，在所述膜通過(guò)多個(gè)腔的過(guò)程中，進(jìn)行激光熱轉(zhuǎn)印，以將所述膜上形成的轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底； 當(dāng)所述膜通過(guò)所述多個(gè)腔時(shí)，通過(guò)閘單元在每個(gè)所述腔中保持基本真空狀態(tài)，所述閘單元安裝在所述多個(gè)腔的至少一個(gè)處并且設(shè)置在所安裝的所述多個(gè)腔的每個(gè)的膜入口和膜出口的至少一個(gè)處；以及 在與所述第一輥對(duì)應(yīng)設(shè)置的第二輥周?chē)?，連續(xù)地卷繞通過(guò)所述多個(gè)腔的所述膜。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述多個(gè)腔包括第一腔，所述第一腔配置為接收由所述第一輥釋放的所述膜，并且其中在所述第一腔中所述轉(zhuǎn)移層形成在所述膜的第一表面上。
16.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，形成所述轉(zhuǎn)移層的步驟包括 經(jīng)由多個(gè)支撐輥支撐所述膜的第二表面，其中所述第二表面與所述第一表面相對(duì)； 經(jīng)由多個(gè)輔助輥支撐除了所述膜的所述第一表面的沉積區(qū)域之外的區(qū)域；以及 向所述膜的所述第一表面沉積用于所述轉(zhuǎn)移層的材料。
17.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述多個(gè)腔包括第二腔，所述第二腔設(shè)置為鄰近于所述第一腔，并且所述第二腔配置為i)接收從所述第一腔輸出的所述膜，ii)使所述膜和所述襯底在所述第二腔中彼此緊密地接觸，以使所述膜的所述轉(zhuǎn)移層面向所述襯底。
18.如權(quán)利要求17所述的方法，其中，使所述膜和所述襯底彼此緊密地接觸的步驟包括 將經(jīng)由襯底輸入設(shè)備將輸入到所述第二腔中的所述襯底與所述膜接觸；以及 經(jīng)由多個(gè)上部和下部組合輥分別從上側(cè)和下側(cè)支撐所述膜和襯底； 其中，所述上部和下部組合輥中的至少一個(gè)具有凹進(jìn)的中央部分。
19.如權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述多個(gè)腔包括第三腔，所述第三腔設(shè)置為鄰近于所述第二腔，并且所述第三腔配置為接收從所述第二腔輸出的所述膜和襯底，其中基于照射在所述第三腔中的所述膜或所述襯底上的激光束，將所述轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到所述襯底。
20.如權(quán)利要求19所述的方法，其中，將所述轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到所述襯底的步驟包括 對(duì)準(zhǔn)掩模和所述襯底；以及 將激光束照射到所述膜或所述襯底上。
21.如權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述多個(gè)腔包括第四腔，所述第四腔設(shè)置為鄰近于所述第三腔，并且所述第四腔配置為接收從所述第三腔輸出的所述膜和襯底，在所述第四腔中，所述襯底與所述膜分開(kāi)。
22.如權(quán)利要求21所述的方法，其中，所述第二輥設(shè)置在所述第四腔中。
23.如權(quán)利要求21所述的方法，其中，將所述膜分開(kāi)的步驟包括經(jīng)由分離輥卷繞所述膜，所述分離輥在一個(gè)方向上支撐所述膜，以將所述膜與所述襯底分開(kāi)。
24.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述襯底設(shè)置在所述膜的上面。
25.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述閘單元包括i)一對(duì)閘塊、ii)多個(gè)墊單元和iii)多個(gè)真空抽吸孔，所述一對(duì)閘塊設(shè)置為彼此面對(duì)并且被驅(qū)動(dòng)為彼此接近和分開(kāi)，所述多個(gè)墊單元設(shè)置在所述閘塊彼此面對(duì)的表面上且支撐所述膜，所述多個(gè)真空抽吸孔安裝在所述閘塊和墊中，以分別與所述墊單元對(duì)應(yīng)，并且所述多個(gè)真空抽吸孔處于彼此接近的所述一對(duì)閘塊將所述膜支撐在所述墊單元之間的狀態(tài)中，以及其中通過(guò)所述真空抽吸孔使所述墊單元之間的間隔基本變成真空。
26.如權(quán)利要求25所述的方法，其中，每個(gè)所述墊單元還包括抽吸單元，所述抽吸單元 具有延伸到所述膜附近的邊緣，通過(guò)從所述膜施加的壓力使所述邊緣彈性形變。
全文摘要
公開(kāi)了一種用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置。在一個(gè)實(shí)施方式中，該裝置包括i)第一輥、ii)第二輥、iii)多個(gè)腔和iv)閘單元，膜卷繞在第一輥上以被連續(xù)地拉拽，第二輥設(shè)置為面對(duì)第一輥且膜連續(xù)地卷繞在第二輥上，多個(gè)腔設(shè)置在第一和第二輥之間并且膜通過(guò)多個(gè)腔，在多個(gè)腔中，通過(guò)在膜上形成轉(zhuǎn)移層，在襯底上進(jìn)行激光熱轉(zhuǎn)印(LITI)，閘單元安裝在至少一個(gè)腔處且設(shè)置在所安裝的腔的膜入口和膜出口的至少一個(gè)處，以在膜通過(guò)期間，在腔中保持基本為真空的狀態(tài)。
文檔編號(hào)H01L51/56GK102969461SQ20121030169
公開(kāi)日2013年3月13日 申請(qǐng)日期2012年8月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月29日
發(fā)明者李炳哲, 樸宰奭, 林在夏, 樸鎮(zhèn)翰, 金東述 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司