專利名稱：基板保持旋轉(zhuǎn)裝置、基板處理裝置以及基板處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及基板保持旋轉(zhuǎn)裝置、具有該基板保持旋轉(zhuǎn)裝置的基板處理裝置以及基板處理方法。作為保持對(duì)象或者處理對(duì)象的基板例如包括半導(dǎo)體晶片、液晶顯示裝置用基板、等離子顯示器用基板、FED (Field Emission Display:場(chǎng)發(fā)射型顯示器)用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太陽能電池用基板等。
背景技術(shù)：
美國(guó)專利號(hào)5601645 (下面稱為“US5601645”)公開了具有如下的旋轉(zhuǎn)式基板處理裝置的基板旋轉(zhuǎn)保持件，即，具有:旋轉(zhuǎn)臺(tái)，通過旋轉(zhuǎn)單元來進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；支撐單元，配設(shè)在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，水平地定位基板，且使基板從旋轉(zhuǎn)臺(tái)表面隔開規(guī)定間隔。在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)置有大小與基板相等的上下移動(dòng)構(gòu)件，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)的處理期間，上下移動(dòng)構(gòu)件配置于接近基板的上升位置。由此，基板的下表面和上下移動(dòng)構(gòu)件的上表面之間的間隔變窄，從而能夠防止在基板處理中產(chǎn)生的霧繞到基板的下表面的情況。在US5601645的圖1 圖3所示的結(jié)構(gòu)中，通過受到隨著旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力來進(jìn)行動(dòng)作的推起機(jī)構(gòu)，使上下移動(dòng)構(gòu)件相對(duì)于旋轉(zhuǎn)臺(tái)上下移動(dòng)。另外，在US5601645的圖7以及圖8中公開了如下結(jié)構(gòu)，即，在上下移動(dòng)構(gòu)件的外周部設(shè)置有散熱片，在上下移動(dòng)構(gòu)件伴隨旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)時(shí)，利用散熱片將周圍的氣體向下方按壓而產(chǎn)生的舉力，舉起上下移動(dòng)構(gòu)件。但是，在這些結(jié)構(gòu)中，在基板的旋轉(zhuǎn)速度低時(shí)，不能獲取充分的離心力或者舉力，因此不能使上下移動(dòng)構(gòu)件充分地接近基板的下表面，結(jié)果，在處理基板時(shí)產(chǎn)生的霧有可能附著于基板的下表面。例如，在一邊使基板旋轉(zhuǎn)一邊用刷子刷洗基板的表面的情況下，基板的旋轉(zhuǎn)速度為IOOrpm左右，無論如何也不能獲取充分的離心力或者舉力。因此，在刷洗基板的上表面時(shí)，處理液的霧有可能進(jìn)入基板的下表面和上下移動(dòng)構(gòu)件之間，從而污染基板的下表面。另一方面，在US5601645的圖9以及圖10中，公開了采用利用氣缸的推起機(jī)構(gòu)使上下移動(dòng)構(gòu)件上下移動(dòng)的結(jié)構(gòu)。另外，在US5601645的圖11以及圖12中公開了如下結(jié)構(gòu)，即，在上下移動(dòng)構(gòu)件上設(shè)置有一端被固定的波紋管，通過對(duì)波紋管內(nèi)進(jìn)行加壓/吸引來使波紋管伸縮，由此使上下移動(dòng)構(gòu)件上下移動(dòng)。但是，這些結(jié)構(gòu)都在包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)以及上下移動(dòng)構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)中組裝用于上下驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)單元，由于需要向該驅(qū)動(dòng)單元供給驅(qū)動(dòng)力，因此結(jié)構(gòu)復(fù)雜。而且，需要從非旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)供給或者吸引驅(qū)動(dòng)用的空氣，因此非旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)和旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)之間存在與空氣供給/吸引路徑摩擦接觸的滑動(dòng)部，從滑動(dòng)部產(chǎn)生的顆粒有可能影響基板處理。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供如下的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置、以及具有這樣的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置的基板處理裝置，即，能夠不依賴基板的旋轉(zhuǎn)速度來保護(hù)基板的下表面，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且能夠抑制因摩擦接觸引起的顆粒的產(chǎn)生。另外，本發(fā)明的其他目的在于提供如下的基板處理方法，即，即使在基板的旋轉(zhuǎn)速度低時(shí)，也能夠可靠地保護(hù)基板的下表面，也不需要復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，且能夠抑制因摩擦接觸引起的顆粒并能夠?qū)崿F(xiàn)高品質(zhì)的處理。本發(fā)明提供的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置，包括:旋轉(zhuǎn)臺(tái)，能夠圍繞沿著鉛垂方向的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元，用于使上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)；保持構(gòu)件，設(shè)置在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，將基板在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的上方保持為水平且使該基板與上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)之間具有間隔；保護(hù)盤，具有與被上述保持構(gòu)件保持的基板同等的大??；磁浮起機(jī)構(gòu)，使上述保護(hù)盤從上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)浮起。上述保護(hù)盤配置于上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)和上述保持構(gòu)件保持的基板保持位置之間，以能夠在下位置和接近位置之間相對(duì)于上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上下移動(dòng)的方式安裝在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，其中，接近位置，位于下位置的上方，是接近被上述保持構(gòu)件保持的基板的下表面的位置。上述磁浮起機(jī)構(gòu)包括第一磁鐵、第二磁鐵、第一支撐構(gòu)件和第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，借助上述第一磁鐵和上述第二磁鐵之間的排斥力使上述保護(hù)盤從上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)浮起，其中，上述第一磁鐵安裝在上述保護(hù)盤上，上述第二磁鐵形成為與上述旋轉(zhuǎn)軸線同軸的環(huán)狀，并對(duì)上述第一磁鐵作用排斥力，上述第一支撐構(gòu)件以非旋轉(zhuǎn)狀態(tài)支撐上述第二磁鐵，上述第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述第一支撐構(gòu)件和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)移動(dòng)，來使上述第一磁鐵和上述第二磁鐵之間的距離變化。根據(jù)該結(jié)構(gòu),在通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)置有保持構(gòu)件,該保持構(gòu)件能夠?qū)⒒逶谛D(zhuǎn)臺(tái)的上方保持為水平且使該基板處于與旋轉(zhuǎn)臺(tái)之間具有間隔的狀態(tài)。在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上安裝有具有與基板同等程度的大小的保護(hù)盤，該保護(hù)盤能夠相對(duì)于旋轉(zhuǎn)臺(tái)上下移動(dòng)。即，保護(hù)盤能夠在下位置和接近位置之間相對(duì)于旋轉(zhuǎn)臺(tái)上下移動(dòng)，其中接近位置位于下位置的上方，是接近被保持構(gòu)件保持的基板的下表面的位置。為了驅(qū)動(dòng)保護(hù)盤，具有磁浮起機(jī)構(gòu)。即，磁浮起機(jī)構(gòu)包括:第一磁鐵，安裝在保護(hù)盤上；第二磁鐵，以非旋轉(zhuǎn)狀態(tài)被第一支撐構(gòu)件支撐；第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，使第一支撐構(gòu)件和旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)移動(dòng)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過使第一支撐構(gòu)件和旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)移動(dòng)，將第二磁鐵配置在充分接近第一磁鐵的下方的位置，借助作用于他們之間的排斥力，使保護(hù)盤從旋轉(zhuǎn)臺(tái)浮起并引導(dǎo)至接近位置，從而能夠保持在該接近位置上。驅(qū)動(dòng)力從非旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)向旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的傳遞，利用作用于非旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)中設(shè)置的第二磁鐵和旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)中設(shè)置的第一磁鐵之間的排斥力，以非接觸狀態(tài)實(shí)現(xiàn)。因此，不僅結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且即使在旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)，相應(yīng)地安裝在保護(hù)盤上的第一磁鐵旋轉(zhuǎn)時(shí)，也能夠借助以非接觸狀態(tài)傳遞的驅(qū)動(dòng)力，將保護(hù)盤保持在接近位置。另外，即使在旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)速度低或者該旋轉(zhuǎn)停止時(shí)，也只要使第一支撐構(gòu)件和旋轉(zhuǎn)臺(tái)接近，受到來自第二磁鐵的排斥力的第一磁鐵就能夠使保護(hù)盤從旋轉(zhuǎn)臺(tái)的表面浮起，因此能夠使保護(hù)盤充分地接近基板的下表面。這樣，根據(jù)本發(fā)明的結(jié)構(gòu)，能夠提供如下的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置，S卩，不依賴基板的旋轉(zhuǎn)速度而可靠地保護(hù)基板的下表面，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，且能夠抑制因旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的摩擦接觸引起的顆粒。在保護(hù)盤處于下位置時(shí)，在保護(hù)盤和基板的下表面之間形成空間，因此利用該空間，能夠?qū)⒒鍙幕灏徇\(yùn)機(jī)械手交至保持構(gòu)件，或者基板搬運(yùn)機(jī)械手從保持構(gòu)件接受基板。優(yōu)選上述第二磁鐵具有形成為與上述旋轉(zhuǎn)軸線同軸的環(huán)狀的磁極。更具體地，優(yōu)選第二磁鐵具有與上述第一磁鐵描繪的旋轉(zhuǎn)軌跡對(duì)應(yīng)的環(huán)狀的磁極。由此，在第一磁鐵與旋轉(zhuǎn)臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)時(shí)，第一磁鐵和第二磁鐵之間的排斥力持續(xù)且穩(wěn)定地作用，因此能夠?qū)⒈Ｗo(hù)盤可靠地保持在接近位置。上述第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)可以是使上述第一支撐構(gòu)件上下移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，也可以是使上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上下移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，還可以是使上述第一支撐構(gòu)件以及上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)兩者上下移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。另外，第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)不必一定是使第一支撐構(gòu)件和旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)上下移動(dòng)的機(jī)構(gòu),可以通過使第二磁鐵從與旋轉(zhuǎn)軸線交叉的方向接近第一磁鐵,在第一磁鐵和第二磁鐵之間作用排斥力。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，上述保持構(gòu)件包括在保持基板的保持位置和從上述保持位置退避的退避位置之間移位的可動(dòng)保持構(gòu)件，上述基板保持旋轉(zhuǎn)裝置還包括磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括第一磁性體、第二磁性體、第二支撐構(gòu)件、第二相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，借助上述第一磁性體和上述第二磁性體之間的磁力，將上述可動(dòng)保持構(gòu)件保持在上述保持位置，其中，上述第一磁性體安裝在上述可動(dòng)保持構(gòu)件上，上述第二磁性體形成為與上述旋轉(zhuǎn)軸線同軸的環(huán)狀，并與上述第一磁性體之間產(chǎn)生磁力，上述第二支撐構(gòu)件以非旋轉(zhuǎn)狀態(tài)支撐上述第二磁性體，上述第二相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述第二支撐構(gòu)件和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)移動(dòng)，來使上述第一磁性體和上述第二磁性體之間的距離變化。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，利用安裝在可動(dòng)保持構(gòu)件上的第一磁性體和以非旋轉(zhuǎn)狀態(tài)被第二支撐構(gòu)件支撐的第二磁性體之間的磁力，能夠以非接觸狀態(tài)將可動(dòng)保持構(gòu)件保持在保持位置。因此，用于將可動(dòng)保持構(gòu)件保持在保持位置的結(jié)構(gòu)也簡(jiǎn)單。而且，用于將可動(dòng)保持構(gòu)件保持在保持位置的驅(qū)動(dòng)力的傳遞，也能夠通過磁力以非接觸狀態(tài)傳遞，因此能夠進(jìn)一步抑制因旋轉(zhuǎn)時(shí)的摩擦接觸引起的顆粒的產(chǎn)生。第二磁性體形成為與旋轉(zhuǎn)軸線同軸的環(huán)狀，因此在第一磁性體與旋轉(zhuǎn)臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)時(shí)，在任意的旋轉(zhuǎn)位置，都能夠在第一磁性體以及第二磁性體之間作用穩(wěn)定的磁力，因此能夠?qū)⒖蓜?dòng)保持構(gòu)件可靠地保持在保持位置，由此能夠可靠地保持基板。優(yōu)選上述第一磁性體以及第二磁性體中的某一磁性體或者兩者為磁鐵。上述第二相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)可以是使上述第二支撐構(gòu)件上下移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，也可以是使上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上下移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，也可以是使上述第二支撐構(gòu)件以及上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)兩者上下移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。另外，上述第二相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)不限于使第二支撐構(gòu)件和/或旋轉(zhuǎn)臺(tái)上下移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，例如也可以是如下的結(jié)構(gòu)，即，使第二支撐構(gòu)件沿著與上述旋轉(zhuǎn)軸線交叉的方向移動(dòng)，由此使上述第二磁性體接近/遠(yuǎn)離上述第一磁性體。在本發(fā)明的一實(shí)施方式中，上述第二磁性體為上述第二磁鐵，上述第二支撐構(gòu)件為上述第一支撐構(gòu)件，上述第二相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)為上述第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，上述磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以及上述磁浮起機(jī)構(gòu)共有上述第二磁鐵、上述第一支撐構(gòu)件以及上述第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，在上述第二磁鐵處于規(guī)定位置時(shí)，借助該第二磁鐵和上述第一磁鐵之間的排斥力使上述保護(hù)盤保持在上述接近位置，并且借助作用于該第二磁鐵和上述第一磁性體之間的磁力使上述可動(dòng)保持構(gòu)件保持在上述保持位置。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以及磁浮起機(jī)構(gòu)共有上述第二磁鐵、上述第一支撐構(gòu)件以及上述第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，通過由第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)和上述第一支撐構(gòu)件相對(duì)移動(dòng)，能夠驅(qū)動(dòng)保護(hù)盤，并且驅(qū)動(dòng)可動(dòng)保持構(gòu)件。由此，能夠使結(jié)構(gòu)進(jìn)一步簡(jiǎn)單。本發(fā)明的一實(shí)施方式的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置還包括限制構(gòu)件，在上述接近位置中，該限制構(gòu)件限制上述保護(hù)盤相對(duì)于上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)向上方的相對(duì)移動(dòng)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠通過限制構(gòu)件限制借助磁力浮起的保護(hù)盤向上方的相對(duì)移動(dòng)，因此能夠?qū)⒈Ｗo(hù)盤可靠地配置在接近基板的下表面的接近位置。尤其是，在上述接近位置為，保護(hù)盤不與基板的下表面接觸的位置，且從基板的下表面隔開微小的間隔的位置的情況下，能夠保持該微小的間隔。本發(fā)明的一實(shí)施方式的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置還還包括引導(dǎo)機(jī)構(gòu)，該引導(dǎo)機(jī)構(gòu)設(shè)置在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，用于引導(dǎo)上述保護(hù)盤的相對(duì)上下移動(dòng)。本發(fā)明的一實(shí)施方式的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置還還包括側(cè)方覆蓋構(gòu)件，該側(cè)方覆蓋構(gòu)件安裝在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，用于從側(cè)方覆蓋被上述保持構(gòu)件保持的基板和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)之間的空間。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，從側(cè)方覆蓋旋轉(zhuǎn)臺(tái)和基板之間的空間，因此能夠抑制側(cè)方的環(huán)境氣體卷入該空間內(nèi)。由此，能夠使旋轉(zhuǎn)中的基板周圍的氣流穩(wěn)定。優(yōu)選上述側(cè)方覆蓋構(gòu)件固定在上述保護(hù)盤上。在該情況下，優(yōu)選，在上述保護(hù)盤配置在上述接近位置的狀態(tài)下，由上述側(cè)方覆蓋構(gòu)件覆蓋保護(hù)盤和旋轉(zhuǎn)臺(tái)之間的空間。并且，優(yōu)選在保護(hù)盤處于下位置時(shí)，保護(hù)盤和基板的下表面之間的空間的側(cè)方開放，該空間能夠用于基板的搬入和搬出。本發(fā)明另外提供基板處理裝置，包括:具有如上所述的特征的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置；處理液供給單元，用于向被上述基板保持旋轉(zhuǎn)裝置保持的基板的上表面供給處理液。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠在用保護(hù)盤覆蓋基板的下表面的狀態(tài)下，向基板的上表面供給處理液，通過該處理液處理基板的上表面。因此，即使產(chǎn)生處理液的霧，也能夠抑制該霧到達(dá)基板的下表面。結(jié)果，不必向基板的下表面供給處理液，且使基板的下表面保持清潔的狀態(tài)，能夠選擇性地對(duì)基板的上表面進(jìn)行處理。更具體地，將基板的下表面保持為干燥狀態(tài)，并且不會(huì)導(dǎo)致該基板的下表面汚染，能夠利用處理液對(duì)基板的上表面進(jìn)行處理。如上所述，基板保持旋轉(zhuǎn)裝置在基板停止旋轉(zhuǎn)時(shí)或者低速旋轉(zhuǎn)時(shí)，也能夠?qū)⒈Ｗo(hù)盤保持在接近位置，來可靠地保護(hù)基板的下表面，而且結(jié)構(gòu)也簡(jiǎn)單，因旋轉(zhuǎn)時(shí)的滑動(dòng)產(chǎn)生顆粒的情況也少。由此，不需要復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，能夠抑制霧附著于基板的下表面，且能夠在顆粒產(chǎn)生少的清潔的環(huán)境中，利用處理液選擇性地處理基板的上表面。本發(fā)明的一實(shí)施方式的基板處理裝置還包括接受構(gòu)件，從上述處理液供給單元向被上述基板保持旋轉(zhuǎn)裝置保持的基板供給處理液，上述接受構(gòu)件用于接收從上述基板的表面向該基板的外側(cè)排出的處理液，在上述接受構(gòu)件上固定有上述第一支撐構(gòu)件，上述第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述接受構(gòu)件和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)移動(dòng)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠用于使接受從基板的表面向基板的外側(cè)排出的處理液的接受構(gòu)件和旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，兼用作用于移動(dòng)支撐第二磁鐵的第一支撐構(gòu)件的機(jī)構(gòu)。由此，能夠使結(jié)構(gòu)進(jìn)一步簡(jiǎn)單。具體地，在將上述接受構(gòu)件和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的相對(duì)位置，設(shè)定為通過接受構(gòu)件接受從基板的表面排出的處理液的處理位置時(shí)，優(yōu)選地，借助上述第一以及第二磁鐵之間的排斥力，將上述保護(hù)盤保持在上述接近位置。另外，優(yōu)選在該處理位置，上述第一磁性體受到來自上述第二磁鐵的磁力，上述可動(dòng)保持構(gòu)件保持在上述保持位置。本發(fā)明的一實(shí)施方式的基板處理裝置還包括非活性氣體供給單元，該非活性氣體供給單元向被上述基板保持旋轉(zhuǎn)裝置保持并進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板和配置在上述接近位置的上述保護(hù)盤之間供給非活性氣體。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，向保護(hù)盤和基板之間供給非活性氣體，因此能夠進(jìn)一步有效地抑制處理液霧附著于基板的下表面。在本發(fā)明的一實(shí)施方式中，上述保護(hù)盤在上表面上具有節(jié)流部，該節(jié)流部在被上述保持構(gòu)件保持的基板的邊緣部使上述非活性氣體的流路縮小。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，非活性氣體的流路在基板的邊緣部縮小，因此在基板的周圍的非活性氣體的流速變大。由此，能夠進(jìn)一步有效地抑制處理液霧進(jìn)入保護(hù)盤和基板的下表面之間的空間的情況。在本發(fā)明的一實(shí)施方式中，上述非活性氣體供給單元包括非活性氣體噴嘴，該非活性氣體噴嘴從上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中心朝向被上述保持構(gòu)件保持的基板的周緣部呈放射狀吹出非活性氣體。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過從非活性氣體噴嘴呈放射狀吹出非活性氣體，能夠在保護(hù)盤和基板的下表面之間的空間，形成從旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中心朝向基板的周緣部的非活性氣體的穩(wěn)定的氣流。由此，能夠進(jìn)一步有效地抑制處理液霧進(jìn)入該空間。本發(fā)明另外提供一種基板處理方法，包括:保持工序，通過在能夠圍繞沿著鉛垂方向的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)置的保持構(gòu)件，將基板保持為水平；旋轉(zhuǎn)工序，通過使上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)，使被上述保持構(gòu)件保持的上述基板旋轉(zhuǎn)；下表面覆蓋工序，通過使環(huán)狀的第二磁鐵和安裝在保護(hù)盤上的第一磁鐵接近，借助上述第一磁鐵以及上述第二磁鐵之間的排斥力，使上述保護(hù)盤相對(duì)于上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)浮起到接近上述基板的下表面的接近位置來覆蓋上述基板的下表面，其中，上述保護(hù)盤以能夠相對(duì)上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上下移動(dòng)的方式安裝在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，并且具有與上述基板同等程度的大小，上述第二磁鐵以非旋轉(zhuǎn)狀態(tài)設(shè)置成與上述旋轉(zhuǎn)軸線同軸；處理液供給工序，與上述保持工序以及上述旋轉(zhuǎn)工序并行進(jìn)行，向下表面被上述保護(hù)盤覆蓋的上述基板的上表面供給處理液。根據(jù)該方法，利用安裝在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的保護(hù)盤覆蓋基板的下表面，并使一邊基板旋轉(zhuǎn)，一邊向基板的上表面供給處理液，能夠通過該處理液處理基板的上表面。借助作用于安裝在該保護(hù)盤上的第一磁鐵和以非旋轉(zhuǎn)狀態(tài)設(shè)置的環(huán)狀的第二磁鐵之間的排斥力，將保護(hù)盤以浮起的狀態(tài)保持在接近基板的下表面的接近位置。因此，即使在基板停止或基板的旋轉(zhuǎn)為低速時(shí)，也能夠使保護(hù)盤可靠地接近基板的下表面，從而能夠可靠地抑制處理液霧附著于該基板的下表面。而且，由于是利用第一磁鐵以及第二磁鐵之間的排斥力浮起并保持保護(hù)盤的結(jié)構(gòu)，因此不需要在旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)中設(shè)置用于使保護(hù)盤上下移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)單元。因此，不必使結(jié)構(gòu)復(fù)雜，能夠在需要時(shí)使保護(hù)盤接近基板的下表面。另外，第一磁鐵以及第二磁鐵以非接觸狀態(tài)傳遞排斥力，因此也能夠抑制因旋轉(zhuǎn)時(shí)的摩擦接觸引起的顆粒的產(chǎn)生。在本發(fā)明的一實(shí)施方式中，上述保持構(gòu)件包括在保持基板的保持位置和從上述保持位置退避的退避位置之間移位的可動(dòng)保持構(gòu)件，上述保持工序包括對(duì)安裝在上述可動(dòng)保持構(gòu)件上的磁性體作用磁力來使上述可動(dòng)保持構(gòu)件保持在上述保持位置的工序。根據(jù)該方法，利用磁力將設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的可動(dòng)保持構(gòu)件保持在保持位置，因此能夠以非接觸狀態(tài)向可動(dòng)保持構(gòu)件傳遞保持力。因此，能夠用更簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)選擇性地處理基板的上表面，且能夠進(jìn)一步抑制因旋轉(zhuǎn)時(shí)的摩擦接觸引起的顆粒的產(chǎn)生。在本發(fā)明的一實(shí)施方式中，上述下表面覆蓋工序?yàn)?，通過將上述第二磁鐵配置在規(guī)定位置，借助該第二磁鐵和上述第一磁鐵之間的排斥力使上述保護(hù)盤浮起并保持在上述接近位置的工序，上述保持工序?yàn)?，通過將上述第二磁鐵配置在上述規(guī)定位置，借助作用于上述第二磁鐵和上述磁性體之間的磁力將上述可動(dòng)保持構(gòu)件保持在上述保持位置的工序。
在該方法中，能夠借助第一磁鐵以及第二磁鐵之間的排斥力將保護(hù)盤保持在接近位置，且能夠借助第二磁鐵和磁性體之間的磁力將可動(dòng)保持構(gòu)件保持在保持位置。也就是說，能夠共有用于使保護(hù)盤上下移動(dòng)以及用于驅(qū)動(dòng)可動(dòng)保持構(gòu)件的結(jié)構(gòu)，因此能夠以更簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)，防止處理液霧附著于基板下表面，并選擇性地對(duì)基板的上表面進(jìn)行處理。在本發(fā)明的一實(shí)施方式的方法中，還包括通過限制構(gòu)件在上述接近位置限制上述保護(hù)盤相對(duì)于上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)向上方的相對(duì)移動(dòng)的工序。由此，能夠?qū)⒈Ｗo(hù)盤可靠地配置在接近位置，因此能夠正確地規(guī)定保護(hù)盤和基板的下表面的相對(duì)位置關(guān)系(尤其是它們之間的間隔)。在本發(fā)明的一實(shí)施方式的方法中，還包括利用接受構(gòu)件接受進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的上述基板向外側(cè)排出的處理液的工序，上述接受構(gòu)件支撐上述第二磁鐵，上述下表面覆蓋工序包括使上述接受構(gòu)件和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)接近的工序。根據(jù)該方法，當(dāng)使用于接受基板向外側(cè)排出的處理液的接受構(gòu)件和旋轉(zhuǎn)臺(tái)接近時(shí)，能夠借助第一以及第二磁鐵之間的排斥力使保護(hù)盤浮起保持在接近位置。也就是說，能夠?qū)⒂糜谑菇邮軜?gòu)件和旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)移動(dòng)的結(jié)構(gòu)，兼用作驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)盤的結(jié)構(gòu)。結(jié)果，能夠使結(jié)構(gòu)進(jìn)一步簡(jiǎn)單。優(yōu)選當(dāng)使上述接受構(gòu)件以及上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)接近時(shí)，來自上述第二磁鐵的磁力作用于上述第一磁性體，上述可動(dòng)保持構(gòu)件移動(dòng)并保持在上述保持位置。由此，能夠?qū)⒂糜谑菇邮軜?gòu)件和旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)移動(dòng)的結(jié)構(gòu)，將用作驅(qū)動(dòng)可動(dòng)保持構(gòu)件的結(jié)構(gòu)，因此能夠使結(jié)構(gòu)進(jìn)一步簡(jiǎn)單。在本發(fā)明的一實(shí)施方式的方法中，還包括非活性氣體供給工序，該非活性氣體供給工序與上述處理液供給工序并行進(jìn)行，向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的上述基板和配置在上述接近位置的上述保護(hù)盤之間供給非活性氣體。根據(jù)該方法，能夠向保護(hù)盤和基板的下表面之間的空間供給非活性氣體，因此能夠進(jìn)一步抑制處理液霧附著于基板的下表面。在本發(fā)明的一實(shí)施方式的方法中，上述保護(hù)盤在上表面上的與被上述保持構(gòu)件保持的基板的邊緣部相向的位置具有節(jié)流部，上述基板處理方法還包括與上述非活性氣體供給工序并行進(jìn)行，通過上述節(jié)流部縮小上述非活性氣體的流路的工序。根據(jù)該方法，非活性氣體的流路在基板的周緣部縮小，因此從保護(hù)盤和基板的緣部之間向外側(cè)吹出非活性氣體的高速的氣流。由此，能夠進(jìn)一步可靠地抑制處理液霧進(jìn)入保護(hù)盤和基板的下表面之間的空間的情況。在本發(fā)明的一實(shí)施方式中，上述非活性氣體供給工序包括從上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中心朝向由上述保持構(gòu)件保持的基板的周緣部呈放射狀吹出非活性氣體的工序。根據(jù)該方法，形成從旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中心朝向基板的周緣部的非活性氣體的穩(wěn)定的氣流，因此能夠進(jìn)一步可靠地抑制處理液霧進(jìn)入保護(hù)盤和基板的下表面之間的情況。在本發(fā)明的一實(shí)施方式的方法中，還包括如下工序:與上述下表面覆蓋工序并行執(zhí)行，通過安裝在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的側(cè)方覆蓋構(gòu)件從側(cè)方覆蓋被上述保持構(gòu)件保持的基板和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)之間的空間。根據(jù)該方法，周圍的環(huán)境氣體難以卷入旋轉(zhuǎn)臺(tái)和基板的下表面之間，因而能夠使旋轉(zhuǎn)臺(tái)周圍的氣流穩(wěn)定，因此能夠抑制處理液霧的產(chǎn)生，并能夠?qū)崿F(xiàn)更高品質(zhì)的基板處理。對(duì)于本發(fā)明的上述的或者其他目的、特征以及效果，參照附圖，通過下面敘述的實(shí)施方式的說明來明確。


圖1是用于說明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的圖解剖視圖。圖2是用于說明設(shè)置在上述基板處理裝置上的旋轉(zhuǎn)卡盤的更具體的結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖3是圖2的結(jié)構(gòu)的仰視圖。圖4是從圖2的剖面線IV-1V觀察的剖視圖。圖4A是將圖4的結(jié)構(gòu)的一部分放大了的剖視放大圖。圖5是將旋轉(zhuǎn)卡盤所具有的可動(dòng)銷附近的結(jié)構(gòu)放大了的剖視圖。圖6是用于說明上述基板處理裝置的動(dòng)作例的流程圖。圖7是用于說明本發(fā)明的第二實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的圖解剖視圖。圖8是用于說明本發(fā)明的第三實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的圖解剖視圖。圖9是用于說明本發(fā)明的第四實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的圖解剖視圖。圖10是用于說明本發(fā)明的第五實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的圖解剖視圖。圖11是表示用于檢測(cè)保護(hù)盤的位置的結(jié)構(gòu)例的圖。圖12是表示用于檢測(cè)保護(hù)盤的位置的其他結(jié)構(gòu)例的圖。圖13是表示用于檢測(cè)保護(hù)盤的位置的另外的結(jié)構(gòu)例的圖。圖14是表示用于檢測(cè)保護(hù)盤的位置的另外的結(jié)構(gòu)例的圖。
具體實(shí)施例方式圖1是用于說明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的圖解剖視圖?；逄幚硌b置I是逐張地處理半導(dǎo)體晶片等基板W的單張式的裝置。基板處理裝置I具有旋轉(zhuǎn)卡盤2、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)3、擋板4、擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5。旋轉(zhuǎn)卡盤2具有能夠圍繞沿著鉛垂方向的旋轉(zhuǎn)軸線6旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)7。在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的旋轉(zhuǎn)中心的下表面通過軸套(boss)9結(jié)合有旋轉(zhuǎn)軸8。旋轉(zhuǎn)軸8沿著鉛垂方向延伸，受到來自旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)3的驅(qū)動(dòng)力圍繞旋轉(zhuǎn)軸線6進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)3例如可以是將旋轉(zhuǎn)軸8作為驅(qū)動(dòng)軸的電動(dòng)馬達(dá)。旋轉(zhuǎn)卡盤2還具有沿著周向隔開間隔地設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面的周緣部的多個(gè)(在本實(shí)施方式中為6個(gè))保持銷10。保持銷10將基板W水平地保持在從具有大致水平的上表面的旋轉(zhuǎn)臺(tái)7隔開規(guī)定間隔的上方的基板保持高度上。旋轉(zhuǎn)卡盤2還具有保護(hù)盤15，該保護(hù)盤15配置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面和通過保持銷10保持的基板保持高度之間。保護(hù)盤15以能夠相對(duì)于旋轉(zhuǎn)臺(tái)7進(jìn)行上下移動(dòng)的方式與旋轉(zhuǎn)臺(tái)7相結(jié)合，能夠在下位置和接近位置之間移動(dòng)，其中下位置指接近旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面的位置，接近位置指在該下位置的上方的隔著微小的間隔與被保持銷10保持的基板W的下表面接近的位置。保護(hù)盤15是大小與基板W相等的圓盤狀的構(gòu)件，并在與保持銷10對(duì)應(yīng)的位置上形成有用于避開該保持銷10的切缺部。擋板4既是從側(cè)方包圍旋轉(zhuǎn)卡盤2的周圍的筒狀的構(gòu)件，也是用于接受從被旋轉(zhuǎn)卡盤2保持的基板W向外側(cè)排出的處理液的接受構(gòu)件。更詳細(xì)地，擋板4具有:與旋轉(zhuǎn)軸線6同軸的圓筒部21 ;從圓筒部21的內(nèi)壁面朝向接近旋轉(zhuǎn)軸線6的內(nèi)側(cè)向斜上方突出的上引導(dǎo)部22以及下引導(dǎo)部23。上引導(dǎo)部22形成為沿著部分圓錐面的形狀，上引導(dǎo)部22的內(nèi)側(cè)緣隔開規(guī)定的間隔地配置于旋轉(zhuǎn)卡盤2的外側(cè)。下引導(dǎo)部23從上引導(dǎo)部22隔開規(guī)定的間隔設(shè)置在上引導(dǎo)部22的下方，也具有沿著部分圓錐面的形狀。在俯視的情況下，下引導(dǎo)部23的內(nèi)側(cè)緣位于旋轉(zhuǎn)卡盤2的外周緣的內(nèi)側(cè)。在上引導(dǎo)部22以及下引導(dǎo)部23之間劃分有用于收入從被旋轉(zhuǎn)卡盤2保持的基板W排出的處理液的處理液口 24。為了使擋板4沿著旋轉(zhuǎn)軸線6上下移動(dòng)，設(shè)置有擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5。擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5可以包括如氣缸、滾珠絲杠機(jī)構(gòu)那樣的直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。基板處理裝置I還具有處理液供給單元30和刷洗機(jī)構(gòu)35。處理液供給單元30包括用于向基板W的表面噴出處理液的處理液噴嘴31，來自處理液供給源32的處理液經(jīng)由處理液供給管33供給至處理液噴嘴31。處理液供給管33的非端部位置安裝有處理液閥34。因此，通過開閉處理液閥34，能夠?qū)奶幚硪簢娮?1噴出處理液和停止從處理液噴嘴31噴出處理液進(jìn)行切換。刷洗機(jī)構(gòu)35具有:清洗刷36，用于與基板W的上表面接觸來刷洗基板W ;擺動(dòng)臂37，在前端部保持清洗刷36 ;擺動(dòng)臂驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)38，用于驅(qū)動(dòng)擺動(dòng)臂37。擺動(dòng)臂驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)38能夠使擺動(dòng)臂37沿著水平面擺動(dòng)，或者使擺動(dòng)臂37上下移動(dòng)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，在基板W被旋轉(zhuǎn)卡盤2保持并旋轉(zhuǎn)時(shí)，通過將清洗刷36按壓于基板W的上表面，并使清洗刷36的按壓位置沿著基板W的半徑方向移動(dòng)，能夠刷洗基板W的整個(gè)上表面。在刷洗時(shí),通過從處理液噴嘴31供給處理液(例如為純水(deionized water:去離子水))，容易去掉基板W的表面上的異物，并能夠?qū)⒂汕逑此?6擦落的異物向基板外排出。旋轉(zhuǎn)軸8為空心軸，在旋轉(zhuǎn)軸8的內(nèi)部穿過有非活性氣體供給管70。在非活性氣體供給管70的下端結(jié)合有用于引導(dǎo)來自非活性氣體供給源71的非活性氣體的非活性氣體供給路72。在非活性氣體供給路72的非端部位置安裝有非活性氣體閥73。非活性氣體閥73用于打開或關(guān)閉非活性氣體供給路72。通過打開非活性氣體閥73，向非活性氣體供給管70送入非活性氣體。該非活性氣體通過后述的結(jié)構(gòu)供給至保護(hù)盤15和基板W的下表面之間的空間。這樣，由非活性氣體供給管70、非活性氣體供給源71、非活性氣體供給路72以及非活性氣體閥73等構(gòu)成非活性氣體供給單元74。基板處理裝置I具有用于控制各部分的控制裝置40。控制裝置40控制旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)3、擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5、處理液閥34、擺動(dòng)臂驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)38、非活性氣體閥73等。圖2用于說明旋轉(zhuǎn)卡盤2的更具體的結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖3是圖2中的結(jié)構(gòu)的仰視圖，圖4是從圖2的剖面線IV-1V觀察的剖視圖。旋轉(zhuǎn)臺(tái)7形成為沿著水平面的圓盤狀，與軸套9相結(jié)合，其中，軸套9與旋轉(zhuǎn)軸8相結(jié)合。多個(gè)保持銷10沿著周向等間隔地配置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面的周緣部。保持銷10包括相對(duì)于旋轉(zhuǎn)臺(tái)7不動(dòng)的固定銷11和相對(duì)于旋轉(zhuǎn)臺(tái)7可動(dòng)的可動(dòng)銷12。在本實(shí)施方式中，相鄰配置的兩個(gè)保持銷10作為可動(dòng)銷12。保持銷10各自包括與旋轉(zhuǎn)臺(tái)7相結(jié)合的下軸部51和一體地形成在下軸部51的上端的上軸部52，并且下軸部51以及上軸部52分別形成為圓柱形狀。上軸部52偏離下軸部51的中心軸線而設(shè)置。在下軸部51的上端和上軸部52的下端之間連接的表面，形成從上軸部52朝向下軸部51的周面下降的錐面53。如圖5圖解那樣，可動(dòng)銷12以下軸部51能夠圍繞與下軸部51的中心軸線同軸的旋轉(zhuǎn)軸線12a旋轉(zhuǎn)的方式與旋轉(zhuǎn)臺(tái)7相結(jié)合。更詳細(xì)地，下軸部51的下端部設(shè)置有通過軸承54被旋轉(zhuǎn)臺(tái)7支撐的支撐軸55。在支撐軸55的下端結(jié)合有保持有銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56的磁鐵保持構(gòu)件57。銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56例如配置成使磁極方向朝向與可動(dòng)銷12的旋轉(zhuǎn)軸線12a垂直的方向。保護(hù)盤15是大小與基板W相等的大致圓盤狀的構(gòu)件。在保護(hù)盤15的外周部的與保持銷10對(duì)應(yīng)的位置上，以與保持銷10的外周面確保規(guī)定的間隔并沿著該保持銷10的方式，形成有切缺部16。保護(hù)盤15的中央?yún)^(qū)域形成有與軸套9對(duì)應(yīng)的圓形的開口。在比軸套9更遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)軸線6的位置，在保護(hù)盤15的下表面結(jié)合有與旋轉(zhuǎn)軸線6平行地沿著鉛垂方向延伸的引導(dǎo)軸17。在本實(shí)施方式中，引導(dǎo)軸17配置在在保護(hù)盤15的周向上隔開等間隔的3處。更具體地，從旋轉(zhuǎn)軸線6觀察時(shí)，3個(gè)引導(dǎo)軸17分別配置在與各保持銷10相對(duì)應(yīng)的角度位置中每隔一個(gè)的角度位置上。引導(dǎo)軸17與設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的對(duì)應(yīng)位置上的線性軸承18相結(jié)合，能夠使引導(dǎo)軸17 —邊被該線性軸承18引導(dǎo)，一邊沿著鉛垂方向，即與旋轉(zhuǎn)軸線6平行的方向移動(dòng)。因此，引導(dǎo)軸17以及線性軸承18構(gòu)成引導(dǎo)機(jī)構(gòu)19，該引導(dǎo)機(jī)構(gòu)19沿著與旋轉(zhuǎn)軸線6平行的上下方向引導(dǎo)保護(hù)盤15。弓丨導(dǎo)軸17穿過線性軸承18，在引導(dǎo)軸17的下端具有向外突出的凸緣20。通過使凸緣20與線性軸承18的下端抵接，限制引導(dǎo)軸17向上方移動(dòng)，即，限制保護(hù)盤15向上方移動(dòng)。即，凸緣20是用于限制保護(hù)盤向上方移動(dòng)的限制構(gòu)件。在比引導(dǎo)軸17更遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)軸線6的外側(cè)且比保持銷10接近旋轉(zhuǎn)軸線6內(nèi)側(cè)的位置，在保護(hù)盤15的下表面固定有保持有保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的磁鐵保持構(gòu)件61。在本實(shí)施方式中，保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60將磁極方向朝向上下方向地被磁鐵保持構(gòu)件61保持。例如，保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60可以以下側(cè)具有S極且上側(cè)具有N極的方式固定在磁鐵保持構(gòu)件61上。在本實(shí)施方式中，磁鐵保持構(gòu)件61在周向隔開等間隔地設(shè)置有6處。更具體地，在從旋轉(zhuǎn)軸線6觀察時(shí)，各磁鐵保持構(gòu)件61配置在與相鄰的保持銷10之間(在本實(shí)施方式中為中間)對(duì)應(yīng)的角度位置上。而且，在從旋轉(zhuǎn)軸線6觀察時(shí)，在由6個(gè)磁鐵保持構(gòu)件61分割(在本實(shí)施方式中為等分)的6個(gè)角度區(qū)域中的每隔一個(gè)的角度區(qū)域內(nèi)(在本實(shí)施方式中為該角度區(qū)域的中央位置)分別配置3個(gè)引導(dǎo)軸17。在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的與6個(gè)磁鐵保持構(gòu)件61對(duì)應(yīng)的6處形成有貫通孔62。能夠使對(duì)應(yīng)的磁鐵保持構(gòu)件61分別沿著與旋轉(zhuǎn)軸線6平行的鉛垂方向穿過各貫通孔62。在保護(hù)盤15處于下位置時(shí)，如圖1所示，磁鐵保持構(gòu)件61穿過貫通孔62突出到旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的下表面的下方，保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60位于旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的下表面的下方。在擋板4的下引導(dǎo)部23的上端緣(內(nèi)側(cè)緣)具有保持有擋板側(cè)永久磁鐵25的磁鐵保持部26。擋板側(cè)永久磁鐵25形成為與旋轉(zhuǎn)軸線6同軸的圓環(huán)狀，沿著與旋轉(zhuǎn)軸線6垂直的平面(水平面)配置。更具體地，擋板側(cè)永久磁鐵25配置在相對(duì)于旋轉(zhuǎn)軸線6比保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60更遠(yuǎn)且比銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56更近的位置上。也就是說，在俯視的情況下，圓環(huán)狀的擋板側(cè)永久磁鐵25位于保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60和銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56之間。另外，擋板側(cè)永久磁鐵25配置在比保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60低的位置上。在本實(shí)施方式中，擋板側(cè)永久磁鐵25的磁極方向沿著水平方向，即，沿著旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的旋轉(zhuǎn)半徑方向。在保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的下表面具有S極的情況下，擋板側(cè)永久磁鐵25在旋轉(zhuǎn)半徑方向內(nèi)側(cè)具有環(huán)狀的相同的磁極即S極。在擋板4配置在接受從基板W向外側(cè)排出的處理液的處理位置(參照?qǐng)D4)時(shí)，劃分在上引導(dǎo)部22以及下引導(dǎo)部23之間的處理液口 24在水平方向上與基板W相向。當(dāng)擋板4處于該處理位置時(shí)，擋板側(cè)永久磁鐵25的配置在半徑方向外側(cè)的環(huán)狀的磁極在水平方向上與銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56相向。由此，借助作用于擋板側(cè)永久磁鐵25和銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56之間的磁力，可動(dòng)銷12被驅(qū)動(dòng)到保持位置，并保持在該保持位置。如上所述，可動(dòng)銷12在偏離旋轉(zhuǎn)軸線12a的位置上具有上軸部52(參照?qǐng)D5)。因此，通過下軸部51的旋轉(zhuǎn)，上軸部52在離開旋轉(zhuǎn)軸線6的遠(yuǎn)的開放位置和接近旋轉(zhuǎn)軸線6的保持位置之間移位。在銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56受到來自擋板側(cè)永久磁鐵25的磁吸引力時(shí)，上軸部52向接近旋轉(zhuǎn)軸線6的保持位置移動(dòng)。由于擋板側(cè)永久磁鐵25形成為與旋轉(zhuǎn)軸線6同軸的圓環(huán)狀，因此不管可動(dòng)銷12圍繞旋轉(zhuǎn)軸線6的旋轉(zhuǎn)位置如何，即，即使旋轉(zhuǎn)臺(tái)7處于旋轉(zhuǎn)過程中，都能夠保持擋板側(cè)永久磁鐵25和銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56之間的磁吸引力，由此，可動(dòng)銷12被保持在保持基板W的保持位置。另一方面，在擋板4處于處理位置(參照?qǐng)D4)時(shí)，在擋板側(cè)永久磁鐵25和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間作用有磁排斥力，保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60受到朝上的外力。由此，保護(hù)盤15從保持有保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的磁鐵保持構(gòu)件61受到朝上的力,保持在接近基板W的下表面的處理位置。當(dāng)擋板4下降到從旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)方退避的退避位置時(shí)，擋板側(cè)永久磁鐵25和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力變小，因此，保護(hù)盤15借助自重保持在接近旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面的下位置。另外，由于擋板側(cè)永久磁鐵25不與銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56相向，因此對(duì)可動(dòng)銷12未作用向保持位置對(duì)該可動(dòng)銷12施力的外力。在本實(shí)施方式中，在擋板4的上引導(dǎo)部22的更上方設(shè)置有保持有解除用永久磁鐵27的磁鐵保持部28。在擋板4處于下位置時(shí)，解除用永久磁鐵27與銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56相向。解除用永久磁鐵27形成為與旋轉(zhuǎn)軸線6同軸的圓環(huán)狀，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的旋轉(zhuǎn)半徑內(nèi)側(cè)具有環(huán)狀的磁極。該旋轉(zhuǎn)半徑內(nèi)側(cè)的磁極與擋板側(cè)永久磁鐵25的旋轉(zhuǎn)半徑外側(cè)的磁極的極性相同。解除用永久磁鐵27對(duì)銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56產(chǎn)生使可動(dòng)銷12向開放位置旋轉(zhuǎn)移位的磁力。更具體地，如果擋板側(cè)永久磁鐵25的外側(cè)具有環(huán)狀的N極，則只要在解除用永久磁鐵27的內(nèi)側(cè)具有環(huán)狀的N極即可。這樣，當(dāng)擋板4處于下位置時(shí)，保護(hù)盤15處于接近旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面的下位置，可動(dòng)銷12保持在開放位置。在該狀態(tài)下，將基板W搬入以及搬出旋轉(zhuǎn)卡盤2的基板搬運(yùn)機(jī)械手能夠使基板搬運(yùn)機(jī)械手的基板保持手部45進(jìn)入到保護(hù)盤15和基板W的下表面之間的空間。保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60、擋板側(cè)永久磁鐵25、用于升降擋板4的擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5構(gòu)成磁浮起機(jī)構(gòu)41，該磁浮起機(jī)構(gòu)41借助永久磁鐵25、60之間的排斥力，使保護(hù)盤15從旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的表面向上方浮起并將保護(hù)盤15引導(dǎo)至處理位置。另外，銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56、擋板側(cè)永久磁鐵25、擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5構(gòu)成磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)42,該磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)42借助永久磁鐵25、56之間的磁力，將可動(dòng)銷12保持在保持位置。 即，磁浮起機(jī)構(gòu)41以及磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)42共有擋板側(cè)永久磁鐵25、作為支撐擋板側(cè)永久磁鐵25的支撐構(gòu)件的擋板4、用于使擋板4升降的擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5。并且，在擋板4處于處理位置時(shí)，借助擋板側(cè)永久磁鐵25和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力，保護(hù)盤15保持在接近位置，并且借助擋板側(cè)永久磁鐵25和銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56之間的磁吸引力，可動(dòng)銷12保持在保持位置。如圖4A放大所示，結(jié)合于旋轉(zhuǎn)軸8的上端的軸套9保持有軸承機(jī)構(gòu)75，該軸承機(jī)構(gòu)75用于支撐非活性氣體供給管70的上端部。軸承機(jī)構(gòu)75具有:墊圈77，嵌入固定在軸套9上所形成的凹部76中；軸承78，配置在墊圈77和非活性氣體供給管70之間；磁流體軸承79，同樣設(shè)置在墊圈77和非活性氣體供給管70之間并位于軸承78的上方。軸套9 一體地具有沿著水平面向外側(cè)突出的凸緣81，該凸緣81與旋轉(zhuǎn)臺(tái)7相結(jié)合。而且，上述的墊圈77以夾入旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的內(nèi)周緣部的方式固定在凸緣81上，并且在該墊圈77上結(jié)合有蓋84。蓋84大致形成為圓盤狀，在中央具有用于露出非活性氣體供給管70的上端的開口，在蓋84的上表面形成有將該開口作為底面的凹部85。凹部85具有水平的底面和從該底面的周緣朝向外側(cè)向斜上方立起的倒圓錐面狀的傾斜面83。在凹部85的底面結(jié)合有整流構(gòu)件86。整流構(gòu)件86具有:多個(gè)(例如為4個(gè))腳部87，多個(gè)腳部87圍繞旋轉(zhuǎn)軸線6沿著周向隔開間隔分散地配置；底面88，通過多個(gè)腳部87從凹部85的底面隔著間隔。從底面88的周緣部形成有由朝向外側(cè)向斜上方延伸的倒圓錐面形成的傾斜面89。在蓋84的上表面外周緣形成有朝外的凸緣84a。該凸緣84a與形成在保護(hù)盤15的內(nèi)周緣的臺(tái)階部15a相匹配。即，當(dāng)保護(hù)盤15處于接近基板W的下表面的接近位置時(shí)，凸緣84a和臺(tái)階部15a相配合，蓋84的上表面和保護(hù)盤15的上表面位于同一平面內(nèi)，從而形成平坦的非活性氣體流路。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，從非活性氣體供給管70的上端流出的非活性氣體，進(jìn)入在蓋84的凹部85內(nèi)由整流構(gòu)件86的底面88劃分的空間。該非活性氣體進(jìn)而經(jīng)過由凹部85的傾斜面83以及整流構(gòu)件86的傾斜面89劃分的放射狀的流路82，朝向離開旋轉(zhuǎn)軸線6的放射方向吹出。該非活性氣體在保護(hù)盤15和被保持銷10保持的基板W的下表面之間的空間形成非活性氣體的氣流，從該空間朝向基板W的旋轉(zhuǎn)半徑方向外側(cè)吹出。保護(hù)盤15在上表面上具有節(jié)流部90，該節(jié)流部90在被保持銷10保持的基板W的周緣部使非活性氣體的流路縮小。在本實(shí)施方式中，節(jié)流部90由從保護(hù)盤15的周緣向上方立起的突條形成。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，從保護(hù)盤15和基板W的下表面之間的空間向外側(cè)吹出的非活性氣體流的流速變?yōu)楦咚?，從而能夠可靠地避免或者抑制環(huán)境氣體(尤其是處理液的霧)進(jìn)入基板W的下表面的空間的情況。圖6是用于說明基板處理裝置I的動(dòng)作例的流程圖。通過基板搬運(yùn)機(jī)械手的基板保持手部45將作為處理對(duì)象的基板W搬入至該基板處理裝置I內(nèi)，并交至旋轉(zhuǎn)卡盤2 (步驟SI)。這時(shí)，擋板4配置在從旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)方退避到下方的退避位置(下位置)。因此，銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56與解除用永久磁鐵27相向，可動(dòng)銷12保持在開放位置。另外，由于被擋板4的下引導(dǎo)部23保持的擋板側(cè)永久磁鐵25向下方遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)臺(tái)7，因此作用于擋板側(cè)永久磁鐵25和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力小。因此，保護(hù)盤15位于接近旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面的下位置。因此，在通過保持銷10保持的基板保持高度和保護(hù)盤15的上表面之間，確保基板保持手45能夠進(jìn)入的足夠的空間?；灞３质植?5在將基板W保持在比保持銷10的上端高的位置上的狀態(tài)下，將該基板W搬運(yùn)至旋轉(zhuǎn)卡盤2的上方。然后，基板保持手部45朝向旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面下降。在該過程中，將基板W從基板保持手部45交至保持銷10?；灞３质植?5下降至基板W的下表面和保護(hù)盤15之間的空間，然后，在保持銷10之間經(jīng)過來退避到旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)方。接著，控制裝置40控制擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5，使擋板4上升至處理位置(步驟S2)。由此，由上引導(dǎo)部22以及下引導(dǎo)部23劃分的處理液口 24與旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)方，更具體地講，與基板W的側(cè)方相向。另外，保持在下引導(dǎo)部23的內(nèi)側(cè)緣的圓環(huán)狀的擋板側(cè)永久磁鐵25與銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56相向。這樣，可動(dòng)銷12從開放位置被驅(qū)動(dòng)至保持位置，并保持在該保持位置。這樣，通過固定銷11以及可動(dòng)銷12握持基板W。另外，在擋板4向處理位置上升的過程中，擋板側(cè)永久磁鐵25從下方接近保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60，永久磁鐵25、60之間的距離縮小，相應(yīng)地，作用于永久磁鐵25、60之間的磁排斥力變大。借助該磁排斥力，保護(hù)盤15從旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面朝向基板W浮起。并且，在擋板4到達(dá)處理位置之前，保護(hù)盤15到達(dá)隔開微小間隔接近基板W的下表面的接近位置，從而形成在引導(dǎo)軸17的下端的凸緣20與線性軸承18相接觸。由此，保護(hù)盤15被保持在上述接近位置。在該狀態(tài)下，控制裝置40打開非活性氣體閥73，開始供給非活性氣體(步驟S3)。所供給的非活性氣體從非活性氣體供給管70的上端噴出，通過整流構(gòu)件86等的作用，朝向處于接近位置的保護(hù)盤15和基板W的下表面之間的狹窄空間，呈以旋轉(zhuǎn)軸線6作為中心的放射狀地吹出。該非活性氣體還通過形成在保護(hù)盤15的周緣部上所形成的節(jié)流部90和基板W的下表面的周緣部之間的節(jié)流孔加速，在基板W的側(cè)方形成高速的吹出氣流?？刂蒲b置40還控制旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)3，開始使旋轉(zhuǎn)臺(tái)7旋轉(zhuǎn)，由此，使基板W圍繞旋轉(zhuǎn)軸線6旋轉(zhuǎn)(步驟S4)。旋轉(zhuǎn)速度例如可以是IOOrpm左右。在該狀態(tài)下，控制裝置40打開處理液閥34。由此，從處理液噴嘴31向基板W的上表面供給處理液(步驟S5)。所供給的處理液在基板W的上表面上受到離心力向外側(cè)擴(kuò)散，從而到達(dá)基板W的整個(gè)表面。借助離心力從基板W向外側(cè)排出的處理液被擋板4接受，被排出。另一方面，控制裝置40通過控制擺動(dòng)臂驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)38，通過刷洗機(jī)構(gòu)35刷洗基板W的上表面(步驟S6)。因此，一邊向基板W的上表面供給處理液，一邊通過清洗刷36進(jìn)行刷洗。在這樣的基板處理期間，基板W的下表面處于被保護(hù)盤15覆蓋的狀態(tài)。而且在保護(hù)盤15和基板W的下表面之間的空間形成朝外的非活性氣體的氣流，高速地向外側(cè)吹出該非活性氣體。因此，即使在旋轉(zhuǎn)卡盤2的周圍分散有處理液的霧，也能夠避免或者抑制這樣的霧附著于基板W的下表面的情況。因此，不必對(duì)基板W的下表面進(jìn)行背面沖洗等處理，在保持基板W的下表面干燥狀態(tài)，避免或者抑制處理液霧附著于該基板W的下表面，并選擇性地對(duì)基板W的上表面進(jìn)行刷洗處理。進(jìn)行了這樣的刷洗之后，控制裝置40控制擺動(dòng)臂驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)38，使清洗刷36從旋轉(zhuǎn)卡盤2的上方向側(cè)方退避，并關(guān)閉處理液閥34，從而停止從處理液噴嘴31噴出處理液(步驟S7)。而且，控制裝置40通過控制旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)3，使旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的旋轉(zhuǎn)速度進(jìn)行加速。由此，執(zhí)行通過借助離心力將基板W的上表面以及周端面的液滴甩出來使基板W進(jìn)行干燥的旋轉(zhuǎn)干燥處理(步驟S8)。在進(jìn)行旋轉(zhuǎn)干燥處理時(shí)基板W的旋轉(zhuǎn)速度例如為1500 3000rpm。僅進(jìn)行預(yù)定時(shí)間的旋轉(zhuǎn)干燥處理之后，控制裝置40控制旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)3來使基板W停止旋轉(zhuǎn)(步驟S9)。而且，控制裝置40關(guān)閉非活性氣體閥73，從而停止供給非活性氣體(步驟SlO )。然后，控制裝置40通過控制擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5，使擋板4下降至下方的退避位置(步驟S11)。在擋板4下降的過程中，擋板側(cè)永久磁鐵25和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的距離擴(kuò)大，從而擋板側(cè)永久磁鐵25和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力逐漸減小。伴隨于此，保護(hù)盤15借助自重，一邊被引導(dǎo)機(jī)構(gòu)19引導(dǎo)，一邊朝向旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面下降。由此，在保護(hù)盤15的上表面和基板W的下表面之間，確保僅能夠使基板搬運(yùn)機(jī)械手的基板保持手部45進(jìn)入的空間。另一方面，由于擋板側(cè)永久磁鐵25不與銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56相向，因此沒有向保持位置對(duì)可動(dòng)銷12施力的外力。取而代之，解除用永久磁鐵27與銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56相向，因而向開放位置對(duì)可動(dòng)銷12施力。由此，解除對(duì)基板W的握持。接著，控制裝置40控制基板搬運(yùn)機(jī)械手，使基板保持手部45進(jìn)入到保護(hù)盤15和基板W的下表面之間所確保的空間內(nèi)。然后，基板保持手部45提取被保持銷10保持的基板W，然后向旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)方退避。這樣搬出已處理的基板W (步驟S12)。根據(jù)如上所述的本實(shí)施方式，由于被擋板4保持的擋板側(cè)永久磁鐵25形成為與旋轉(zhuǎn)軸線6同軸的圓環(huán)狀，因此在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7旋轉(zhuǎn)中，擋板側(cè)永久磁鐵25始終與銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56相向，并且持續(xù)對(duì)保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60付與足夠的磁排斥力。由此，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7旋轉(zhuǎn)中，能夠從配置在非旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的擋板側(cè)永久磁鐵25以非接觸狀態(tài)付與向保持位置對(duì)可動(dòng)銷12施力的外力和用于使保護(hù)盤15保持在接近基板W的下表面的接近位置的外力。而且，由于不是利用旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的旋轉(zhuǎn)來獲取驅(qū)動(dòng)力的結(jié)構(gòu)，因此即使是如刷洗處理工序那樣在基板W低速旋轉(zhuǎn)時(shí)，另外，例如即使是基板W停止旋轉(zhuǎn)時(shí)，可動(dòng)銷12也能夠發(fā)揮足夠的基板保持力，并且將保護(hù)盤15可靠地保持在接近位置。因此，能夠可靠地避免或者抑制處理液霧附著于基板W的下表面,對(duì)基板W的上表面進(jìn)行處理。另外，在本實(shí)施方式中，使保護(hù)盤15在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上方浮起的磁浮起機(jī)構(gòu)41和用于驅(qū)動(dòng)可動(dòng)銷12的磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)42，共同利用被擋板4保持的擋板側(cè)永久磁鐵25。因此，能夠?qū)⒂糜谏祿醢?的擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5作為磁浮起機(jī)構(gòu)41以及磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)42的驅(qū)動(dòng)源來共用，由此能夠使結(jié)構(gòu)非常簡(jiǎn)單。另外，磁浮起機(jī)構(gòu)41以及磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)42并不是將驅(qū)動(dòng)單元組裝在與旋轉(zhuǎn)臺(tái)7 —起旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)上的結(jié)構(gòu)，因此結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，由此能夠使基板處理裝置I的結(jié)構(gòu)更簡(jiǎn)單。另外，磁浮起機(jī)構(gòu)41以及磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)42是利用磁力以非接觸的方式從非旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)向旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)傳遞驅(qū)動(dòng)力的結(jié)構(gòu)，因此在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7旋轉(zhuǎn)時(shí)在驅(qū)動(dòng)力傳遞路徑上不產(chǎn)生摩擦接觸。由此，能夠減少顆粒的產(chǎn)生，實(shí)現(xiàn)潔凈度高的基板處理。另外，在本實(shí)施方式中，由于向處于接近位置的保護(hù)盤15和基板W的下表面之間的空間供給非活性氣體，因此能夠進(jìn)一步有效地避免或者抑制處理液霧附著于基板W的下表面。并且，通過整流構(gòu)件86等的作用，從旋轉(zhuǎn)軸線6朝向基板W的外周緣呈放射狀吹出非活性氣體，因此能夠在基板W的下表面和保護(hù)盤15之間形成穩(wěn)定的非活性氣體的朝外氣流。由此，也能夠進(jìn)一步有效地避免或者抑制處理液霧附著于基板W的下表面。另外，在保護(hù)盤15的外周緣設(shè)置有節(jié)流部90，能夠在基板W的外周緣附近形成非活性氣體的高速的朝外氣流。由此，能夠更有效地避免或者抑制處理液霧進(jìn)入保護(hù)盤15和基板W的下表面之間的空間。圖7是用于說明本發(fā)明的第二實(shí)施方式的基板處理裝置102的結(jié)構(gòu)的圖解剖視圖。在圖7中，圖1的各部分的對(duì)應(yīng)部分標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記。在第一實(shí)施方式中，將用于升降擋板4的擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5兼用作磁浮起機(jī)構(gòu)41以及磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)42的驅(qū)動(dòng)源，但在該第二實(shí)施方式中，設(shè)置有用于磁浮起機(jī)構(gòu)41的專用的驅(qū)動(dòng)源。即，在該第二實(shí)施方式中，磁浮起機(jī)構(gòu)41包括保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60、盤升降用永久磁鐵64、升降促動(dòng)器65。盤升降用永久磁鐵64是以旋轉(zhuǎn)軸線6為中心沿著水平面配置的圓環(huán)狀的永久磁鐵片，具有從下方與保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60相向的圓環(huán)狀的磁極。該磁極的極性是與保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的下側(cè)的磁極相同的極性。因此，盤升降用永久磁鐵64對(duì)保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60作用朝上的磁排斥力。盤升降用永久磁鐵64內(nèi)置保持于圓環(huán)狀的磁鐵保持構(gòu)件66中。磁鐵保持構(gòu)件66與升降促動(dòng)器65的動(dòng)作軸65a相結(jié)合。升降促動(dòng)器65例如由氣缸形成，使動(dòng)作軸65a沿著與旋轉(zhuǎn)軸線6平行的方向上下移動(dòng)。通過控制裝置40控制升降促動(dòng)器65的動(dòng)作。由此，升降促動(dòng)器65能夠使盤升降用永久磁鐵64配置在上位置和下位置。下位置設(shè)定為，盤升降用永久磁鐵64位于遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的下方，在盤升降用永久磁鐵64和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間確保使盤升降用永久磁鐵64和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力小于保護(hù)盤15的重力那樣的足夠的距離。上位置設(shè)定在，既是下位置的上方的位置，也是通過盤升降用永久磁鐵64和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力，使與磁鐵保持構(gòu)件61結(jié)合的保護(hù)盤15上升至接近基板W的下表面的接近位置(處理高度)的位置。因此，當(dāng)使升降促動(dòng)器65動(dòng)作使盤升降用永久磁鐵64從下位置上升至上位置時(shí)，在該過程中，盤升降用永久磁鐵64和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力大于作用于保護(hù)盤15的重力以及其他的上升阻力(摩擦力等)。由此，保護(hù)盤15從旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面浮起，并上升至接近基板W的下表面的接近位置(處理高度)。通過使設(shè)置在引導(dǎo)軸17的下端上的凸緣20與線性軸承18的下端接觸來限制保護(hù)盤15上升。另一方面，當(dāng)使升降促動(dòng)器65動(dòng)作使盤升降用永久磁鐵64從上位置下降至下位置時(shí)，在該過程中，作用于保護(hù)盤15的重力大于盤升降用永久磁鐵64和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力以及其他的下降阻力(摩擦力等)。由此，保護(hù)盤15從接近基板W的下表面的接近位置下降而到達(dá)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7。這樣，在第二實(shí)施方式中，磁浮起機(jī)構(gòu)41具有專用的盤升降用永久磁鐵64和用于使盤升降用永久磁鐵64上下移動(dòng)的專用的升降促動(dòng)器65。由此，能夠通過擋板4的升降動(dòng)作以及可動(dòng)銷12的驅(qū)動(dòng)使保護(hù)盤15獨(dú)立地上下移動(dòng)。因此，例如在擋板4上設(shè)置有在上下方向上層疊的多個(gè)處理液口，在根據(jù)處理液的種類切換使用處理液口的情況下，能夠與處理液口是否切換無關(guān)地將保護(hù)盤15保持在接近位置。圖8是用于說明本發(fā)明的第三實(shí)施方式的基板處理裝置103的結(jié)構(gòu)的圖解剖視圖。在圖8中，對(duì)圖7的各部分的對(duì)應(yīng)部分標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記。在該第三實(shí)施方式中，也與第二實(shí)施方式同樣地，設(shè)置有用于磁浮起機(jī)構(gòu)41的專用的驅(qū)動(dòng)源。即，在該第三實(shí)施方式中，磁浮起機(jī)構(gòu)41包括保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60、盤升降用永久磁鐵64、升降促動(dòng)器111。盤升降用永久磁鐵64是以旋轉(zhuǎn)軸線6為中心沿著水平面配置的圓環(huán)狀的永久磁鐵片，具有從下方與保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60相向的圓環(huán)狀的磁極。該磁極的極性與保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的下側(cè)的磁極是相同的極性。因此，盤升降用永久磁鐵64對(duì)保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60作用朝上的磁排斥力。盤升降用永久磁鐵64內(nèi)置保持在圓環(huán)狀的磁鐵保持構(gòu)件66中。磁鐵保持構(gòu)件66與升降促動(dòng)器111的動(dòng)作構(gòu)件Illa相結(jié)合。升降促動(dòng)器111包括滾珠絲杠機(jī)構(gòu)112以及電動(dòng)馬達(dá)113，使動(dòng)作構(gòu)件Illa沿著與旋轉(zhuǎn)軸線6平行的方向上下移動(dòng)。滾珠絲杠機(jī)構(gòu)112包括:絲杠軸114，沿著與旋轉(zhuǎn)軸線6平行的上下方向配置；滾珠螺母115，與絲杠軸114相螺合。滾珠螺母115與動(dòng)作構(gòu)件Illa相結(jié)合。絲杠軸114的上端被軸承116支撐，絲杠軸114的下端經(jīng)由聯(lián)軸器117與電動(dòng)馬達(dá)113的驅(qū)動(dòng)軸113a相結(jié)合。在電動(dòng)馬達(dá)113上附設(shè)有用于檢測(cè)其驅(qū)動(dòng)軸113a的旋轉(zhuǎn)位置的旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)單元118。旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)單元118例如包括回轉(zhuǎn)式編碼器，旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)單元118的輸出信號(hào)輸入至控制裝置40。通過控制裝置40控制升降促動(dòng)器111的動(dòng)作，更具體地，控制電動(dòng)馬達(dá)113的動(dòng)作。由此，升降促動(dòng)器111能夠?qū)⒈P升降用永久磁鐵64配置在上位置和下位置之間的任意的高度上。下位置設(shè)定為，盤升降用永久磁鐵64位于遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的下方，在盤升降用永久磁鐵64和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間確保使盤升降用永久磁鐵64和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力小于作用于保護(hù)盤15的重力那樣的足夠的距離。上位置設(shè)定在，既是下位置的上方的位置，也是通過盤升降用永久磁鐵64和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力，使與磁鐵保持構(gòu)件61結(jié)合的保護(hù)盤15上升至接近基板W的下表面的接近位置(處理高度)的位置。因此，當(dāng)使升降促動(dòng)器111動(dòng)作來使盤升降用永久磁鐵64從下位置上升至上位置時(shí)，在該過程中，盤升降用永久磁鐵64和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力大于作用于保護(hù)盤15的重力以及其他的上升阻力(摩擦力等)。由此，保護(hù)盤15從旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面浮起，上升至接近基板W的下表面的接近位置(處理高度)。通過使設(shè)置在引導(dǎo)軸17的下端的凸緣20與線性軸承18的下端接觸來限制保護(hù)盤15上升。另一方面，當(dāng)使升降促動(dòng)器111動(dòng)作來使盤升降用永久磁鐵64從上位置下降至下位置時(shí)，在該過程中，作用于保護(hù)盤15的重力大于盤升降用永久磁鐵64和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力以及其他的下降阻力(摩擦力等)。由此，保護(hù)盤15從接近基板W的下表面的接近位置下降并到達(dá)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7。由于升降促動(dòng)器111由滾珠絲杠機(jī)構(gòu)112等構(gòu)成，因此能夠?qū)⒈P升降用永久磁鐵64的位置控制在如上述那樣的上位置和下位置之間的任意的中間位置上。更具體地，控制裝置40通過參照旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)單元118的輸出信號(hào)來檢測(cè)電動(dòng)馬達(dá)113的驅(qū)動(dòng)軸113a的旋轉(zhuǎn)位置，并基于該旋轉(zhuǎn)位置，間接地檢測(cè)出盤升降用永久磁鐵64的高度。由此，控制裝置40能夠?qū)⒈P升降用永久磁鐵64的高度控制在上位置和下位置之間的任意高度上。由此，能夠?qū)⒈Ｗo(hù)盤15的位置控制在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7和旋轉(zhuǎn)卡盤2上的基板保持高度之間的任意的高度位置上，而不僅是上下兩個(gè)位置?？刂蒲b置40可以程序化以根據(jù)基板W的處理內(nèi)容變更保護(hù)盤15的高度。例如，在通過清洗刷36刷洗基板W的上表面時(shí)，基板W向下方彎曲。因此，控制裝置40可以使保護(hù)盤15從旋轉(zhuǎn)臺(tái)7浮起，并配置在以在基板W向下方彎曲時(shí)也不與保護(hù)盤15接觸的方式設(shè)定的刷洗高度上。即，控制裝置40可以控制升降促動(dòng)器111，使保護(hù)盤15處于這樣的高度上。另一方面，在僅向基板W供給藥液或沖洗液而不進(jìn)行刷洗的液體處理或者進(jìn)行使基板W旋轉(zhuǎn)來甩除液體成分的旋轉(zhuǎn)干燥處理時(shí)，基板W不會(huì)向下方彎曲太多。因此，控制裝置可以控制升降促動(dòng)器111，以將保護(hù)盤15配置在刷洗高度的上方，使保護(hù)盤15和基板W的下表面間的距離縮小。由此，能夠更可靠地防止處理液霧侵入到基板W的下表面。 這樣，在第三實(shí)施方式中，磁浮起機(jī)構(gòu)41也具有專用的盤升降用永久磁鐵64和用于使升降用永久磁鐵64上下移動(dòng)的專用的升降促動(dòng)器111。由此，能夠使保護(hù)盤15的上下移動(dòng)與擋板4的升降動(dòng)作以及可動(dòng)銷12的驅(qū)動(dòng)相獨(dú)立地進(jìn)行。而且，升降促動(dòng)器111能夠?qū)⒈Ｗo(hù)盤15控制在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7和基板保持高度之間的任意高度上，因此能夠根據(jù)處理內(nèi)容等適當(dāng)?shù)卣{(diào)整保護(hù)盤15和基板W的下表面之間的距離。 圖9是用于說明本發(fā)明的第四實(shí)施方式的基板處理裝置104的結(jié)構(gòu)的圖解剖視圖。在圖9中，圖8的各部分的對(duì)應(yīng)部分標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記。在本實(shí)施方式中，除了設(shè)置有盤升降用永久磁鐵64(下面稱為“第一盤升降用永久磁鐵64”等)之外，還設(shè)置有從上方與保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60相向的第二盤升降用永久磁鐵67。即，通過第一以及第二盤升降用永久磁鐵64、67上下夾著保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60。第二盤升降用永久磁鐵67是以旋轉(zhuǎn)軸線6為中心沿著水平面配置的圓環(huán)狀的永久磁鐵片，具有從上方與保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60相向的圓環(huán)狀的磁極。該磁極的極性是與保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的上側(cè)的磁極相同的極性。因此，第二盤升降用永久磁鐵67對(duì)保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60作用朝下的磁排斥力。因此，保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60從下方受到來自第一盤升降用永久磁鐵64的朝上的磁排斥力，從上方受到來自第二盤升降用永久磁鐵67的朝下的磁排斥力。并且，保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60在第一盤升降用永久磁鐵64和第二盤升降用永久磁鐵67的磁排斥力以及作用于保護(hù)盤15等的重力等平衡的位置，以非接觸狀態(tài)保持在第一以及第二盤升降用永久磁鐵64、67之間。第一以及第二盤升降用永久磁鐵64、67內(nèi)置保持在圓環(huán)狀的磁鐵保持構(gòu)件68中。磁鐵保持構(gòu)件68與升降促動(dòng)器111的動(dòng)作構(gòu)件Illa相結(jié)合。磁鐵保持構(gòu)件68的與周向垂直的截面為橫向的U字形(在本實(shí)施方式中為朝外的U字形)，包括:圓環(huán)狀的下保持部68a，保持第一盤升降用永久磁鐵64 ;圓環(huán)狀的上保持部68b，保持第二盤升降用永久磁鐵67 ;圓筒狀的連接筒部68c，使上述的下保持部68a的內(nèi)側(cè)緣和上保持部68b的內(nèi)側(cè)緣相互結(jié)合。在下保持部68a以及上保持部68b之間的連接筒部68c的外側(cè)，形成有用于容置保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的空間。在該空間內(nèi)從旋轉(zhuǎn)半徑方向的外側(cè)插入磁鐵保持構(gòu)件61的前端部61a。在本實(shí)施方式中，磁鐵保持構(gòu)件61形成大致為L(zhǎng)字形，具有:垂下部61b，從保護(hù)盤15垂下；前端部61a，從垂下部61b的下端向內(nèi)側(cè)延伸來接近旋轉(zhuǎn)軸線6。在該前端部61a中埋設(shè)有保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60。第一以及第二盤升降用永久磁鐵64、67都具有圓環(huán)狀的磁極，因此無論旋轉(zhuǎn)卡盤2處于哪個(gè)旋轉(zhuǎn)位置，保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60都受到來自第一以及第二盤升降用永久磁鐵64,67的磁力，以非接觸狀態(tài)保持在它們之間。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，能夠?qū)崿F(xiàn)與第三實(shí)施方式同樣的作用效果。而且，保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60從上下受到磁排斥力，因此能夠準(zhǔn)確地控制保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的上下位置。由此，能夠提高保護(hù)盤15的位置控制精度，并能夠進(jìn)一步抑制處理液霧等附著于基板W的下表面。圖10是用于說明本發(fā)明的第五實(shí)施方式的基板處理裝置105的結(jié)構(gòu)的圖解剖視圖。在圖10中，對(duì)圖7的各部分的對(duì)應(yīng)部分標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記。在該第五實(shí)施方式中，也與第二實(shí)施方式同樣地設(shè)置有用于磁浮起機(jī)構(gòu)41的專用的驅(qū)動(dòng)源。即，在該第五實(shí)施方式中，磁浮起機(jī)構(gòu)41包括保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60、盤升降用電磁鐵裝置97、高度控制用電磁鐵裝置98。盤升降用電磁鐵裝置97具有以旋轉(zhuǎn)軸線6為中心沿著水平面配置的圓環(huán)狀的磁極97a,該圓環(huán)狀的磁極97a從下方與保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60相向。當(dāng)向盤升降用電磁鐵裝置97通電第一方向的電流來進(jìn)行勵(lì)磁時(shí)，磁極97a呈現(xiàn)與保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的下側(cè)的磁極相同的極性的磁極。另外，當(dāng)向盤升降用電磁鐵裝置97通電與第一方向相反的第二方向的電流來進(jìn)行勵(lì)磁時(shí)，磁極97a呈現(xiàn)與保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的下側(cè)的磁極不同的極性的磁極。因此，盤升降用電磁鐵裝置97在通電第一方向的電流時(shí)，對(duì)保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60作用朝上的磁排斥力。另外，盤升降用電磁鐵裝置97在通電第二方向的電流時(shí)，對(duì)保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60作用朝下的磁吸引力。當(dāng)停止接通時(shí)，盤升降用電磁鐵裝置97的磁力消失。因此，在對(duì)盤升降用電磁鐵裝置97通電第二方向的電流的狀態(tài)，或者在沒有向盤升降用電磁鐵裝置97通電的狀態(tài)下，保護(hù)盤15被控制在接近旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的下位置。另一方面，當(dāng)向盤升降用電磁鐵裝置97通電第一方向的電流時(shí)，通過磁極97a和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力，能夠使保護(hù)盤15向旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上方浮起。通過控制裝置40控制對(duì)盤升降用電磁鐵裝置97的通電。高度控制用電磁鐵裝置98具有多個(gè)電磁鐵單元U1、U2、U3、……，多個(gè)電磁鐵單元分別具有以旋轉(zhuǎn)軸線6為中心沿著水平面配置的圓環(huán)狀的磁極ml、m2、m3、……。磁極
ml、m2、m3、......以使具有相互相等的半徑的圓筒狀的磁極面朝向外側(cè)(與旋轉(zhuǎn)軸線6的一
側(cè)相反的方向)的狀態(tài)，沿著與旋 轉(zhuǎn)軸線6平行的上下方向等間隔地排列。更具體地，磁極ml、m2、m3、……沿著圓筒狀的通過區(qū)域，不與磁鐵保持構(gòu)件61發(fā)生干渉，并且能夠?qū)ΡＷo(hù)盤側(cè)永久磁鐵60作用磁力，其中，圓筒狀的通過區(qū)域?yàn)楸Ｗo(hù)盤側(cè)永久磁鐵60通過上下移動(dòng)以及旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)通過的圓筒狀的區(qū)域。在圖10的結(jié)構(gòu)例中，在保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的通
過區(qū)域的內(nèi)側(cè)配置有磁極ml、m2、m3、......，但可以在該通過區(qū)域的外側(cè)配置磁極ml、m2、
m3、......。另外,磁極ml、m2、m3、......也可以分開配置在保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的通過區(qū)
域的內(nèi)側(cè)以及外側(cè)。通過對(duì)電磁鐵單元U1、U2、U3、......通電一個(gè)方向的電流,在磁極ml、m2、m3、......分別呈現(xiàn)一種極性的磁力，通過對(duì)電磁鐵單元Ul、U2、U3、......通電另一方向的電流,在磁極
ml、m2、m3、……分別呈現(xiàn)另一種極性的磁力。因此，根據(jù)對(duì)各電磁鐵單元U1、U2、U3、……
的通電方向以及保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的高度位置，在各磁極ml、m2、m3、......和保護(hù)盤側(cè)
永久磁鐵60之間作用磁吸引力(引力)或者磁排斥力(斥力)。這些磁力的大小取決于通電的電流的大小。因此，通過控制對(duì)電磁鐵單元Ul、U2、U3、......的通電方向以及電流的大小，能夠
控制保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的高度位置。即，控制裝置40通過控制對(duì)電磁鐵單元U1、U2、U3、……的通電，能夠控制保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的高度，即，保護(hù)盤15的高度。控制裝置40在使保護(hù)盤15從旋轉(zhuǎn)臺(tái)7浮起并控制保護(hù)盤15的高度時(shí)，對(duì)盤升降用電磁鐵裝置97通電第一方向的電流，且根據(jù)控制目標(biāo)高度來控制對(duì)電磁鐵單元Ul、U2、U3、……的通電。由此，能夠?qū)⒈Ｗo(hù)盤15配置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7和基板保持高度之間的控制目標(biāo)高度。因此，與第三實(shí)施方式同樣地，例如，能夠?qū)⒈Ｗo(hù)盤15配置在與處理內(nèi)容相應(yīng)的適當(dāng)?shù)母叨?。此外，若控制?duì)盤升降用電磁鐵裝置97通電的電流的大小，則能夠控制盤升降用電磁鐵裝置97的磁極97a和保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60之間的磁排斥力的大小。利用這些能夠控制保護(hù)盤側(cè)永久磁鐵60的高度，即，保護(hù)盤15的高度。因此，也可以省略高度控制用電磁鐵裝置98，通過對(duì)盤升降用電磁鐵裝置97的通電控制，控制保護(hù)盤15的高度。圖11是表示用于檢測(cè)保護(hù)盤15的位置的結(jié)構(gòu)例的圖。在該結(jié)構(gòu)例中，設(shè)置有光電傳感器121，該光電傳感器121用于檢測(cè)保護(hù)盤15是否處于旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上的下位置。光電傳感器121的輸出信號(hào)輸入至控制裝置40。光電傳感器121配置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的側(cè)方，該檢測(cè)光軸121a被調(diào)整為沿著與保護(hù)盤15的下位置匹配的水平面。在保護(hù)盤15處于下位置時(shí)，光電傳感器121的檢測(cè)光軸121a與保護(hù)盤15重疊。因此，通過檢測(cè)出保護(hù)盤15遮擋光或者反射光，能夠檢測(cè)出保護(hù)盤15處于下位置。由此，控制裝置40能夠確認(rèn)保護(hù)盤15是否處于下位置，由此確認(rèn)磁浮起機(jī)構(gòu)41的動(dòng)作。圖12是表示用于檢測(cè)保護(hù)盤15的位置的其他結(jié)構(gòu)例的圖。在該結(jié)構(gòu)例中設(shè)置有線傳感器122，該線傳感器122用于檢測(cè)保護(hù)盤15在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上的高度。線傳感器122的
輸出信號(hào)輸入至控制裝置40。線傳感器122是具有多個(gè)光軸al、a2、a3、......的多光軸型
的線傳感器，多個(gè)光軸al、a2、a3、......位于不同的高度上。S卩，多個(gè)光軸al、a2、a3、......相互平行，都沿著水平面，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的上表面和基板保持高度之間，與保護(hù)盤15的不同的高度位置匹配。因此，根據(jù)保護(hù)盤15的高度，某個(gè)光軸al、a2、a3、……和保護(hù)盤15重疊。因此，通過檢測(cè)出經(jīng)過各光軸的光被保護(hù)盤15遮擋或者經(jīng)過該光軸的光被保護(hù)盤15反射，能夠檢測(cè)出保護(hù)盤15的高度。由此，控制裝置40獲取關(guān)于保護(hù)盤15的高度的信息，確認(rèn)或者控制磁浮起機(jī)構(gòu)41的動(dòng)作。圖13是表示用于檢測(cè)保護(hù)盤15的位置的其他結(jié)構(gòu)例的圖。在該結(jié)構(gòu)例中設(shè)置有照相機(jī)123，該照相機(jī)123用于檢測(cè)保護(hù)盤15在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上的高度。照相機(jī)123輸出的影像信號(hào)輸入至控制裝置40。照相機(jī)123從旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)方對(duì)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7和基板保持高度之間的區(qū)域進(jìn)行拍攝。因此，該拍攝區(qū)域包括保護(hù)盤15。控制裝置40通過處理照相機(jī)123輸出的影像信號(hào)，運(yùn)算保護(hù)盤15的高度。由此，控制裝置40獲取關(guān)于保護(hù)盤15的高度的信息，確認(rèn)或者控制磁浮起機(jī)構(gòu)41的動(dòng)作。圖14是表示用于檢測(cè)保護(hù)盤15的位置的其他結(jié)構(gòu)例的圖。在該結(jié)構(gòu)例中設(shè)置有距離傳感器124，該距離傳感器124用于檢測(cè)保護(hù)盤15在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上的高度。距離傳感器124的輸出信號(hào)輸入至控制裝置40。在圖14的結(jié)構(gòu)例中，距離傳感器124配置于磁鐵保持構(gòu)件61的下方，檢測(cè)與該 磁鐵保持構(gòu)件61的距離。由于磁鐵保持構(gòu)件61與保護(hù)盤15相結(jié)合，因此通過距離傳感器124檢測(cè)出的距離與保護(hù)盤15在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上的高度相對(duì)應(yīng)。距離傳感器124可以產(chǎn)生如探測(cè)超聲波或探測(cè)光那樣的探測(cè)信號(hào)，通過檢測(cè)被磁鐵保持構(gòu)件61反射的該探測(cè)信號(hào)來測(cè)量距離?？刂蒲b置40基于距離傳感器124的輸出信號(hào)獲取關(guān)于保護(hù)盤15的高度的信息，基于該信息確認(rèn)或者控制磁浮起機(jī)構(gòu)41的動(dòng)作。上面對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明也能夠由其他的方式實(shí)施。例如，如在圖4上用雙點(diǎn)劃線所示，可以在保護(hù)盤15的周緣部固定有裙部93，該裙部93作為從側(cè)方遮蓋基板W的下表面和旋轉(zhuǎn)臺(tái)7之間的空間的側(cè)方覆蓋構(gòu)件。裙部93形成為沿著保護(hù)盤15的周緣部的圓環(huán)狀，與裙部93的周向垂直的剖面形成為大致橫向的L字形。更具體地，裙部93具有:水平部94，沿著裙部93的下表面水平延伸；垂下部95，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的外側(cè)從水平部94垂直地垂下。在保護(hù)盤15位于接近位置時(shí)，裙部93從側(cè)方遮蓋保護(hù)盤15的下表面和旋轉(zhuǎn)臺(tái)7之間的空間，從而抑制周圍的環(huán)境氣體卷入該空間中。由此，因?yàn)樾D(zhuǎn)卡盤2周圍的氣流穩(wěn)定，因此能夠進(jìn)行更高品質(zhì)的基板處理。在保護(hù)盤15處于下位置時(shí)，裙部93與保護(hù)盤15 —起退避至下方，保護(hù)盤15的上表面和被保持銷10保持的基板保持高度之間的空間向側(cè)方開放。因此，能夠使基板保持手部45進(jìn)入該空間內(nèi)，搬入和搬出基板W。
另外，在上述的實(shí)施方式中，將用于升降擋板4的擋板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5兼用作磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)42的驅(qū)動(dòng)源，但是也可以另外設(shè)置用于磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)42的驅(qū)動(dòng)源。另外，在上述的實(shí)施方式中，設(shè)置有通過磁力驅(qū)動(dòng)可動(dòng)銷12的磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)42，但是也可以在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上組裝用于驅(qū)動(dòng)可動(dòng)銷12的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。另外，在上述的實(shí)施方式中，向保護(hù)盤15和基板W的下表面之間的空間供給非活性氣體，但是也可以省略供給這樣的非活性氣體。另外，在上述的動(dòng)作例中，在基板停止旋轉(zhuǎn)之后停止供給非活性氣體，但也可以在開始旋轉(zhuǎn)干燥處理的同時(shí)停止供給非活性氣體。另外，在上述的實(shí)施方式中，對(duì)通過清洗刷刷洗基板W的上表面的例子進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明也能夠應(yīng)用通過雙流體噴嘴向基板W的表面供給液滴的噴流來清洗基板W的上表面的結(jié)構(gòu)，來代替使用清洗刷的結(jié)構(gòu)。另外，本發(fā)明也能夠應(yīng)用:將賦予了超聲波的處理液向基板的表面供給的超聲波清洗，或?qū)⒓訅毫说奶幚硪旱母咚倭飨蚧宓谋砻婀┙o來清洗基板的高壓噴射清洗等基板處理。除了清洗處理之外，本發(fā)明也能夠應(yīng)用于在基板的表面上涂敷抗蝕液的涂敷處理、向曝光之后的抗蝕液膜供給顯影液的顯影處理。另外，在上述的實(shí)施方式中，對(duì)于利用永久磁鐵彼此的磁吸引力來驅(qū)動(dòng)可動(dòng)銷12的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了說明，但是例如在偏離可動(dòng)銷12的旋轉(zhuǎn)軸線12a的位置配置未磁化的磁性體來代替銷驅(qū)動(dòng)用永久磁鐵56，也能夠進(jìn)行同樣的動(dòng)作。另外，通過在偏離可動(dòng)銷12的旋轉(zhuǎn)軸線12a的位置配置永久磁鐵，并且在與擋板側(cè)永久磁鐵25以及解除用永久磁鐵27對(duì)應(yīng)的位置分別配置未磁化的磁性體，也能夠?qū)崿F(xiàn)同樣的動(dòng)作。而且，在上述的實(shí)施方式中，使擋板側(cè)永久磁鐵25的磁極方向?yàn)樗椒较?，但是這僅是一例子，可以使擋板側(cè)永久磁鐵25的磁極方向?yàn)殂U垂方向，也可以使磁極方向?yàn)橄鄬?duì)于水平面傾斜的方向。另外，在上述的實(shí)施方式中，對(duì)于旋轉(zhuǎn)卡盤2的旋轉(zhuǎn)臺(tái)7配置在規(guī)定的高度上且擋板4沿著旋轉(zhuǎn)軸線6上下移動(dòng)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。但是，通過固定擋板4且使旋轉(zhuǎn)卡盤2上下移動(dòng)，也能夠進(jìn)行同樣的動(dòng)作。另外，通過使旋轉(zhuǎn)卡盤2以及擋板4兩者上下移動(dòng)，也能夠進(jìn)行同樣的動(dòng)作。對(duì)于本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行了詳細(xì)的說明，但是這些僅是用于明確本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容而采用的具體例，本發(fā)明不應(yīng)該限定并解釋為這些具體例，本發(fā)明的保護(hù)范圍僅通過權(quán)利要求書來限定。本申請(qǐng)與2011年12月19日向日本特許廳提出的特愿2011-277402號(hào)以及2012年3月28日向日本特許廳提出的特愿2012-74620號(hào)相對(duì)應(yīng)，本申請(qǐng)的所有公開通過引用加入于本申請(qǐng)。
權(quán)利要求
1.一種基板保持旋轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，具有: 旋轉(zhuǎn)臺(tái)，能夠圍繞鉛垂方向的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)； 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元，用于使上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)； 保持構(gòu)件，設(shè)置在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，將基板在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的上方保持為水平且使該基板與上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)之間具有間隔； 保護(hù)盤，具有與被上述保持構(gòu)件保持的基板同等的大小，配置于上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)和通過上述保持構(gòu)件保持的基板的保持位置之間，以能夠在下位置和接近位置之間相對(duì)于上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上下移動(dòng)的方式安裝在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，其中，上述接近位置，位于下位置的上方，接近被上述保持構(gòu)件保持的基板的下表面； 磁浮起機(jī)構(gòu)，包括第一磁鐵、第二磁鐵、第一支撐構(gòu)件和第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，借助上述第一磁鐵和上述第二磁鐵之間的排斥力使上述保護(hù)盤從上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)浮起，其中，上述第一磁鐵安裝在上述保護(hù)盤上，上述第二磁鐵形成為與上述旋轉(zhuǎn)軸線同軸的環(huán)狀，并對(duì)上述第一磁鐵作用排斥力，上述第一支撐構(gòu)件以非旋轉(zhuǎn)狀態(tài)支撐上述第二磁鐵，上述第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述第一支撐構(gòu)件和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)移動(dòng)，來使上述第一磁鐵和上述第二磁鐵之間的距離變化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置，其特征在于， 上述保持構(gòu)件包括在保持基板的保持位置和從上述保持位置退避的退避位置之間移位的可動(dòng)保持構(gòu)件， 上述基板保持旋轉(zhuǎn)裝置還包括磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括第一磁性體、第二磁性體、第二支撐構(gòu)件、第二相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，借助上述第一磁性體和上述第二磁性體之間的磁力，將上述可動(dòng)保持構(gòu)件保持 在上述保持位置，其中，上述第一磁性體安裝在上述可動(dòng)保持構(gòu)件上，上述第二磁性體形成為與上述旋轉(zhuǎn)軸線同軸的環(huán)狀，并與上述第一磁性體之間產(chǎn)生磁力，上述第二支撐構(gòu)件以非旋轉(zhuǎn)狀態(tài)支撐上述第二磁性體，上述第二相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述第二支撐構(gòu)件和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)移動(dòng)，來使上述第一磁性體和上述第二磁性體之間的距離變化。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置，其特征在于， 上述第二磁性體為上述第二磁鐵，上述第二支撐構(gòu)件為上述第一支撐構(gòu)件，上述第二相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)為上述第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)， 上述磁驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以及上述磁浮起機(jī)構(gòu)共有上述第二磁鐵、上述第一支撐構(gòu)件以及上述第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)， 在上述第二磁鐵處于規(guī)定位置時(shí)，借助該第二磁鐵和上述第一磁鐵之間的排斥力使上述保護(hù)盤保持在上述接近位置，并且借助作用于該第二磁鐵和上述第一磁性體之間的磁力使上述可動(dòng)保持構(gòu)件保持在上述保持位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，還包括限制構(gòu)件，在上述接近位置，該限制構(gòu)件限制上述保護(hù)盤相對(duì)于上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)向上方的相對(duì)移動(dòng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，還包括引導(dǎo)機(jī)構(gòu)，該引導(dǎo)機(jī)構(gòu)設(shè)置在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，用于引導(dǎo)上述保護(hù)盤的相對(duì)上下移動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，還包括側(cè)方覆蓋構(gòu)件，該側(cè)方覆蓋構(gòu)件安裝在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，用于從側(cè)方覆蓋被上述保持構(gòu)件保持的基板和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)之間的空間。
7.一種基板處理裝置，其特征在于，具有: 權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置， 處理液供給單元，用于向被上述基板保持旋轉(zhuǎn)裝置保持的基板的上表面供給處理液。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于， 還包括接受構(gòu)件，從上述處理液供給單元向被上述基板保持旋轉(zhuǎn)裝置保持的基板供給處理液，上述接受構(gòu)件用于接收從上述基板的表面向該基板的外側(cè)排出的處理液， 在上述接受構(gòu)件上固定有上述第一支撐構(gòu)件， 上述第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述接受構(gòu)件和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)移動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括非活性氣體供給單元，該非活性氣體供給單元向被上述基板保持旋轉(zhuǎn)裝置保持并進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板和配置在上述接近位置的上述保護(hù)盤之間供給非活性氣體。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于，上述保護(hù)盤在上表面上具有節(jié)流部，該節(jié)流部在被上述保持構(gòu)件保持的基板的邊緣部使上述非活性氣體的流路縮小。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于，上述非活性氣體供給單元包括非活性氣體噴嘴，該非活性氣體噴嘴從上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中心朝向被上述保持構(gòu)件保持的基板的周緣部呈放射狀吹出非活性氣體。
12.—種基板處理方法，其特征在于，包括: 保持工序，通過在能夠圍繞沿著鉛垂方向的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)上所設(shè)置的保持構(gòu)件，將基板保持為水平； 旋轉(zhuǎn)工序，通過使上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)，使被上述保持構(gòu)件保持的上述基板旋轉(zhuǎn)； 下表面覆蓋工序，通過使環(huán)狀的第二磁鐵和安裝在保護(hù)盤上的第一磁鐵接近，借助上述第一磁鐵以及上述第二磁鐵之間的排斥力，使上述保護(hù)盤相對(duì)于上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)浮起到接近上述基板的下表面的接近位置來覆蓋上述基板的下表面，其中，上述保護(hù)盤以能夠相對(duì)上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上下移動(dòng)的方式安裝在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，并且具有與上述基板同等的大小，上述第二磁鐵以非旋轉(zhuǎn)狀態(tài)設(shè)置成與上述旋轉(zhuǎn)軸線同軸； 處理液供給工序，與上述保持工序以及上述旋轉(zhuǎn)工序并行進(jìn)行，向下表面被上述保護(hù)盤覆蓋的上述基板的上表面供給處理液。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板處理方法，其特征在于， 上述保持構(gòu)件包括在保持基板的保持位置和從上述保持位置退避的退避位置之間移位的可動(dòng)保持構(gòu)件， 上述保持工序包括對(duì)安裝在上述可動(dòng)保持構(gòu)件上的磁性體作用磁力來使上述可動(dòng)保持構(gòu)件保持在上述保持位置的工序。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板處理方法，其特征在于， 上述下表面覆蓋工序?yàn)?，通過將上述第二磁鐵配置在規(guī)定位置，借助該第二磁鐵和上述第一磁鐵之間的排斥力使上述保護(hù)盤浮起并保持在上述接近位置的工序， 上述保持工序?yàn)椋ㄟ^將上述第二磁鐵配置在上述規(guī)定位置，借助作用于上述第二磁鐵和上述磁性體之間的磁 力將上述可動(dòng)保持構(gòu)件保持在上述保持位置的工序。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板處理方法，其特征在于，還包括通過限制構(gòu)件在上述接近位置限制上述保護(hù)盤相對(duì)于上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)向上方的相對(duì)移動(dòng)的工序。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板處理方法，其特征在于， 還包括利用接受構(gòu)件接受進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的上述基板向外側(cè)排出的處理液的工序， 上述接受構(gòu)件支撐上述第二磁鐵， 上述下表面覆蓋工序包括使上述接受構(gòu)件和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)接近的工序。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板處理方法，其特征在于，還包括非活性氣體供給工序，該非活性氣體供給工序與上述處理液供給工序并行進(jìn)行，向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的上述基板和配置在上述接近位置的上述保護(hù)盤之間供給非活性氣體。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基板處理方法，其特征在于， 上述保護(hù)盤在上表面上的與被上述保持構(gòu)件保持的基板的邊緣部相向的位置具有節(jié)流部， 上述基板處理方法還包括與上述非活性氣體供給工序并行進(jìn)行，通過上述節(jié)流部縮小上述非活性氣體的流路的工序。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基板處理方法，其特征在于， 上述非活性氣體供給工序包括從上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中心朝向被上述保持構(gòu)件保持的基板的周緣部呈放射狀吹出非活性氣體的工序。
20.根據(jù)權(quán)利要求12至19中任一項(xiàng)所述的基板處理方法，其特征在于， 還包括如下工序:與上述下表面覆蓋工序并行執(zhí)行，通過安裝在上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的側(cè)方覆蓋構(gòu)件從側(cè)方覆蓋被上述保持構(gòu)件保持的基板和上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)之間的空間。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板保持旋轉(zhuǎn)裝置，包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)，圍繞沿著鉛垂方向的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元，使旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)；保持構(gòu)件，設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，從旋轉(zhuǎn)臺(tái)向上方隔開間隔，將基板保持為水平；保護(hù)盤，配置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)和被保持構(gòu)件保持的基板保持位置之間，以能夠在下位置和接近位置之間相對(duì)于旋轉(zhuǎn)臺(tái)上下移動(dòng)的方式安裝在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，具有與被保持構(gòu)件保持的基板同等的大小，接近位置位于下位置的上方，是接近被保持構(gòu)件保持的基板的下表面的位置；磁浮起機(jī)構(gòu)，包括第一磁鐵、第二磁鐵、第一支撐構(gòu)件和第一相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，借助第一磁鐵和第二磁鐵之間的排斥力使保護(hù)盤從旋轉(zhuǎn)臺(tái)浮起。
文檔編號(hào)H01L21/02GK103165495SQ201210342309
公開日2013年6月19日 申請(qǐng)日期2012年9月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月19日
發(fā)明者加藤洋 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)屏制造株式會(huì)社