專利名稱：低壓斷路器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種斷路器，具體涉及一種低壓斷路器。
背景技術(shù)：
目前市場(chǎng)上的低壓斷路器包括殼體、動(dòng)觸頭、靜觸頭、磁軛、引弧片、滅弧室、操作機(jī)構(gòu)等組成。這種結(jié)構(gòu)的低壓斷路器在分?jǐn)鄷r(shí)，動(dòng)觸頭和靜觸頭的觸點(diǎn)間會(huì)形成電弧，低壓斷路器利用磁軛和引弧片間的磁場(chǎng)將電弧引進(jìn)滅弧室以達(dá)到避免觸點(diǎn)被電弧損毀的目的。但是，在兩個(gè)觸點(diǎn)間強(qiáng)電場(chǎng)的作用下，這種結(jié)構(gòu)的低壓斷路器在滅弧過(guò)程中仍然有一部分正離子向觸頭的觸點(diǎn)高速移動(dòng)，撞擊該觸點(diǎn)表面而打出電子，產(chǎn)生電子二次發(fā)射，使電弧持續(xù)時(shí)間較長(zhǎng)；并且這種結(jié)構(gòu)的低壓斷路器僅借助磁軛和引弧片間的磁場(chǎng)將電弧引進(jìn)滅弧 室，引弧效果不佳、使電弧滯留的時(shí)間較長(zhǎng)，造成低壓斷路器分?jǐn)嗄芰Σ睢?br> 發(fā)明內(nèi)容為了克服背景技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供一種有效減少電弧的持續(xù)時(shí)間且引弧效果好的低壓斷路器。本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種低壓斷路器，包括殼體、滅弧室、動(dòng)觸頭、靜觸頭，所述滅弧室、所述靜觸頭和所述動(dòng)觸頭設(shè)置在殼體內(nèi)部，還包括觸頭罩，所述觸頭罩主要由基部和與所述基部相連接的產(chǎn)氣部組成，至少所述產(chǎn)氣部由產(chǎn)氣材料制成，所述產(chǎn)氣部對(duì)應(yīng)于所述動(dòng)觸頭和所述靜觸頭之間的開(kāi)距，當(dāng)所述產(chǎn)氣部產(chǎn)生氣體時(shí)使電弧進(jìn)入所述滅弧室。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案所述基部固定在所述動(dòng)觸頭上。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案所述基部固定在所述靜觸頭上。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案所述基部固定在所述殼體上。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案所述產(chǎn)氣部朝向所述動(dòng)觸頭上的動(dòng)觸點(diǎn)。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案所述產(chǎn)氣部上對(duì)應(yīng)于所述動(dòng)觸頭和所述靜觸頭之間的開(kāi)距的面是個(gè)弧面。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案在所述產(chǎn)氣部還設(shè)有由產(chǎn)氣材料制成的若干個(gè)凸起，所述凸起指向所述弧面的中心。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案所述凸起、所述產(chǎn)氣部和所述基部均采用產(chǎn)氣材料且一體型成形成觸頭罩。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案所述產(chǎn)氣部的中心和所述觸點(diǎn)的中心距離殼體底面的高度相等。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比其有益效果是本實(shí)用新型采用相對(duì)于觸點(diǎn)位置處于遠(yuǎn)離滅弧室的產(chǎn)氣部，該產(chǎn)氣部由產(chǎn)氣材料制成并且該產(chǎn)氣部朝向觸點(diǎn)的結(jié)構(gòu)，利用該低壓斷路器產(chǎn)生電弧時(shí)的高溫環(huán)境使產(chǎn)氣部瞬間釋放氣體，并且該產(chǎn)氣部朝向兩個(gè)觸點(diǎn)間的開(kāi)距，從而形成流向該開(kāi)距的氣流直接把極區(qū)帶電離子驅(qū)散，減少電子二次發(fā)射，使電弧持續(xù)的時(shí)間縮短。其次，產(chǎn)生的氣流會(huì)把電弧吹向滅弧室，并結(jié)合磁軛和引弧片能實(shí)現(xiàn)快速且輕易地使電弧進(jìn)入滅弧室，引弧效果好、使電弧滯留的時(shí)間較短，提高低壓斷路器分?jǐn)嗄芰?。將產(chǎn)生氣朝向動(dòng)觸點(diǎn)，可以使電弧直接向引弧片的引弧腳傾斜，使引弧時(shí)間變短，進(jìn)一步提聞斷路器的分?jǐn)嗄芰Α?br>
圖I為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型的引弧效果示意圖。圖中，I 一滅弧室，2 —觸頭罩,3—基部,4 一產(chǎn)氣部,5 —?jiǎng)佑|頭,6 —靜觸頭,7 —
動(dòng)觸點(diǎn)，8 —靜觸點(diǎn)，9 一凸起，10 —引弧腳。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明如圖I所示，本實(shí)用新型低壓斷路器，包括殼體、滅弧室I、動(dòng)觸頭5、靜觸頭6，所述滅弧室I、所述靜觸頭6和所述動(dòng)觸頭5設(shè)置在殼體內(nèi)部。還包括觸頭罩2，所述觸頭罩2主要由基部3和與所述基部3相連接的產(chǎn)氣部4組成，至少所述產(chǎn)氣部4由產(chǎn)氣材料制成。所述產(chǎn)氣部4對(duì)應(yīng)于所述動(dòng)觸頭5和所述靜觸頭6之間的開(kāi)距，即動(dòng)觸頭和靜觸頭位于產(chǎn)氣部和滅弧室之間。當(dāng)所述產(chǎn)氣部產(chǎn)生氣體時(shí)使電弧進(jìn)入所述滅弧室。在電弧被引入滅弧室的過(guò)程中仍有一部分電子向觸點(diǎn)高速移動(dòng)，這部分電子與兩個(gè)觸點(diǎn)間中的空氣分子發(fā)生碰撞產(chǎn)生正離子，而正離子則會(huì)在電場(chǎng)的作用下向觸點(diǎn)高速移動(dòng)并撞擊動(dòng)觸點(diǎn)表面從而產(chǎn)生游離的電子，形成了持續(xù)時(shí)間比較長(zhǎng)的電弧。本實(shí)用新型采用由產(chǎn)氣材料制成的產(chǎn)氣部的結(jié)構(gòu)，利用該低壓斷路器產(chǎn)生電弧時(shí)的高溫環(huán)境使產(chǎn)氣部瞬間釋放氣體，并且該產(chǎn)氣部產(chǎn)生的氣體形成氣流向沖向動(dòng)觸點(diǎn)和靜觸點(diǎn)之間區(qū)域把極區(qū)帶電離子驅(qū)散，減少電子二次發(fā)射，使電弧持續(xù)的時(shí)間短，防止觸點(diǎn)被燒毀、提高了低壓斷路器的分?jǐn)嗄芰ΑＭ瑫r(shí)產(chǎn)生的氣流會(huì)使電弧向滅弧室傾斜，并結(jié)合磁軛和引弧片能實(shí)現(xiàn)快速且輕易地使電弧進(jìn)入滅弧室，引弧效果好、使電弧滯留的時(shí)間較短，提高低壓斷路器分?jǐn)嗄芰?。在上述方案中，觸頭罩的固定位置可以采用基部3與動(dòng)觸頭5固定連接，也可以采用基部3與靜觸頭6固定連接，還可以采用基部3與殼體固定連接。在述實(shí)施例中產(chǎn)氣部是朝向動(dòng)觸點(diǎn)7和靜觸點(diǎn)8之間的開(kāi)距。產(chǎn)氣部也可以是朝向動(dòng)觸點(diǎn)7，也可以朝向靜觸點(diǎn)8。為了進(jìn)一步提高低壓斷路器的分?jǐn)嗄芰?，?yōu)選采用產(chǎn)氣部朝向動(dòng)觸點(diǎn)7。如圖2所示，斷路器引弧片的引弧腳10通常采用靠近動(dòng)觸點(diǎn)的方案，當(dāng)產(chǎn)氣部朝向動(dòng)觸點(diǎn)7時(shí)，其產(chǎn)生的氣體沖向動(dòng)觸點(diǎn)，從而使電弧11直接向引弧片的引弧腳傾斜，使電弧通過(guò)引弧片被引進(jìn)滅弧室的時(shí)間更短，進(jìn)一步地提高了斷路器的分?jǐn)嗄芰?。為了盡可能的提高低壓斷路器的分?jǐn)嗄芰?，同時(shí)也能在不改變?cè)械蛪簲嗦菲鞯恼w大小的情況下方便并穩(wěn)固地安裝觸頭罩，觸頭罩2的基部3與動(dòng)觸頭5固定連接，產(chǎn)氣部4朝向動(dòng)觸頭5上的動(dòng)觸點(diǎn)7。、[0021]進(jìn)一步，所述產(chǎn)氣部上對(duì)應(yīng)于所述動(dòng)觸頭和所述靜觸頭之間的開(kāi)距的面是個(gè)弧面。當(dāng)然，所述產(chǎn)氣部上對(duì)應(yīng)于所述動(dòng)觸頭和所述靜觸頭之間的開(kāi)距的面是個(gè)平面。為了使產(chǎn)氣部產(chǎn)生的氣體能集中到一點(diǎn)、加大氣流的強(qiáng)度、利于電弧拉長(zhǎng)，述產(chǎn)氣部上對(duì)應(yīng)于所述動(dòng)觸頭和所述靜觸頭之間的開(kāi)距的面優(yōu)選采用弧面結(jié)構(gòu)。為了使產(chǎn)生更多的氣體方便把極區(qū)帶電離子驅(qū)散，在所述產(chǎn)氣部還設(shè)有由產(chǎn)氣材料制成的若干個(gè)凸起9，所述凸起指向所述弧面的中心。為了便于加工及安裝，所述凸起9、所述產(chǎn)氣部4和所述基部3均采用產(chǎn)氣材料且一體型成形成觸頭罩。當(dāng)然觸頭罩也可以分體地，通過(guò)粘接等方式固定形成觸頭罩。為了使電弧能方便的進(jìn)入滅弧室，所述產(chǎn)氣部的中心和所述觸點(diǎn)的中心距離殼體底面的高度相等。 本實(shí)施例不應(yīng)視為對(duì)本實(shí)用新型的限制，但任何基于本實(shí)用新型的精神所作的改進(jìn)，都應(yīng)在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種低壓斷路器，包括殼體、滅弧室、動(dòng)觸頭、靜觸頭，所述滅弧室、所述靜觸頭和所述動(dòng)觸頭設(shè)置在殼體內(nèi)部，其特征在于還包括觸頭罩，所述觸頭罩主要由基部和與所述基部相連接的產(chǎn)氣部組成，至少所述產(chǎn)氣部由產(chǎn)氣材料制成，所述產(chǎn)氣部對(duì)應(yīng)于所述動(dòng)觸頭和所述靜觸頭之間的開(kāi)距，當(dāng)所述產(chǎn)氣部產(chǎn)生氣體時(shí)使電弧進(jìn)入所述滅弧室。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的低壓斷路器，其特征在于所述基部固定在所述動(dòng)觸頭上。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的低壓斷路器，其特征在于所述基部固定在所述靜觸頭上。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的低壓斷路器，其特征在于所述基部固定在所述殼體上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低壓斷路器，其特征在于所述產(chǎn)氣部朝向所述動(dòng)觸頭上的動(dòng)觸點(diǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求I一 4任一項(xiàng)所述的低壓斷路器，其特征在于所述產(chǎn)氣部上對(duì)應(yīng)于所述動(dòng)觸頭和所述靜觸頭之間的開(kāi)距的面是個(gè)弧面。
7.根據(jù)權(quán)利權(quán)求6所述的低壓斷路器，其特征在于在所述產(chǎn)氣部還設(shè)有由產(chǎn)氣材料制成的若干個(gè)凸起，所述凸起指向所述弧面的中心。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的低壓斷路器，其特征在于所述凸起、所述產(chǎn)氣部和所述基部均采用產(chǎn)氣材料且一體型成形成觸頭罩。
9.根據(jù)權(quán)利要求I一 5任一項(xiàng)所述的低壓斷路器，其特征在于所述產(chǎn)氣部的中心和所述觸點(diǎn)的中心距離殼體底面的高度相等。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種低壓斷路器，其解決了現(xiàn)有的低壓斷路器會(huì)產(chǎn)生電子二次發(fā)射，形成電弧持續(xù)時(shí)間長(zhǎng)的技術(shù)問(wèn)題。其包括殼體、滅弧室、動(dòng)觸頭、靜觸頭，所述滅弧室、所述靜觸頭和所述動(dòng)觸頭設(shè)置在殼體內(nèi)部，其特征在于還包括觸頭罩，所述觸頭罩主要由基部和與所述基部相連接的產(chǎn)氣部組成，至少所述產(chǎn)氣部由產(chǎn)氣材料制成，所述產(chǎn)氣部對(duì)應(yīng)于所述動(dòng)觸頭和所述靜觸頭之間的開(kāi)距，當(dāng)所述產(chǎn)氣部產(chǎn)生氣體時(shí)使電弧進(jìn)入所述滅弧室。進(jìn)一步地，所述產(chǎn)氣部朝向所述動(dòng)觸頭上的動(dòng)觸點(diǎn)。
文檔編號(hào)H01H73/18GK202502965SQ20122013340
公開(kāi)日2012年10月24日 申請(qǐng)日期2012年3月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月31日
發(fā)明者張延霞, 張建生, 李軍挺, 李思振, 楊啟勇 申請(qǐng)人:浙江天正電氣股份有限公司