專利名稱：高溫蝕刻工藝槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體LED芯片制作裝置。具體涉及一種高溫蝕刻工藝槽，該工藝槽主要用于半導(dǎo)體LED芯片行業(yè)中圖形化藍(lán)寶石襯底與外延片之間的工藝段，通過高溫蝕刻工藝在藍(lán)寶石襯底上生長(zhǎng)垂直化結(jié)構(gòu)，是提高LED芯片亮度提升的必要工藝設(shè)備。
背景技術(shù)：
本實(shí)用新型做出以前，由于所述工藝槽用于高溫藥液蝕刻，在工藝溫度下會(huì)產(chǎn)生大量腐蝕性揮發(fā)氣體，工藝槽內(nèi)的溶液為強(qiáng)腐蝕性液體,不僅會(huì)增加廢氣處理難度及成本，還會(huì)導(dǎo)致工藝溫度失衡、藥液損耗嚴(yán)重等相關(guān)的由于揮發(fā)而導(dǎo)致的不利于生產(chǎn)的現(xiàn)象發(fā)生。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種高溫蝕刻工藝槽，其耐高溫，防腐蝕，抑制腐蝕氣體揮發(fā)，減少工藝槽內(nèi)藥液損耗，能控制藥液升溫時(shí)間及藥液溫度的均勻性，能降溫排放藥液。為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型有如下技術(shù)方案本實(shí)用新型的一種高溫蝕刻工藝槽，包括槽蓋、防腐外殼、保溫隔熱層、加熱裝置、抑制氣體揮發(fā)裝置、降溫裝置、工藝槽本體、連接供液裝置，所述槽蓋位于工藝槽本體頂部，保溫隔熱層位于防腐外殼內(nèi)，工藝槽本體位于保溫隔熱層與工藝槽之間，加熱裝置設(shè)置在工藝槽本體底部，抑制氣體揮發(fā)裝置固定在工藝槽本體的上部，降溫裝置固定在工藝槽本體內(nèi)壁，連接供液裝置從工藝槽本體頂部插入到工藝槽本體內(nèi)。其中，所述槽蓋包括兩塊蓋板、開啟關(guān)閉動(dòng)力機(jī)構(gòu)、密封減震碰撞條，開啟關(guān)閉動(dòng)力機(jī)構(gòu)分別與兩塊蓋板連接，密封減震碰撞條位于兩塊蓋板關(guān)閉時(shí)的中間縫隙處，所述開啟關(guān)閉動(dòng)力機(jī)構(gòu)用于自動(dòng)開啟或關(guān)閉槽蓋。其中，所述防腐外殼是采用聚丙烯板材焊接加工而成的防腐外殼。其中，所述保溫隔熱層采用莫來石。其中，所述加熱裝置為并排設(shè)置的若干個(gè)加熱燈管。其中，所述抑制氣體揮發(fā)裝置為若干個(gè)冷凝回流盤管。其中，所述降溫裝置包括降溫盤管、制冷裝置、冷卻液體，降溫盤管與制冷裝置連接，冷卻液體是在降溫盤管與制冷裝置之中循環(huán)的冷卻液體。其中，所述工藝槽本體采用石英材料，在工藝槽本體底部設(shè)有橫截面為V形的排放口。其中，所述連接供液裝置為若干個(gè)供液補(bǔ)液管道。由于采取了以上技術(shù)方案，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于本實(shí)用新型耐高溫，防腐蝕，抑制腐蝕氣體揮發(fā)，減少工藝槽內(nèi)藥液損耗，能控制藥液升溫時(shí)間及藥液溫度的均勻性，能降溫排放藥液；本實(shí)用新型能通過連接供液裝置接通自動(dòng)供液補(bǔ)液系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)工藝槽內(nèi)的藥液的自動(dòng)補(bǔ)液供液。

圖I為本實(shí)用新型整體結(jié)構(gòu)的示意圖；圖2為圖I的AA向的剖視圖的示意圖；圖3為本實(shí)用新型槽蓋的俯視圖的放大示意圖。圖中1、槽蓋；2、防腐外殼；3、保溫隔熱層；4、加熱裝置、5、抑制氣體揮發(fā)裝置；6、降溫裝置；7、工藝槽本體；8、連接供液裝置。
具體實(shí)施方式
·[0020]以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型，但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。參見圖I-圖3，本實(shí)用新型的一種高溫蝕刻工藝槽，由槽蓋、防腐外殼、保溫隔熱層、加熱裝置、抑制氣體揮發(fā)裝置、降溫裝置、工藝槽本體、連接供液裝置組成，所述槽蓋位于工藝槽本體頂部，保溫隔熱層位于防腐外殼內(nèi)，工藝槽本體位于保溫隔熱層與工藝槽之間，加熱裝置設(shè)置在工藝槽本體底部，抑制氣體揮發(fā)裝置固定在工藝槽本體的上部，降溫裝置固定在工藝槽本體內(nèi)壁，連接供液裝置從工藝槽本體頂部插入到工藝槽本體內(nèi)。所述槽蓋由于所述工藝槽用于高溫藥液蝕刻，在工藝溫度下會(huì)產(chǎn)生大量腐蝕性揮發(fā)氣體，不僅會(huì)增加廢氣處理難度及成本，還會(huì)導(dǎo)致工藝溫度失衡、藥液損耗嚴(yán)重等相關(guān)的由于揮發(fā)而導(dǎo)致的不利于生產(chǎn)的現(xiàn)象發(fā)生，所以該工藝槽設(shè)置有自動(dòng)槽蓋執(zhí)行開啟與關(guān)閉動(dòng)作。因考慮到揮發(fā)氣體的腐蝕性及耐溫性和在一定溫度下的熱變形性以及對(duì)材料本身的潔凈度要求等，故所述槽蓋選用石英板材作為蓋板。因考慮到石英板材的易碎性，故采用左右兩塊蓋板模式完成槽蓋的開啟與關(guān)閉，減少蓋板與實(shí)現(xiàn)蓋板開啟關(guān)閉動(dòng)力機(jī)構(gòu)連接處的扭力，防止石英蓋板碎裂。因考慮到石英板材的易碎性及槽蓋在關(guān)閉后的必須相對(duì)密封性和在一定溫度下的熱變形性以及對(duì)材料本身的潔凈度要求等，故在兩塊對(duì)開槽蓋板關(guān)閉時(shí)的中間縫隙處使用由聚四氟乙烯材料制作的密封減震碰撞條加以過渡，保證槽蓋關(guān)閉時(shí)的安全性。所述防腐外殼由于所述工藝槽用于高溫藥液蝕刻工藝，所以工藝槽所處環(huán)境充滿具有腐蝕性的酸堿氣體。因考慮到所述保溫隔熱層、加熱裝置的連接導(dǎo)線不具備防腐能力，故采用潔凈防腐的PP(聚丙烯)板材焊接加工而成的殼體對(duì)該工藝槽的加熱導(dǎo)線連接及保溫隔熱層進(jìn)行隔離保護(hù)。所述保溫隔熱層由于所述工藝槽為高溫藥液蝕刻工藝槽，該工藝槽的工藝溫度為最高600攝氏度，故選用耐火材料。所述加熱裝置由于所述工藝槽為高溫藥液蝕刻工藝槽，為滿足工藝及產(chǎn)能的需求故對(duì)藥液的升溫時(shí)間及藥液溫度均勻性都有很高的要求，所以選用紅外光波方式對(duì)其進(jìn)行加熱。遠(yuǎn)紅外發(fā)熱管具有1.熱效率高，熱輻射傳遞距離遠(yuǎn)，熱交換速度快，節(jié)能環(huán)保；2.耐冷熱驟變性強(qiáng)，熱膨脹系數(shù)極小，有極高的熱穩(wěn)定性，能承受劇烈的溫度變化而不炸裂；3.使用壽命長(zhǎng)，在頻繁啟動(dòng)、關(guān)閉和長(zhǎng)期連續(xù)工作中，發(fā)熱體無氧化和擊穿現(xiàn)象等優(yōu)點(diǎn)。該工藝槽在工藝槽本體底部設(shè)置有若干個(gè)并排的遠(yuǎn)紅外發(fā)熱管，依靠熱量向上游動(dòng)的特性及紅外光照加熱的模式使藥液的溫度均勻性達(dá)到最佳。所述抑制氣體揮發(fā)裝置由于所述工藝槽為高溫藥液蝕刻工藝槽，且工藝溫度最高時(shí)可達(dá)600攝氏度，所以工藝槽中的藥液因?yàn)楦邷貢?huì)產(chǎn)生大量的揮發(fā)氣體，不但會(huì)給生產(chǎn)操作照成影響存在較大的安全隱患還會(huì)增加廢氣處理的成本。而且大量的揮發(fā)還會(huì)照成熱量的丟失及照成工藝槽中藥液濃度的下降及混合藥液的比例失衡。故在工藝槽本體上部加裝一組冷凝回流盤管，使揮發(fā)氣體接觸到冷凝盤管后產(chǎn)生凝華，凝華后藥液再次流回工藝槽中有效地降低藥液的揮發(fā)及熱量的損耗。所述降溫裝置·由于所述工藝槽為高溫藥液蝕刻工藝槽，且工藝溫度最高時(shí)可達(dá)600攝氏度，工藝蝕刻使用若干時(shí)間或批次后的藥液需更換新的藥液，而工藝槽的防腐排放管道以及廠家的廠務(wù)防腐排放管道以及廢液回收處理裝置均不具備承受如此高溫藥液的能力。所以該工藝槽在更換藥液時(shí)需先對(duì)槽中的高溫廢液進(jìn)行降溫。故在該工藝槽本體內(nèi)壁四周設(shè)置有降溫盤管，降溫盤管內(nèi)為能耐600攝氏度高溫的冷卻液體通過制冷裝置使其在工藝槽中降溫盤管與制冷裝置之中循環(huán)，通過熱交換將工藝槽中藥液的溫度快速降溫至防腐排放管道以及廠家的廠務(wù)防腐排放管道以及廢液回收處理裝置能承受的溫度范圍從而進(jìn)行換液前的排液。所述工藝槽本體由于所述工藝槽為高溫藥液蝕刻工藝槽，工藝溫度最高時(shí)可達(dá)600攝氏度，且工藝槽內(nèi)的溶液為強(qiáng)腐蝕性液體，工藝要求對(duì)潔凈度也很高，所以該工藝槽本體采用耐高溫且潔凈的石英材料制作。該石英工藝槽本體底部設(shè)有排放口，且工藝槽本體底板橫截面為V形的排放口，方便藥液的排盡。所述連接供液裝置由于所述工藝槽為高溫藥液蝕刻工藝槽，工藝溫度最高時(shí)可達(dá)600攝氏度，且槽中液體為強(qiáng)腐蝕性藥液，多以藥液的更換及補(bǔ)充工作不得由人工操作，須由自動(dòng)供液補(bǔ)液系統(tǒng)自動(dòng)完成。故該工藝槽頂部另行裝置有與工藝槽本體相同材質(zhì)的供液補(bǔ)液管道，該供液補(bǔ)液管道與供液補(bǔ)液系統(tǒng)的管道對(duì)接。各支對(duì)接管件可獨(dú)立拆卸更換。顯然，本實(shí)用新型的上述實(shí)施僅僅是為清楚地說明本實(shí)用新型所作的舉例，而并非是對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式的限定。對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在上述說明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)。這里無法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。凡是屬于本實(shí)用新型的技術(shù)方案所引伸出的顯而易見的變化或變動(dòng)仍處于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之列。
權(quán)利要求1.一種高溫蝕刻工藝槽，其特征在于包括槽蓋、防腐外殼、保溫隔熱層、加熱裝置、抑制氣體揮發(fā)裝置、降溫裝置、工藝槽本體、連接供液裝置，所述槽蓋位于工藝槽本體頂部，保溫隔熱層位于防腐外殼內(nèi)，工藝槽本體位于保溫隔熱層與工藝槽之間，加熱裝置設(shè)置在工藝槽本體底部，抑制氣體揮發(fā)裝置固定在工藝槽本體的上部，降溫裝置固定在工藝槽本體內(nèi)壁，連接供液裝置從工藝槽本體頂部插入到工藝槽本體內(nèi)。
2.如權(quán)利要求I所述的一種高溫蝕刻工藝槽，其特征在于所述槽蓋包括兩塊蓋板、開啟關(guān)閉動(dòng)力機(jī)構(gòu)、密封減震碰撞條，開啟關(guān)閉動(dòng)力機(jī)構(gòu)分別與兩塊蓋板連接，密封減震碰撞條位于兩塊蓋板關(guān)閉時(shí)的中間縫隙處，所述開啟關(guān)閉動(dòng)力機(jī)構(gòu)用于自動(dòng)開啟或關(guān)閉槽蓋。
3.如權(quán)利要求I所述的一種高溫蝕刻工藝槽，其特征在于所述防腐外殼是采用聚丙烯板材焊接加工而成的防腐外殼。
4.如權(quán)利要求I所述的一種高溫蝕刻工藝槽，其特征在于所述保溫隔熱層采用耐火材料。
5.如權(quán)利要求I所述的一種高溫蝕刻工藝槽，其特征在于所述加熱裝置為并排設(shè)置的若干個(gè)加熱燈管。
6.如權(quán)利要求I所述的一種高溫蝕刻工藝槽，其特征在于所述抑制氣體揮發(fā)裝置為若干個(gè)冷凝回流盤管。
7.如權(quán)利要求I所述的一種高溫蝕刻工藝槽，其特征在于所述降溫裝置包括降溫盤管、制冷裝置、冷卻液體，降溫盤管與制冷裝置連接，冷卻液體是在降溫盤管與制冷裝置之中循環(huán)的冷卻液體。
8.如權(quán)利要求I所述的一種高溫蝕刻工藝槽,其特征在于所述工藝槽本體采用石英材料，在工藝槽本體底部設(shè)有橫截面為V形的排放口。
9.如權(quán)利要求I所述的一種高溫蝕刻工藝槽，其特征在于所述連接供液裝置為若干個(gè)供液補(bǔ)液管道。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體LED芯片制作裝置。本實(shí)用新型公開了一種高溫蝕刻工藝槽，包括槽蓋、防腐外殼、保溫隔熱層、加熱裝置、抑制氣體揮發(fā)裝置、降溫裝置、工藝槽本體、連接供液裝置，所述槽蓋位于工藝槽本體頂部，保溫隔熱層位于防腐外殼內(nèi)，工藝槽本體位于保溫隔熱層與工藝槽之間，加熱裝置設(shè)置在工藝槽本體底部，抑制氣體揮發(fā)裝置固定在工藝槽本體的上部，降溫裝置固定在工藝槽本體內(nèi)壁，連接供液裝置從工藝槽本體頂部插入到工藝槽本體內(nèi)。本實(shí)用新型耐高溫，防腐蝕，抑制腐蝕氣體揮發(fā)，減少工藝槽內(nèi)藥液損耗，能控制藥液升溫時(shí)間及藥液溫度的均勻性，能降溫排放藥液。
文檔編號(hào)H01L21/306GK202712136SQ201220376750
公開日2013年1月30日 申請(qǐng)日期2012年7月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月31日
發(fā)明者耿彪 申請(qǐng)人:耿彪