本發(fā)明涉及用于將加工工具相對(duì)于工件定位的一種裝置和一種方法。

背景技術(shù)：
在用于制造和/或檢查半導(dǎo)體器件的機(jī)器中經(jīng)常存在將加工工具相對(duì)于工件精確定位的要求。因此例如可能需要將晶片形式的工件高精度地定位在工具下方。在圖1中以非常示意性的形式示出了相應(yīng)的裝置。晶片或者說(shuō)工件WS在此布置在機(jī)器的第一目標(biāo)O1上、即工作臺(tái)上。在第一目標(biāo)O1上還設(shè)置有目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1；其例如可以設(shè)計(jì)為工作臺(tái)中的圓形凹形部或設(shè)計(jì)為平版印刷制成的、在固定在工作臺(tái)上的板上的微結(jié)構(gòu)。在定位在第一目標(biāo)O1上的工件WS、或者晶片上，還布置有例如設(shè)計(jì)為局部受限的微結(jié)構(gòu)的工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2。在機(jī)器中設(shè)置第二目標(biāo)O2、即相應(yīng)的機(jī)器部分，其與第一目標(biāo)O1相比相對(duì)地在至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向x上能運(yùn)動(dòng)。例如可以這樣確保在兩個(gè)目標(biāo)O1，O2之間的相對(duì)能運(yùn)動(dòng)性，即目標(biāo)O1在工作臺(tái)的當(dāng)前實(shí)例中至少沿著運(yùn)動(dòng)方向x能運(yùn)動(dòng)地布置；第二目標(biāo)O2與此相對(duì)地靜止布置。在第二目標(biāo)O2上設(shè)置有加工工具B以及校準(zhǔn)傳感器W。通過(guò)加工工具B可以在制造過(guò)程期間加工或檢驗(yàn)工件。校準(zhǔn)傳感器W例如設(shè)計(jì)為具有電子圖像傳感器的顯微鏡或攝像機(jī)。通過(guò)校準(zhǔn)傳感器W可以探測(cè)目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1和工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2。這就是說(shuō)，在校準(zhǔn)傳感器W的位置沿著運(yùn)動(dòng)方向x與目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1或工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的位置對(duì)應(yīng)一致的情況下，通過(guò)校準(zhǔn)傳感器W可產(chǎn)生相應(yīng)的校準(zhǔn)信號(hào)。校準(zhǔn)信號(hào)然后可以為了進(jìn)一步加工而傳輸給布置在后面的-在圖1中未示出的-控制單元。通過(guò)附加的、在圖1中未示出的傳感器，在加工工具B的位置沿著運(yùn)動(dòng)方向x與目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1的位置對(duì)應(yīng)一致時(shí)，還可產(chǎn)生另一個(gè)校準(zhǔn)信號(hào)。這例如可以這樣實(shí)現(xiàn)，即在目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1的方面同樣布置有帶有電子圖像傳感器的顯微鏡或攝像機(jī)。如果加工工具B發(fā)出射束，則相應(yīng)的射束探測(cè)器可以用作傳感器，其探測(cè)由目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1反射、發(fā)射或散射的射束。相反地，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1也可以發(fā)出射束，射束可以通過(guò)加工工具B中的射束探測(cè)器來(lái)探測(cè)。對(duì)此可替換地，為了產(chǎn)生這樣的校準(zhǔn)信號(hào)也可以通過(guò)電接觸電流或適合的力傳感器來(lái)探測(cè)在加工工具B和目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1之間的機(jī)械接觸。為了確定在第一目標(biāo)O1和第二目標(biāo)O2之間的相對(duì)位置，在第二目標(biāo)O2上設(shè)置了例如可光學(xué)掃描的整體量具S，其沿著至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向x延伸。該整體量具S在此可以例如設(shè)計(jì)為已知的入射光-衍射光柵。在第一目標(biāo)O1方面，為了掃描整體量具S而布置了光學(xué)位置測(cè)量裝置的掃描單元E。該掃描單元E例如可以包括光源、多個(gè)光學(xué)元件和探測(cè)裝置，以便對(duì)此以已知的方式和方法，例如通過(guò)干涉的掃描原理，為布置在后面的控制單元產(chǎn)生在第一和第二目標(biāo)O1，O2的相對(duì)位置方面的高精度的位置信號(hào)。當(dāng)通過(guò)加工工具B進(jìn)行工件加工時(shí)，現(xiàn)在需要的是，高精度地相對(duì)于工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2確定加工工具B的位置。因?yàn)椴荒芟鄬?duì)于工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2產(chǎn)生用于直接對(duì)加工工具B校準(zhǔn)的位置信號(hào)，因此必須通過(guò)一系列的單獨(dú)的校準(zhǔn)步驟實(shí)現(xiàn)這種確定。因此借助于目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1需要加工工具B相對(duì)于第一目標(biāo)O1的定位。此外必須借助于目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1進(jìn)行校準(zhǔn)傳感器W在第一目標(biāo)O1方面的定位。并且最后有必要借助于工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2進(jìn)行校準(zhǔn)傳感器W在工件WS方面的定位。在該校準(zhǔn)步驟的各種不同的機(jī)器狀態(tài)中以及在后續(xù)的本來(lái)的處理過(guò)程期間，光學(xué)位置測(cè)量裝置的掃描單元E掃描整體量具S的區(qū)域，這些區(qū)域在圖1中具有參考標(biāo)號(hào)RA，RB，RC和RD。如由附圖顯而易見(jiàn)的是，該區(qū)域沿著運(yùn)動(dòng)方向x位于被掃描的整體量具S的相對(duì)大幅度分開(kāi)的部分上。因此例如，區(qū)域RC和RD的距離粗略地相應(yīng)于在加工工具B和校準(zhǔn)傳感器W之間的距離的數(shù)量級(jí)，這是因?yàn)楣ぜS的加工在工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的附近利用加工工具B進(jìn)行。但加工工具B與校準(zhǔn)傳感器W的間隔為利用該校準(zhǔn)傳感器可以在上述第三步驟中檢測(cè)工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2。在對(duì)加工工具B定位時(shí)因此必須計(jì)算測(cè)量誤差，其由大約長(zhǎng)度的整體量具部段的變形得出。圖2示出了應(yīng)用的整體量具S的現(xiàn)有的長(zhǎng)波變形的示例性附圖。此外，類似的偏差也在整體量具S未與加工工具B對(duì)中心布置(-誤差)時(shí)通過(guò)機(jī)器導(dǎo)向誤差形成。在圖3中示出了根據(jù)上面說(shuō)明的措施在應(yīng)用這種整體量具S的情況下得出的在各種不同的機(jī)器位置中的定位誤差或測(cè)量不安全性△xrel。如由該附圖顯而易見(jiàn)的是，相應(yīng)的測(cè)量不安全性△xrel在決定性的位置xrel＝0的周圍環(huán)境中是顯著的；xrel在此表明加工位置與工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的距離。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的因此在于，給出用于對(duì)加工工具相對(duì)于工件定位的一種裝置和一種方法，通過(guò)其確保了對(duì)加工工具的高精度的定位并且特別是最小化或避免了測(cè)量誤差，該測(cè)量誤差由在此應(yīng)用的整體量具的誤差產(chǎn)生。該目的根據(jù)一種裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)。此外該目的根據(jù)一種方法來(lái)實(shí)現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明的用于對(duì)加工工具相對(duì)于工件定位的裝置包括第一目標(biāo)，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和工件布置在第一目標(biāo)上，其中在工件上布置有工件校準(zhǔn)標(biāo)記。此外，該裝置還包括第二目標(biāo)，其相對(duì)于第一目標(biāo)沿著至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向能運(yùn)動(dòng)地布置。在第二目標(biāo)上布置有加工工具，通過(guò)加工工具能探測(cè)目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記。此外在其上還布置有校準(zhǔn)傳感器，通過(guò)校準(zhǔn)傳感器能探測(cè)目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和工件校準(zhǔn)標(biāo)記。此外在第二目標(biāo)上布置有能掃描的整體量具，其沿著至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向延伸。在第一目標(biāo)上布置有至少兩個(gè)用于對(duì)整體量具進(jìn)行掃描的掃描單元，以便這樣沿著運(yùn)動(dòng)方向確定在第一和第二目標(biāo)之間的相對(duì)位置，其中，兩個(gè)掃描單元具有定義的偏差。在此可能的是，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差選擇為與在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離近似相同。此外，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差可以選擇為與在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離相同。有利的是，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差滿足條件或條件其中，＝在兩個(gè)掃描單元之間的偏差，在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離?？梢蕴岢?，為了確定沿著運(yùn)動(dòng)方向在第一和第二目標(biāo)之間的相對(duì)位置，掃描單元設(shè)計(jì)為能選擇性激活的。目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和/或工件校準(zhǔn)標(biāo)記可以設(shè)計(jì)為微結(jié)構(gòu)?？赡艿氖?，整體量具設(shè)計(jì)為線柵距(Linearteilung)或角柵距(Winkelteilung)或二維的交叉柵距(Kreuzgitterteilung)。在根據(jù)本發(fā)明的、用于將加工工具相對(duì)于工件定位的方法的范疇中提出，在第一目標(biāo)上布置有目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和工件，并且在工件上布置有工件校準(zhǔn)標(biāo)記。第二目標(biāo)相對(duì)于第一目標(biāo)沿著至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向能運(yùn)動(dòng)地布置。在第二目標(biāo)上布置有加工工具，通過(guò)加工工具探測(cè)目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記。此外在其上布置有校準(zhǔn)傳感器，通過(guò)其能探測(cè)目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和工件校準(zhǔn)標(biāo)記。此外在第二目標(biāo)上布置有能掃描的整體量具，整體量具沿著至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向延伸。在第一目標(biāo)上布置有至少兩個(gè)用于對(duì)整體量具掃描的掃描單元，通過(guò)掃描單元沿著運(yùn)動(dòng)方向確定在第一和第二目標(biāo)之間的相對(duì)位置，并且其中，兩個(gè)掃描單元具有定義的偏差。在此可能的是，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差選擇為與在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離近似相同。此外可以提出，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差選擇為與在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離相同。在一個(gè)有利的實(shí)施方式中，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差根據(jù)條件或根據(jù)條件來(lái)選擇，其中，＝在兩個(gè)掃描單元之間的偏差，在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離。可以提出，為了確定在第一和第二目標(biāo)之間的相對(duì)位置，可選地將兩個(gè)掃描單元中的僅僅一個(gè)激活。在根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)變體中，在一個(gè)方法步驟中，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記隨加工工具移動(dòng)，并且在此借助于第一掃描單元檢測(cè)的、在第一和第二目標(biāo)之間的相對(duì)位置被記錄。在另一個(gè)方法步驟中，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記隨校準(zhǔn)傳感器移動(dòng)，并且在此借助于第二掃描單元檢測(cè)的、在第一和第二目標(biāo)之間的相對(duì)位置被記錄；在另一個(gè)方法步驟中，工件校準(zhǔn)標(biāo)記隨校準(zhǔn)傳感器移動(dòng)，并且在此借助于第二掃描單元檢測(cè)的、在第一和第二目標(biāo)之間的相對(duì)位置被記錄。三個(gè)不同的方法步驟的順序能任意選擇。在根據(jù)本發(fā)明的方法的該變體中，因此基于前述三個(gè)方法步驟的測(cè)量，在利用加工工具加工工件期間，在工件校準(zhǔn)標(biāo)記的周圍環(huán)境中進(jìn)行對(duì)第一目標(biāo)相對(duì)于第二目標(biāo)的定位。作為根據(jù)本發(fā)明的解決方法的特別的優(yōu)點(diǎn)提出，現(xiàn)在為了精確地對(duì)加工工具相對(duì)于工件定位而無(wú)需再掃描為了確定位置而使用的整體量具的相對(duì)較大的范圍。與此相對(duì)地，通過(guò)根據(jù)本發(fā)明的至少兩個(gè)掃描單元的掃描限制在整體量具的較小的、空間上狹窄受限的區(qū)域上。因此僅僅整體量具在該空間受限的區(qū)域中的不準(zhǔn)確性對(duì)于位置確定的精確度來(lái)說(shuō)是重要的。該區(qū)域的擴(kuò)展因此基本取決于被加工的工件面?？傮w上說(shuō)，在確定位置時(shí)以及基于此的、加工工具和工件的相對(duì)定位時(shí)，因此得出明顯較小的誤差。因此根據(jù)精確度要求可以省去對(duì)使用的整體量具的耗費(fèi)成本的校準(zhǔn)。此外，各個(gè)機(jī)器的熱穩(wěn)定性可以簡(jiǎn)單地設(shè)計(jì)，這是因?yàn)橥ㄟ^(guò)熱膨脹引起的測(cè)量誤差在整體量具的被掃描的區(qū)域的較小尺寸的內(nèi)部可以被忽略。在被掃描的區(qū)域之間的熱膨脹基于根據(jù)本發(fā)明的對(duì)至少兩個(gè)間隔開(kāi)的掃描單元的使用，在不同的方法步驟中不再重要。附圖說(shuō)明本發(fā)明的其它優(yōu)點(diǎn)以及細(xì)節(jié)由以下根據(jù)附圖對(duì)實(shí)施例的說(shuō)明得出。在此示出：圖1是用于說(shuō)明現(xiàn)有技術(shù)的第一個(gè)示意圖；圖2是整體量具的存在的長(zhǎng)波變形的示例性附圖；圖3是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的措施在不同的位置上得出的定位誤差的附圖；圖4-7是在應(yīng)用根據(jù)本發(fā)明的裝置的情況下的各個(gè)方法步驟；圖8是在應(yīng)用根據(jù)本發(fā)明的裝置的情況下在采取措施時(shí)在不同的位置上得出的定位誤差的附圖。具體實(shí)施方式在圖4-6中示出了在開(kāi)頭所述的不同的校準(zhǔn)-或定位步驟中的根據(jù)本發(fā)明的裝置，其在真正的加工階段之前為了校準(zhǔn)目的被執(zhí)行。圖7示出了其中實(shí)現(xiàn)真正的工件加工的階段。只要未在下面明確地提及不同參考標(biāo)號(hào)的其它含義，則其就相應(yīng)于開(kāi)頭說(shuō)明的圖1的參考標(biāo)號(hào)。根據(jù)圖4-7以下說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的裝置的以及根據(jù)本發(fā)明的方法的實(shí)施例。本發(fā)明的基本觀點(diǎn)在于，不同于開(kāi)頭討論的現(xiàn)有技術(shù)，現(xiàn)在在第一目標(biāo)O1上布置至少兩個(gè)用于對(duì)整體量具S進(jìn)行掃描的掃描單元E1，E2，以便這樣高精度地確定沿著運(yùn)動(dòng)方向x在第一目標(biāo)O1和第二目標(biāo)O2之間的相對(duì)位置。在示出的實(shí)施例中提出對(duì)整體量具S進(jìn)行高分辨率的光學(xué)掃描，例如通過(guò)干涉的掃描原理。兩個(gè)掃描單元E1，E2在此具有定義選擇的偏差這如由圖4-7的圖示中表明的那樣；在示出的實(shí)施例中，偏差沿著運(yùn)動(dòng)方向x延伸。在兩個(gè)掃描單元E1，E2之間的偏差根據(jù)本發(fā)明選擇為與在加工工具B和校準(zhǔn)傳感器W之間的距離近似相同；在一個(gè)可能的實(shí)施方式中甚至是完全相同的。原則上，對(duì)于在兩個(gè)掃描單元E1，E2之間的沿著運(yùn)動(dòng)方向x的偏差證明為有利的是，根據(jù)條件來(lái)選擇該偏差，其中，＝在兩個(gè)掃描單元之間的沿著運(yùn)動(dòng)方向的偏差，＝在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的沿著運(yùn)動(dòng)方向的距離。在一個(gè)有利的實(shí)施方式中例如選擇由于應(yīng)用了在第一目標(biāo)O1上具有定義的偏差的至少兩個(gè)掃描單元E1，E2，如以下根據(jù)對(duì)圖4-8的說(shuō)明詳細(xì)描述的那樣，因此可以在位置確定時(shí)顯著減小開(kāi)頭所述的測(cè)量誤差，該測(cè)量誤差是由于被掃描的整體量具S的可能存在的變形而產(chǎn)生的。第一校準(zhǔn)步驟V1在真實(shí)的工件加工之前借助于根據(jù)本發(fā)明的裝置在圖4中示出。在此，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1隨加工工具B移動(dòng)，借助于第一掃描單元E1檢測(cè)在第一目標(biāo)O1和第二目標(biāo)O2之間的相對(duì)位置，并且由-未示出的控制單元-記錄。如在圖4中通過(guò)在第一掃描單元E1和整體量具S之間的虛線連接說(shuō)明了，在該步驟中為了確定位置，通過(guò)第一掃描單元E1對(duì)整體量具S的以R1表示的第一區(qū)域進(jìn)行掃描。在圖5中示出了另一個(gè)校準(zhǔn)步驟V2。在此，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1隨校準(zhǔn)傳感器W移動(dòng)，借助于第二掃描單元E2檢測(cè)在第一目標(biāo)O1和第二目標(biāo)O2之間的相對(duì)位置，并且由控制單元記錄。第二掃描單元E2在該階段中如顯而易見(jiàn)的那樣在整體量具S上同樣掃描以R1表示的第一區(qū)域、即和前面校準(zhǔn)步驟中一樣的區(qū)域。借助于根據(jù)本發(fā)明的裝置的第三校準(zhǔn)步驟V3在圖6中示出?，F(xiàn)在，工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2隨校準(zhǔn)傳感器W移動(dòng)，借助于第二掃描單元E2檢測(cè)在第一目標(biāo)O1和第二目標(biāo)O2之間的相對(duì)位置，并且由控制單元記錄。如由圖6顯而易見(jiàn)的，通過(guò)第二掃描單元E2在該方法步驟中實(shí)現(xiàn)了在整體量具S上對(duì)第二區(qū)域R2的掃描。在此處需要指出的是，這三個(gè)用于校準(zhǔn)目的的方法步驟V1-V3無(wú)需在真實(shí)的工件加工之前強(qiáng)制性地以所述的順序進(jìn)行；更確切地說(shuō)，這些方法步驟也可以采用另一種順序。在圖7中最后說(shuō)明了在校準(zhǔn)步驟V1-V3之后的工件加工。在此通過(guò)加工工具B對(duì)工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2附近的工件WS進(jìn)行加工。在該階段中如圖中示出的借助于第一掃描單元E1實(shí)現(xiàn)了位置確定，該第一掃描單元現(xiàn)在掃描了在整體量具S上的第二區(qū)域R2。在該實(shí)施例的不同方法步驟中分別將兩個(gè)掃描單元E1，E2中的僅僅一個(gè)用于位置確定。這就是說(shuō)，由上一級(jí)的控制單元分別激活兩個(gè)掃描單元E1，E2中的僅僅一個(gè)。因此兩個(gè)掃描單元E1，E2設(shè)計(jì)為能選擇性激活的。如由借助于根據(jù)本發(fā)明的裝置的不同的方法步驟所說(shuō)明的那樣，利用兩個(gè)掃描單元E1，E2對(duì)使用的整體量具S的掃描在校準(zhǔn)過(guò)程期間和真實(shí)的工件加工期間限于在整體量具S上的僅僅兩個(gè)區(qū)域R1，R2。這兩個(gè)區(qū)域R1，R2此外分別具有僅僅一個(gè)在整體量具S的接合面(Teilungs-Ebene)中相對(duì)較小的平坦的、帶有直徑的擴(kuò)展部，這個(gè)擴(kuò)展部比例如上述的距離小了大約一些數(shù)量級(jí)。因?yàn)橐虼嗽谖恢么_定中在根據(jù)圖7的加工過(guò)程期間僅僅進(jìn)行相對(duì)的位置測(cè)量，其源自于對(duì)具有較小擴(kuò)展部的兩個(gè)區(qū)域R1，R2的掃描，因此可以明顯減小開(kāi)頭所說(shuō)的、通過(guò)整體量具S的可能的長(zhǎng)波誤差引起的誤差?；诟鶕?jù)本發(fā)明的措施得出在加工過(guò)程中的優(yōu)化的位置確定。以下參照?qǐng)D4-7說(shuō)明為什么基于根據(jù)本發(fā)明的措施得出這樣的誤差最小化狀態(tài)。目標(biāo)O1、即工作臺(tái)的位置以來(lái)標(biāo)記，在該位置中加工工具B位于工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2上。因此在這三個(gè)校準(zhǔn)方法步驟V1-V3中以及在加工方法步驟V4中的目標(biāo)位置如下：在此，是待求數(shù)值，即在工作臺(tái)位置中進(jìn)行加工期間，加工工具B相對(duì)于工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的偏移。為了簡(jiǎn)明起見(jiàn)，以下關(guān)注由整體量具S和掃描單元E1，E2組成的系統(tǒng)，利用該系統(tǒng)僅僅可以沿著測(cè)量方向確定一個(gè)唯一的分量在實(shí)踐中可以通過(guò)將由掃描單元E1，E2和整體量具S組成的系統(tǒng)進(jìn)行相互組合來(lái)確定多個(gè)分量這些系統(tǒng)具有不同的測(cè)量方向。掃描單元E1在讀取確定位置上的整體量具S時(shí)得出的測(cè)量值mE1被描述為函數(shù)其中，是緩慢隨改變的誤差項(xiàng)，其由非均勻的或變形的整體量具S引起。由掃描單元E2檢測(cè)的測(cè)量值相應(yīng)地作為函數(shù)示出。在四個(gè)機(jī)器位置中獲取的測(cè)量值m1-m4然后如下得出：除了未知的誤差項(xiàng)us之外，由測(cè)量值m1至m4的適合的線性組合獲得待求量其中，引入了現(xiàn)在假設(shè)，和相對(duì)于移動(dòng)的數(shù)量級(jí)較小，由該數(shù)量級(jí)開(kāi)始可以期待的重要改變。在此假設(shè)下分別在公式2.12的第二和第三行中主要?jiǎng)h去誤差項(xiàng)，這是因?yàn)檎w量具誤差以不同的符號(hào)形成在整體量具S的分別近似相同的位置上。這與測(cè)量方向無(wú)關(guān)并且因此對(duì)于兩個(gè)目標(biāo)O1，O2的相對(duì)運(yùn)動(dòng)的所有待測(cè)量的自由度是有效的。如由該關(guān)注點(diǎn)明顯示出的，整體量具S的不準(zhǔn)確性基于根據(jù)本發(fā)明的措施最終僅僅仍在相對(duì)較小的、空間上受限的區(qū)域R1，R2內(nèi)部產(chǎn)生影響。這些區(qū)域R1，R2的大小基本上通過(guò)待加工的、圍繞工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的工件面積給出。如果現(xiàn)在如所述那樣根據(jù)本發(fā)明應(yīng)用至少兩個(gè)掃描單元，則在設(shè)定根據(jù)圖2的整體量具的當(dāng)前變形的情況下，當(dāng)現(xiàn)在根據(jù)本發(fā)明如所說(shuō)明地應(yīng)用了至少兩個(gè)掃描單元時(shí)，圖8類似于圖3的附圖示出了在不同機(jī)器位置中的得出的定位誤差或測(cè)量不安全性△xrel。如由圖8顯而易見(jiàn)的，現(xiàn)在由整體量具變形得出的測(cè)量精確度△xrel在時(shí)回到零。加工工具B的定位在工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的周圍環(huán)境中現(xiàn)在可能具有較高的精確度。除了根據(jù)本發(fā)明的裝置和根據(jù)本發(fā)明的方法的所說(shuō)明的實(shí)施例之外，自然也可以在本發(fā)明的范疇中還存在其它的設(shè)計(jì)可能性。因此代替線性整體量具也可以提出，應(yīng)用二維的整體量具，其設(shè)計(jì)為交叉柵距。此外可能的是，在目標(biāo)彼此可旋轉(zhuǎn)的情況下，整體量具設(shè)計(jì)為角柵距，其然后被兩個(gè)間隔開(kāi)的掃描單元掃描。根據(jù)本發(fā)明，在此情況下，兩個(gè)掃描單元的角距離必須例如相應(yīng)于在目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和工件校準(zhǔn)標(biāo)記之間的角距離。代替對(duì)整體量具的光學(xué)掃描，此外也可以利用整體量具和掃描單元的相應(yīng)設(shè)計(jì)提出磁性的、電容式的或電感式的掃描。此外也可以在根據(jù)本發(fā)明的裝置中存在多個(gè)加工工具和/或校準(zhǔn)傳感器。在此情況下也可能相應(yīng)地需要多個(gè)掃描單元。對(duì)于各個(gè)單獨(dú)的方法步驟然后分別類似于上述方式選擇適合的掃描單元。此外在根據(jù)本發(fā)明的方法的變體或改進(jìn)方案中還可能的是，在上述校準(zhǔn)步驟之前沿著測(cè)量區(qū)域利用兩個(gè)激活的掃描單元執(zhí)行附加的測(cè)量過(guò)程；兩個(gè)掃描單元的、由此產(chǎn)生的測(cè)量值在此彼此不同。在后續(xù)的、上面說(shuō)明的方法步驟中，在此產(chǎn)生的測(cè)量值可以與在前述測(cè)量過(guò)程中獲得的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)一起計(jì)算。