專利名稱：線圈部件及制造線圈部件的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及線圈部件及制造線圈部件的方法，并且更具體地，本發(fā)明涉及這樣的線圈部件及制造線圈部件的方法:其能夠以相同的頻率實(shí)現(xiàn)高共模阻抗，改進(jìn)性能和容量，并且通過簡化結(jié)構(gòu)和工藝降低生產(chǎn)成本并且提高生產(chǎn)率。
背景技術(shù)：
電子產(chǎn)品(諸如數(shù)字電視、智能電話、以及筆記本電腦)具有以射頻波段進(jìn)行數(shù)據(jù)通信的功能。期望更廣泛地使用這種IT電子產(chǎn)品，因?yàn)樗鼈兺ㄟ^連接不僅一個(gè)裝置而且還連接USB和其它通信端口而具有多功能且綜合的特征。在此，為了更高速的數(shù)據(jù)通信，數(shù)據(jù)通過從MHz頻率波段移動(dòng)至GHz射頻波段通過多個(gè)內(nèi)部信號(hào)線通信。當(dāng)在主要設(shè)備與外圍設(shè)備之間在GHz射頻波段上通信更多數(shù)據(jù)時(shí)，由于信號(hào)延遲和其它噪聲，難于提供穩(wěn)定的數(shù)據(jù)處理。為了解決上述問題，在IT設(shè)備與外圍設(shè)備之間的連接件周圍設(shè)置有EMI防護(hù)部件。然而，由于它們是線圈型的和層疊型的并且具有大的芯片部件尺寸和差的電特性，因此傳統(tǒng)的EMI防護(hù)部件僅用于有限的區(qū)域(諸如特定部分和大面積基板)中。因此，需要適于電子產(chǎn)品的纖薄、小型化、綜合、以及多功能特征的EMI防護(hù)部件。下面參照圖1詳細(xì)地描述根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的EMI防護(hù)線圈部件的共模濾波器。參照圖1至圖2，傳統(tǒng)的共模濾波器包括:下磁性基板10 ;絕緣層20，布置在下磁性基板10上并且包括彼此豎直地對稱的第一線圈圖案21和第二線圈圖案22 ;以及布置在絕緣層20上的上磁體30。在此，包括第一線圈圖案21和第二線圈圖案22的絕緣層20通過薄膜工藝形成在下磁性基板10上。薄膜工藝的一個(gè)實(shí)例在日本專利申請?zhí)亻_N0.8-203737中公開。用于將電力輸入至第一線圈圖案21的第一輸入引線圖案21b和用于從第一線圈圖案輸出電力的第一輸出引線圖案22b形成在絕緣層20上。用于將電力輸入至第二線圈圖案22的第二輸入引線圖案22a和用于從第二線圈圖案輸出電力的第二輸出引線圖案22b形成在絕緣層20上。更具體地，絕緣層20包括:第一線圈層，包括第一線圈圖案21和第二輸入引線圖案21a ;第二線圈層，包括第二線圈圖案22和第二輸入引線圖案22a ;以及第三線圈層，包括第一輸出引線圖案21b和第二輸出引線圖案22b。也就是，第一線圈層在通過薄膜工藝在下磁性基板10的上表面上形成第一線圈圖案21和第一輸入引線圖案21a之后通過涂覆絕緣材料而形成。并且，第二線圈層在通過薄膜工藝在第一線圈層的上表面上形成與第一線圈圖案21相對應(yīng)的第二線圈圖案22和第二輸入引線圖案22a之后通過涂覆絕緣材料而形成。接著，第三線圈層在通過薄膜工藝在第二線圈層的上表面上形成第一輸出引線圖案21b和第二輸出引線圖案22b之后通過涂覆絕緣材料而形成，以用于第一線圈圖案21和第二線圈圖案22的外部輸出。此時(shí)，第一線圈圖案21和第二線圈圖案22可以分別通過過孔連接結(jié)構(gòu)電連接至第一輸出引線圖案21b和第二輸出引線圖案22b。同時(shí)，第一線圈層至第三線圈層可以以片狀形成并且以層疊型結(jié)合，以構(gòu)造包括第一和第二線圈圖案、第一和第二輸入引線圖案、以及第一和第二輸出引線圖案的上述絕緣層。然而，在如上構(gòu)造的傳統(tǒng)共模濾波器中，絕緣層20通過在分離的線圈層上形成第一線圈圖案21和第二線圈圖案22并且在另一線圈層上形成第一和第二輸出引線圖案21b和22b而由至少三個(gè)線圈層形成，因此導(dǎo)致包括該絕緣層的產(chǎn)品的豎直尺寸的增加。特別地，當(dāng)為了提高噪聲抑止性能而增加容量時(shí)，由于第二線圈層應(yīng)該與增加第一線圈層同時(shí)增加，因此產(chǎn)品的豎直尺寸進(jìn)一步增加，并且由于工藝的數(shù)量的增加，因此制造工藝所需的時(shí)間和成本增加。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述問題已發(fā)明本發(fā)明，并且因此，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供這樣的線圈部件及制造線圈部件的方法:其能夠以相同的頻率實(shí)現(xiàn)高共模阻抗。本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供這樣的線圈部件及制造線圈部件的方法:其能夠在增加性能和容量的同時(shí)伴隨有使產(chǎn)品的尺寸的增加最小化。本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供這樣的線圈部件及制造線圈部件的方法:其能夠通過簡化結(jié)構(gòu)和工藝來降低生產(chǎn)成本并且提高生產(chǎn)率。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，為了實(shí)現(xiàn)該目的，提供了一種線圈部件，該線圈部件包括:下磁體；主下部圖案和次下部圖案，以螺旋形狀相互平行地形成在下磁體上；下絕緣層,覆蓋主下部圖案和次下部圖案；主上部圖案和次上部圖案,主上部圖案和次上部圖案分別電連接至主下部圖案和次下部圖案，并且主上部圖案和次上部圖案以螺旋形狀相互平行地形成在下絕緣層上，以與主下部圖案和次下部圖案相對應(yīng)；以及上磁體，上磁體形成在主上部圖案和次上部圖案上，其中，主上部圖案和次上部圖案具有在平面上與主下部圖案和次下部圖案相交的部分。主上部圖案和次上部圖案可以布置為與主下部圖案和次下部圖案的布置相交。此時(shí)，主上部圖案和次上部圖案可以布置為在相交部分中定位在主下部圖案和次下部圖案之間的空間中。下絕緣層可以包括覆蓋主下部圖案和次下部圖案的主涂層以及用于使主涂層的上表面平面化的次涂層。
同時(shí)，主下部圖案的寬度和次下部圖案的寬度可以形成為大于主上部圖案的寬度和次上部圖案的寬度。在此，主下部圖案和次下部圖案中的最內(nèi)部圖案的寬度和最外部圖案的寬度可以形成為大于定位在最內(nèi)部圖案與最外部圖案之間的圖案的寬度。并且，主上部圖案和次上部圖案可以以從主下部圖案和次下部圖案延伸并具有相同圈數(shù)的螺旋形狀形成。此時(shí)，主上部圖案和次上部圖案中的最外部圖案的輸出側(cè)部分可以形成為定位在鄰近主下部圖案和次下部圖案中的最外部圖案的內(nèi)側(cè)的圖案上。根據(jù)本發(fā)明的線圈部件還可以包括從主下部圖案和次下部圖案中的較長圖案的最外部圖案的一部分?jǐn)U展的電阻調(diào)諧部分。同時(shí)，主上部圖案和次上部圖案可以通過過孔(via)與主下部圖案和次下部圖案電連接。并且，上磁體可以形成為延伸至主上部圖案和次上部圖案以及主下部圖案和次下部圖案的中心。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，為了實(shí)現(xiàn)該目的，提供了一種制造線圈部件的方法，該方法包括以下步驟:制備下磁體；在下磁體上以螺旋形狀相互平行地形成主下部圖案和次下部圖案；在主下部圖案和次下部圖案上形成下絕緣層；在下絕緣層上以螺旋形狀相互平行地形成主上部圖案和次上部圖案，以與主下部圖案和次下部圖案相對應(yīng)，其中，將主上部圖案和次上部圖案形成為具有在平面上與主下部圖案和次下部圖案相交的部分；以及在主上部圖案和次上部圖案上形成上磁體?？梢詫⒅魃喜繄D案和次上部圖案布置為與主下部圖案和次下部圖案的布置相交。此時(shí)，可以將主上部圖案和次上部圖案布置為在相交部分中定位在主下部圖案和次下部圖案之間的空間中。同時(shí)，形成下絕緣層的步驟可以包括以下步驟:在主下部圖案和次下部圖案上形成主涂層；以及在主涂層上形成次涂層?？梢詫⒅飨虏繄D案的寬度和次下部圖案的寬度形成為大于主上部圖案的寬度和次上部圖案的寬度。在此，可以將主下部圖案和次下部圖案中的最內(nèi)部圖案的寬度和最外部圖案的寬度形成為大于定位在最內(nèi)部圖案與最外部圖案之間的圖案的寬度。并且，可以以從主下部圖案和次下部圖案延伸并具有相同圈數(shù)的螺旋形狀形成主上部圖案和次上部圖案。此時(shí)，可以將主上部圖案和次上部圖案中的最外部圖案的輸出側(cè)部分形成為定位在鄰近主下部圖案和次下部圖案中的最外部圖案的內(nèi)側(cè)的圖案上。同時(shí)，形成主下部圖案和次下部圖案的步驟還可以包括以下步驟:通過使主下部圖案和次下部圖案中的較長圖案的最外部圖案的一部分?jǐn)U展形成電阻調(diào)諧部分。并且，形成主上部圖案和次上部圖案的步驟可以包括以下步驟:通過過孔將主上部圖案和次上部圖案電連接至主下部圖案和次下部圖案。此外，形成上磁體的步驟可以包括以下步驟:使上磁體延伸至主上部圖案和次上部圖案以及主下部圖案和次下部圖案的中心。


從以下結(jié)合附圖對實(shí)施方式的描述中，本總發(fā)明構(gòu)思的這些和/或其它方面和優(yōu)點(diǎn)將變得明顯并且更易于理解，在附圖中:圖1是示意性示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的線圈部件的共模濾波器的橫截面圖；圖2a是示意性示出圖1的主線圈圖案的平面圖；圖2b是示意性示出圖1的次線圈圖案的平面圖；圖2c是示意性示出用于輸出圖1中的主線圈圖案和次線圈圖案的輸出側(cè)引線電極的平面圖；圖3是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的線圈部件的一個(gè)實(shí)施方式的橫截面圖；圖4a是示意性示出形成在圖3中的下磁體上的主下部圖案和次下部圖案的平面圖；圖4b是示意性示出形成在圖3中的下絕緣層上的主上部圖案和次上部圖案的平面圖；圖5a是示意性示出圖4a中的主下部圖案和圖4b中的主上部圖案以螺旋形狀連續(xù)地形成在相同平面上的狀態(tài)的平面圖；圖5b是示意性示出圖4a中的次下部圖案和圖4b中的次上部圖案以螺旋形狀連續(xù)地形成在相同平面上的狀態(tài)的平面圖；圖6是示意性示出主下部圖案和次下部圖案和主上部圖案和次上部圖案以螺旋形狀連續(xù)地形成在根據(jù)本發(fā)明的線圈部件的一個(gè)實(shí)施方式中的照片；圖7是沿著圖6的線1-1截取的橫截面照片；圖8a至圖Sc是示意性示出形成主下部圖案和次下部圖案以及主上部圖案和次上部圖案的工藝的流程圖，其中圖8a是示出在主下部圖案和次下部圖案上形成主涂層的狀態(tài)的視圖，圖8b是示出在圖8a中的主涂層上形成次涂層的狀態(tài)的視圖，以及圖8c是示出在圖8b中的次涂層上形成主上部圖案和次上部圖案的狀態(tài)的視圖，圖9a是用于示意性說明當(dāng)形成圖Sb中的次涂層時(shí)產(chǎn)生一個(gè)臺(tái)階的現(xiàn)象的橫截面圖；圖9b是改變主下部圖案和次下部圖案的形狀以克服圖9a中的現(xiàn)象的橫截面圖；圖10是改變主下部圖案和次下部圖案的形狀以調(diào)節(jié)由于根據(jù)本發(fā)明的線圈部件的一個(gè)實(shí)施方式中的主下部圖案和次下部圖案之間的長度差所導(dǎo)致的電阻差的平面圖；以及圖11是示出根據(jù)本發(fā)明的線圈部件的一個(gè)實(shí)施方式的共模中的阻抗特征和作為傳統(tǒng)線圈部件的共模濾波器中的阻抗特征的圖表。
具體實(shí)施例方式通過參照下面結(jié)合附圖詳細(xì)描述的實(shí)施方式，本發(fā)明以及實(shí)現(xiàn)其的方法的優(yōu)點(diǎn)和特征將顯而易見。然而，本發(fā)明不限于下面公開的實(shí)施方式，并且可以以多種不同的形式實(shí)施。僅提供示例性實(shí)施方式，以用于完成本發(fā)明的公開并且用于向本領(lǐng)域技術(shù)人員充分地?cái)⑹霰景l(fā)明的范圍。貫穿本說明書，相同的附圖標(biāo)記表示相同的元件。提供在此使用的術(shù)語，以用于解釋實(shí)施方式，而并非用于限制本發(fā)明。貫穿本說明書，除非上下文中另有清楚地指明，單數(shù)形式包括復(fù)數(shù)形式。當(dāng)在此使用術(shù)語“包括”和/或“包含”時(shí)，不排除除了上述部件、步驟、操作和/或裝置之外的另一個(gè)部件、步驟、操作和/或裝置的存在和增加。此外，將參照橫截面圖和/或平面圖對將貫穿本說明書描述的實(shí)施方式進(jìn)行描述，這些圖是本發(fā)明的理想示例性附圖。在附圖中，層和區(qū)域的厚度可能被擴(kuò)大，以有效地說明技術(shù)內(nèi)容。因此，示例性附圖可以通過制造技術(shù)和/或公差而改變。因此，本發(fā)明的實(shí)施方式不限于附圖，并且可以包括將根據(jù)制造工藝產(chǎn)生的改變。例如，以直角示出的蝕刻區(qū)域可以以圓形形成或者形成為具有預(yù)定的曲率。因此，在附圖中示出的區(qū)域具有示意性的特征。此外，在附圖中示出的區(qū)域的形狀例示了元件中的區(qū)域的特定形狀，并且并非限定本發(fā)明。在下文中，將參照圖3至圖10詳細(xì)地描述根據(jù)本發(fā)明的線圈部件及制造線圈部件的方法的一個(gè)實(shí)施方式。圖3是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的線圈部件的一個(gè)實(shí)施方式的橫截面圖；圖4&是示意性示出形成在圖3中的下磁體上的主下部圖案和次下部圖案的平面圖；圖4b是示意性示出形成在圖3中的下絕緣層上的主上部圖案和次上部圖案的平面圖；圖5a是示意性示出圖4a中的主下部圖案和圖4b中的主上部圖案以螺旋形狀連續(xù)地形成在相同平面上的狀態(tài)的平面圖；圖5b是示意性示出了圖4a中的次下部圖案和圖4b中的次上部圖案以螺旋形狀連續(xù)地形成在相同平面上的狀態(tài)的平面圖；圖6是示意性示出主下部圖案和次下部圖案和主上部圖案和次上部圖案以螺旋形狀連續(xù)地形成在根據(jù)本發(fā)明的線圈部件的一個(gè)實(shí)施方式中的照片；圖7是沿著圖6的線1-1截取的橫截面照片。并且，圖8a至圖8c是示意性示出形成主下部圖案和次下部圖案以及主上部圖案和次上部圖案的工藝的流程圖，其中，圖8a是示出在主下部圖案和次下部圖案上形成主涂層的狀態(tài)的視圖，圖8b是示出在圖8a中的主涂層上形成次涂層的狀態(tài)的視圖，以及圖Sc是示出在圖Sb中的次涂層上形成主上部圖案和次上部圖案的狀態(tài)的視圖。此外，圖9a是用于示意性說明當(dāng)形成圖Sb中的次涂層時(shí)形成一個(gè)臺(tái)階的現(xiàn)象的橫截面圖，圖％是改變主下部圖案和次下部圖案的形狀以克服圖9a中的現(xiàn)象的橫截面圖，圖10是改變主下部圖案和次下部圖案的形狀以調(diào)節(jié)由于根據(jù)本發(fā)明的線圈部件的一個(gè)實(shí)施方式中的主下部圖案和次下部圖案之間的長度差所導(dǎo)致的電阻差的平面圖。參照圖3，根據(jù)本發(fā)明的線圈部件的一個(gè)實(shí)施方式100可以包括:下磁體110 ;主下部圖案和次下部圖案121和122，形成在下磁體110上；下絕緣層130，覆蓋主下部圖案和次下部圖案121和122 ;主上部圖案和次上部圖案141和142，形成在下絕緣層130上，以電連接至主下部圖案和次下部圖案121和122 ;以及上磁體150，布置在主上部圖案和次上部圖案141和142上。下磁體110可以以由鐵氧體磁性材料制成的基板的形狀形成。如在圖4a中，主下部圖案和次下部圖案121和122可以在以螺旋形狀相互平行地布置的同時(shí)通過薄膜工藝形成在下磁體Iio上，并且如在圖4b中，主上部圖案和次上部圖案141和142可以在相互平行地以螺旋形狀布置的同時(shí)通過薄膜工藝形成在下絕緣層130上，以與主下部圖案和次下部圖案121和122相對應(yīng)。因此，該實(shí)施方式的線圈部件100可以通過在相同層上形成主圖案和次圖案(SP，兩個(gè)圖案)來改進(jìn)性能。作為一個(gè)實(shí)例，能夠通過包括主下部圖案和次下部圖案121和122以及主上部圖案和次上部圖案141和142中的至少一個(gè)主圖案和至少一個(gè)次圖案的單個(gè)線圈層來實(shí)現(xiàn)線圈部件的特征，并且當(dāng)與傳統(tǒng)的共模濾波器類似線圈部件以包括主下部圖案和次下部圖案121和122以及主上部圖案和次上部圖案141和142的多層線圈層實(shí)現(xiàn)時(shí)，能夠通過使線圈部件的電磁力的產(chǎn)生最大化來增加容量并且具有高性能和特征。此外，在該實(shí)施方式的線圈部件100中，通過在相同層上形成主圖案和次圖案(即，兩個(gè)線圈圖案)，能夠同時(shí)在形成有主下部圖案和次下部圖案121和122的層上形成主下部圖案和次下部圖案121和122的輸入側(cè)引線圖案121a和122a，并且在形成有主上部圖案和次上部圖案141和142的層上形成主上部圖案和次上部圖案141和142的輸出側(cè)引線圖案141b和142b。因此，由于與傳統(tǒng)的共模濾波器相比不需要用于形成輸出側(cè)引線圖案的額外層，因此能夠減小覆蓋主下部圖案和次下部圖案121和122以及主上部圖案和次上部圖案141和142的絕緣層的厚度，因此由于包括絕緣層的線圈部件的豎直高度的減小而使得能夠?qū)崿F(xiàn)小型化。在此，在該實(shí)施方式的線圈部件中，主上部圖案和次上部圖案141和142具有在平面上與主下部圖案和次下部圖案121和122相交的部分。也就是，如圖5a中所示，在主下部圖案121上，主上部圖案141可以具有在平面上與主下部圖案121相交的部分R1，并且如圖5b中所示，在次下部圖案122上，次上部圖案142可以具有在平面上與次下部圖案122相交的部分R2。因此，參照圖5a至圖7，主上部圖案和次上部圖案141和142可以布置為定位在主下部圖案和次下部圖案121和122之間的空間中，也就是，在通過相交的部分Rl和R2形成的相交部分中定位在主下部圖案121與次下部圖案122之間。并且，主上部圖案和次上部圖案141和142可以布置為除了相交部分之外定位在主下部圖案和次下部圖案121和122上。此時(shí)，主上部圖案和次上部圖案141和142可以布置為與主下部圖案和次下部圖案121和122相交的布置。也就是，次上部圖案142可以布置為定位在主下部圖案121上，并且主上部圖案141可以布置為定位在次下部圖案122上。同時(shí)，參照圖8a至圖Sb，下絕緣層130可以包括:主涂層131，該主涂層覆蓋主下部圖案和次下部圖案121和122 ;以及次涂層132，該次涂層使主涂層131的上表面平面化(planarize)。也就是，當(dāng)通過一次涂覆形成下絕緣層130時(shí)，如在圖8a中，由于下絕緣層130形成為在其上表面上具有不平部分并且因此難于在其上表面上以準(zhǔn)確的位置和形狀形成主上部圖案和次上部圖案，因此次涂層132形成在其上表面上具有不平部分的主涂層131上，如在圖Sb中，以形成具有平面化的上表面的下絕緣層130，如在圖Sc中。因此，能夠在下絕緣層上準(zhǔn)確地設(shè)計(jì)并形成主上部圖案和次上部圖案。同時(shí)，參照圖9a，盡管下絕緣層130通過兩個(gè)涂覆工藝而形成，由于涂覆并非通常在沒有形成主下部圖案和次下部圖案121和122的區(qū)域中執(zhí)行(P)，因此定位在上述區(qū)域中的主上部圖案和次上部圖案141和142的布置可能扭曲(twist)。因此，如圖9b中所示，主下部圖案和次下部圖案121和122的寬度可以形成為比主上部圖案和次上部圖案141和142的寬度大。特別地，主下部圖案和次下部圖案121和122中的最內(nèi)部圖案和最外部圖案的寬度可以形成為大于定位在最內(nèi)部圖案與最外部圖案之間的圖案的寬度。同時(shí)，參照圖6，主上部圖案和次上部圖案141和142以從主下部圖案和次下部圖案121和122延伸并具有相同圈數(shù)的螺旋形狀形成。為了改進(jìn)主上部圖案和次上部圖案141和142相對于主下部圖案和次下部圖案121和122的匹配，主上部圖案和次上部圖案141和142中的最外部圖案的輸出側(cè)部分可以形成為定位在鄰近主下部圖案和次下部圖案121和122中的最外部圖案的內(nèi)側(cè)的圖案上。因此，主上部圖案和次上部圖案141和142中的最外部圖案的輸出側(cè)部分可以布置為，以達(dá)到偶數(shù)圈數(shù)之差的程度定位在主下部圖案和次下部圖案121和122中的最外部圖案的輸出側(cè)部分的內(nèi)部。通過上述結(jié)構(gòu)能夠使圖案之間的扭曲最小化。因此，能夠使由于圖案之間的扭曲而導(dǎo)致的不必要的寄生電容最小化。與此同時(shí)，參照圖10，該實(shí)施方式的線圈部件100還可以包括從主下部圖案和次下部圖案121和122中的較長圖案的最外部圖案的一部分?jǐn)U展的電阻調(diào)諧部分。在該實(shí)施方式中，較長圖案可以是主下部圖案121。因此，主下部圖案121可以具有從最外部圖案的一部分?jǐn)U展的電阻調(diào)諧部分121c。作為一個(gè)實(shí)例，當(dāng)主下部圖案121的圈數(shù)是5時(shí)，次下部圖案122的圈數(shù)可以是約4.7。因此，根據(jù)主下部圖案121與次下部圖案122之間的長度差，可能出現(xiàn)電阻差。因此，根據(jù)本實(shí)施方式的線圈部件100可以通過經(jīng)由電阻調(diào)諧部分121c來調(diào)節(jié)由于主下部圖案和次下部圖案121和122之間的長度差而導(dǎo)致的電阻差來防止由于電阻差所導(dǎo)致的性能劣化。同時(shí)，參照圖3，主上部圖案和次上部圖案141和142與主下部圖案和次下部圖案121和122可以通過過孔161和162電連接。也就是，主上部圖案141和主下部圖案121可以通過過孔161電連接，并且次上部圖案142和次下部圖案122可以通過過孔162電連接。并且，上磁體150可以通過在主上部圖案和次上部圖案141和142上填充鐵氧體磁性材料而形成。此時(shí)，上磁體150的中心部分可以延伸至主下部圖案和次下部圖案121和122的中心。因此，能夠通過延伸上磁體150來改進(jìn)該實(shí)施方式的線圈部件100的性能和特征。同時(shí)，圖11是示出根據(jù)本發(fā)明的線圈部件的一個(gè)實(shí)施方式的共模中的阻抗特征和作為傳統(tǒng)線圈部件的共模濾波器的共模中的阻抗特征的圖表。如圖11中所示，能夠查對，在相同的頻率下，與作為傳統(tǒng)線圈部件的共模濾波器的共模中的阻抗值(比較實(shí)例)相t匕，本實(shí)施方式的線圈部件的共模中的阻抗值(實(shí)施方式)顯著增加。下面將詳細(xì)地描述制造如上構(gòu)造的該實(shí)施方式的線圈部件的過程。參照圖3至圖5b，首先，制備包括鐵氧體基板的下磁體130。
并且，在下磁體130上以螺旋形狀相互平行地形成主下部圖案和次下部圖案121和 122。接著，形成覆蓋主下部圖案和次下部圖案121和122的下絕緣層130。此時(shí)，優(yōu)選的是，通過兩個(gè)涂覆工藝形成下絕緣層130。并且，在下絕緣層130上以螺旋形狀相互平行地形成主上部圖案和次上部圖案141和142，以與主下部圖案和次下部圖案121和122相對應(yīng)。在此，主上部圖案和次上部圖案141和142可以具有在平面上與主下部圖案和次下部圖案121和122相交的部分。并且，主上部圖案和次上部圖案141和142可以布置為與主下部圖案和次下部圖案121和122相交的布置。主上部圖案和次上部圖案141和142可以布置為在相交部分中定位在主下部圖案和次下部圖案121和122之間的空間中。此后，形成覆蓋主上部圖案和次上部圖案141和142絕緣層，該絕緣層由與下絕緣層130的材料類似的材料制成。并且，通過在絕緣層上填充磁性材料形成上磁體150。接著，鍍覆連接至主下部圖案和次下部圖案121和122的輸入側(cè)引線圖案121a和122a的外部接頭171a，并且鍍覆連接至主上部圖案和次上部圖案141和142的輸出側(cè)引線圖案141a和142b的外部接頭172b。由于在以上對該實(shí)施方式的線圈部件100的結(jié)構(gòu)的詳細(xì)描述中公開了該實(shí)施方式的線圈部件100的詳細(xì)制造過程的技術(shù)特征，因此將省略對它的詳細(xì)描述。如上所述，通過根據(jù)本發(fā)明的線圈部件及制造線圈部件的方法，能夠以相同的頻率實(shí)現(xiàn)高共模阻抗。并且，通過根據(jù)本發(fā)明的線圈部件及制造線圈部件的方法，能夠?qū)崿F(xiàn)改進(jìn)性能和容量。此外，通過根據(jù)本發(fā)明的線圈部件及制造線圈部件的方法，能夠通過簡化結(jié)構(gòu)和工藝降低制造成本并且提高生產(chǎn)率。前面的描述示出了本發(fā)明。此外，前面的描述僅示出并說明了本發(fā)明的實(shí)施方式，但是應(yīng)該理解的是，本發(fā)明能夠在多種其它組合、修改、以及環(huán)境中使用，并且能夠在如本文中所表述的本發(fā)明構(gòu)思的范圍內(nèi)進(jìn)行改變和修改，與上面的教導(dǎo)和/或現(xiàn)有技術(shù)的技能或知識(shí)相當(dāng)。上文中描述的實(shí)施方式還用于解釋已知為實(shí)施本發(fā)明的最佳模式，并且使得本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠在這種或者其它實(shí)施方式中利用本發(fā)明，并且具有由本發(fā)明的特定應(yīng)用或者用途所要求的多種修改。因此，該描述并非用于將本發(fā)明限制于本文中公開的形式。此外，旨在將所附權(quán)利要求理解為包括可替代的實(shí)施方式。
權(quán)利要求
1.一種線圈部件，所述線圈部件包括: 下磁體； 主下部圖案和次下部圖案，所述主下部圖案和所述次下部圖案以螺旋形狀相互平行地形成在所述下磁體上； 下絕緣層，所述下絕緣層覆蓋所述主下部圖案和所述次下部圖案； 主上部圖案和次上部圖案，所述主上部圖案和所述次上部圖案分別電連接至所述主下部圖案和所述次下部圖案，并且所述主上部圖案和所述次上部圖案以螺旋形狀相互平行地形成在所述下絕緣層上，以與所述主下部圖案和所述次下部圖案相對應(yīng)；以及 上磁體，所述上磁體形成在所述主上部圖案和所述次上部圖案上，其中，所述主上部圖案和所述次上部圖案具有在平面上與所述主下部圖案和所述次下部圖案相交的部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈部件，其中，所述主上部圖案和所述次上部圖案布置為與所述主下部圖案和所述次下部圖案的布置相交。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的線圈部件，其中，所述主上部圖案和所述次上部圖案布置為在相交部分中定位在所述主下部圖案與所述次下部圖案之間的空間中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈部件，其中，所述下絕緣層包括覆蓋所述主下部圖案和所述次下部圖案的主涂層以及用于使所述主涂層的上表面平面化的次涂層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈部件，其中，所述主下部圖案的寬度和所述次下部圖案的寬度形成為大于所述主上部圖案的寬度和所述次上部圖案的寬度。
6.根據(jù)權(quán)利要 求5所述的線圈部件，其中，所述主下部圖案和所述次下部圖案中的最內(nèi)部圖案的寬度和最外部圖案的寬度形成為大于定位在所述最內(nèi)部圖案與所述最外部圖案之間的圖案的寬度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈部件，其中，所述主上部圖案和所述次上部圖案以從所述主下部圖案和所述次下部圖案延伸并具有相同圈數(shù)的螺旋形狀形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的線圈部件，其中，所述主上部圖案和所述次上部圖案中的最外部圖案的輸出側(cè)部分形成為定位在鄰近所述主下部圖案和所述次下部圖案中的最外部圖案的內(nèi)側(cè)的圖案上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈部件，還包括: 電阻調(diào)諧部分，所述電阻調(diào)諧部分從所述主下部圖案和所述次下部圖案中的較長圖案的最外部圖案的一部分?jǐn)U展。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈部件，其中，所述主上部圖案和所述次上部圖案通過過孔與所述主下部圖案和所述次下部圖案電連接。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈部件，其中，所述上磁體形成為延伸至所述主上部圖案和所述次上部圖案以及所述主下部圖案和所述次下部圖案的中心。
12.一種制造線圈部件的方法，所述方法包括: 制備下磁體； 在所述下磁體上以螺旋形狀相互平行地形成主下部圖案和次下部圖案； 在所述主下部圖案和所述次下部圖案上形成下絕緣層； 在所述下絕緣層上以螺旋形狀相互平行地形成主上部圖案和次上部圖案，以與所述主下部圖案和所述次下部圖案相對應(yīng)，其中，所述主上部圖案和所述次上部圖案形成為具有在平面上與所述主下部圖案和所述次下部圖案相交的部分；以及 在所述主上部圖案和所述次上部圖案上形成上磁體。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制造線圈部件的方法，其中，將所述主上部圖案和所述次上部圖案布置為與所述主下部圖案和所述次下部圖案的布置相交。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制造線圈部件的方法，其中，將所述主上部圖案和所述次上部圖案布置為在相交部分中定位在所述主下部圖案與所述次下部圖案之間的空間中。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制造線圈部件的方法，其中，形成所述下絕緣層包括: 在所述主下部圖案和所述次下部圖案上形成主涂層；以及 在所述主涂層上形成次涂層。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制造線圈部件的方法，其中，將所述主下部圖案的寬度和所述次下部圖案的寬度形成為大于所述主上部圖案的寬度和所述次上部圖案的寬度。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的制造線圈部件的方法，其中，所述主下部圖案和所述次下部圖案中的最內(nèi)部圖案的寬度和最外部圖案的寬度形成為大于定位在所述最內(nèi)部圖案與所述最外部圖案之間的圖案的寬度。
18.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制造線圈部件的方法，其中，以從所述主下部圖案和所述次下部圖案延伸并具有相同圈數(shù)的螺旋形狀形成所述主上部圖案和所述次上部圖案。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的制造線圈部件的方法，其中，將所述主上部圖案和所述次上部圖案中的最外部圖案的輸 出側(cè)部分形成為定位在鄰近所述主下部圖案和所述次下部圖案中的最外部圖案的內(nèi)側(cè)的圖案上。
20.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制造線圈部件的方法，其中，形成所述主下部圖案和所述次下部圖案還包括:通過使所述主下部圖案和所述次下部圖案中的較長圖案的最外部圖案的一部分?jǐn)U展而形成電阻調(diào)諧部分。
21.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制造線圈部件的方法，其中，形成所述主上部圖案和所述次上部圖案包括:通過過孔將所述主上部圖案和所述次上部圖案電連接至所述主下部圖案和所述次下部圖案。
22.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制造線圈部件的方法，其中，形成所述上磁體包括:使所述上磁體延伸至所述主上部圖案和所述次上部圖案以及所述主下部圖案和所述次下部圖案的中心。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種線圈部件及制造線圈部件的方法，該線圈部件包括下磁體；主下部圖案和次下部圖案，以螺旋形狀相互平行地形成在下磁體上；下絕緣層，覆蓋主下部圖案和次下部圖案；主上部圖案和次上部圖案，主上部圖案和次上部圖案分別電連接至主下部圖案和次下部圖案，并且主上部圖案和次上部圖案以螺旋形狀相互平行地形成在下絕緣層上，以與主下部圖案和次下部圖案相對應(yīng)；以及，上磁體，形成在主上部圖案和次上部圖案上，其中，主上部圖案和次上部圖案具有在平面上與主下部圖案和次下部圖案相交的部分。
文檔編號(hào)H01F41/00GK103165259SQ20121052611
公開日2013年6月19日 申請日期2012年12月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月8日
發(fā)明者劉永錫, 安永圭, 金容錫, 李相汶, 郭正福, 許康憲, 魏圣權(quán) 申請人:三星電機(jī)株式會(huì)社