一種白光有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種白光有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法，所述有機(jī)電致發(fā)光器件包括柔性基板，所述柔性基板包括相對(duì)設(shè)置的第一端面和第二端面；柔性基板上自第二端面向第一端面方向設(shè)置依次層疊的第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層、第一陰極和第一柔性蓋板，所述第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層；柔性基板上自第一端面向第二端面方向設(shè)置依次層疊的第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層、第二陰極和第二柔性蓋板，所述第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層，本發(fā)明有機(jī)電致發(fā)光器件發(fā)光效率高。
【專利說(shuō)明】一種白光有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及有機(jī)電致發(fā)光領(lǐng)域，特別涉及一種白光有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法。

【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)電致發(fā)光(Organic Light Emiss1n D1de,以下簡(jiǎn)稱OLED),具有亮度高、材料選擇范圍寬、驅(qū)動(dòng)電壓低、全固化主動(dòng)發(fā)光等特性，同時(shí)擁有高清晰、廣視角，以及響應(yīng)速度快等優(yōu)勢(shì)，是一種極具潛力的顯示技術(shù)和光源，符合信息時(shí)代移動(dòng)通信和信息顯示的發(fā)展趨勢(shì)，以及綠色照明技術(shù)的要求，是目前國(guó)內(nèi)外眾多研究者的關(guān)注重點(diǎn)。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)的OLED大部分只能將光從陽(yáng)極或者陰極的一側(cè)取出，制得底發(fā)射或頂發(fā)射OLED裝置。一些研究者發(fā)明的雙面發(fā)光顯示的OLED裝置，同時(shí)采用兩個(gè)OLED發(fā)光單元，通過(guò)粘合劑背靠背貼合在一起，這樣的結(jié)構(gòu)變得比較復(fù)雜，整套裝置的制程也比較多，同時(shí)使OLED裝置的重量變重。采用柔性O(shè)LED發(fā)光裝置的優(yōu)點(diǎn)在于，其具有撓曲性和輕便性，但是OLED發(fā)光裝置也存在一些問(wèn)題，例如導(dǎo)電陽(yáng)極通常是ITO—類的氧化物薄膜，但是這些材料需要采用濺射工藝制備，其工藝過(guò)程對(duì)柔性基板如聚合物薄膜基板容易產(chǎn)生破壞，從而使基板表面變得不平整。此外，對(duì)于實(shí)現(xiàn)白光發(fā)射的OLED發(fā)光裝置而言，這種雙面發(fā)光的OLED意味著需要同時(shí)將多色發(fā)光層，如紅，藍(lán)，綠等發(fā)光材料進(jìn)行合理配置，容易存在各個(gè)發(fā)光層之間能量轉(zhuǎn)移，使發(fā)光顏色不穩(wěn)定，難以控制均一度。
[0004]此外，對(duì)于雙面發(fā)光的OLED器件，如果能進(jìn)一步優(yōu)化成穿透式的白光，不僅能實(shí)現(xiàn)照明和顯示，還能在裝置未通電使用時(shí)，作為一種透明件來(lái)使用，這樣極大的拓寬了該新型裝置的使用領(lǐng)域。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種白光有機(jī)電致發(fā)光器件，所述有機(jī)電致發(fā)光器件包括柔性基板，所述柔性基板包括相對(duì)設(shè)置的第一端面和第二端面；柔性基板上自第二端面向第一端面方向設(shè)置依次層疊的第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層、第一陰極和第一柔性蓋板，所述第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層；柔性基板上自第一端面向第二端面方向設(shè)置依次層疊的第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層、第二陰極和第二柔性蓋板，所述第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層，本發(fā)明有機(jī)電致發(fā)光器件發(fā)光效率高；本發(fā)明還公開(kāi)了該有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，制備方法簡(jiǎn)單。
[0006]第一方面，本發(fā)明提供了一種白光有機(jī)電致發(fā)光器件，包括:
[0007]柔性基板，所述柔性基板包括相對(duì)設(shè)置的第一端面和第二端面；
[0008]柔性基板上自第二端面向第一端面方向設(shè)置依次層疊的第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層、第一陰極和第一柔性蓋板，所述第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層，所述第一封裝蓋板和柔性基板形成第一封閉空間，所述第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極容置在所述第一封閉空間內(nèi)；
[0009]柔性基板上自第一端面向第二端面方向設(shè)置依次層疊的第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層、第二陰極和第二柔性蓋板，所述第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層，所述第二封裝蓋板和柔性基板形成第二封閉空間，所述第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極容置在所述第二封閉空間內(nèi)；
[0010]所述第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層材質(zhì)均選自硫化鋅(ZnS)和硒化鋅(ZnSe)中的一種，所述第一金屬層和第二金屬層的材質(zhì)均選自銀(Ag)、金(Au)、招(Al)和鎂(Mg)中的一種或多種，所述第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層材質(zhì)均選自三氧化鎢(WO3)、三氧化鑰(MoO3)、五氧化二I凡(V2O5)和三氧化錸(ReO3)中的一種。
[0011]優(yōu)選地，所述藍(lán)光發(fā)光層的材質(zhì)為熒光發(fā)光材料或摻雜有磷光材料的藍(lán)光主體材料，所述熒光發(fā)光材料為4，4' -二(2，2-二苯乙烯基)-1，I'-聯(lián)苯(DPVBi)或4，4'-雙[4-( 二對(duì)甲苯基氨基)苯乙烯基]聯(lián)苯(DPAVBi)，所述磷光材料為雙(4，6-二氟苯基吡啶-N，C2)吡啶甲酰合銥(FIrpic)或雙(4，6- 二氟苯基吡啶)-四(1-吡唑基)硼酸合銥(FIr6);所述藍(lán)光主體材料為1，3，5_三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBi)或4,4/ -二(9-咔唑)聯(lián)苯(CBP);所述磷光材料在藍(lán)光主體材料中的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2%?20%。
[0012]優(yōu)選地，所述紅光發(fā)光層的材質(zhì)為摻雜有客體材料的紅光主體材料，所述客體材料為4-(二腈甲基)-2- 丁基-6-( I, I, 7，7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)_4H_吡喃(DCJTB)、(乙酰丙酮)合銥(Ir (MDQ) 2 (acac))、三(1-苯基-異喹啉)合銥(Ir (piq) 3)或雙(2-(苯并[b]噻吩-2-基)卩比唳)(乙酰丙酮)合銥Ir (btp) 2 (acac),所述紅光主體材料為8_輕基喹啉鋁(Alq3)、N，N' - 二苯基-N，N' -二(1-萘基)_1，1'-聯(lián)苯 _4，4' -二胺(NPB)或4，4' -二(9-咔唑)聯(lián)苯(CBP)，所述客體材料在紅光主體材料中的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%?10%。
[0013]優(yōu)選地,所述藍(lán)光發(fā)光層和紅光發(fā)光層的厚度均為5nm?20nm。
[0014]優(yōu)選地，所述第一柔性蓋板和柔性基板通過(guò)光固化粘合劑連接形成第一封閉空間，自所述光固化粘合劑向第一封閉空間設(shè)置有第一干燥劑層；所述第二柔性蓋板和柔性基板通過(guò)光固化粘合劑連接形成第二封閉空間，自所述光固化粘合劑向第二封閉空間設(shè)置有第二干燥劑層。
[0015]更優(yōu)選地，所述光固化粘合劑為光固化聚丙烯酸樹(shù)脂或光固化環(huán)氧樹(shù)脂。
[0016]更優(yōu)選地，所述柔性蓋板為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚醚砜(PES)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或聚碳酸酯(PC),所述柔性蓋板的厚度為0.1mm?0.5mm。
[0017]所選柔性蓋板選用的材料在可見(jiàn)光的透過(guò)率>80%，柔性蓋板的存在不會(huì)影響器件的出光。
[0018]更優(yōu)選地，所述第一干燥層和第二干燥層材質(zhì)均選自金屬鈣或鋇的氧化物、沸石、具有長(zhǎng)鏈碳化氫的金屬醇化物、硫酸鹽、鹵化物和高氯酸鹽中的一種或多種。
[0019]特別優(yōu)選地，所述第一干燥層和第二干燥層的材質(zhì)為氧化鈣和氧化鋇中的一種或兩種。
[0020]在第一陰極上覆蓋第一柔性蓋板，在第二陰極上覆蓋第二柔性蓋板，可以防止水、氧對(duì)有機(jī)電致發(fā)光器件的腐蝕，提高器件的使用壽命。第一干燥層和第二干燥層的存在可以防止水氧從器件的邊緣滲透進(jìn)入器件內(nèi)部，且第一干燥層和第二干燥層設(shè)在器件藍(lán)光發(fā)光層和紅光發(fā)光層出光方向的水平方向，不會(huì)影響兩面發(fā)光或頂發(fā)射的有機(jī)電致發(fā)光器件的發(fā)光。
[0021]優(yōu)選地，所述柔性基板為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚醚砜(PES)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或聚碳酸酯(PC)，所述柔性基板的厚度為0.1?0.5mm。
[0022]所選柔性基板選用的材料在可見(jiàn)光的透過(guò)率>80%，有機(jī)電致發(fā)光器件中間的柔性基板為透明柔性材質(zhì)，使紅光發(fā)光層和藍(lán)光發(fā)光層的發(fā)射光都能穿透中間基板，然后混合，形成白光發(fā)射，發(fā)光效率高。
[0023]優(yōu)選地,所述第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層的厚度均為40nm?80nm,所述第一金屬層和第二金屬層的厚度均為8nm?20nm，所述第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層的厚度均為3nm?7nm。
[0024]優(yōu)選地，所述第一空穴傳輸層和第二空穴傳輸層的材質(zhì)均選自4，4'，4"-三(2-萘基苯基氨基)三苯基胺(21嫩了々)、隊(duì)^ - 二苯基-N，N' -二(1-萘基)_1，1'-聯(lián)苯-4，4' - 二胺(NPB)、4，4'，4 "-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺(m-MTDATA)、N，N ' - 二苯基-N，N ' -二(3-甲基苯基)-1，I '-聯(lián)苯-4，4 ' -二胺(TPD)和4，4'，4"-三(咔唑-9-基)三苯胺(TCTA)中的一種，所述第一空穴傳輸層和第二空穴傳輸層的厚度為1nm?60nm。
[0025]優(yōu)選地，所述第一電子傳輸層和第二電子傳輸層的材質(zhì)均選自2- (4-聯(lián)苯基)-5-( 4-叔丁基)苯基-1,3,4-噁二唑(PBD)、4，7- 二苯基-鄰菲咯啉(Bphen)、1，3，5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBi)、2，9-二甲基-4，7-聯(lián)苯-1，10-鄰二氮雜菲(BCP)和3-(聯(lián)苯-4-基)-5- (4-叔丁基苯基)-4-苯基-4H-1，2，4-三唑(TAZ)中的一種，所述第一電子傳輸層和第二電子傳輸層的厚度均為20nm?60nm。
[0026]優(yōu)選地，所述第一電子注入層和第二電子注入層的材質(zhì)均選自氟化鋰(LiF)和氟化銫(CsF)中的一種,所述第一電子注入層和第二電子注入層的厚度均為0.5nm?lnm。
[0027]優(yōu)選地，所述第一陰極和第二陰極的材質(zhì)均選自銀(Ag)、鋁(Al)、釤(Sm)和金(Au)中的一種，厚度為18nm?30nm。
[0028]本發(fā)明所述第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層，所述第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層，第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層在可見(jiàn)光范圍內(nèi)具有較高的透過(guò)率，且其折射率較高，在第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層的上下界面，可以產(chǎn)生界面的光線干涉相消作用，從而提高光線在半導(dǎo)體層中的透過(guò)率；第一金屬層和第二金屬層材質(zhì)為金屬單質(zhì)及其合金，主要起導(dǎo)電作用；第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層材質(zhì)為功函較高的金屬氧化物，可以提聞空穴的注入能力。
[0029]有機(jī)電致發(fā)光器件中間的柔性基板為透明柔性材質(zhì)，使藍(lán)光發(fā)光層和紅光發(fā)光層的發(fā)射光都能穿透中間基板，然后混合，形成白光發(fā)射，不存在多個(gè)發(fā)光層之間能量轉(zhuǎn)移的問(wèn)題，發(fā)光顏色穩(wěn)定，發(fā)光效率高。同時(shí)，本發(fā)明每層的材質(zhì)都屬于透明材料，因此在不通電的時(shí)候，其呈現(xiàn)透明的狀態(tài)，還可以作為透明件來(lái)使用。
[0030]另一方面，本發(fā)明提供了一種白光有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下操作步驟:
[0031](I)提供清洗干凈的柔性基板；所述柔性基板包括相對(duì)設(shè)置的第一端面和第二端面；
[0032](2)在柔性基板上自第二端面向第一端面方向真空蒸鍍第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極，所述第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層；然后在第一陰極上覆蓋第一柔性蓋板，所述第一柔性蓋板和柔性基板第一端面通過(guò)粘合劑連接形成第一封閉空間，所述第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極容置在所述第一封閉空間內(nèi)；
[0033]在柔性基板上自第一端面向第二端面方向真空蒸鍍第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極，所述第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層；然后在第二陰極上覆蓋第二柔性蓋板，所述第二柔性蓋板和柔性基板第二端面通過(guò)粘合劑連接形成第二封閉空間內(nèi)；所述第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極容置在所述第二封閉空間內(nèi)；
[0034]所述第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層材質(zhì)均選自硫化鋅(ZnS)和硒化鋅(ZnSe)中的一種，所述第一金屬層和第二金屬層的材質(zhì)均選自銀(Ag)、金(Au)、招(Al)和鎂(Mg)中的一種或多種，所述第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層材質(zhì)均選自三氧化鎢(WO3)、三氧化鑰(MoO3)、五氧化二I凡(V2O5)和三氧化錸(ReO3)中的一種；
[0035]其中，所述真空蒸鍍均在真空度為I X 10_5Pa?I X 10_3Pa的真空鍍膜系統(tǒng)中進(jìn)行；
[0036]所述第一金屬層、第二金屬層、第一陰極和第二陰極的蒸鍍速率均為0.2nm/s?2nm/s ;
[0037]所述第一空穴傳輸層、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第二電子傳輸層的蒸鍍速率為0.0 lnm/s?lnm/s ；
[0038]所述第一半導(dǎo)體層、第二半導(dǎo)體層、第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層、第一電子注入層和第二電子注入層的蒸鍍速率為0.lnm/s?lnm/s。
[0039]優(yōu)選地，所述藍(lán)光發(fā)光層的材質(zhì)為熒光發(fā)光材料或摻雜有磷光材料的藍(lán)光主體材料，所述熒光發(fā)光材料為4，4' -二(2，2-二苯乙烯基)-1，I'-聯(lián)苯(DPVBi)或4，4'-雙[4-( 二對(duì)甲苯基氨基)苯乙烯基]聯(lián)苯(DPAVBi)，所述磷光材料為雙(4，6-二氟苯基吡啶-N，C2)吡啶甲酰合銥(FIrpic)或雙(4，6- 二氟苯基吡啶)-四(1-吡唑基)硼酸合銥(FIr6);所述藍(lán)光主體材料為1，3，5_三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(IPBi)或4,4/ -二(9-咔唑)聯(lián)苯(CBP);所述磷光材料在藍(lán)光主體材料中的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2%?20%。
[0040]優(yōu)選地，所述紅光發(fā)光層的材質(zhì)為摻雜有客體材料的紅光主體材料，所述客體材料為4-(二腈甲基)-2- 丁基-6-( I, I, 7，7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)_4H_吡喃(DCJTB)、(乙酰丙酮)合銥(Ir (MDQ) 2 (acac))、三(1-苯基-異喹啉)合銥(Ir (piq) 3)或雙(2-(苯并[b]噻吩-2-基)卩比唳)(乙酰丙酮)合銥Ir (btp) 2 (acac),所述紅光主體材料為8_輕基喹啉鋁(Alq3)、N，N' - 二苯基-N，N' -二(1-萘基)_1，1'-聯(lián)苯 _4，4' -二胺(NPB)或4，4' -二(9-咔唑)聯(lián)苯(CBP)，所述客體材料在紅光主體材料中的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%?10%。
[0041 ] 本發(fā)明白光有機(jī)電致發(fā)光器件在制備過(guò)程中，可以在柔性基板自第二端面向第一端面方向依次真空蒸鍍第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極，然后在柔性基板自第一端面向第二端面方向依次真空蒸鍍第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極；可以在制備第一空穴傳輸層以后，調(diào)轉(zhuǎn)基板180度，制備第二空穴傳輸層，依此類推，通過(guò)多次調(diào)轉(zhuǎn)基板方向，同時(shí)制備同一類型材料的層狀結(jié)構(gòu)，也可以自由選擇調(diào)轉(zhuǎn)基板方向的時(shí)間，制備過(guò)程自由度高。
[0042]優(yōu)選地，步驟(2)為:
[0043]在柔性基板上自第二端面向第一端面方向真空蒸鍍第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極，然后在第一陰極上覆蓋第一柔性蓋板，所述第一柔性蓋板和柔性基板第一端面通過(guò)粘合劑連接形成第一封閉空間；調(diào)轉(zhuǎn)柔性基板平面180度，然后在柔性基板上自第一端面向第二端面方向真空蒸鍍第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極，然后在第二陰極上覆蓋第二柔性蓋板，所述第二柔性蓋板和柔性基板第二端面通過(guò)粘合劑連接形成第二封閉空間，得到所述的白光有機(jī)電致發(fā)光器件。
[0044]優(yōu)選地，步驟(2)為:
[0045]在柔性基板上自第二端面向第一端面方向真空蒸鍍第一陽(yáng)極，在柔性基板上自第一端面向第二端面方向真空蒸鍍第二陽(yáng)極，在第一陽(yáng)極上真空蒸鍍第一空穴傳輸層，調(diào)轉(zhuǎn)基板平面180度，在第二陽(yáng)極上真空蒸鍍第二空穴傳輸層；在的第二空穴傳輸層上真空蒸鍍藍(lán)光發(fā)光層，然后調(diào)轉(zhuǎn)基板平面180度,在第一空穴傳輸層上真空蒸鍍紅光發(fā)光層,在紅光發(fā)光層上真空蒸鍍第一電子傳輸層，然后調(diào)轉(zhuǎn)基板平面180度,在藍(lán)光發(fā)光層真空蒸鍍第二電子傳輸層，在第二電子傳輸層上真空蒸鍍第二電子注入層，在第二電子注入層上真空蒸鍍第二陰極，然后調(diào)轉(zhuǎn)基板平面180度，在第一電子傳輸層上真空蒸鍍第一電子注入層，在第一電子注入層上真空蒸鍍第一陰極；在第二陰極上覆蓋第二柔性蓋板，所述第二柔性蓋板和柔性基板第二端面通過(guò)粘合劑連接形成第二封閉空間，在第一陰極上覆蓋第一柔性基板，所述第一柔性蓋板和柔性基板第一端面通過(guò)粘合劑連接形成第一封閉空間，得到所述的白光有機(jī)電致發(fā)光器件。
[0046]優(yōu)選地,所述藍(lán)光發(fā)光層和紅光發(fā)光層的厚度均為5nm?20nm。
[0047]優(yōu)選地，所述第一柔性蓋板和柔性基板通過(guò)光固化粘合劑連接形成第一封閉空間，自所述光固化粘合劑向第一封閉空間設(shè)置有第一干燥劑層；所述第二柔性蓋板和柔性基板通過(guò)光固化粘合劑連接形成第二封閉空間，自所述光固化粘合劑向第二封閉空間設(shè)置有第二干燥劑層。
[0048]更優(yōu)選地，所述第一柔性蓋板和第二柔性蓋板均選自聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚醚砜(PES)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)和聚碳酸酯(PC)中的一種，所述柔性蓋板的厚度為0.1mm?0.5mm。
[0049]所選柔性蓋板選用的材料在可見(jiàn)光的透過(guò)率>80%，柔性蓋板的存在不會(huì)影響器件的出光。
[0050]更優(yōu)選地，所述第一干燥層和第二干燥層材質(zhì)均選自金屬鈣或鋇的氧化物、沸石、具有長(zhǎng)鏈碳化氫的金屬醇化物、硫酸鹽、鹵化物和高氯酸鹽中的一種或多種。
[0051]特別優(yōu)選地，所述第一干燥層和第二干燥層的材質(zhì)為氧化鈣和氧化鋇中的一種或兩種。
[0052]在第一陰極上覆蓋第一柔性蓋板，在第二陰極上覆蓋第二柔性蓋板，可以防止水氧對(duì)有機(jī)電致發(fā)光器件的腐蝕，提高器件的使用壽命。第一干燥層和第二干燥層的存在可以防止水氧從器件的邊緣滲透進(jìn)入器件內(nèi)部，且第一干燥層和第二干燥層設(shè)在器件器件藍(lán)光發(fā)光層和紅光發(fā)光層出光方向的水平方向，不會(huì)影響兩面發(fā)光或頂發(fā)射的有機(jī)電致發(fā)光器件的發(fā)光。
[0053]優(yōu)選地，所述柔性基板為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚醚砜(PES)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或聚碳酸酯(PC)，柔性蓋板的厚度為0.1mm?0.5mm。
[0054]優(yōu)選地，所述清洗干凈是將柔性基板放在含有洗滌劑的去離子水中進(jìn)行超聲清洗，清洗干凈后依次用異丙醇，丙酮在超聲波中處理20分鐘，然后再用氮?dú)獯蹈伞?br> [0055]所選柔性基板選用的材料在可見(jiàn)光的透過(guò)率>80%，有機(jī)電致發(fā)光器件中間的柔性基板為透明柔性材質(zhì)，使紅光發(fā)光層和藍(lán)光發(fā)光層的發(fā)射光都能穿透中間基板，然后混合，形成白光發(fā)射，發(fā)光效率高。
[0056]優(yōu)選地，所述第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層的厚度均為40nm?80nm,所述第一金屬層和第二金屬層的厚度均為8nm?20nm，所述第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層的厚度均為3nm?7nm。
[0057]優(yōu)選地，所述第一空穴傳輸層和第二空穴傳輸層的材質(zhì)均選自4，4'，4"-三(2-萘基苯基氨基)三苯基胺(21嫩了々)、隊(duì)^ - 二苯基-N，N' -二(1-萘基)_1，1'-聯(lián)苯-4，4' - 二胺(NPB)、4，4'，4 "-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺(m-MTDATA)、N，N ' - 二苯基-N，N ' -二(3-甲基苯基)-1，I '-聯(lián)苯-4，4 ' -二胺(TPD)和4，4'，4"-三(咔唑-9-基)三苯胺(TCTA)中的一種，所述第一空穴傳輸層和第二空穴傳輸層的厚度為10?60nm。
[0058]優(yōu)選地，所述第一電子傳輸層和第二電子傳輸層的材質(zhì)均選自2- (4-聯(lián)苯基)-5-( 4-叔丁基)苯基-1,3,4-噁二唑(PBD)、4，7- 二苯基-鄰菲咯啉(Bphen)、1，3，5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBi)、2，9- 二甲基_4，7-聯(lián)苯-1，10-鄰二氮雜菲(BCP)和3-(聯(lián)苯-4-基)-5- (4-叔丁基苯基)-4-苯基-4H-1，2，4-三唑(TAZ)中的一種，所述第一電子傳輸層和第二電子傳輸層的厚度均為20nm?60nm。
[0059]優(yōu)選地，所述第一電子注入層和第二電子注入層的材質(zhì)均選自氟化鋰(LiF)和氟化銫(CsF)中的一種,所述第一電子注入層和第二電子注入層的厚度均為0.5nm?lnm。
[0060]優(yōu)選地，所述第一陰極和第二陰極的材質(zhì)均選自銀(Ag)、鋁(Al)、釤(Sm)和金(Au)中的一種，厚度為18nm?30nm。
[0061]本發(fā)明所述第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層，所述第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層，第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層在可見(jiàn)光范圍內(nèi)具有較高的透過(guò)率，且其折射率較高，在第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層的上下界面，可以產(chǎn)生界面的光線干涉相消作用，從而提高光線在半導(dǎo)體層中的透過(guò)率；第一金屬層和第二金屬層材質(zhì)為金屬單質(zhì)及其合金，主要起導(dǎo)電作用；第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層材質(zhì)為功函較高的金屬氧化物，可以提聞空穴的注入能力。
[0062]同時(shí)，本發(fā)明第一陽(yáng)極和第二陽(yáng)極采用真空蒸鍍的方法制備，與濺射制備的ITO薄膜相比，本發(fā)明制備方法簡(jiǎn)單，制備時(shí)對(duì)基板破壞小，非常適合制備在柔性基板上。此外，現(xiàn)有技術(shù)中ITO薄膜的熱膨脹系數(shù)與基板相差較大，與基板結(jié)合不夠牢固。本發(fā)明陽(yáng)極與柔性基板的熱膨脹系數(shù)相差較小，可以和基板牢固結(jié)合。
[0063]有機(jī)電致發(fā)光器件中間的柔性基板為透明柔性材質(zhì)，使藍(lán)發(fā)光層和紅光發(fā)光層的發(fā)射光都能穿透中間基板，然后混合，形成白光發(fā)射，不存在多個(gè)發(fā)光層之間能量轉(zhuǎn)移的問(wèn)題，發(fā)光顏色穩(wěn)定，發(fā)光效率高。同時(shí)，本發(fā)明每層的材質(zhì)都屬于透明材料，因此在不通電的時(shí)候，其呈現(xiàn)透明的狀態(tài)，還可以作為透明件來(lái)使用。
[0064]實(shí)施本發(fā)明實(shí)施例，具有以下有益效果:
[0065](I)第一陽(yáng)極和第二陽(yáng)極采用真空蒸鍍的方法制備，方法簡(jiǎn)單且制備時(shí)對(duì)基板破壞??；
[0066](2)白光有機(jī)電致發(fā)光器件發(fā)光顏色穩(wěn)定,不存在多個(gè)發(fā)光層之間能量轉(zhuǎn)移的問(wèn)題，均一度好；
[0067](3)器件在不通電的時(shí)候，呈現(xiàn)透明的狀態(tài)，可以作為透明件來(lái)使用，極大地拓寬了該器件的使用領(lǐng)域。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0068]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施方式中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施方式，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0069]圖1是本發(fā)明白光有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0070]圖2是本發(fā)明白光有機(jī)電致發(fā)光器件的第一陽(yáng)極的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0071]圖3是本發(fā)明白光有機(jī)電致發(fā)光器件的第二陽(yáng)極的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0072]圖4是本發(fā)明實(shí)施例1?4制備器件的撓曲性能圖。

【具體實(shí)施方式】
[0073]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施方式中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。
[0074]實(shí)施例1
[0075]—種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下操作步驟:
[0076](I)提供厚度為0.1mm的PET基板，將柔性基板放在含有洗滌劑的去離子水中進(jìn)行超聲清洗，清洗干凈后依次用異丙醇，丙酮在超聲波中處理20分鐘，然后再用氮?dú)獯蹈桑蝗嵝曰灏ㄏ鄬?duì)設(shè)置的第一端面和第二端面；
[0077](2)在真空度為5X10_4Pa的真空鍍膜系統(tǒng)中，柔性基板上自第二端面向第一端面方向真空蒸鍍第一陽(yáng)極，第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層，柔性基板上自第一端面向第二端面方向真空蒸鍍第二陽(yáng)極；第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層，第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層的材質(zhì)均為ZnS,厚度為60nm,第一金屬層和第二金屬層的材質(zhì)均為Ag,厚度為1nm,第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層的材質(zhì)均為ReO3，厚度為3nm ；
[0078]在第一陽(yáng)極上真空蒸鍍第一空穴傳輸層，調(diào)轉(zhuǎn)基板平面180度，在第二空穴注入層上真空蒸鍍第二空穴傳輸層；第一空穴傳輸層和第二空穴傳輸層的材質(zhì)均為NPB，厚度為30nm ;在第二空穴傳輸層上真空蒸鍍藍(lán)光發(fā)光層,藍(lán)光發(fā)光層的材質(zhì)為摻雜有FIrpic的TPBi，F(xiàn)Irpic在TPBi中的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10%，藍(lán)光發(fā)光層厚度為20nm ;然后調(diào)轉(zhuǎn)基板平面180度,在第一空穴傳輸層上真空蒸鍍紅光發(fā)光層,紅光發(fā)光層的材質(zhì)為摻雜有DCJTB的Alq3, DCJTB在Alq3中的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%，紅光發(fā)光層厚度為1nm ;在紅光發(fā)光層上真空蒸鍍第一電子傳輸層，然后調(diào)轉(zhuǎn)基板平面180度，在藍(lán)光發(fā)光層真空蒸鍍第二電子傳輸層，第一電子傳輸層和第二電子傳輸層的材質(zhì)為Bphen,厚度為30nm,在第二電子傳輸層上依次真空蒸鍍第二電子注入層和第二陰極，然后調(diào)轉(zhuǎn)基板平面180度，在第一電子傳輸層上依次真空蒸鍍第一電子注入層和第一陰極；第一電子注入層和第二電子注入層的材質(zhì)均為L(zhǎng)iF,厚度均為0.5nm,第一陰極和第二陰極的材質(zhì)均為Ag,厚度均為30nm ；
[0079]其中，第一金屬層、第二金屬層、第一陰極和第二陰極的蒸鍍速率均為0.2nm/s ；
[0080]第一空穴傳輸層、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第二電子傳輸層的蒸鍍蒸鍍速率均為0.0 lnm/s ；
[0081]所述第一半導(dǎo)體層、第二半導(dǎo)體層、第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層、第一電子注入層和第二電子注入層的蒸鍍速率為0.lnm/s ；
[0082]然后在第一陰極上覆蓋第一柔性蓋板，第一柔性蓋板材質(zhì)為PET，第一柔性蓋板和柔性基板第一端面通過(guò)光固化聚丙烯酸樹(shù)脂連接形成第一封閉空間，第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極容置在所述第一封閉空間內(nèi)；自光固化聚丙烯酸樹(shù)脂向第一封閉空間設(shè)置有第一干燥劑層；第一干燥劑層材質(zhì)為氧化鋇；
[0083]在第二陰極上覆蓋第二柔性蓋板，第二柔性蓋板材質(zhì)為PET，第二柔性蓋板和柔性基板第二端面通過(guò)光固化聚丙烯酸樹(shù)脂連接形成第二封閉空間，第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極容置在第二封閉空間內(nèi)；自光固化聚丙烯酸樹(shù)脂向第二封閉空間設(shè)置有第二干燥劑層；第二干燥劑層材質(zhì)為氧化鈣。
[0084]圖1為本實(shí)施例制備的有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)示意圖，本實(shí)施例制備的有機(jī)電致發(fā)光器件，包括柔性基板1，柔性基板I上自第二端面向第一端面方向設(shè)置依次層疊的第一陽(yáng)極2、第一空穴傳輸層3、紅光發(fā)光層4、第一電子傳輸層5和第一電子注入層6、第一陰極7和第一柔性蓋板8，第一柔性蓋板8和柔性基板I第一端面通過(guò)粘合劑9連接形成第一封閉空間，第一陽(yáng)極2、第一空穴傳輸層3、紅光發(fā)光層4、第一電子傳輸層5和第一電子注入層6和第一陰極7容置在第一封閉空間內(nèi)；自粘合劑9向第一封閉空間設(shè)置有第一干燥劑層10 ；
[0085]柔性基板上自第一端面向第二端面方向設(shè)置依次層疊的第二陽(yáng)極11、第二空穴傳輸層12、藍(lán)光發(fā)光層13、第二電子傳輸層14和第二電子注入層15、第二陰極16和第二柔性蓋板17，第二柔性蓋板17和柔性基板I第二端面通過(guò)粘合劑9連接形成第二封閉空間，第二陽(yáng)極11、第二空穴傳輸層12、藍(lán)光發(fā)光層13、第二電子傳輸層14、第二電子注入層15和第二陰極16容置在第二封閉空間內(nèi)；自粘合劑9向第二封閉空間設(shè)置有第二干燥劑層18。
[0086]圖2為本實(shí)施例制備的有機(jī)電致發(fā)光器件中第一陽(yáng)極的結(jié)構(gòu)示意圖，第一陽(yáng)極2包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層21、第一金屬層22和第一空穴注入緩沖層23。
[0087]圖3為本實(shí)施例制備的有機(jī)電致發(fā)光器件中第二陽(yáng)極的結(jié)構(gòu)示意圖，所述第二陽(yáng)極11包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層111、第二金屬層112和第二空穴注入緩沖層113。
[0088]本實(shí)施例制備的有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)為:第二柔性蓋板/第二陰極/第二電子注入層/第二電子傳輸層/藍(lán)光發(fā)光層/第二空穴傳輸層/第二陽(yáng)極/柔性基板/第一陽(yáng)極/第一空穴傳輸層/紅光發(fā)光層/第一電子傳輸層/第一電子注入層/第二陰極/第二柔性蓋板，表示為:
[0089]PET/Ag (30nm) /LiF (0.5nm) /Bphen (30nm) /FIrpic: TPBi (20nm) /NPB (30nm) /ReO3(3nm) /Ag (1nm)/ZnS (60nm) /PET/ZnS (60nm) /Ag (1nm)/ReO3 (3nm) /NPB (30nm) /DCJTB:Alq3(1nm)/Bphen(30nm)//LiF(0.5nm)/Ag (30nm)/PET ;其中，斜杠“/”表示層狀結(jié)構(gòu)，F(xiàn)Irpic:TPBi和DCJTB:Alq3中的冒號(hào)“:”表示混合，下同。
[0090]實(shí)施例2
[0091]一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下操作步驟:
[0092](I)提供厚度為0.5mm的PES基板，將柔性基板放在含有洗滌劑的去離子水中進(jìn)行超聲清洗，清洗干凈后依次用異丙醇，丙酮在超聲波中處理20分鐘，然后再用氮?dú)獯蹈?；柔性基板包括相?duì)設(shè)置的第一端面和第二端面；
[0093](2)在真空度為lX10_5Pa的真空鍍膜系統(tǒng)中，在柔性基板上自第二端面向第一端面方向真空蒸鍍第一陽(yáng)極，第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層，在柔性基板上自第一端面向第二端面方向真空蒸鍍第二陽(yáng)極；第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層，第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層的材質(zhì)均為ZnSe,厚度為40nm,第一金屬層和第二金屬層的材質(zhì)為Al,厚度為8nm,第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層的材質(zhì)均為WO3，厚度為7nm ；
[0094]在第一陽(yáng)極上依次真空蒸鍍第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層；然后調(diào)轉(zhuǎn)基板平面180度，在第二陽(yáng)極上依次真空蒸鍍第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層；第一空穴傳輸層的材質(zhì)為NPB,厚度為60nm ;紅光發(fā)光層的材質(zhì)為摻雜有Ir(Piq)3的CBP，Ir(piq)3在CBP中的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為8%，紅光發(fā)光層厚度為12nm ;第一電子傳輸層的材質(zhì)為TPBi,厚度為60nm ;第一電子注入層為的材質(zhì)為CsF,厚度為Inm ;第一陰極的材質(zhì)為Al,厚度為20nm ;第二空穴傳輸層材質(zhì)為
2-TNATA，厚度為60nm，藍(lán)光發(fā)光層材質(zhì)為DPVBi，藍(lán)光發(fā)光層厚度為10nm，第二電子傳輸層材質(zhì)為BCP，厚度為60nm，第二電子注入層材質(zhì)為L(zhǎng)iF，厚度為0.5nm,第二陰極材質(zhì)為Al，厚度為20nm。
[0095]其中，第一金屬層、第二金屬層、第一陰極和第二陰極的蒸鍍速率均為2nm/s ；
[0096]第一空穴傳輸層、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第二電子傳輸層的蒸鍍蒸鍍速率均為lnm/s ；
[0097]所述第一半導(dǎo)體層、第二半導(dǎo)體層、第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層、第一電子注入層和第二電子注入層的蒸鍍速率均為lnm/s ；
[0098]然后在第一陰極上覆蓋第一柔性蓋板，第一柔性蓋板材質(zhì)為PES，第一柔性蓋板和柔性基板第一端面通過(guò)光固化聚丙烯酸樹(shù)脂連接形成第一封閉空間，第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極容置在所述第一封閉空間內(nèi)；自光固化聚丙烯酸樹(shù)脂向第一封閉空間設(shè)置有第一干燥劑層；第一干燥劑層材質(zhì)為氧化鋇；
[0099]在第二陰極上覆蓋第二柔性蓋板，第二柔性蓋板材質(zhì)為PES，第二柔性蓋板和柔性基板第二端面通過(guò)光固化聚丙烯酸樹(shù)脂連接形成第二封閉空間，第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極容置在第二封閉空間內(nèi)；自光固化聚丙烯酸樹(shù)脂向第二封閉空間設(shè)置有第二干燥劑層；第二干燥劑層材質(zhì)為氧化鈣。
[0100]本實(shí)施例制備的有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)為:第二柔性蓋板/第二陰極/第二電子注入層/第二電子傳輸層/藍(lán)光發(fā)光層/第二空穴傳輸層/第二陽(yáng)極/柔性基板/第一陽(yáng)極/第一空穴傳輸層/紅光發(fā)光層/第一電子傳輸層/第一電子注入層/第二陰極/第二柔性蓋板，表示為:
[0101 ] PES/A1 (20nm) /CsF (lnm) /TPBi (60nm)/Ir (piq) 3: CBP (12nm) /NPB (60nm) /WO3 (7nm)/Al (8nm) /ZnSe (40nm) /PES/ZnSe (40nm) /Al (8nm) /WO3 (7nm) /2-TNATA (60nm) /DPVBi(1nm)/BCP(60nm)/LiF(0.5nm)/Al(20nm)/PES。
[0102]實(shí)施例3
[0103]一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下操作步驟:
[0104](I)提供厚度為0.2mm的PC基板，將柔性基板放在含有洗滌劑的去離子水中進(jìn)行超聲清洗，清洗干凈后依次用異丙醇，丙酮在超聲波中處理20分鐘，然后再用氮?dú)獯蹈?；柔性基板包括相?duì)設(shè)置的第一端面和第二端面；
[0105](2)在真空度為lX10_3Pa的真空鍍膜系統(tǒng)中，在柔性基板上自第二端面向第一端面方向真空蒸鍍第一陽(yáng)極，第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層，在柔性基板上自第一端面向第二端面方向真空蒸鍍第二陽(yáng)極；第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層，第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層的材質(zhì)均為ZnSe,厚度為80nm,第一金屬層和第二金屬層的材質(zhì)為Al,厚度為20nm,第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層的材質(zhì)均為MoO3，厚度為5nm ；
[0106]在第一陽(yáng)極依次真空蒸鍍第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層；然后調(diào)轉(zhuǎn)基板平面180度，在第二陽(yáng)極上依次真空蒸鍍第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層；第一空穴傳輸層的材質(zhì)為m-MTDATA,厚度為30nm ;紅光發(fā)光層的材質(zhì)為摻雜有Ir (btp)2(acac)的CBP, Ir (btp) 2 (acac)在CBP中的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10%,紅光發(fā)光層厚度為5nm ;第一電子傳輸層的材質(zhì)為Bphen,厚度為30nm ;第一電子注入層為的材質(zhì)為L(zhǎng)iF,厚度為Inm ;第一陰極的材質(zhì)為Au,厚度為25nm ;第二空穴傳輸層材質(zhì)為m-MTDATA，厚度為30nm，藍(lán)光發(fā)光層材質(zhì)為FIr6摻雜在CBP形成的混合材料，F(xiàn)Ir6在CBP中的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2%，藍(lán)光發(fā)光層厚度為5nm，第二電子傳輸層材質(zhì)為TAZ，厚度為30nm,第二電子注入層材質(zhì)為L(zhǎng)iF,厚度為0.5nm,第二陰極材質(zhì)為Au,厚度為25nm ；
[0107]其中，第一金屬層的蒸鍍速率為lnm/s,第二金屬層的蒸鍍速率為1.5nm/s,第一陰極的蒸鍍速率為lnm/s ;第二陰極的蒸鍍速率為1.5nm/s ；
[0108]第一空穴傳輸層的蒸鍍速率為0.2nm/s，第二空穴傳輸層的蒸鍍速率為0.lnm/s,藍(lán)光發(fā)光層的蒸鍍速率為0.3nm/s，紅光發(fā)光層的蒸鍍速率為0.2nm/s，第一電子傳輸層的蒸鍍速率為0.5nm/s，第二電子傳輸層的蒸鍍速率為0.4nm/s ；
[0109]第一半導(dǎo)體層的蒸鍍速率為0.2nm/s,第二半導(dǎo)體層的蒸鍍速率為0.5nm/s,第一空穴注入緩沖層的蒸鍍速率為0.3nm/s，第二空穴注入緩沖層的蒸鍍速率為0.4nm/s，第一電子注入層的蒸鍍速率為0.3nm/s，第二電子注入層的蒸鍍速率為0.7nm/s ；
[0110]然后在第一陰極上覆蓋第一柔性蓋板，第一柔性蓋板材質(zhì)為PC，第一柔性蓋板和柔性基板第一端面通過(guò)光固化環(huán)氧樹(shù)脂連接形成第一封閉空間，第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極容置在所述第一封閉空間內(nèi)；自光固化環(huán)氧樹(shù)脂向第一封閉空間設(shè)置有第一干燥劑層；第一干燥劑層材質(zhì)為氧化鈣；
[0111]在第二陰極上覆蓋第二柔性蓋板，第二柔性蓋板材質(zhì)為PC，第二柔性蓋板和柔性基板第二端面通過(guò)光固化環(huán)氧樹(shù)脂連接形成第二封閉空間，第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極容置在第二封閉空間內(nèi)；自光固化環(huán)氧樹(shù)脂向第二封閉空間設(shè)置有第二干燥劑層；第二干燥劑層材質(zhì)為氧化鋇。
[0112]本實(shí)施例制備的有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)為:第二柔性蓋板/第二陰極/第二電子注入層/第二電子傳輸層/藍(lán)光發(fā)光層/第二空穴傳輸層/第二陽(yáng)極/柔性基板/第一陽(yáng)極/第一空穴傳輸層/紅光發(fā)光層/第一電子傳輸層/第一電子注入層/第二陰極/第二柔性蓋板，表示為:
[0113]PC/Au (25nm) /LiF (lnm) /BPhen (30nm) /Ir (btp) 2 (acac): CBP (5nm) /m-MTDATA (30nm)/MoO3 (5nm)/Au (20nm)/ZnSe (80nm)/PC/ZnSe (80nm)/Cu (20nm)/Mo03(5nm) /m-MTDATA(30nm)/FIr6:CBP(5nm)/TAZ(30nm)/LiF(Inm)/Au (25nm)/PC。
[0114]實(shí)施例4
[0115]一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下操作步驟:
[0116](I)提供厚度為0.2mm的PEN基板，將柔性基板放在含有洗滌劑的去離子水中進(jìn)行超聲清洗，清洗干凈后依次用異丙醇，丙酮在超聲波中處理20分鐘，然后再用氮?dú)獯蹈?；柔性基板包括相?duì)設(shè)置的第一端面和第二端面；
[0117](2)在真空度為lX10_4Pa的真空鍍膜系統(tǒng)中，在柔性基板上自第二端面向第一端面方向真空蒸鍍第一陽(yáng)極，第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層，在柔性基板上自第一端面向第二端面方向真空蒸鍍第二陽(yáng)極；第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層，第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層的材質(zhì)均為ZnS,厚度為80nm,第一金屬層和第二金屬層的材質(zhì)為Mg,厚度為12nm,第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層的材質(zhì)均為V2O5，厚度為5nm ；
[0118]在第二陽(yáng)極上依次真空蒸鍍第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層；然后調(diào)轉(zhuǎn)基板平面180度，在第一陽(yáng)極依次真空蒸鍍第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層；第二空穴傳輸層的材質(zhì)為TPD,厚度為40nm ;藍(lán)光發(fā)光層的材質(zhì)為DPAVBi，藍(lán)光發(fā)光層厚度為15nm ;第二電子傳輸層的材質(zhì)為PBD，厚度為40nm ;第二電子注入層為的材質(zhì)為L(zhǎng)iF,厚度為Inm ;第二陰極的材質(zhì)為Sm,厚度為30nm ；第一空穴傳輸層材質(zhì)為TCTA，厚度為40nm，紅光發(fā)光層材質(zhì)為Ir (MDQ) 2 (acac)摻雜到NPB形成的混合材料，Ir (MDQ) 2 (acac)在NPB中的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為8%，紅光發(fā)光層厚度為20nm，第一電子傳輸層材質(zhì)為Alq3,厚度為40nm,第一電子注入層材質(zhì)為L(zhǎng)iF,厚度為lnm,第一陰極材質(zhì)為Sm,厚度為30nm。
[0119]其中，第一金屬層的蒸鍍速率為lnm/s,第二金屬層的蒸鍍速率為1.5nm/s,第一陰極的蒸鍍速率為lnm/s ;第二陰極的蒸鍍速率為2nm/s ；
[0120]第一空穴傳輸層的蒸鍍速率為0.2nm/s，第二空穴傳輸層的蒸鍍速率為0.lnm/s,藍(lán)光發(fā)光層的蒸鍍速率為0.3nm/s，紅光發(fā)光層的蒸鍍速率為0.2nm/s，第一電子傳輸層的蒸鍍速率為0.5nm/s，第二電子傳輸層的蒸鍍速率為0.4nm/s ；
[0121]第一半導(dǎo)體層的蒸鍍速率為0.2nm/s,第二半導(dǎo)體層的蒸鍍速率為0.5nm/s,第一空穴注入緩沖層的蒸鍍速率為0.3nm/s，第二空穴注入緩沖層的蒸鍍速率為0.4nm/s，第一電子注入層的蒸鍍速率為0.5nm/s，第二電子注入層的蒸鍍速率為0.5nm/s ；
[0122]然后在第一陰極上覆蓋第一柔性蓋板，第一柔性蓋板材質(zhì)為PEN，第一柔性蓋板和柔性基板第一端面通過(guò)光固化環(huán)氧樹(shù)脂連接形成第一封閉空間，第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極容置在所述第一封閉空間內(nèi)；自光固化環(huán)氧樹(shù)脂向第一封閉空間設(shè)置有第一干燥劑層；第一干燥劑層材質(zhì)為氧化鋇；
[0123]在第二陰極上覆蓋第二柔性蓋板，第二柔性蓋板材質(zhì)為PEN，第二柔性蓋板和柔性基板第二端面通過(guò)光固化環(huán)氧樹(shù)脂連接形成第二封閉空間，第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極容置在第二封閉空間內(nèi)；自光固化環(huán)氧樹(shù)脂向第二封閉空間設(shè)置有第二干燥劑層；第二干燥劑層材質(zhì)為氧化鈣。
[0124]本實(shí)施例制備的有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)為:第二柔性蓋板/第二陰極/第二電子注入層/第二電子傳輸層/藍(lán)光發(fā)光層/第二空穴傳輸層/第二陽(yáng)極/柔性基板/第一陽(yáng)極/第一空穴傳輸層/紅光發(fā)光層/第一電子傳輸層/第一電子注入層/第二陰極/第二柔性蓋板，表示為:
[0125]PEN/Sm (30nm) /LiF(Inm) /PBD (40nm) /DPAVBi (15nm) /TPD (40nm) /V2O5 (5nm)/Mg (12nm) /ZnS (60nm) /PEN/ZnS (60nm) /Mg (12nm) /V2O5 (5nm) /TCTA (40nm) /Ir (MDQ) 2 (acac):NPB (20nm) /Alq3 (40nm) /LiF (lnm) /Sm(30nm) /PEN。
[0126]效果實(shí)施例
[0127]采用光纖光譜儀(美國(guó)海洋光學(xué)Ocean Optics公司，型號(hào):USB4000)，電流-電壓測(cè)試儀(美國(guó)Keithly公司，型號(hào):2400)、色度計(jì)(日本柯尼卡美能達(dá)公司，型號(hào):CS_100A)測(cè)試有機(jī)電致發(fā)光器件的發(fā)光性能數(shù)據(jù)。
[0128]表I為實(shí)施例1?4的發(fā)光效率和CIE1931色坐標(biāo)數(shù)據(jù)。
[0129]表I實(shí)施例1?4的發(fā)光效率和CIE1931色坐標(biāo)數(shù)據(jù)
[0130]

I發(fā)光效率(lm/W) ICIE1931色坐標(biāo)實(shí)施例1 12.6(0.35,0.38)

實(shí)施例 2 15.3(0.35,0.40)

【權(quán)利要求】
1.一種白光有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，包括: 柔性基板，所述柔性基板包括相對(duì)設(shè)置的第一端面和第二端面； 柔性基板上自第二端面向第一端面方向設(shè)置依次層疊的第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層、第一陰極和第一柔性蓋板，所述第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層，所述第一柔性蓋板和柔性基板形成第一封閉空間，所述第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極容置在所述第一封閉空間內(nèi)； 柔性基板上自第一端面向第二端面方向設(shè)置依次層疊的第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層、第二陰極和第二柔性蓋板，所述第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層，所述第二柔性蓋板和柔性基板形成第二封閉空間，所述第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極容置在所述第二封閉空間內(nèi)； 所述第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層的材質(zhì)均選自硫化鋅和硒化鋅中的一種，所述第一金屬層和第二金屬層的材質(zhì)均選自銀、金、鋁和鎂中的一種或多種，所述第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層的材質(zhì)均選自三氧化鎢、三氧化鑰、五氧化二釩和三氧化錸中的一種。
2.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，所述藍(lán)光發(fā)光層的材質(zhì)為熒光發(fā)光材料或摻雜有磷光材料的藍(lán)光主體材料，所述熒光發(fā)光材料為4，4, -二(2，2-二苯乙烯基)-1,1'-聯(lián)苯或4，4'-雙[4-( 二對(duì)甲苯基氨基)苯乙烯基]聯(lián)苯,所述磷光材料為雙(4，6- 二氟苯基吡啶-N，C2)吡啶甲酰合銥或雙(4，6- 二氟苯基吡啶)_四(1-吡唑基)硼酸合銥；所述藍(lán)光主體材料為1，3，5_三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯或4，V -二(9-咔唑)聯(lián)苯；所述磷光材料在藍(lán)光主體材料中的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2%?20%。
3.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，所述紅光發(fā)光層的材質(zhì)為摻雜有客體材料的紅光主體材料，所述客體材料為4- (二腈甲基)-2- 丁基-6- (I, I, 7，7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、(乙酰丙酮)合銥、三(1-苯基-異喹啉)合銥或雙(2-(苯并[b]噻吩-2-基)卩比啶)(乙酰丙酮)合銥，所述紅光主體材料為8-羥基喹啉鋁、N，N' - 二苯基-N，N' -二(1-萘基)-1,1'-聯(lián)苯-4，4' - 二胺或 4，4' -二(9-咔唑)聯(lián)苯，所述客體材料在紅光主體材料中的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%?10%。
4.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，所述第一柔性蓋板和柔性基板通過(guò)光固化粘合劑連接形成第一封閉空間，自所述光固化粘合劑向第一封閉空間設(shè)置有第一干燥劑層；所述第二柔性蓋板和柔性基板通過(guò)光固化粘合劑連接形成第二封閉空間，自所述光固化粘合劑向第二封閉空間設(shè)置有第二干燥劑層。
5.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，所述藍(lán)光發(fā)光層和紅光發(fā)光層的厚度均為5nm?20nm。
6.一種白光有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，包括以下操作步驟: (1)提供清洗干凈的柔性基板；所述柔性基板包括相對(duì)設(shè)置的第一端面和第二端面； (2)在柔性基板上自第二端面向第一端面方向真空蒸鍍依次層疊的第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極，所述第一陽(yáng)極包括依次層疊的第一半導(dǎo)體層、第一金屬層和第一空穴注入緩沖層；然后在第一陰極上覆蓋第一柔性蓋板，所述第一柔性蓋板和柔性基板第一端面通過(guò)粘合劑連接形成第一封閉空間，所述第一陽(yáng)極、第一空穴傳輸層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第一電子注入層和第一陰極容置在所述第一封閉空間內(nèi)； 在柔性基板上自第一端面向第二端面方向真空蒸鍍依次層疊的第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極，所述第二陽(yáng)極包括依次層疊的第二半導(dǎo)體層、第二金屬層和第二空穴注入緩沖層；然后在第二陰極上覆蓋第二柔性蓋板，所述第二柔性蓋板和柔性基板第二端面通過(guò)粘合劑連接形成第二封閉空間；所述第二陽(yáng)極、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、第二電子傳輸層和第二電子注入層和第二陰極容置在所述第二封閉空間內(nèi)； 所述第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層的材質(zhì)均選自硫化鋅和硒化鋅中的一種，所述第一金屬層和第二金屬層的材質(zhì)均選自銀、金、鋁和鎂中的一種或多種，所述第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層的材質(zhì)均選自三氧化鎢、三氧化鑰、五氧化二釩和三氧化錸中的一種； 其中，所述真空蒸鍍均在真空度為IX 10_5Pa?IX 10_3Pa的真空鍍膜系統(tǒng)中進(jìn)行； 所述第一金屬層、第二金屬層、第一陰極和第二陰極的蒸鍍速率均為0.2nm/s?2nm/s ； 所述第一空穴傳輸層、第二空穴傳輸層、藍(lán)光發(fā)光層、紅光發(fā)光層、第一電子傳輸層和第二電子傳輸層的蒸鍍速率為0.0lnm/s?lnm/s ； 所述第一半導(dǎo)體層、第二半導(dǎo)體層、第一空穴注入緩沖層和第二空穴注入緩沖層、第一電子注入層和第二電子注入層的蒸鍍速率為0.lnm/s?lnm/s。
7.如權(quán)利要求6所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，所述藍(lán)光發(fā)光層的材質(zhì)為熒光發(fā)光材料或摻雜有磷光材料的藍(lán)光主體材料，所述熒光發(fā)光材料為4,4' -二(2，2-二苯乙烯基)-1，I'-聯(lián)苯或4，4' _雙[4-( 二對(duì)甲苯基氨基)苯乙烯基]聯(lián)苯，所述磷光材料為雙(4，6- 二氟苯基吡啶-N，C2)吡啶甲酰合銥或雙(4，6- 二氟苯基吡啶)-四(1-吡唑基)硼酸合銥；所述藍(lán)光主體材料為1，3，5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯或4，4' -二(9-咔唑)聯(lián)苯；所述磷光材料在藍(lán)光主體材料中的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2%?20%。
8.如權(quán)利要求6所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，所述紅光發(fā)光層的材質(zhì)為摻雜有客體材料的紅光主體材料，所述客體材料為4- (二腈甲基)-2-丁基-6- (I, 1,7, 7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、(乙酰丙酮)合銥、三(1-苯基-異喹啉)合銥或雙(2-(苯并[b]噻吩-2-基)吡啶)(乙酰丙酮)合銥，所述紅光主體材料為8-羥基喹啉鋁、N，N' - 二苯基-N，N' -二(1-萘基)_1，1'-聯(lián)苯-4，4' - 二胺或4,4/ -二(9-咔唑)聯(lián)苯，所述客體材料在紅光主體材料中的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%?10%。
9.如權(quán)利要求6所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，所述藍(lán)光發(fā)光層和紅光發(fā)光層的厚度均為5nm?20nm。
10.如權(quán)利要求6所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，所述第一柔性蓋板和柔性基板通過(guò)光固化粘合劑連接形成第一封閉空間，自所述光固化粘合劑向第一封閉空間設(shè)置有第一干燥劑層；所述第二柔性蓋板和柔性基板通過(guò)光固化粘合劑連接形成第二封閉空間，自所述光固化粘合劑向第二封閉空間設(shè)置有第二干燥劑層。
【文檔編號(hào)】H01L51/52GK104183770SQ201310194851
【公開(kāi)日】2014年12月3日 申請(qǐng)日期:2013年5月21日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月21日
【發(fā)明者】周明杰, 馮小明, 陳吉星, 王平 申請(qǐng)人:海洋王照明科技股份有限公司, 深圳市海洋王照明技術(shù)有限公司, 深圳市海洋王照明工程有限公司