延長(zhǎng)使用期限的紋理腔室部件與制造紋理腔室部件的方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種處理腔室部件及制造所述處理腔室部件的方法。處理腔室部件以本文所述的方式制造且所述處理腔室部件包括在腔室部件的表面上產(chǎn)生至少巨觀紋理。巨觀紋理由多個(gè)設(shè)計(jì)特征限定，所述多個(gè)設(shè)計(jì)特征在腔室部件的表面上以預(yù)限定取向布置。在一些實(shí)施例中，設(shè)計(jì)特征防止形成在特征之間限定的視線表面，以增強(qiáng)沉積在腔室部件上的膜的保持。
【專利說明】延長(zhǎng)使用期限的紋理腔室部件與制造紋理腔室部件的方法
[0001]發(fā)明背景發(fā)明領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明的實(shí)施例大體涉及處理腔室部件及用于制造所述處理腔室部件的方法。
[0003]相關(guān)技術(shù)的描述
[0004]已將處理腔室部件粗糙化以增強(qiáng)沉積膜的保持，進(jìn)而延長(zhǎng)必須清潔腔室部件以防止膜自腔室部件剝落且成為污染源的時(shí)間。然而，由于為了將膜保持甚至更長(zhǎng)時(shí)間間隔的目的，已將表面粗糙化至越來越大的表面粗糙度(Ra)，但是粗糙化表面的尖峰具有增加的折斷傾向，因此粗糙化表面的尖峰本身成為一種污染源且使許多高粗糙化表面不適合用于關(guān)鍵應(yīng)用。
[0005]因此，存在對(duì)于改良的處理腔室部件的需要。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明提供了一種處理腔室部件及制造所述處理腔室部件的方法。處理腔室部件以本文所述的方式制造且所述處理腔室部件包括在腔室部件的表面上產(chǎn)生至少巨觀紋理。巨觀紋理是由在腔室部件的表面上以預(yù)限定取向布置的多個(gè)設(shè)計(jì)特征限定。在一些實(shí)施例中，設(shè)計(jì)特征防止形成在特征之間限定的視線表面以增強(qiáng)沉積在腔室部件上的膜的保持。
[0007]在一個(gè)實(shí)施例中，腔室部件包括具有巨觀紋理特征及微觀紋理表面粗糙度的表面。在另一實(shí)施例中，一種用于制造腔室部件的方法包括以下步驟:將光刻膠掩模安置于半導(dǎo)體腔室部件的表面上，且經(jīng)由形成于光刻膠掩模中的開口將材料自半導(dǎo)體腔室部件移除以形成具有離散特征的轉(zhuǎn)印圖案。在另一實(shí)施例中，腔室部件包括具有巨觀紋理特征及微觀紋理表面粗糙度的表面，其中特征具有圓邊。
[0008]在另一實(shí)施例中，提供具有經(jīng)圖案化以增強(qiáng)沉積膜的保持的表面的制品，所述制品包括具有由設(shè)計(jì)特征形成的巨觀紋理表面的處理腔室部件，所述設(shè)計(jì)特征經(jīng)布置以防止橫跨紋理表面形成視線表面。
[0009]在另一實(shí)施例中，提供具有經(jīng)圖案化以增強(qiáng)沉積膜的保持的表面的制品，所述制品包括具有由設(shè)計(jì)特征形成的巨觀紋理表面的處理腔室部件，所述設(shè)計(jì)特征以防止橫跨紋理表面形成視線表面的預(yù)限定圖案布置，設(shè)計(jì)特征以預(yù)限定圖案布置，形成紋理表面的設(shè)計(jì)特征經(jīng)微觀紋理化至大約IOORa至大約300Ra的表面光潔度。
[0010]在又一實(shí)施例中，提供一種用于制造半導(dǎo)體腔室部件的方法，所述方法包括以下步驟:用掩模覆蓋腔室部件的表面；且自腔室部件的表面移除材料以形成限定紋理表面的多個(gè)設(shè)計(jì)特征，設(shè)計(jì)特征經(jīng)布置以防止橫跨紋理表面形成視線表面。
[0011]附圖簡(jiǎn)單說明
[0012]因此，為使可詳細(xì)理解本發(fā)明的上述特征結(jié)構(gòu)，可參照實(shí)施例更特定描述上文簡(jiǎn)要概述的本發(fā)明，所述實(shí)施例中的一些實(shí)施例圖示于附圖中。然而，應(yīng)注意，附圖僅圖示本發(fā)明的典型實(shí)施例，且因此不欲將附圖視為本發(fā)明范圍的限制，因?yàn)楸景l(fā)明可承認(rèn)其它同等有效的實(shí)施例。
[0013]圖1為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的處理腔室部件的紋理表面的部分平面圖。
[0014]圖2為圖1的處理腔室部件的紋理表面的部分剖視圖。
[0015]圖3為圖2的處理腔室部件的紋理表面的部分剖視圖，所述紋理表面具有安置于所述紋理表面上的光刻膠掩模。
[0016]圖4為光刻膠掩模的一個(gè)實(shí)施例的部分平面圖。
[0017]圖5為處理腔室部件的紋理表面的另一實(shí)施例的部分剖視圖。
[0018]圖6為圖5的處理腔室部件的紋理表面的部分剖視圖，所述紋理表面具有安置于所述紋理表面上的光刻膠掩模。
[0019]圖7至圖8為具有一或多個(gè)紋理表面的處理腔室部件的示例性實(shí)施例。
[0020]圖9為本發(fā)明的另一實(shí)施例的處理腔室部件的紋理表面的俯視平面圖。
[0021]圖10為經(jīng)由剖面線A-A獲取的圖9的處理腔室部件的紋理表面的剖視圖。
[0022]圖11為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的處理腔室部件的紋理表面的部分平面圖。
[0023]圖12為經(jīng)由剖面線B-B獲取的圖11的處理腔室部件的紋理表面的部分剖視圖。
[0024]圖13A至圖13E為圖示制造順序的不同階段的處理腔室部件的部分剖視圖，所述制造順序用以在處理腔室部件上形成紋理表面的一個(gè)實(shí)施例。
[0025]為了促進(jìn)理解，在可能情況下已使用相同元件符號(hào)以指定為諸圖所共有的相同元件。亦可預(yù)期一個(gè)實(shí)施例的元件及特征可有利地并入其它實(shí)施例中而無需進(jìn)一步敘述。
[0026]具體描沭
[0027]本發(fā)明的實(shí)施例涉及延長(zhǎng)處理腔室中的配件使用壽命的方法及由所述方法制造的處理腔室部件。以本文所述方式制造的處理腔室部件包括在腔室部件的表面上產(chǎn)生至少巨觀紋理，所述巨觀紋理具有增強(qiáng)的膜保持，進(jìn)而延長(zhǎng)表面間隔且另外降低粒子污染。因此，新穎處理腔室部件有助于減少工具停機(jī)時(shí)間且降低擁有成本。可以預(yù)期，“處理腔室部件”包括用于處理腔室中的部件，所述處理腔室用于制造集成電路、平板顯示器、太陽能電池板、OLED、LED及上述各者的類似物。亦可預(yù)期，本文所述的紋理化技術(shù)可用在期望將膜保持至表面的其它應(yīng)用中。
[0028]本發(fā)明的實(shí)施例涉及可選地結(jié)合微紋理珠粒噴擊，使用光刻方法于處理配件表面(例如，腔室部件的表面)上故意產(chǎn)生巨觀紋理。可使用對(duì)膜特性的了解設(shè)計(jì)巨觀紋理以將保持膜的百分比最大化。在壓縮金屬膜的實(shí)例中，即使在膜破裂的情況下凹狀紋理也可用以保持膜。此方法允許在處理配件部分上產(chǎn)生圖案以及圖案部分，針對(duì)特定膜的特性調(diào)整所述圖案，以及所述圖案部分無法吸收替代熱圖案化技術(shù)的熱負(fù)荷。用于紋理化處理腔室部件的方法也避免是否值得制造高粗糙度涂層相關(guān)聯(lián)的挑戰(zhàn)。在一些情況下，已實(shí)質(zhì)降低缺陷計(jì)數(shù)，而且實(shí)質(zhì)延長(zhǎng)配件使用壽命。此工藝可潛在地用于處理腔室的所有缺陷敏感部分上。此方法對(duì)于不具有原位清潔能力的工藝(例如，物理氣相沉積(physical vapordeposition;PVD)腔室及一些金屬化學(xué)氣相沉積(chemical vapor deposition;CVD)腔室)尤其有用。
[0029]圖1為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的處理腔室部件100的巨觀紋理表面102的部分平面圖。巨觀紋理表面102包括具有設(shè)計(jì)特征104的重復(fù)預(yù)限定圖案。術(shù)語“設(shè)計(jì)特征”意謂利用掩模或其它精密機(jī)械加工技術(shù)將特征的大概形狀及布置轉(zhuǎn)印至腔室部件的表面，所述掩?；蚱渌軝C(jī)械加工技術(shù)預(yù)限定自腔室部件的表面移除材料的位置以使得例如形成孔的預(yù)限定圖案，而利用經(jīng)由掩模形成的孔的形狀及布置以限定特征104的布置。舉例而言，不使用掩模的表面蝕刻或珠粒噴擊無法形成設(shè)計(jì)特征。設(shè)計(jì)特征104至少部分地凹入腔室部件100的預(yù)紋理表面之下，例如，特征104的頂部可與腔室部件100的預(yù)紋理表面實(shí)質(zhì)共面。特征104可相連地連接，或可為離散形式。舉例而言，特征104可為通過自腔室部件100的預(yù)紋理表面移除材料以留下材料“柱”而形成的相連連接的凹部，如圖示于圖2及圖11中的示例性實(shí)施例所示；特征104可為離散凹部，所述離散凹部以分離在腔室部件的預(yù)紋理表面中形成的凹部區(qū)域的多個(gè)互連壁或脊部的形式，如圖5及圖9中所示的示例性實(shí)施例所示；或特征104可為相連連接特征及離散特征的組合。在表面102中形成的特征104可以重復(fù)圖案或以隨機(jī)方式布置。在一個(gè)實(shí)施例中，特征104經(jīng)布置以(例如)通過以防止橫跨紋理表面102于特征104之間形成視線表面的圖案或其它布置來布置特征104，從而避免在特征104之間產(chǎn)生連續(xù)的平坦表面。以不具有在橫跨紋理表面102的特征104之間限定的視線表面的圖案布置的特征104的實(shí)例如下參照?qǐng)D9及圖11圖示且描述。有利地，具有紋理表面102的處理腔室部件100消除了較長(zhǎng)連續(xù)的線性表面，所述紋理表面102在形成紋理表面102的特征104之間未限定有視線表面，所述較長(zhǎng)連續(xù)的線性表面容易受到沉積材料及/或易于脫落粒子的剝落的影響。因此，具有在特征104之間未限定有視線表面的紋理表面102的處理腔室部件100允許具有沉積膜剝落的降低風(fēng)險(xiǎn)的清潔之間較長(zhǎng)的保養(yǎng)間隔，進(jìn)而改良產(chǎn)品良率、降低維護(hù)要求，且操作利用紋理化處理腔室部件100的處理腔室更具經(jīng)濟(jì)利益。
[0030]設(shè)計(jì)特征104可應(yīng)用于處理腔室部件100的容易性允許巨觀紋理表面102成為形成的表面，在所述形成的表面處將不可能進(jìn)行傳統(tǒng)紋理化或所述傳統(tǒng)紋理化可潛在地?fù)p壞腔室部件。舉例而言，設(shè)計(jì)特征104及巨觀紋理表面102可形成于處理腔室部件100上，所述處理腔室部件100由不銹鋼、鋁、陶瓷或其它可圖案化材料制造。
[0031]如上文所論述，特征104可具有任意數(shù)目的幾何形狀，并且所述形狀不必一致地橫跨紋理表面102。盡管特征104在平面圖中圖示為圓形(亦即，圓柱體)，但是特征104可具有槽形、多角形或不規(guī)則形狀，等等?；蛘?，在特征104之間的間距可具有橫跨紋理表面102的一致或不規(guī)則形狀、尺寸及分布。
[0032]圖2為圖1的處理腔室部件100的紋理表面102的部分剖視圖。特征104圖示為形成至紋理表面102中達(dá)深度200，且特征104具有寬度或平均直徑202及平均間距204。由于紋理表面102在特征形成之后經(jīng)微觀紋理化，所以將特征104視為巨觀紋理，如下文進(jìn)一步論述。深度200可在100 μ m至大約200 μ m的范圍內(nèi)，并且深度200甚至可能高達(dá)大約Imm深。寬度或平均直徑202可為大約100 μ m至大約200 μ m，且寬度或平均直徑202甚至可能高達(dá)大約I密爾寬。在一些實(shí)施例中，平均直徑202與深度200的比率可在自大約
1.0:0.5至大約0.5:1.0的范圍變動(dòng)。在一個(gè)實(shí)施例中，在特征104之間的平均間距204可為至少大約0.5mm,以允許用于良好黏著光刻膠掩模的足夠表面面積(例如，保留于在相鄰特征104的邊緣之間限定的紋理表面102上的網(wǎng)狀物208)，在下文論述的所述光刻膠掩?？捎糜谛纬商卣?04。
[0033]圖3為圖2的處理腔室部件100的紋理表面104的部分剖視圖，所述部分剖視圖圖示安置在紋理表面104的網(wǎng)狀物208上的光刻膠掩模300的一個(gè)實(shí)施例。光刻膠掩模300經(jīng)圖案化以形成開口 302，特征104經(jīng)由所述開口 302機(jī)械地及/或化學(xué)地形成于部件100中。在一個(gè)實(shí)施例中，經(jīng)由光刻膠掩模300的開口 302，通過珠粒噴擊處理腔室部件100將開口的形狀轉(zhuǎn)印至特征104。在另一實(shí)施例中，經(jīng)由光刻膠掩模300的開口 302，通過濕式蝕刻或干式蝕刻處理腔室部件100將開口的形狀轉(zhuǎn)印至特征104。以此方式，以預(yù)限定圖案形成離散特征104的轉(zhuǎn)印圖案。光刻膠掩模300可作為一層液體或凝膠材料涂覆于處理腔室部件100上，所述一層液體或凝膠材料稍后進(jìn)行圖案化；或光刻膠掩模300可作為一片預(yù)成型光刻膠涂覆于處理腔室部件100上。
[0034]光刻膠掩模300可使用光刻術(shù)或其它適當(dāng)技術(shù)圖案化以形成開口 302。在一個(gè)實(shí)施例中，在紋理化之前將一層光刻膠材料圖案化于表面102上以使得光刻膠材料的部分變得脆化。當(dāng)將光刻膠材料層珠粒噴擊時(shí)，光刻膠材料層的脆化部分破裂且分離以限定開口302，經(jīng)由所述開口 302通過繼續(xù)珠粒噴擊現(xiàn)暴露表面102而機(jī)械地形成特征104。在珠粒噴擊期間保留在表面上的光刻膠材料層的部分防止材料自處理腔室部件100移除，進(jìn)而形成網(wǎng)狀物208。在另一實(shí)施例中，光刻膠材料層的未顯影的部分可通過諸如電力清洗(powerwashing)的適當(dāng)技術(shù)移除，以在光刻膠掩模300中形成開口 302。
[0035]在另一實(shí)施例中，用作光刻膠掩模300的光刻膠材料層為一片光刻膠的形式,所述片光刻膠可在涂覆于處理腔室部件100的表面102之前或之后經(jīng)圖案化。舉例而言，一片光刻膠310可包括安置于襯底314上的光刻膠層312。片光刻膠310可包括壓敏黏著劑316，所述壓敏黏著劑316用于將片光刻膠310固定至處理腔室部件100。片光刻膠310在耦合至處理腔室部件100之前或之后經(jīng)圖案化。在一個(gè)實(shí)施例中，將藝術(shù)圖案應(yīng)用至光刻膠的片光刻膠300，將紫外線光經(jīng)由藝術(shù)圖案暴露于光刻膠300。執(zhí)行化學(xué)蝕刻工藝以移除未受光刻膠300保護(hù)的表面102以形成特征104，并且可將剩余光刻膠300剝離、清洗、干式蝕刻掉等等。此工藝有利地允許光刻膠300黏著至表面102以形成均勻特征104。
[0036]在又一實(shí)施例中，將光刻膠層312(如在圖4中另外所見，在附接至部件100之前，無具有開口 302形成于襯底314中的所述襯底314)在耦合至處理腔室部件100之前自片光刻膠310的其它部分分離。因?yàn)榉蛛x的光刻膠層312是高度撓性的，所以相比于整片光刻膠310，可將光刻膠層312較為容易且更加共形地涂覆于具有復(fù)雜或高度起伏狀的表面的處理腔室部件100的表面，進(jìn)而防止掩模層300起皺且允許特征104的形狀得以更加精確地經(jīng)由開口 302形成。在無襯底314的光刻膠層312中的開放開口 302可在耦合至處理腔室部件100之前或之后經(jīng)圖案化。
[0037]圖5及圖6為處理腔室部件500的巨觀紋理表面502的另一實(shí)施例的部分剖視圖。特征504實(shí)質(zhì)如上所述形成于處理腔室部件500中，除在相鄰特征504之間的光刻膠掩模300下形成的網(wǎng)狀物208實(shí)質(zhì)小于特征504之外，以使得在紋理表面502上呈現(xiàn)的顯著結(jié)構(gòu)為突起網(wǎng)狀物208，與凹部特征504相反，諸如圖2中所示。
[0038]巨觀紋理表面102、502可在涂覆光刻膠掩模300之前或在移除光刻膠掩模300之后視情況經(jīng)微觀紋理化。微觀紋理可應(yīng)用于特征104、504的表面外形，且微觀紋理可通過珠粒噴擊腔室部件100、500的特征104、504及網(wǎng)狀物208兩者機(jī)械地形成。在一個(gè)實(shí)施例中，本文所述的紋理表面102、502可經(jīng)珠粒噴擊至大約IOORa至大約300RA的表面光潔度。微觀紋理可視情況經(jīng)由非機(jī)械法完成，諸如酸蝕刻、等離子體處理或可產(chǎn)生適合的表面光潔度的其它適合的程序。[0039]圖9為處理腔室部件900的巨觀紋理表面902的另一實(shí)施例的部分剖視圖。形成巨觀紋理表面902的設(shè)計(jì)特征104實(shí)質(zhì)如上所述在處理腔室部件900的表面中形成，除在特征104之間限定的結(jié)構(gòu)904具有圓邊908之外，如較好地可見于圖10中。結(jié)構(gòu)904可為以由特征104包圍(bound)的材料柱的形式，所述特征104由在產(chǎn)生紋理表面期間移除的材料形成。柱自處理腔室部件900延伸且所述柱可具有任何適合幾何輪廓，諸如圓柱形、多角形、橢圓形或其它適合形狀。自處理腔室部件900延伸的柱可橫跨紋理表面在形狀、尺寸及分布方面一致，或可在形狀、尺寸及分布的一或多個(gè)方面不同。柱可為離散的且與相鄰柱不連接，或兩個(gè)或更多個(gè)柱可經(jīng)由網(wǎng)狀物材料連接。
[0040]在一個(gè)實(shí)施例中，圓邊908可在如上所述的化學(xué)蝕刻或珠粒噴擊工藝期間有利地形成，如下參照?qǐng)D13A至圖13E所述，或在無需后續(xù)珠粒噴擊的其它適合的工藝期間形成。因?yàn)槟承┎牧霞氨∏皇也考o法承受珠粒噴擊的熱量及應(yīng)力，所以化學(xué)蝕刻允許結(jié)構(gòu)904的特征104及圓邊908 (但不限于腔室部件)具有小于0.1吋的厚度。在圖9及圖10中所示的實(shí)施例中，由特征104限定的結(jié)構(gòu)904以密排六方圖案布置，以使得于特征之間不存在視線表面以增強(qiáng)紋理表面902的膜保持特性。舉例而言，如圖10中所示，一個(gè)交錯(cuò)位于另一個(gè)之后形成的結(jié)構(gòu)904阻擋橫跨巨觀紋理表面902的視線，進(jìn)而增強(qiáng)膜黏著力。
[0041]圖11為根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的處理腔室部件100的巨觀紋理表面1100的部分平面圖。設(shè)計(jì)特征104在腔室部件100的表面中形成且由互連壁1002分離，以使得無視線表面限定在橫跨紋理表面1100的壁上。在一個(gè)實(shí)施例中，互連壁1002形成多個(gè)圓柱形、橢圓形或多角形形狀，例如，壁1002可經(jīng)布置以限定蜂窩圖案。壁1002的交叉1004可經(jīng)圓化以降低在紋理表面1100及沉積于所述紋理表面1100上的膜兩者上的應(yīng)力。另外，由特征104限定的壁1002的外邊緣1006可在形成設(shè)計(jì)特征104期間有利地圓化。在如上所述的化學(xué)蝕刻工藝中，光刻膠并不完全地在藝術(shù)圖案的邊緣顯影，以便光刻膠在特征104的化學(xué)或機(jī)械形成期間被侵蝕掉以產(chǎn)生如圖12中所見的圓邊1006，以便不需要對(duì)邊緣圓化的后續(xù)噴擊。
[0042]設(shè)計(jì)特征104在腔室部件100的表面中形成且由互連壁1002分離，且設(shè)計(jì)特征104可具有任何適合幾何輪廓，諸如圓柱形、多角形、橢圓形，或其它適合形狀。在處理腔室部件100中形成的設(shè)計(jì)特征104可橫跨巨觀紋理表面1100在形狀、尺寸及分布方面一致，或可在形狀、尺寸及分布的一或多個(gè)中方面不同。
[0043]圖13A至圖13E為圖示制造順序的不同階段的處理腔室部件100的部分剖視圖，所述制造順序用以使用設(shè)計(jì)特征104在處理腔室部件100上形成紋理表面102的一個(gè)實(shí)施例。有利地，圖示于圖13A至圖13E中的工藝允許由設(shè)計(jì)特征104限定的結(jié)構(gòu)得以形成有圓化外邊緣1006，進(jìn)而形成更加無應(yīng)力的紋理表面102，以更加容易保持沉積膜。
[0044]首先參看圖13A，用光刻膠層314涂布處理腔室部件100。將原圖1302安置在光刻膠層314上或置放于光刻膠層314的頂部。原圖1302包括至少三種類型的區(qū)域:多個(gè)透明區(qū)域1306，能量1304經(jīng)由多個(gè)透明區(qū)域1306通過以將下層光刻膠層314曝光；不透明區(qū)域1308，所述不透明區(qū)域1308直接包圍透明區(qū)域1306 ;及非透明區(qū)域1310，所述非透明區(qū)域1310實(shí)質(zhì)阻擋能量將下層光刻膠層314曝光。不透明區(qū)域1308具有灰階，所述灰階經(jīng)選擇以允許一部分能量1304將下層光刻膠層314部分曝光。因此，下層光刻膠層314經(jīng)由原圖1302而曝光以形成顯影區(qū)域1312、部分顯影區(qū)域1314及非顯影區(qū)域1316，如圖13B中所示。
[0045]非顯影區(qū)域1316 (例如)通過珠粒噴擊、蝕刻或電力清洗移除以形成開口 1318，所述開口 1318經(jīng)由圖案化光刻膠層314暴露腔室部件100的上表面1324，如圖13C中所示。
[0046]現(xiàn)參看圖13D至圖13E，設(shè)計(jì)特征104通過將材料自處理腔室部件102的上表面1324移除而形成。如上文所論述，材料可通過珠粒噴擊、蝕刻或電力清洗移除。較軟或更加脆化的(視利用的光刻膠而定)部分顯影區(qū)域1314在材料移除工藝期間快速受到侵蝕，因此在形成設(shè)計(jì)特征104時(shí)增加開口 1318的孔(寬度或直徑1322)。接近材料移除工藝完成時(shí)，將部分顯影區(qū)域1314侵蝕至使處理腔室部件102的下層上表面變得暴露的程度，以使得包圍特征104的壁1002的外邊緣1006變得圓化。圓化外邊緣1006有利地降低了施加在紋理表面1100及沉積在所述紋理表面1100上的膜上的應(yīng)力。
[0047]應(yīng)注意，在上述實(shí)施例中的任一個(gè)中，形成紋理表面102、502、902及1100的設(shè)計(jì)特征可視情況經(jīng)微觀紋理化至大約IOORa至大約300Ra的表面光潔度。微觀紋理可通過珠粒噴擊酸蝕刻、等離子體處理或可產(chǎn)生適合表面光潔度的其它適合程序應(yīng)用。
[0048]圖7及圖8為具有一或多個(gè)紋理表面的處理腔室部件的示例性實(shí)施例。在圖7中圖示PVD腔室屏蔽700。屏蔽700包括如上所述紋理化的至少一個(gè)表面。舉例而言，屏蔽700的外徑表面702或內(nèi)徑表面704 (以剖視圖示)中的至少一個(gè)經(jīng)巨觀紋理化以形成如上文所論述的設(shè)計(jì)特征，并且設(shè)計(jì)特征可視情況經(jīng)微觀紋理化。處理配件環(huán)800圖示于圖8中。環(huán)800包括使用如在以上實(shí)施例中所述的設(shè)計(jì)特征形成的至少一個(gè)巨觀紋理表面，其中設(shè)計(jì)特征可視情況經(jīng)微觀紋理化。舉例而言，環(huán)800的至少上部碟狀表面802可同時(shí)經(jīng)巨觀紋理化及經(jīng)微觀紋理化。環(huán)800可為沉積環(huán)、夾環(huán)、蓋環(huán)、聚焦環(huán)、邊緣環(huán)或用于半導(dǎo)體處理腔室中的其它環(huán)。上文參照?qǐng)D7及圖8所述的半導(dǎo)體腔室部件為舉例的形式，并且諸如但不限于腔室主體、基座、襯里、準(zhǔn)直器、遮蔽框及蓋環(huán)等等的其它半導(dǎo)體腔室部件也可經(jīng)巨觀紋理化及經(jīng)微觀紋理化，用于形成具有延長(zhǎng)的使用期限及低粒子產(chǎn)生特性的紋理半導(dǎo)體腔室部件。盡管上述內(nèi)容針對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例，但可在不脫離本發(fā)明的基本范圍的情況下設(shè)計(jì)本發(fā)明的其它及更多實(shí)施例，且本發(fā)明的范圍由以下權(quán)利要求書來確定。
【權(quán)利要求】
1.一種具有經(jīng)圖案化以增強(qiáng)沉積膜的保持的表面的制品，所述制品包含: 處理腔室部件，所述處理腔室部件具有由設(shè)計(jì)特征形成的巨觀紋理表面，所述設(shè)計(jì)特征經(jīng)布置以防止橫跨紋理表面形成視線表面。
2.如權(quán)利要求1所述的制品，其中所述設(shè)計(jì)特征以預(yù)限定圖案布置。
3.如權(quán)利要求1所述的制品，其中所述設(shè)計(jì)特征具有在大約100μ m至大約200 μ m之間的深度。
4.如權(quán)利要求3所述的制品，其中所述設(shè)計(jì)特征具有在大約100μ m至大約200 μ m之間的覽度。
5.如權(quán)利要求4所述的制品，其中所述設(shè)計(jì)特征具有平均寬度與深度的比率，所述比率在大約1.0:0.5至大約0.5:1.0之間。
6.如權(quán)利要求1所述的制品，其中所述設(shè)計(jì)特征由形成蜂窩圖案的壁包圍。
7.如權(quán)利要求1所述的制品，其中所述設(shè)計(jì)特征是緊密堆積的。
8.如權(quán)利要求1所述的制品，其中所述設(shè)計(jì)特征形成離散柱。
9.如權(quán)利要求8所述的制品，其中所述柱經(jīng)布置以防止橫跨紋理表面形成視線表面。
10.如權(quán)利要求1所述的制品，其中形成所述紋理表面的設(shè)計(jì)特征經(jīng)微觀紋理化至大約IOORa至大約300Ra的表面光潔度。
11.如權(quán)利要求10所述的制品，其中形成所述紋理表面的設(shè)計(jì)特征經(jīng)微觀紋理化至大約IOORa至大約300Ra的表面光潔`度。
12.如權(quán)利要求1所述的制品，其中形成所述紋理表面的所述設(shè)計(jì)特征具有橫跨所述紋理表面的一致形狀、尺寸及分布中的至少一個(gè)。
13.一種具有經(jīng)圖案化以增強(qiáng)沉積膜的保持的表面的制品，所述制品包含: 處理腔室部件，所述處理腔室部件具有由以預(yù)限定圖案布置的設(shè)計(jì)特征形成的巨觀紋理表面，所述巨觀紋理表面防止橫跨紋理表面形成視線表面，所述設(shè)計(jì)特征以預(yù)限定圖案布置，形成所述紋理表面的所述設(shè)計(jì)特征經(jīng)微觀紋理化至大約IOORa至大約300Ra的表面光潔度。
14.如權(quán)利要求13所述的制品，其中所述設(shè)計(jì)特征由形成蜂窩圖案的壁包圍。
15.如權(quán)利要求13所述的制品，其中所述設(shè)計(jì)特征是緊密堆積的。
16.如權(quán)利要求13所述的制品，其中所述設(shè)計(jì)特征形成離散柱。
17.如權(quán)利要求16所述的制品，其中所述柱經(jīng)布置以防止橫跨紋理表面形成視線表面。
18.一種用于制造半導(dǎo)體腔室部件的方法，所述方法包含以下步驟: 用掩模覆蓋腔室部件的表面；以及 自腔室部件的所述表面移除材料以形成限定紋理表面的多個(gè)設(shè)計(jì)特征，所述設(shè)計(jì)特征經(jīng)布置以防止橫跨紋理表面形成視線表面。
19.如權(quán)利要求18所述的方法，其中所述掩模進(jìn)一步包含: 顯影區(qū)域、部分顯影區(qū)域及非顯影區(qū)域。
20.如權(quán)利要求19所述的方法，其中自所述腔室部件的所述表面移除材料的步驟包含以下步驟: 侵蝕所述部分顯影區(qū)域以暴露與所形成的所述設(shè)計(jì)特征相鄰的所述腔室部件的所述表面；以及產(chǎn)生包圍所述 設(shè)計(jì)特征的結(jié)構(gòu)的圓邊。
【文檔編號(hào)】H01L21/02GK103430280SQ201280013111
【公開日】2013年12月4日 申請(qǐng)日期:2012年4月10日 優(yōu)先權(quán)日:2011年4月11日
【發(fā)明者】邁克爾·杰克遜, 溫德爾·G·博伊德, 蘇忠凱, 呂鳴燁·威廉, 吉富吾一, 約瑟夫·F·薩默斯 申請(qǐng)人:應(yīng)用材料公司