專利名稱：基板檢測(cè)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板檢測(cè)裝置，在內(nèi)部形成密閉腔室，且在腔室內(nèi)點(diǎn)亮基板進(jìn)行檢測(cè)。
背景技術(shù)：
平板顯示器大致分為液晶顯示器(LCD:Liquid Crystal Display)、等離子顯示器(PDP:Plasma Display Panel)、發(fā)光二極管(LED:Light_Emitting Diode)顯不器和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED:0rganic Light-Emitting Diode)顯不器等。
有機(jī)發(fā)光二極管顯示器具有低電壓驅(qū)動(dòng)、發(fā)光效率高、視野角度廣、反應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn)，并作為能夠顯示高品質(zhì)視頻的新一代平板顯示器備受矚目。
有機(jī)發(fā)光二極管顯示器，在玻璃材質(zhì)的基板上依次層疊銦錫氧化物(ΙΤ0 =IndiumTin Oxide)陽(yáng)極層、空穴注入層、發(fā)光層、電子層、電子輸送層和金屬陰極層形成。而且，空穴注入層到電子輸送層是被濕氣或氧氣氧化的有機(jī)物質(zhì)，故在基板上形成有用于保護(hù)所述多個(gè)層的玻璃或金屬材質(zhì)的封蓋。
現(xiàn)有的基板檢測(cè)裝置，無(wú)任何將基板與大氣隔絕狀態(tài)下進(jìn)行檢測(cè)的方法，因此只能在基板上形成封蓋的狀態(tài)下檢測(cè)基板有無(wú)異常。但，無(wú)法從基板上分離封蓋，因此即使在基板檢測(cè)時(shí)發(fā)現(xiàn)了基板缺陷，也不能僅修復(fù)發(fā)生缺陷的基板部位使用，而只能報(bào)廢形成封蓋的基板。因此，存在基板制造成本上升的缺點(diǎn)。
另外，現(xiàn)有的基板檢測(cè)裝置必須設(shè)置在真空空間或氧氣(O2)濃度在Ippm以下的氮?dú)?N2)氣氛的空間內(nèi)使用。這樣，為了營(yíng)造相對(duì)體積大的設(shè)置空間的氣氛，所需費(fèi)用較聞。因此，存在基板制造成本進(jìn)一步上升的缺點(diǎn)。
韓國(guó)公開(kāi)專利公報(bào)10-2005-0008282號(hào)等中公開(kāi)了與基板檢測(cè)裝置有關(guān)的在先技術(shù)。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決所述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題而提出，本發(fā)明的目的在于提供一種可降低基板制造成本的基板檢測(cè)裝置。
為了達(dá)到所述目的，本發(fā)明涉及的基板檢測(cè)裝置，包括:主體，在內(nèi)部形成有用于投入基板進(jìn)行檢測(cè)的腔室，且在上表面形成有透明窗；支撐板，可升降地設(shè)置在所述主體的內(nèi)部，用于支撐所述基板；升降單元，設(shè)置在所述主體的下側(cè)，用于升降所述支撐板；第一攝像單元，以能夠沿相互正交的X軸方向和Y軸方向移動(dòng)的方式設(shè)置在所述主體上，并通過(guò)所述透明窗，拍攝投入到所述腔室內(nèi)的所述基板。
本發(fā)明的有益效果
本發(fā)明涉及的基板檢測(cè)裝置，在主體內(nèi)部形成有用于檢測(cè)基板的密閉空間的腔室。因此，不必在基板上形成將基板上形成的多個(gè)層與大氣隔絕的封蓋，也能對(duì)基板進(jìn)行檢測(cè)，因此通過(guò)基板檢測(cè)，發(fā)現(xiàn)基板的缺陷部位時(shí)，僅修復(fù)缺陷部位即可使用。從而降低基板的制造成本。
另外，只需適當(dāng)營(yíng)造在體積相對(duì)小的空間的主體內(nèi)形成的腔室氣氛即可，從而具有進(jìn)一步降低基板制造成本的效果。


圖1是示出本發(fā)明的一實(shí)施例涉及的基板檢測(cè)裝置的立體圖。
圖2是示出圖1所示的蓋子被開(kāi)放狀態(tài)的立體圖
圖3是示出圖2的部分分解立體圖。
圖4是示出圖3的“A”部放大圖。
圖5至圖7是示出用于說(shuō)明本發(fā)明的一實(shí)施例涉及的基板檢測(cè)裝置的動(dòng)作而卸下蓋子的狀態(tài)的立體圖。
附圖標(biāo)記
110:主體
130:支撐板
140:升降單元
150:第一攝像單元
160:支撐框架
170:第二攝像單元具體實(shí)施方式
下面，參照附圖詳細(xì)說(shuō)明能夠?qū)崿F(xiàn)本發(fā)明的特定實(shí)施例。為了使本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠充分實(shí)施本發(fā)明，將對(duì)這些實(shí)施例作以詳細(xì)說(shuō)明。本發(fā)明的各種實(shí)施例雖有所不同，但相互之間并不排斥。例如，這里記載的與一實(shí)施例有關(guān)的特定形狀，特定結(jié)構(gòu)和特性，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的情況下，也可以由其它實(shí)施例實(shí)現(xiàn)。另外，應(yīng)理解為，各自公開(kāi)的實(shí)施例中的個(gè)別構(gòu)成要素的位置或配置，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的情況下也可以進(jìn)行變更。因此，后述詳細(xì)說(shuō)明并無(wú)限定之意，準(zhǔn)確地說(shuō)，本發(fā)明的保護(hù)范圍僅以權(quán)利要求書(shū)所記載的內(nèi)容為準(zhǔn)，包含與其權(quán)利要求所主張的內(nèi)容等同的所有范圍。為方便起見(jiàn)，也有可能夸張顯示附圖所示實(shí)施例的長(zhǎng)度、面積、厚度及形態(tài)。
以下，參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的一實(shí)施例涉及的基板檢測(cè)裝置。
圖1是示出本發(fā)明的一實(shí)施例涉及的基板檢測(cè)裝置的立體圖，圖2是示出圖1所示的蓋子被開(kāi)放狀態(tài)的立體圖，圖3是示出圖2的部分分解立體圖。
如圖所示，本實(shí)施例涉及的基板檢測(cè)裝置包括主體110、升降單元140和第一攝像單元150。
主體110大致呈長(zhǎng)方體形狀，且包括上面開(kāi)放的箱體111，和與箱體111上面結(jié)合并與箱體111之間形成密閉空間的蓋子115。由箱體111和蓋子115形成的密閉空間即是用于投入基板50而進(jìn)行檢測(cè)的腔室110a。
蓋子115可轉(zhuǎn)動(dòng)地結(jié)合于箱體111上，用于開(kāi)閉箱體111的被開(kāi)放的上面。即，蓋子115用來(lái)開(kāi)閉腔室110a。在箱體111和蓋子115之間，可填充有密封部件(未圖示)，當(dāng)蓋子115接觸于箱體111的上端面而閉合腔室IlOa時(shí)，該密封部件用于防止腔室IlOa的氣氛氣體通過(guò)箱體111與蓋子115之間的縫隙泄漏。
在蓋子115的中央部側(cè)形成有透明窗116，通過(guò)該透明窗116可以從外部觀察投入到腔室IlOa內(nèi)的基板50。
在箱體111的相互對(duì)置的一側(cè)面和另一側(cè)面上分別形成有用于投入和排出基板50的投入口 112a和排出口 112b，且在箱體111的一側(cè)面和另一側(cè)面上分別設(shè)置有用于開(kāi)閉投入口 112a和排出口 112b的門113a、113b。即，門113a、113b用來(lái)開(kāi)閉腔室110a。
在門113a與投入口 112a之間和門113b與排出口 112b之間也可以填充有密封部件(未圖示)，當(dāng)投入口 112a和排出口 112b通過(guò)門113a、113b被閉合時(shí)，該密封部件防止腔室IlOa內(nèi)的氣氛氣體泄漏。
蓋子115和門113a、113b通過(guò)如電機(jī)或氣缸等驅(qū)動(dòng)裝置(未圖示)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的同時(shí)開(kāi)閉腔室110a。門113a、113b也可以以滑動(dòng)的方式開(kāi)閉腔室110a。
向腔室IlOa內(nèi)導(dǎo)入氮?dú)?N2)等氣氛氣體的導(dǎo)入管121和向腔室IlOa外部排出腔室IlOa氣氛氣體的排出管125的一側(cè)，分別與主體110連通地設(shè)置。導(dǎo)入管121的另一側(cè)與氣罐(未圖示)等連通，而排出管125的另一側(cè)與泵(未圖示)等連通。
在主體110內(nèi)部設(shè)置有用于支撐基板50的支撐板130。支撐板130可升降地設(shè)置，以支撐投入到腔室IlOa內(nèi)的基板50向蓋子115側(cè)上升。
由氣缸等構(gòu)成的升降單元140被設(shè)置在主體110的下側(cè)，用于升降支撐板130。
詳細(xì)說(shuō)明，在支撐板130和升降單元140之間介入有多個(gè)升降桿145。升降桿145的下端部側(cè)與升降單元140連接，而上端部側(cè)通過(guò)主體110的下表面與支撐板130的下表面連接。這樣，升降桿145接受來(lái)自升降單元140的動(dòng)力進(jìn)行升降的同時(shí)使支撐板130升降。
由攝像機(jī)或掃描儀等構(gòu)成的第一攝像單元150位于主體110的上側(cè)，且可沿相互正交的X軸方向和Y軸方向移送地支撐安裝在主體Iio上。這樣，第一攝像單元150通過(guò)透明窗116拍攝被投入到腔室IlOa內(nèi)的基板50。
由第一攝像單元150拍攝到的圖像和與其相關(guān)的信號(hào)被發(fā)送至控制部(未圖示)，所述控制部利用接收到的圖像和與其相關(guān)的信號(hào)來(lái)檢測(cè)基板50。即，通過(guò)所述控制部可以對(duì)基板50進(jìn)行色溫檢查、色坐標(biāo)檢查、不良像素檢查、光亮度(Luminance)檢查、照度(Illuminance)檢查、臨界尺寸(CD:CriticalDimension)檢查和總節(jié)距(TP:Total Pitch)檢查等。
基板50被搭載支撐于一對(duì)機(jī)械臂60上，并通過(guò)投入口 112a投入到腔室IlOa內(nèi)，或者通過(guò)排出口 112b從腔室IlOa排出。而且，機(jī)械臂60以支撐基板50的狀態(tài)進(jìn)行升降。對(duì)此后述。
在主體110內(nèi)部設(shè)置有用于搭載支撐投入到腔室IlOa內(nèi)的基板50外緣部側(cè)的方框狀的支撐框架160。更具體說(shuō)明的話，可升降地設(shè)置的支撐板130位于支撐框架160的下側(cè)時(shí)，基板50的外緣部側(cè)搭載支撐于支撐框架160上。對(duì)此后述。
機(jī)械臂60位于支撐框架160的內(nèi)側(cè)進(jìn)行升降，在機(jī)械臂60的外表面上分別形成有多個(gè)凸片61。而且，相互對(duì)置的支撐框架160的一側(cè)內(nèi)表面和另一側(cè)內(nèi)表面上形成朝向支撐框架160外側(cè)的凹陷，且形成有使凸片61通過(guò)的貫穿槽161。凸片61和貫穿槽161彼此對(duì)置地形成。有關(guān)凸片61和貫穿槽161的作用也后述。
在主體110內(nèi)部的下面，可以設(shè)置有第二攝像單元170，該第二攝像單元170在基板50的下側(cè)對(duì)基板50進(jìn)行拍攝或掃描。這時(shí)，與第二攝像單元170對(duì)應(yīng)的支撐板130部位被開(kāi)放132。
基板50 為有機(jī)發(fā)光二極管(OLED:0rganic Light-Emitting Diode)用元件時(shí),通過(guò)對(duì)基板50供給電源，才能點(diǎn)亮基板50的各個(gè)像素，進(jìn)而檢測(cè)基板50有無(wú)缺陷。為此，在基板50的一側(cè)和另一側(cè)外緣部上形成有電極線(未圖示)，而在封蓋150的下表面上設(shè)置有與所述電極線連接從而供給外部電源的探頭(Probe ) 180ο
基板50的尺寸有多種。本實(shí)施例涉及的基板檢測(cè)裝置，支撐板130可拆卸地結(jié)合于升降桿145上，以便能夠支撐不同尺寸的基板50進(jìn)行檢測(cè)。
當(dāng)基板50的外緣部側(cè)通過(guò)機(jī)械臂60被搭載支撐于支撐框架上160時(shí)，只有基板50位于支撐框架160的設(shè)定位置上時(shí)，基板50的所述電極線和探頭180才能準(zhǔn)確連接，并利用第一攝像單元150或第二攝像單元170準(zhǔn)確拍攝已設(shè)定的基板50部位。
為此，本實(shí)施例涉及的基板檢測(cè)裝置上設(shè)置有用于對(duì)齊支撐于支撐框架160上的基板50的對(duì)齊單元，參照?qǐng)D3和圖4對(duì)其進(jìn)行說(shuō)明。圖4是圖3的“Α”部放大圖。
如圖所示，所述對(duì)齊單元包括:設(shè)置在支撐框架160上的氣缸191，和通過(guò)氣缸191進(jìn)行直線運(yùn)動(dòng)的同時(shí)與基板50的外表面接觸從而移動(dòng)基板50的接觸片195。
若作詳細(xì)說(shuō)明，氣缸191分別設(shè)置在支撐框架160的拐角部側(cè)。另外，接觸片195隨著氣缸191進(jìn)行設(shè)定距離的直線運(yùn)動(dòng)，并分別與基板50的拐角部側(cè)接觸以移動(dòng)基板50。這樣，被支撐在支撐框架160上的基板50通過(guò)接觸片195進(jìn)行移動(dòng)，并移動(dòng)對(duì)齊在支撐框架160上所設(shè)定的位置。
為了使接觸片195與基板50穩(wěn)定接觸的狀態(tài)下移動(dòng)基板50，在與基板50相對(duì)的接觸片195表面上形成與基板50的拐角部側(cè)相對(duì)應(yīng)的大致呈〃 Λ 〃或〃 V 〃形狀的支撐槽 196。
當(dāng)基板50通過(guò)接觸片195位于設(shè)定位置時(shí)，支撐板130進(jìn)行升降的同時(shí)帶動(dòng)基板50升降。這時(shí)，在支撐板130的外緣部側(cè)形成有卡住基板50外表面從而防止基板50在支撐板130上游動(dòng)的多個(gè)止動(dòng)件134。
參照?qǐng)D1、圖5至圖7，對(duì)本實(shí)施例涉及的基板檢測(cè)裝置的作用加以說(shuō)明。圖5至圖7是用于說(shuō)明本發(fā)明的一實(shí)施例涉及的基板檢測(cè)裝置的動(dòng)作而卸下蓋子的狀態(tài)的立體圖。
如圖5所示，假定蓋子115和門113b處于關(guān)閉狀態(tài)，而門113a處于開(kāi)放狀態(tài)，支撐板130位于支撐框架160下側(cè)的狀態(tài)為初始狀態(tài)。
在初始狀態(tài)下由機(jī)械臂60支撐基板50，如圖6所示，通過(guò)投入口 112a將基板50投入到腔室IlOa內(nèi)。這時(shí)，機(jī)械臂60位于支撐框架160的上側(cè)。
之后，機(jī)械臂60下降，由此基板50的外緣部側(cè)被搭載支撐在支撐框架160上?；?0的外緣部側(cè)被搭載支撐在支撐框架160上時(shí)，機(jī)械臂60通過(guò)支撐框架160的內(nèi)側(cè)進(jìn)一步向下側(cè)下降，而機(jī)械臂60的凸片61通過(guò)支撐框架160的貫穿槽161進(jìn)一步向下側(cè)下降。
機(jī)械臂60下降至支撐框架160與支撐板130之間的位置之后，通過(guò)投入口 112a向外部排出。機(jī)械臂60被排出后，氣氛氣體流入腔室110a，以營(yíng)造檢測(cè)基板50所需的氣氛，接觸片195通過(guò)氣缸進(jìn)行直線運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，使基板50位于支撐框架160的設(shè)定位置。
基板50位于支撐框架160的設(shè)定位置時(shí)，如圖7所示，支撐板130上升的同時(shí)使基板50向蓋子115側(cè)上升。這樣，基板50的所述電極線與探頭180 (參照?qǐng)D3)連接，從而向基板50供給電源。
在這種狀態(tài)下，利用第一攝像單元150和第二攝像單元170 (參照?qǐng)D3)拍攝基板50，而所述控制部接收來(lái)自第一和第二攝像單元150、170的信號(hào)，對(duì)基板50進(jìn)行檢測(cè)。
基板50檢測(cè)結(jié)束之后，支撐板130下降到支撐框架160的下側(cè)位置。這樣，基板50的外緣部側(cè)被支撐于支撐框架160上，而另一個(gè)機(jī)械臂(未圖示)通過(guò)排出口 112b流入到支撐板130和支撐框架160之間。之后，另一個(gè)所述機(jī)械臂上升以支撐基板50的狀態(tài)下通過(guò)排出口 112b排出。這樣，基板50排出到腔室IlOa外部。
門113a、113b分別通過(guò)所述控制部的控制來(lái)自動(dòng)開(kāi)閉。
本實(shí)施例涉及的基板檢測(cè)裝置，在主體110內(nèi)部形成有用于檢測(cè)基板50的密閉空間的腔室110a。因此，在基板50上不必形成用于使基板50上形成的多個(gè)層與大氣隔絕的封蓋，也能夠檢測(cè)基板50，因此，檢測(cè)基板50時(shí)發(fā)現(xiàn)缺陷部位，則通過(guò)修復(fù)缺陷部位即可使用。因此，可降低基板50的制造成本。
另外，只需營(yíng)造體積相對(duì)小的主體110的腔室IlOa氣氛即可，從而進(jìn)一步降低基板50的制造成本。
綜上所述，參照

了優(yōu)選實(shí)施例，但本發(fā)明并不限定于上述實(shí)施例，在不脫離本發(fā)明精神的范圍內(nèi)，通過(guò)本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可進(jìn)行各種變形和變更。這些變形例和變更例均屬于本發(fā)明和權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種基板檢測(cè)裝置，其特征在于，包括: 主體，在內(nèi)部形成有用于投入基板進(jìn)行檢測(cè)的腔室，且在上表面形成有透明窗； 支撐板，可升降地設(shè)置在所述主體的內(nèi)部，用于支撐所述基板； 升降單元，設(shè)置在所述主體的下側(cè)，用于升降所述支撐板； 第一攝像單元，以能夠沿相互正交的X軸方向和Y軸方向移動(dòng)的方式設(shè)置在所述主體上，且通過(guò)所述透明窗拍攝被投入到所述腔室內(nèi)的所述基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 所述主體包括:箱體，上面被開(kāi)放；蓋子，可轉(zhuǎn)動(dòng)地結(jié)合于所述箱體的上面上，用于開(kāi)閉所述箱體的被開(kāi)放的上面，并形成有透明窗。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 在相互對(duì)置的所述箱體的一側(cè)面和另一側(cè)面上分別形成有用于投入和排出所述基板的投入口和排出口。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 在所述箱體上分別設(shè)置有用于開(kāi)閉所述投入口和所述排出口的門。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 在所述蓋子上設(shè)置有探頭，該探頭與在所述基板上形成的電極線連接，并向所述基板供給電源。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 在所述支撐板和所述升降單元之間設(shè)置有多個(gè)升降桿，該升降桿的下側(cè)與所述升降單元連接，而上側(cè)通過(guò)所述主體的下表面連接到所述支撐板上，并通過(guò)所述升降單元進(jìn)行升降而使所述支撐板升降， 所述支撐板可拆卸地結(jié)合于所述升降桿上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 在所述主體的內(nèi)部下表面上設(shè)置有用于拍攝所述基板的第二攝像單元，而與所述第二攝像單元對(duì)應(yīng)的所述支撐板的部位被開(kāi)放。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 在所述主體的內(nèi)部設(shè)置有支撐框架，當(dāng)所述支撐板位于所述支撐框架的下側(cè)時(shí)，所述基板的外緣部側(cè)被支撐在所述支撐框架上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 所述基板以被搭載支撐在一對(duì)機(jī)械臂上的狀態(tài)投入到所述腔室或從所述腔室排出， 在所述機(jī)械臂外表面上分別形成有多個(gè)凸片， 相互對(duì)置的所述支撐框架的一側(cè)內(nèi)表面和另一側(cè)內(nèi)表面上形成有貫穿槽，該貫穿槽用于使所述凸片隨著所述機(jī)械臂的升降而通過(guò)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 在所述支撐框架上設(shè)置有用于對(duì)齊被支撐在所述支撐框架上的所述基板的對(duì)齊單元。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 所述對(duì)齊單元包括:氣缸，設(shè)置在所述支撐框架上；和接觸片，通過(guò)所述氣缸進(jìn)行直線運(yùn)動(dòng)而與所述基板的外表面接觸，以使所述基板移動(dòng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于，所述氣缸分別設(shè)置在所述支撐框架的拐角部側(cè)，在與所述基板對(duì)置的所述接觸片的表面上，形成有與所述基板的拐角部側(cè)對(duì)應(yīng)的形狀的支撐槽。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 當(dāng)所述基板位于所述支撐框架的設(shè)定位置上時(shí)，所述支撐板上升而帶動(dòng)所述基板向所述透明窗側(cè)上升， 在所述支撐板的外緣部側(cè)形成有止動(dòng)件，該止動(dòng)件與所述基板的外表面接觸，以防止所述基板在所述支撐板上游動(dòng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 在所述主體上，連通地設(shè)置有向所述腔室導(dǎo)入氣氛氣體的導(dǎo)入管和排出所述腔室的氣氛氣體的排出管。
15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的基板檢測(cè)裝置，其特征在于， 所述基板為有機(jī)發(fā)光二極 管顯示器。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種基板檢測(cè)裝置。本發(fā)明涉及的基板檢測(cè)裝置，在主體內(nèi)部形成有用于檢測(cè)基板的密閉空間的腔室。因此，不必形成用于使基板上形成的多個(gè)層與大氣隔絕的封蓋，也能夠檢測(cè)基板，并通過(guò)基板檢測(cè)，發(fā)現(xiàn)基板缺陷部位時(shí)，僅修復(fù)缺陷部位即可使用。所以，降低基板的制造成本。另外，只需適當(dāng)營(yíng)造在體積相對(duì)小的空間的主體內(nèi)形成的腔室氣氛即可，因此具有進(jìn)一步降低制造成本的效果。
文檔編號(hào)H01L21/66GK103137514SQ20121049522
公開(kāi)日2013年6月5日 申請(qǐng)日期2012年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月1日
發(fā)明者金顯正 申請(qǐng)人:燦美工程股份有限公司