專利名稱：具有標記點的石蠟掩膜對準調試假片的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及掩膜法制備SE電池領域，具體是具有標記點的石蠟掩膜對準調試假片。
背景技術：
掩膜法制備SE電池在刻蝕工序之前就在硅片的上表面打印上與柵線圖形一致的掩膜圖形，以保護石蠟柵線圖形下方的摻雜層不被刻蝕，而非石蠟柵線圖形覆蓋區(qū)域的摻雜層則被刻蝕掉一層，形成選擇性發(fā)射極。而在后續(xù)絲印工序中，須在掩膜圖形的位置保持硅片方向一致完全對準再印刷銀電極，就需要使用對準假片對絲印機臺進行對準測試校準。在對準調試過程中存在兩個問題1、在同一中對準方式，無對準標記的對準假片在絲印對準校準過程中可能存在與生產片方向存在180度的差異，從而引起對準實效；2、當存在多種對準方式時，不同對準方式的生產片也需要相對應對準方式的對準假片進行對準調試，如果不同對準方式的生產片使用非對應的對準假片進行對準校準，也將引起對準失效。

實用新型內容本實用新型提供了具有標記點的石蠟掩膜對準調試假片，解決了以往絲印對準校準過程中，容易造成對準失效，從而降低電池片效率，引起工藝質量事故的問題。本實用新型為解決技術問題主要通過以下技術方案實現(xiàn)具有標記點的石蠟掩膜對準調試假片，包括方形的假片本體，假片本體上設有掩膜圖形，所述假片本體上還設有標記點。標記點與掩膜圖形一樣，均為石蠟，標記點隨掩膜圖形一起打印在假片上；對硅片進行絲印前，需要使用對準假片對絲印機臺進行對準校準，引入標記點以后，避免對準假片與生產片出現(xiàn)180度的反向，防止引起對準失效。所述標記點位于掩膜圖形外。所述標記點位于假片本體的任意一個頂角處。所述標記點位于掩膜圖形內。本實用新型與現(xiàn)有技術相比具有以下優(yōu)點和有益效果(I)本實用新型通過引入標記點，使得在絲印機臺進行對準校準時，操作人員能夠直觀準確地區(qū)分對準假片的方向，從而確保了對準校準的可靠性，避免了出現(xiàn)工藝質量事故，為電池片的聞效率提供了保障。(2)本實用新型引入的標記點和打印掩膜圖形同時進行，一步完成，不需要增加額外的工藝步驟，也不引起額外的工藝問題，因此，在提高了對準校準精度的基礎上，并沒有帶來不好的影響。
圖I為本實用新型的實施例I的結構示意圖；圖2為本實用新型的實施例2的結構示意圖。附圖中附圖標記所對應的名稱為1、假片本體，2、掩膜圖形，3、標記點。
具體實施方式
下面結合實施例對本實用新型作進一步的詳細說明，但本實用新型的實施方式不限于此。實施例I : 如圖I所示，本實用新型包括方形的假片本體1，假片本體I上設有掩膜圖形2，假片本體I上還設有標記點3。本實施例將標記點3設置在掩膜圖形2外，作為優(yōu)選，將標記點3設置在假片本體I的任意一個頂角處，便于很清楚地區(qū)分對準校準的方向。實施例2:如圖2所示，本實施例與實施例I不同的地方是，將標記點3設置在掩膜圖形2內，由于掩膜圖形2有空白的地方，可將標記點3設置在任意空白的地方，能夠區(qū)分對準校準方向即可。本實用新型的標記點的大小、位置可以是任意的，只要不影響正常掩膜圖形、能夠清楚區(qū)分對準校準方向即可。本實用新型的工作原理為將設有標記點3的假片對絲印機臺進行對準校準測試，由于有標記點3，所以能很直觀、清楚地判斷掩膜圖形與硅片方向是否一致，一致后，再進行絲印操作，這樣保證了電池片的高效率。如上所述，則能很好地實現(xiàn)本實用新型。
權利要求1.具有標記點的石蠟掩膜對準調試假片，包括方形的假片本體(1)，假片本體(I)上設有掩膜圖形(2)，其特征在于所述假片本體(I)上還設有標記點(3)。
2.根據(jù)權利要求I所述的具有標記點的石蠟掩膜對準調試假片，其特征在于所述標記點(3)位于掩膜圖形(2)外。
3.根據(jù)權利要求2所述的具有標記點的石蠟掩膜對準調試假片，其特征在于所述標記點(3)位于假片本體(I)的任意一個頂角處。
4.根據(jù)權利要求I所述的具有標記點的石蠟掩膜對準調試假片，其特征在于所述標記點(3)位于掩膜圖形(2)內。
專利摘要本實用新型公開了具有標記點的石蠟掩膜對準調試假片，包括方形的假片本體(1)，假片本體(1)上設有掩膜圖形(2)，假片本體(1)上還設有標記點(3)，標記點(3)位于掩膜圖形(2)外。本實用新型采用上述結構，在絲印對準校準過程中，能避免造成對準失效，防止工藝質量事故的發(fā)生，保證電池片的高效率，同時還不會增加額外的工藝步驟。
文檔編號H01L31/18GK202749407SQ20122045824
公開日2013年2月20日 申請日期2012年9月11日 優(yōu)先權日2012年9月11日
發(fā)明者夏偉, 程曦, 馬熠隆, 段甜健, 包崇彬, 李質磊, 盛雯婷, 張鳳鳴 申請人:天威新能源控股有限公司