專利名稱：用于處理平的襯底的設(shè)備和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于在連續(xù)的處理過(guò)程中處理平的襯底的設(shè)備，包括a)槽容器，所述槽容器用液態(tài)的處理介質(zhì)填充直到一定液位；b)運(yùn)輸裝置，借助于所述運(yùn)輸裝置，襯底能夠通過(guò)引導(dǎo)元件在水平的運(yùn)輸平面中沿運(yùn)輸方向弓I導(dǎo)地運(yùn)輸通過(guò)處理介質(zhì)，使得襯底的至少一個(gè)處理側(cè)浸入到處理介質(zhì)中；c)循環(huán)裝置，處理介質(zhì)借助于所述循環(huán)裝置能夠在槽容器中循環(huán)，并且所述循環(huán)裝置包括抽吸裝置和輸出裝置，處理介質(zhì)通過(guò)所述抽吸裝置從槽容器中抽出，抽出的處理介質(zhì)通過(guò)所述輸出裝置又輸出到槽容器中。此外，本發(fā)明涉及一種用于處理平的襯底、尤其是用于半導(dǎo)體工業(yè)和太陽(yáng)能工業(yè)的襯底的方法，其中a)襯底通過(guò)引導(dǎo)元件引導(dǎo)地在水平的運(yùn)輸平面中沿運(yùn)輸方向運(yùn)輸通過(guò)液態(tài)的處理介質(zhì)，使得襯底的至少一個(gè)處理側(cè)浸入到處理介質(zhì)中；b )處理介質(zhì)借助于循環(huán)裝置循環(huán)。
背景技術(shù)：
這種處理設(shè)備和方法從市場(chǎng)中已知，并且例如在處理平的襯底時(shí)使用，如所述襯底在半導(dǎo)體和太陽(yáng)能工業(yè)中例如以硅片的形式、也就是說(shuō)以所謂的晶圓、硅板和玻璃板的形式經(jīng)受不同類型的濕法工藝。在本文中，尤其有興趣的是對(duì)所述襯底進(jìn)行濕法化學(xué)的刻蝕處理。對(duì)此，將其表面應(yīng)當(dāng)被改變的待處理的襯底輸送通過(guò)液體刻蝕處理介質(zhì)。在刻蝕過(guò)程中，襯底的表面得到對(duì)其隨后的使用目的而言必要的特性。在此，例如運(yùn)輸輥用作為供襯底在其通過(guò)處理介質(zhì)期間的引導(dǎo)元件，所述襯底平放在所述運(yùn)輸輥上。存在下述設(shè)備，其中將襯底在液位之下引導(dǎo)通過(guò)處理介質(zhì)，同樣存在下述設(shè)備，其中將襯底一定程度漂浮在處理介質(zhì)表面上地引導(dǎo)，使得所述襯底的上側(cè)未浸潤(rùn)地從處理介質(zhì)中突出。在化學(xué)的刻蝕處理中，總體上，在襯底位置處的處理介質(zhì)的組分對(duì)刻蝕結(jié)果的質(zhì)量而言是決定性的參數(shù)。在刻蝕過(guò)程期間，在襯底上除直接的反應(yīng)產(chǎn)物之外也形成在實(shí)際的刻蝕過(guò)程之后的反應(yīng)中形成的副產(chǎn)物。尤其地，在襯底上例如形成氧化氮NOx，所述氧化氮在緊鄰的襯底附近處起催化作用并且對(duì)均勻的蝕像而言也需要在襯底處的特定的濃度范圍。在槽容器中，通常在開(kāi)始所述類型的已知設(shè)備中構(gòu)成氧化氮NOx的濃度梯度，其中NOx濃度隨著槽深度的增加而降低。然而，當(dāng)氧化氮NOx沒(méi)有從襯底中導(dǎo)出時(shí)，引起在襯底附近的局部的過(guò)飽和，這又導(dǎo)致在襯底上出現(xiàn)不均勻的蝕像。因?yàn)檠趸狽Ox能夠從處理液體中逸出到高于液位的大氣中，所以此外，當(dāng)襯底上消耗的處理介質(zhì)沒(méi)有由新鮮的處理介質(zhì)更換時(shí)，在可能的生產(chǎn)停頓中刻蝕速度非?？斓叵陆?。當(dāng)引起與生產(chǎn)相關(guān)的中斷時(shí)，必須在每次恢復(fù)處理時(shí)，在襯底上再建立氧化氮NOx的濃度，并且必須重新設(shè)定例如處理槽溫度和運(yùn)輸速度的其他刻蝕參數(shù)。
由此，能夠引起刻蝕結(jié)果質(zhì)量的明顯波動(dòng)；同時(shí)，這在處理設(shè)備的下降的產(chǎn)量中體現(xiàn)出來(lái)。為了實(shí)現(xiàn)在槽容器中均勻混合處理介質(zhì)并且由此實(shí)現(xiàn)氧化氮NOx在處理介質(zhì)中的均勻分布，在已知的設(shè)備和方法中使用在處理槽中循環(huán)處理介質(zhì)的循環(huán)裝置，由此，將反應(yīng)產(chǎn)物和氧化氮NOx從處理位置導(dǎo)出并且尤其將氧化氮NOx均勻地分布在處理槽中。對(duì)此已知的是，經(jīng)由輸出設(shè)備從下方朝向襯底輸出循環(huán)的處理介質(zhì)，使得朝向兩個(gè)相鄰的引導(dǎo)元件之間的、例如兩個(gè)相鄰的運(yùn)輸輥之間的中間空間輸出循環(huán)的處理介質(zhì)的主要部分。然而，經(jīng)驗(yàn)示出，在此也仍引起蝕像的局部的不均勻性，并且在與生產(chǎn)相關(guān)的停頓中，迅速地失去浴活性。通過(guò)改變并重新設(shè)定例如為運(yùn)輸速度或槽溫度的其他的工藝參數(shù)，能夠部分地抵消所述效應(yīng)。然而，這在每次中斷之后是必要的，這導(dǎo)致每次必須重新評(píng)估刻蝕結(jié)果。工藝的設(shè)定過(guò)程能夠是非常耗費(fèi)時(shí)間的并且每次需要幾分鐘。因此總體上，整個(gè)進(jìn)程不是令人滿意的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是，實(shí)現(xiàn)開(kāi)始提及類型的設(shè)備和方法，其中在處理位置快速地以及可靠地用未消耗的處理介質(zhì)來(lái)更換消耗的處理介質(zhì)，并且尤其地，確保處理介質(zhì)的均勻混合并且由此確保氧化氮NOx在處理介質(zhì)中的均勻分布，而沒(méi)有引起上述困難或者至少減小了上述困難。所述目的在開(kāi)始所述類型的設(shè)備中如下實(shí)現(xiàn)，d)迎流元件在槽容器中設(shè)置在低于運(yùn)輸平面的高度水平上；e)循環(huán)裝置的輸出裝置包括輸出噴嘴，所述輸出噴嘴設(shè)置在低于迎流元件的高度水平上并且設(shè)計(jì)成，使得輸出噴嘴中的每一個(gè)都目的明確地朝向迎流元件的每一個(gè)輸出處理介質(zhì)的主要部分。其中應(yīng)當(dāng)理解的是，盡管由確定的輸出噴嘴輸出的處理介質(zhì)的一部分能夠流過(guò)迎流元件，而流動(dòng)路徑?jīng)]有明顯地被迎流元件影響。然而，由確定的輸出噴嘴輸出的處理介質(zhì)的主要部分目的明確地流到相關(guān)聯(lián)的迎流元件上，使得通過(guò)所述迎流元件隔斷循環(huán)的處理介質(zhì)的直接的流動(dòng)路徑。本發(fā)明以如下知識(shí)為基礎(chǔ)，在該情況下能夠?qū)崿F(xiàn)均勻的流型并且在處理位置處均勻地并有效地進(jìn)行處理介質(zhì)的更換，由此，尤其能夠?qū)崿F(xiàn)氧化氮NOx在處理介質(zhì)中的均勻分布。在此，尤其適宜的是，輸出噴嘴設(shè)置在從上方觀察位于迎流元件的凈輪廓之內(nèi)的區(qū)域中，其中相應(yīng)的凈輪廓通過(guò)如下的迎流元件限定，相應(yīng)的輸出噴嘴將處理介質(zhì)輸出到所述迎流元件上。在結(jié)構(gòu)方面有利的是，輸出裝置包括多個(gè)帶有輸出開(kāi)口的噴嘴條，其中每個(gè)輸出開(kāi)口形成輸出噴嘴。優(yōu)選地，所述噴嘴條彼此平行并且平行于襯底運(yùn)輸方向地設(shè)置。替選地，噴嘴條能夠垂直于運(yùn)輸方向地設(shè)置。因此，在所有加載有處理介質(zhì)的迎流元件處引起相同的或相似的流動(dòng)效應(yīng)，適宜的是，噴嘴條設(shè)置在共同的水平面中，也就是說(shuō)相關(guān)的噴嘴條距迎流元件的距離相等。
能夠有利的是，輸出裝置包括分別形成輸出噴嘴的多個(gè)的單獨(dú)噴嘴。那么，單獨(dú)噴嘴能夠單獨(dú)地或者以由兩個(gè)或多個(gè)單獨(dú)噴嘴組成的組的形式被輸送有循環(huán)的處理介質(zhì)。由此，能夠在寬的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)處理槽中的流動(dòng)分布。通常優(yōu)選的是，能夠調(diào)節(jié)輸送給輸出裝置的循環(huán)的處理介質(zhì)的體積流。循環(huán)裝置能夠設(shè)計(jì)成，使得a)總是以相同的體積流將循環(huán)的處理介質(zhì)傳輸給全部的輸出噴嘴；或者b)能夠?qū)⑻幚斫橘|(zhì)的單獨(dú)的體積流輸送給各個(gè)輸出噴嘴或由兩個(gè)或多個(gè)輸出噴嘴組成的組，而與其余的輸出噴嘴無(wú)關(guān)或者與由兩個(gè)或多個(gè)輸出噴嘴組成的其余的組無(wú)關(guān)。在后一情況下，在槽容器中能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)流動(dòng)性能進(jìn)行尤其精細(xì)的調(diào)節(jié)。尤其有利的是，迎流元件由運(yùn)輸裝置的引導(dǎo)元件形成。在該情況下，不需要其他的構(gòu)件。這意味著，輸出裝置的輸出噴嘴目的明確地從下方朝運(yùn)輸裝置的引導(dǎo)元件輸出處理介質(zhì)。如上已經(jīng)說(shuō)明的是，迎流元件能夠優(yōu)選地構(gòu)造成運(yùn)輸輥，襯底平放到所述運(yùn)輸輥上。在開(kāi)始所述類型的方法方面，上述目的通過(guò)以下內(nèi)容實(shí)現(xiàn)，c)循環(huán)的處理介質(zhì)的主要部分從低于迎流元件的高度水平目的明確地朝向迎流元件輸出，所述迎流元件本身在槽容器中設(shè)置在低于運(yùn)輸平面的高度水平上。該優(yōu)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于上面針對(duì)處理設(shè)備闡明的優(yōu)點(diǎn)。如同以上已經(jīng)針對(duì)處理設(shè)備所討論的是，在所述方法中有利的是，處理介質(zhì)從由上方觀察存在于迎流元件的凈輪廓之內(nèi)的區(qū)域朝向相應(yīng)的迎流元件輸出，其中每個(gè)凈輪廓通過(guò)如下的迎流元件限定，輸出噴嘴將處理介質(zhì)輸出到所述迎流元件上。在此,也適宜的是,引導(dǎo)元件用作為迎流元件。還優(yōu)選的是，運(yùn)輸輥用作為迎流元件，襯底平放到所述運(yùn)輸輥上。


以下將根據(jù)附圖詳細(xì)闡明本發(fā)明的實(shí)施例。其中示出:圖1示出按照根據(jù)第一實(shí)施例的用于處理平的襯底的設(shè)備的根據(jù)圖2中的剖切線1-1的垂直剖面圖，其中存在循環(huán)裝置；圖2示出圖1的設(shè)備的沿著圖1的剖切線I1-1I剖開(kāi)的剖面圖；圖3示出帶有多個(gè)輸出開(kāi)口的噴嘴條的不按比例的剖面圖；圖4和5示出在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備中和在根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的設(shè)備中對(duì)槽表面上的流動(dòng)情況進(jìn)行比較的示意圖；圖6示出按照根據(jù)第二實(shí)施例的用于處理平襯底的設(shè)備的根據(jù)圖5中的剖切線IV-1V的垂直剖面圖；圖7示出圖4的設(shè)備的沿圖4的剖切線VI1-VII剖開(kāi)的剖面圖。
具體實(shí)施例方式在圖1和2中，用于處理平的襯底的設(shè)備整體標(biāo)記為2，其中示例地示出多個(gè)例如用于制造太陽(yáng)能電池的硅板4。處理設(shè)備2包括槽容器6，用液態(tài)的處理介質(zhì)10填充所述槽容器6直至一定液位
8。槽容器在其第一端壁中具有水平的進(jìn)料口 12并且在其對(duì)置的第二端壁中具有水平的出料口 14。借助于運(yùn)輸裝置16，硅板4在水平位置中沿通過(guò)箭頭表示的運(yùn)輸方向18運(yùn)輸通過(guò)處理介質(zhì)10，由此限定在圖1、3、6和7中表明的、水平的運(yùn)輸平面20。在進(jìn)料口 12和出料口 14處分別存在在此不進(jìn)一步關(guān)注的密封裝置21，使得在那里處理介質(zhì)10不能夠向外滲透。這種密封裝置是自身已知的。液位8僅少量地、例如位于硅板4的上側(cè)22的0.1至10毫米之上。因此，硅板4在本實(shí)施例中在通過(guò)槽容器6時(shí)完全地浸入到處理介質(zhì)10中。對(duì)此，作為引導(dǎo)元件的運(yùn)輸裝置16包括下部的運(yùn)輸輥24，在所述運(yùn)輸輥24上，硅板4以其下側(cè)26平放在所述運(yùn)輸輥上地運(yùn)輸通過(guò)處理介質(zhì)10。所述下側(cè)26是硅板4的應(yīng)當(dāng)經(jīng)受刻蝕處理的處理側(cè)。也能夠存在其他結(jié)構(gòu)作為引導(dǎo)元件來(lái)代替運(yùn)輸輥24，例如，也可以考慮簡(jiǎn)單的滑移元件，硅板4平放在所述滑移元件上并且在通過(guò)處理介質(zhì)10時(shí)，經(jīng)由所述滑移元件移動(dòng)硅板4。在變型形式中，硅板4僅以其處理側(cè)26浸入到處理介質(zhì)10中，而其上側(cè)22未浸潤(rùn)地突出到位于處理介質(zhì)10之上的大氣中。處理介質(zhì)10的液位8在該情況下相應(yīng)較低。此外，運(yùn)輸裝置16在本實(shí)施例中包括上部的運(yùn)輸輥28，所述運(yùn)輸輥28分別在硅板4的上側(cè)22上滾動(dòng)。在此每隔一個(gè)下部的運(yùn)輸輥24對(duì)置地設(shè)置一個(gè)上部的運(yùn)輸輥28，使得襯底板4容納在所述滾輪對(duì)24、28之間。在圖中，相應(yīng)地僅運(yùn)輸輥24和28中的一些設(shè)有附圖標(biāo)記。在圖2中透視地示出運(yùn)輸輥28和24。下部的和上部的運(yùn)輸輥24和28沿橫向于運(yùn)輸方向18的水平線延伸，并且本身在槽容器6之外安放在支承塊30中。上部的運(yùn)輸輥28能夠借助于一個(gè)或多個(gè)在此沒(méi)有特意示出的馬達(dá)驅(qū)動(dòng)。運(yùn)輸輥28同時(shí)用于，使硅板4總是平放在下部的運(yùn)輸輥24上并且不向上升起硅板4。上部的輸送滾輪20安放成，使得所述輸送滾輪在一定范圍內(nèi)可豎直地移動(dòng)。必要時(shí)，例如上部的運(yùn)輸輥28能夠是柔性的或者可豎直移動(dòng)地安放。通過(guò)所述措施確保:上部的運(yùn)輸輥28能夠使其豎直位置適應(yīng)于硅板4的厚度差。為了實(shí)現(xiàn)處理介質(zhì)10的以及由此氧化氮NOx在槽容器6中的開(kāi)始所提及的均勻混合，處理設(shè)備2包括循環(huán)裝置32。借助于循環(huán)裝置32，從運(yùn)輸輥24、28的區(qū)域吸出處理介質(zhì)10，并且從下方再次輸出到仍位于槽容器6中的處理介質(zhì)10中。對(duì)此，循環(huán)裝置32包括抽吸裝置34和輸出裝置36，處理介質(zhì)10通過(guò)所述抽吸裝置從槽容器6抽出，所述抽出的處理介質(zhì)通過(guò)所述輸出裝置又輸出到槽容器6中。循環(huán)單元屬于抽吸裝置34，所述循環(huán)單元在本實(shí)施例中以所謂的流料箱38的形式存在。所述循環(huán)單元經(jīng)由多個(gè)進(jìn)氣接管40—在本實(shí)施例中存在三個(gè)這種進(jìn)氣接管40—從處理槽的區(qū)域抽出處理介質(zhì)10，下部的運(yùn)輸輥24設(shè)置在所述區(qū)域中。因此，流料箱38在硅板4的下側(cè)26附近從處理槽的區(qū)域中抽出處理介質(zhì)10。流料箱38將所述抽出的處理介質(zhì)10運(yùn)送至輸出裝置36，所述輸出裝置36包括多個(gè)帶有多個(gè)輸出噴嘴44的噴嘴條42，其中每個(gè)所述輸出噴嘴通過(guò)噴嘴條42中的輸出開(kāi)口46形成。在圖中僅一些噴嘴條42、輸出噴嘴44和輸出開(kāi)口 46設(shè)有附圖標(biāo)記。噴嘴條42進(jìn)而輸出噴嘴44設(shè)置在低于運(yùn)輸輥24的高度水平上并且設(shè)計(jì)成，使得輸出噴嘴44中的每個(gè)將循環(huán)的處理介質(zhì)10的通過(guò)箭頭表示的主要部分48目的明確地朝向下部的運(yùn)輸輥24中的每個(gè)輸出。如同開(kāi)始已經(jīng)提及地，在此應(yīng)理解的是，盡管由確定的輸出噴嘴44輸出的處理介質(zhì)10的一部分能夠流動(dòng)到下部的運(yùn)輸輥24之上的區(qū)域中并且因此流向硅板4，而沒(méi)有流到與所述輸出噴嘴44相關(guān)聯(lián)的下部的運(yùn)輸輥24上。然而，由確定的輸出噴嘴44輸出的處理介質(zhì)10的主要部分40目的明確地流到相關(guān)聯(lián)的下部的運(yùn)輸輥24上，使得通過(guò)下部的運(yùn)輸輥24隔斷循環(huán)的處理介質(zhì)10到硅板4的直接的流動(dòng)路徑。在此，輸出噴嘴44在本實(shí)施例中設(shè)置成，使得輸出噴嘴44從上方觀察位于下部的運(yùn)輸輥24的凈輪廓之內(nèi)的區(qū)域中，所述凈輪廓通過(guò)如下的下部的運(yùn)輸輥24限定，確定的輸出噴嘴44將處理介質(zhì)10輸出到所述下部的運(yùn)輸輥上。下部的運(yùn)輸輥24的凈輪廓在圖1中通過(guò)虛線表明并且設(shè)有附圖標(biāo)記50。由此，當(dāng)輸出噴嘴44以相應(yīng)的距離設(shè)置在運(yùn)輸輥24之下時(shí)，處理介質(zhì)從輸出噴嘴44出來(lái)遇到確定的下部的運(yùn)輸輥24的角度始終能夠保持相對(duì)大。然而在沒(méi)有特意示出的處理設(shè)備2的變型形式中，只要循環(huán)的處理介質(zhì)10的主要部分48以上述方式遇到相應(yīng)的下部的運(yùn)輸輥24，就也能夠?qū)⒁恍┗蛉康妮敵鰢娮?4設(shè)置在運(yùn)輸輥24的相應(yīng)的凈輪廓50之外。同樣不必在每個(gè)運(yùn)輸棍24之下設(shè)置一個(gè)或多個(gè)輸出噴嘴44 ;同樣能夠存在不被循環(huán)的處理介質(zhì)10流到的運(yùn)輸輥24。因此，輸出噴嘴44例如能夠僅與每隔一個(gè)或每隔兩個(gè)下部的運(yùn)輸輥24相關(guān)聯(lián)。因此，一般來(lái)說(shuō)，通過(guò)運(yùn)輸輥24構(gòu)成迎流元件，所述迎流元件在槽容器6中設(shè)置在運(yùn)輸平面20之下并且輸出噴嘴44將處理介質(zhì)10的主要部分48輸出到所述迎流元件上。在一個(gè)變型形式中，迎流元件也能夠作為槽容器6中單獨(dú)的構(gòu)件存在。這僅在圖1中通過(guò)虛線示出的迎流元件51來(lái)表明，所述迎流元件在那里設(shè)置在運(yùn)輸輥24之下。這種單獨(dú)的迎流元件51的幾何尺寸能夠是不同的。再次一般來(lái)說(shuō)，當(dāng)前重要的是，迎流元件設(shè)置在低于襯底的運(yùn)輸平面20的高度水平上，并且輸出噴嘴44位于低于迎流元件的高度水平上，其中所述迎流元件可能獨(dú)立的迎流元件51或者引導(dǎo)元件例如運(yùn)輸輥24。再次一般來(lái)說(shuō)，所述凈輪廓50相應(yīng)地是相應(yīng)迎流元件51的凈輪廓。下面，現(xiàn)在再參考作為迎流元件的運(yùn)輸輥24，其中為此所述的內(nèi)容意義上也相應(yīng)地適用于獨(dú)立的迎流元件。在圖3中示出處理設(shè)備2的未按照比例的斷面，其中能夠識(shí)別帶有設(shè)置在噴嘴條之上的運(yùn)輸輥24的噴嘴條42的剖面，硅板4在所述運(yùn)輸輥24上運(yùn)輸。在所述噴嘴條42中，在每個(gè)運(yùn)輸輥24之下，多個(gè)輸出噴嘴46沿所述的傳遞滾輪24的縱向方向分布在噴嘴條42的環(huán)周上，使得處理介質(zhì)扇形地朝向所述的運(yùn)輸輥24輸出，其中流動(dòng)扇面在運(yùn)輸輥24的縱向方向上展開(kāi)。這在圖3中通過(guò)相應(yīng)的箭頭表明，其中并非全部的輸出開(kāi)口 46都具有附圖標(biāo)記。輸出開(kāi)口 46的數(shù)量能夠在大的范圍內(nèi)變化。能夠總是分別僅存在唯一的輸出開(kāi)口 46，如同在圖2中的噴嘴條42中示出的那樣。輸出開(kāi)口 46的最大可能的數(shù)量尤其與所觀察的噴嘴條42的直徑以及各個(gè)輸出開(kāi)口 46的直徑和彼此間的間距相關(guān)。在實(shí)際中尤其證實(shí):多個(gè)輸出開(kāi)口 46以超過(guò)160°的角度范圍設(shè)置和分布，也就是說(shuō)在始于垂線V的兩個(gè)方向上分別設(shè)置和分布超過(guò)80°。然而，所述角度范圍也能夠被減小并且例如僅為120°。輸出開(kāi)口 46的分別對(duì)于特定的設(shè)備而言尤其有效的布置能夠借助常見(jiàn)的機(jī)構(gòu)通過(guò)試驗(yàn)來(lái)確定。當(dāng)循環(huán)的處理介質(zhì)10現(xiàn)在從相應(yīng)的輸出噴嘴44出來(lái)遇到下部的運(yùn)輸輥24時(shí)，流動(dòng)總體上被均勻化，其中中斷以及減小存在于從輸出噴嘴44中向上流動(dòng)的處理介質(zhì)10中的潤(rùn)流。由此，循環(huán)的處理介質(zhì)10均勻地流向在硅板4的下側(cè)26處的進(jìn)行刻蝕處理的位置，并且整體上，在硅板4的區(qū)域中以及在處理介質(zhì)10的液位8處形成均勻的流型。這通過(guò)圖4和5來(lái)表明。在圖4中能夠識(shí)別在處理設(shè)備2中出現(xiàn)的在液位8處的流型；圖5示出在處理介質(zhì)M的液位S處的流型，所述流型能夠在處理設(shè)備A中出現(xiàn)，所述處理設(shè)備從市場(chǎng)中已知并且在所述處理設(shè)備中，循環(huán)的處理介質(zhì)M流入在此處的運(yùn)輸輥T之間。在后一情況中，當(dāng)硅板4沒(méi)有堵塞路徑時(shí)，循環(huán)的處理介質(zhì)M在相對(duì)于液位S的直接路徑上流動(dòng)。因此，在液位S處通過(guò)強(qiáng)的并且直接指向上方的流動(dòng)而形成“流蘑菇頂”P，局部不期望的刻蝕和反應(yīng)產(chǎn)物能夠聚集在所述流蘑菇頂中，所述刻蝕和反應(yīng)產(chǎn)物也影響到在刻蝕位置處的、即在硅板下側(cè)的處理介質(zhì)的成分，使得生成的蝕像不具有期望的質(zhì)量。相反地，圖4示出:如何通過(guò)帶有噴嘴條42的輸出裝置36產(chǎn)生均勻的流型，其中在處理介質(zhì)10的液位8處的渦流是適度的，使得在此所述處理介質(zhì)在上部的運(yùn)輸輥28之間僅造成輕微的流突起部52。在此，處理介質(zhì)10更均勻地在槽容器6中循環(huán)并且氧化氮NOx在處理介質(zhì)10中均勻地分布，使得保證高質(zhì)量的刻蝕均勻性，如其在開(kāi)始所闡述的那樣。流料箱38對(duì)每個(gè)噴嘴條42提供循環(huán)的處理介質(zhì)10，所述處理介質(zhì)穿流過(guò)相應(yīng)的噴嘴條42并且經(jīng)由位于所述噴嘴條42中的輸出開(kāi)口 46再次離開(kāi)。由流料箱38輸送給輸出裝置38的循環(huán)的處理介質(zhì)10的體積流能夠是可調(diào)節(jié)的。在此，流料箱38能夠設(shè)計(jì)成，使得將循環(huán)的處理介質(zhì)10始終以相同的體積流輸送給全部的噴嘴條42。替選地，流料箱38也能夠設(shè)計(jì)成，使得處理介質(zhì)10的單獨(dú)的體積流能夠輸送給每個(gè)噴嘴條42而與其余的噴嘴條42無(wú)關(guān)。硅板4通常劃分成所謂的軌道，在所述軌道上設(shè)置之后的有效表面。在實(shí)際中，證實(shí)為尤其有利的是，輸出噴嘴44平行于所述軌道地分別相繼地設(shè)置，因此，噴嘴條42根據(jù)所述軌道平行于運(yùn)輸方向18并且彼此平行地設(shè)置在共同水平面中。然而在沒(méi)有特意示出的變型形式中，噴嘴條42例如也平行于下部的運(yùn)輸輥24、或通常來(lái)說(shuō)垂直于運(yùn)輸方向18延伸，使得在確定的運(yùn)輸輥24下存在噴嘴條42，其輸出噴嘴44因此將循環(huán)的處理介質(zhì)10的主要部分48全部輸出到所述確定的運(yùn)輸輥24上。在圖6和7中，現(xiàn)在示出修改的處理設(shè)備2’作為第二實(shí)施例。在所述處理設(shè)備中，相應(yīng)于根據(jù)圖1至4的那些處理設(shè)備2中部件和構(gòu)件的部件和構(gòu)件具有相同的附圖標(biāo)記，并且在意義上相應(yīng)地適用上面的處理設(shè)備2的內(nèi)容。處理設(shè)備2’與處理設(shè)備2的不同之處在于修改的輸出裝置36。在所述處理設(shè)備2’中，輸出噴嘴44通過(guò)單獨(dú)噴嘴54形成，其中每個(gè)單獨(dú)噴嘴經(jīng)由單獨(dú)的輸送通道56與流料箱38連接，其中僅一些單獨(dú)噴嘴設(shè)有附圖標(biāo)記。以所述方式，循環(huán)的處理介質(zhì)10能夠單獨(dú)地從流料箱38輸送給每個(gè)單獨(dú)噴嘴54。在沒(méi)有特意示出的變型形式中，具有兩個(gè)或多個(gè)單獨(dú)噴嘴54的各個(gè)單獨(dú)噴嘴54的組也能夠分別經(jīng)由相應(yīng)的共同輸送管道輸送輸送有循環(huán)的處理介質(zhì)10。此外，單獨(dú)噴嘴54也能夠與一個(gè)或多個(gè)噴嘴條42組合地使用，如同其在處理設(shè)備2中所設(shè)置的。
權(quán)利要求
1.用于在連續(xù)的過(guò)程中處理平的襯底的設(shè)備，帶有 a)槽容器(6)，所述槽容器用液態(tài)的處理介質(zhì)(10)填充直到一定液位(8)； b)運(yùn)輸裝置(16)，借助于所述運(yùn)輸裝置，襯底(4)能夠通過(guò)引導(dǎo)元件(24)在水平的運(yùn)輸平面(20 )中沿運(yùn)輸方向(18 )引導(dǎo)地運(yùn)輸通過(guò)所述處理介質(zhì)(10 )，使得所述襯底(4)的至少一個(gè)處理側(cè)(26)浸入到所述處理介質(zhì)(10)中； c )循環(huán)裝置(32 )，所述處理介質(zhì)(10 )借助于所述循環(huán)裝置能夠在所述槽容器(6 )中循環(huán)，并且所述循環(huán)裝置包括抽吸裝置(34)和輸出裝置(36)，通過(guò)所述抽吸裝置將處理介質(zhì)(10)從所述槽容器(6)中抽出，抽出的所述處理介質(zhì)(10)通過(guò)所述輸出裝置又輸出到所述槽容器(6)中， 其特征在于， d)迎流元件(24;51)在所述槽容器(6)中設(shè)置在低于所述運(yùn)輸平面(20)的高度水平上； e)所述循環(huán)裝置(32)的所述輸出裝置(36)包括輸出噴嘴(44)，所述輸出噴嘴設(shè)置在低于所述迎流元件(24 ；51)的高度水平上并且設(shè)計(jì)成，使得所述輸出噴嘴(44)中的每一個(gè)都目的明確地朝向所述迎流元件(24 ；51)中的每一個(gè)輸出所述處理介質(zhì)(10)的主要部分(48)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，輸出噴嘴設(shè)置在從上方觀察位于迎流元件(24 ;51)的凈輪廓(50)之內(nèi)的區(qū)域中，其中相應(yīng)的凈輪廓(50)通過(guò)如下的所述迎流元件(24；51)限定，相應(yīng)的輸出噴嘴(44)將所述處理介質(zhì)(10)輸出到所述迎流元件上。`
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其特征在于，所述輸出裝置(36)具有多個(gè)帶有輸出開(kāi)口(46)的噴嘴條(42)，其中每個(gè)輸出開(kāi)口(46)形成輸出噴嘴(44)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其特征在于，噴嘴條(42)彼此平行地并且平行于所述襯底(4 )的所述運(yùn)輸方向(18 )設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的設(shè)備，其特征在于，噴嘴條(42)垂直于所述運(yùn)輸方向(18)設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的設(shè)備，其特征在于，噴嘴條(42)設(shè)置在共同的水平面中。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的設(shè)備，其特征在于，所述輸出裝置(36)包括多個(gè)分別形成輸出噴嘴(44)的單獨(dú)噴嘴(54)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其特征在于，所述單獨(dú)噴嘴(54)能夠單獨(dú)地或者以由兩個(gè)或多個(gè)單獨(dú)噴嘴(54)組成的組的形式被輸送有循環(huán)的處理介質(zhì)(10)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8之一所述的設(shè)備，其特征在于，輸送給所述輸出裝置(36)的循環(huán)的處理介質(zhì)(10)的體積流是能夠調(diào)節(jié)的。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9之一所述的設(shè)備，其特征在于，所述循環(huán)裝置(32)設(shè)計(jì)成，使得 a)將循環(huán)的處理介質(zhì)(10)始終以相同的體積流輸送給全部輸出噴嘴(44)； 或者 b)能夠?qū)⑻幚斫橘|(zhì)(10)的單獨(dú)的體積流輸送給各個(gè)輸出噴嘴(44)或由兩個(gè)或多個(gè)輸出噴嘴(44)組成的組，而與其余的所述輸出噴嘴(44)無(wú)關(guān)或者與由兩個(gè)或多個(gè)輸出噴嘴(44)組成的其余的組無(wú)關(guān)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10之一所述的設(shè)備，其特征在于，所述迎流元件(24)通過(guò)所述運(yùn)輸裝置(16)的所述弓I導(dǎo)元件(24)形成。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于，所述迎流元件(24)構(gòu)造成運(yùn)輸輥(24)，所述襯底(4)平放在所述運(yùn)輸輥(24)上。
13.用于處理平的襯底的方法，其中 a)將所述襯底(4)通過(guò)引導(dǎo)元件(24)在水平的運(yùn)輸平面(20)中沿運(yùn)輸方向(18)在連續(xù)的過(guò)程中引導(dǎo)地運(yùn)輸通過(guò)液態(tài)的處理介質(zhì)(10)，使得所述襯底(4)的至少一個(gè)處理側(cè)(26)浸入到所述處理介質(zhì)(10)中； b)所述處理介質(zhì)(10)借助于循環(huán)裝置(32)循環(huán)， 其特征在于， c)將循環(huán)的處理介質(zhì)(10)的主要部分(48)從低于迎流元件(24;51)的高度水平目的明確地朝向所述迎流元件(24 ;51)輸出，所述迎流元件(24 ；51)本身在所述槽容器(6)中設(shè)置在低于所述運(yùn)輸平面(20)的高度水平上。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，從由上方觀察位于迎流元件(24)的凈輪廓(50 )之內(nèi)的區(qū)域中朝向相應(yīng)的迎流元件(24)輸出處理介質(zhì)(10 )，其中相應(yīng)的凈輪廓(50 )通過(guò)如下迎流元件(24 )限定，處理介質(zhì)(10 )輸出到所述迎流元件上。
15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的方法，其特征在于，所述引導(dǎo)元件(24)用作為迎流元件(24)。
16.根據(jù)權(quán)利要 求15所述的方法，其特征在于，運(yùn)輸輥(24)用作為迎流元件(24)，所述襯底(4 )平放在所述運(yùn)輸輥(24 )上。
全文摘要
在用于在連續(xù)的過(guò)程中處理平襯底的設(shè)備中，用液態(tài)處理介質(zhì)填充槽容器直至一定液位。借助于運(yùn)輸裝置，襯底能夠通過(guò)引導(dǎo)元件在水平的運(yùn)輸平面中沿運(yùn)輸方向引導(dǎo)地運(yùn)輸通過(guò)處理介質(zhì)，使得將襯底的至少一個(gè)處理側(cè)浸入到處理介質(zhì)中。處理介質(zhì)能夠借助于循環(huán)裝置在槽容器中循環(huán)，循環(huán)裝置包括抽吸裝置和輸出裝置，處理介質(zhì)通過(guò)抽吸裝置從槽容器中抽出，抽出的處理介質(zhì)又通過(guò)輸出裝置輸出到槽容器中。迎流元件在槽容器中設(shè)置在低于運(yùn)輸平面的高度水平上，循環(huán)裝置的輸出裝置包括輸出噴嘴，輸出噴嘴設(shè)置在低于迎流元件的高度水平上并設(shè)計(jì)成，使得輸出噴嘴中的每個(gè)目的明確地朝向迎流元件的每個(gè)輸出處理介質(zhì)的主要部分。還說(shuō)明用于處理平襯底的方法。
文檔編號(hào)H01L21/306GK103107079SQ201210447858
公開(kāi)日2013年5月15日 申請(qǐng)日期2012年11月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月12日
發(fā)明者恩里科·豪赫維茨, 迪特馬爾·貝爾瑙爾, 弗洛里安·卡爾滕巴赫, 塞巴斯蒂安·帕齊希-克萊因, 迪爾克·巴賴斯 申請(qǐng)人:睿納有限責(zé)任公司