有機(jī)電致發(fā)光顯示器及其制造方法
【專利摘要】公開了一種有機(jī)電致發(fā)光顯示器及其制造方法。在一個(gè)方面中，有機(jī)電致發(fā)光顯示器包括襯底和設(shè)置在襯底上的第一電極。其還包括設(shè)置在第一電極上的像素限定層，其中像素限定層包括開口部分，開口部分形成在與第一電極重疊的區(qū)域中。其還包括設(shè)置在第一電極和像素限定層上的親液層、設(shè)置在親液層上的有機(jī)發(fā)光層以及設(shè)置在有機(jī)發(fā)光層上的第二電極。親液層包括中心部分和邊緣部分。中心部分通過開口部分設(shè)置在第一電極上并且包括形成于其中的至少一個(gè)凹口部分。邊緣部分從中心部分延伸并設(shè)置在像素限定層上。
【專利說明】有機(jī)電致發(fā)光顯示器及其制造方法
[0001]相關(guān)申請的交叉引用
[0002]該申請要求于2012年11月13日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的第10_2012_0128327號韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)，該專利申請的全部內(nèi)容通過引用并入本文。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]所描述的技術(shù)涉及有機(jī)電致發(fā)光顯示器及其制造方法。更具體地，本公開涉及能夠改進(jìn)顯示質(zhì)量的有機(jī)電致發(fā)光顯示器及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0004]近年來，與液晶顯示器相比，由于有機(jī)電致發(fā)光顯示器是自發(fā)光的，因此無需單獨(dú)光源，故其所以作為下一代顯示器而備受關(guān)注。因此，有機(jī)電致發(fā)光顯示器是輕且薄的。此夕卜，有機(jī)電致發(fā)光顯示器具有其它有價(jià)值的特性，諸如快速響應(yīng)速度、低驅(qū)動電壓以及高亮度。
[0005]通常，有機(jī)電致發(fā)光顯示器的每個(gè)像素均包括陽極、陰極和有機(jī)發(fā)光層?？昭ê碗娮臃謩e通過陽極和陰極被注入到有機(jī)發(fā)光層中?？昭ê碗娮釉谟袡C(jī)發(fā)光層中復(fù)合從而生成激子(電子-空穴對)。當(dāng)從激發(fā)態(tài)返回基態(tài)時(shí)，激子發(fā)出能量，該能量作為光被放出。
[0006]同時(shí)，當(dāng)有機(jī)發(fā)光層的厚度變得更均勻時(shí)，有機(jī)發(fā)光層的亮度也變得更均勻。因此，為了改進(jìn)有機(jī)電致發(fā)光顯示器的質(zhì)量，需要有機(jī)發(fā)光層具有均勻的厚度。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0007]—個(gè)創(chuàng)造性方面是能夠改進(jìn)顯示質(zhì)量的有機(jī)電致發(fā)光顯示器。
[0008]另一方面是制造該有機(jī)電致發(fā)光顯示器的方法。
[0009]在一些實(shí)施方式中，一種有機(jī)電致發(fā)光顯不器包括襯底、第一電極、像素限定層、親液層、有機(jī)發(fā)光層以及第二電極，其中第一電極設(shè)置在襯底上，像素限定層設(shè)置在第一電極上并設(shè)置有開口部分，開口部分形成在與第一電極重疊的區(qū)域中，親液層具有親液性質(zhì)并且被設(shè)置在第一電極和像素限定層上，有機(jī)發(fā)光層設(shè)置在親液層上，第二電極設(shè)置在有機(jī)發(fā)光層上。
[0010]親液層包括中心部分和邊緣部分。中心部分通過開口部分設(shè)置在第一電極上并且包括形成于其中的至少一個(gè)凹口部分，邊緣部分從中心部分延伸并設(shè)置在像素限定層上。
[0011]隨后提供了一種制造有機(jī)電致發(fā)光顯示器的方法。當(dāng)在包括像素區(qū)和非像素區(qū)的襯底上形成了第一電極時(shí)，在第一電極上形成像素限定層。像素限定層設(shè)置有開口部分以暴露第一電極的至少一部分。然后，在第一電極和像素限定層上形成預(yù)備親液層，并且對預(yù)備親液層進(jìn)行構(gòu)圖以形成親液層。此后，將印刷溶液施加到親液層以形成有機(jī)發(fā)光層，并且在有機(jī)發(fā)光層上形成第二電極。
[0012]通過將設(shè)置在非像素區(qū)中的預(yù)備親液層移除以形成中心部分和邊緣部分以及在中心部分中形成凹口部分來形成親液層，其中，中心部分通過開口部分設(shè)置在第一電極上，邊緣部分從中心部分延伸以設(shè)置在像素限定層上。
[0013]在一些實(shí)施方式中，當(dāng)印刷溶液被固化以形成有機(jī)發(fā)光層時(shí)，即使在印刷溶液被施加到平面區(qū)域和傾斜區(qū)域的情況下，也可避免印刷溶液從傾斜區(qū)域流到平面區(qū)域的現(xiàn)象。因此，有機(jī)發(fā)光層可具有均勻厚度。此外，在印刷溶液的固化過程中，因?yàn)槠矫鎱^(qū)域的表面能量與傾斜區(qū)域的表面能量之間存在差異，所以印刷溶液被重新布置，因而有機(jī)發(fā)光層的厚度可以是均勻的。這樣，由于有機(jī)發(fā)光層的厚度是均勻的，所以從有機(jī)發(fā)光層發(fā)射的光的亮度可保持基本均勻，從而改善了有機(jī)電致發(fā)光顯示器的質(zhì)量。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0014]圖1是示出根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的像素的截面圖；
[0015]圖2是示出圖1所示的像素的一部分的放大截面圖；
[0016]圖3是示出根據(jù)另一實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的像素的放大截面圖；
[0017]圖4是示出根據(jù)另一實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的像素的放大截面圖；
[0018]圖5是示出根據(jù)另一實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的截面圖；
[0019]圖6A至圖6E是示出制造圖1和圖2所示的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的方法的視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]應(yīng)當(dāng)理解，當(dāng)一個(gè)元件或?qū)颖幻枋龀伞拔挥凇?、“連接至”或“耦合至”另一元件或?qū)由蠒r(shí)，該一個(gè)元件或?qū)涌梢灾苯游挥?、直接連接到或直接耦合到另一元件或?qū)由?，或者二者之間存在夾置元件或?qū)印Ｅc此相反，當(dāng)一個(gè)元件或?qū)用枋鰹椤爸苯游挥凇薄ⅰ爸苯舆B接至”或“直接耦合至”另一元件或?qū)又蠒r(shí)，二者之間不存在夾置元件或?qū)?。在整個(gè)說明書中，相同或類似的參考標(biāo)號指示相同或類似的元件。如本文所使用的，術(shù)語“和/或”包括所列的關(guān)聯(lián)項(xiàng)中的一個(gè)或多個(gè)的任意和全部組合。
[0021]應(yīng)該理解，雖然術(shù)語第一、第二、第三等可在本文中用于描述多種元件、部件、區(qū)域、層和/或段，但是這些元件、部件、區(qū)域、層和/或段不應(yīng)由這些術(shù)語限制。這些術(shù)語僅用于將一個(gè)元件、部件、區(qū)域、層或段與另一區(qū)域、層或段區(qū)別開。因此，在不偏離示例性實(shí)施方式的教導(dǎo)的情況下，以下所討論的第一元件、部件、區(qū)域、層或段也可被稱為第二元件、部件、區(qū)域、層或段。
[0022]為了便于描述，在本文中可使用諸如“之下”、“下面”、“以下”、“上面”、“以上”等的
空間相對術(shù)語，以描述如圖所示的一個(gè)元件或特征與其他元件或特征的關(guān)系。應(yīng)當(dāng)理解，這些空間相對術(shù)語旨在包括設(shè)備在使用或操作時(shí)的除圖中所示方向之外的不同定向。例如，如果翻轉(zhuǎn)圖中的設(shè)備，那么在其他元件或特征“下面”或“之下”的元件和特征將位于該其他元件或特征的“上面”。因此，示例性術(shù)語“下面”可以包括上面和下面的定向。可以通過其他方式定向(旋轉(zhuǎn)90度或在其他方向處)設(shè)備，并相應(yīng)地解釋本文中使用的空間相對術(shù)語。
[0023]本文中使用的術(shù)語僅用于描述特定的示例性實(shí)施方式，而不是用于限制本發(fā)明。如本文中所使用的，除非在上下文中清楚地指明，否則單數(shù)形式“a”、“an”和“the”還旨在包括復(fù)數(shù)形式。還應(yīng)該理解，當(dāng)在本說明書中使用術(shù)語“包括(includes)”和/或“包括(including)”時(shí),該術(shù)語表示存在所述的特征、整體、步驟、操作、元件和/或部件，但是不排除一個(gè)或多個(gè)其他特征、整體、步驟、操作、元件、部件和/或其組合的存在或增加。[0024]除非另有規(guī)定，本文中使用的術(shù)語(包括技術(shù)和科學(xué)術(shù)語)具有與本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員通常理解的含義相同的含義。還應(yīng)當(dāng)理解，術(shù)語(例如在通常使用的字典中定義的術(shù)語)應(yīng)該解釋為具有與相關(guān)技術(shù)背景中的含義相同的含義，不應(yīng)解釋成理想化的或過于形式化的含義，除非這在本文中明確地定義。
[0025]在下文中，將參照附圖詳細(xì)地描述公開的技術(shù)。
[0026]圖1是示出根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的像素的截面圖，圖2是示出圖1所示的像素的一部分的放大截面圖。具體地，圖2示出了圖1所示的像素限定層TOL的開口部分OP以及開口部分OP的周圍。同時(shí)，有機(jī)電致發(fā)光顯示器300包括多個(gè)像素，這些像素具有相同的配置和功能。因此，將參照圖1和圖2僅詳細(xì)描述設(shè)置在一個(gè)像素區(qū)PA中的一個(gè)像素，并將省略對其它像素的描述。
[0027]參見圖1和圖2，有機(jī)電致發(fā)光顯示器300包括顯示襯底100、面對顯示襯底100的相對襯底200、以及設(shè)置在顯示襯底100與相對襯底200之間的絕緣層150。
[0028]在一些實(shí)施方式中，顯示襯底100可包括襯底10、驅(qū)動晶體管TR、第一電極E1、像素限定層F1DU抗液層(liquid-repellent layer)20、親液層30、有機(jī)發(fā)光層EML以及第二電極E2。襯底10包括像素區(qū)PA和非像素區(qū)SA，驅(qū)動晶體管TR設(shè)置在非像素區(qū)SA中。驅(qū)動晶體管TR電連接至第一電極El以開關(guān)施加至第一電極El的電源信號。
[0029]驅(qū)動晶體管TR包括柵電極GE、有源圖案AP、源電極SE以及漏電極DE。源電極SE電連接至傳輸電源信號的電源線(未示出)，漏電極DE電連接至第一電極E1。因此，當(dāng)驅(qū)動晶體管TR導(dǎo)通時(shí)，通過電源線傳輸?shù)碾娫葱盘柾ㄟ^驅(qū)動晶體管TR被施加到第一電極E1。
[0030]在一些實(shí)施方式中，柵極絕緣層LI可覆蓋有源圖案AP以使柵電極GE與有源圖案AP絕緣，層間絕緣層L2覆蓋柵電極GE以使柵電極GE與源電極和漏電極SE和DE絕緣。此外，平坦化層L3覆蓋驅(qū)動晶體管TR并且設(shè)置有接觸孔CH，接觸孔CH形成在平坦化層L3中。因此，設(shè)置在平坦化層L3上的第一電極El通過接觸孔CH電連接至漏電極DE。
[0031]像素限定層PDL被設(shè)置在第一電極10上并且包括開口部分0P，開口部分OP與第一電極El重疊。在一些實(shí)施方式中，像素限定層PDL可包括上表面US和傾斜表面SS,傾斜表面SS連接至上表面US并延伸至開口部分OP以相對于襯底10傾斜。
[0032]抗液層20設(shè)置在像素區(qū)PA和非像素區(qū)SA中。具體地，抗液層20設(shè)置在像素限定層PDL與親液層30之間以及第一電極El與親液層30之間。抗液層20的一部分通過開口部分OP與第一電極El接觸。
[0033]在一些實(shí)施方式中，抗液層20可具有形成在像素區(qū)PA和非像素區(qū)SA之上的單層結(jié)構(gòu)，抗液層20可共同地形成在圖1現(xiàn)在所示的其它像素區(qū)和其它非像素區(qū)之上。
[0034]抗液層20包括含氟的有機(jī)材料以具有液體排斥性質(zhì)。因此，抗液層20與液體材料之間的可濕性可小于具有親液性質(zhì)的親液層30與液體材料之間的可濕性。
[0035]在一些實(shí)施方式中，抗液層20可具有傳導(dǎo)性以允許來自第一電極El的電子或空穴通過抗液層20而容易地轉(zhuǎn)移到有機(jī)發(fā)光層EML。根據(jù)另一示例性實(shí)施方式，抗液層20具有等于或小于約50微米的厚度。在這種情況下，抗液層20可以不具有傳導(dǎo)性，因?yàn)榧词箍挂簩?0不具有傳導(dǎo)性，來自第一電極El的電子或空穴也會通過抗液層20被轉(zhuǎn)移到有機(jī)發(fā)光層EML。
[0036]親液層30包括具有親液性質(zhì)的有機(jī)材料。因此，親液層30與液體材料之間的可濕性大于抗液層20與液體材料之間的可濕性。此外，親液層30具有等于或小于約50微米的厚度。在這種情況下，即使親液層30不具有傳導(dǎo)性，來自第一電極El的電子或空穴也會通過親液層30被轉(zhuǎn)移到有機(jī)發(fā)光層EML。
[0037]親液層30在像素區(qū)PA中被設(shè)置抗液層20上。具體地，親液層30被設(shè)置在像素區(qū)PA和非像素區(qū)SA之中的像素區(qū)PA中。因此抗液層20和親液層30在像素區(qū)PA中相繼疊置在襯底10上，并且在抗液層20和親液層30之中僅抗液層20在非像素區(qū)SA中被設(shè)置在襯底10上。在這種情況下，容易使用印刷方法將印刷溶液PS (如圖6D所示)施加到像素區(qū)PA和非像素區(qū)SA之中的像素區(qū)PA，并且使印刷溶液固化以形成有機(jī)發(fā)光層EML。這將參照圖6A至圖6E詳細(xì)描述。
[0038]同時(shí)，親液層30包括中心部分CP和從中心部分CP延伸的邊緣部分SP。中心部分CP通過開口部分OP設(shè)置在第一電極El上以平行于襯底10。此外，邊緣部分SP設(shè)置在像素限定層I3DL的傾斜表面SS和上表面US上，邊緣部分SP的設(shè)置在傾斜表面SS上的部分相對于襯底10傾斜。
[0039]在一些實(shí)施方式中，在中心部分CP中可形成至少一個(gè)凹口部分RP。在圖1和圖2所示的實(shí)施方式中，凹口部分RP可由被形成為穿過親液層30的孔HL限定，并且孔HL彼此間隔開。因此，設(shè)置在親液層30上的有機(jī)發(fā)光層EML通過孔HL與抗液層20部分接觸。因此，親液層30與設(shè)置在親液層30上的液體材料之間的表面能量被抗液層20與接觸抗液層20的液體材料之間的排斥力減弱。
[0040]如上所述，當(dāng)凹口部分RP被形成為穿過親液層30時(shí)，中心部分CP的上表面的表面能量(在下文中被稱為第一表面能量)小于邊緣部分SP的上表面的表面能量(在下文中被稱為第二表面能量)。因此，當(dāng)使用印刷方法將液體材料施加到親液層30并使液體材料固化以在親液層30上形成層時(shí)，被施加到親液層30上的液體材料的一部分因第一和第二表面能量之差而從中心部分CP移動到邊緣部分SP以被重新布置。因此，液體材料被阻止從邊緣部分SP向下流動到中心部分CP，因而形成在中心部分CP和邊緣部分SP之上的層的厚度可以是均勻的。這將參照圖6A至圖6E詳細(xì)描述。
[0041]有機(jī)發(fā)光層EML設(shè)置在親液層30上。第一電極El所提供的空穴通過抗液層20和親液層30與第二電極E2所提供的電子在有機(jī)發(fā)光層EML中復(fù)合，從而有機(jī)發(fā)光層EML發(fā)出光。
[0042]在一些實(shí)施方式中，有機(jī)發(fā)光層EML可設(shè)置在像素區(qū)PA中。有機(jī)發(fā)光層EML的位置與參照圖6A至圖6E所描述的形成有機(jī)發(fā)光層EML的方法有關(guān)。
[0043]在有機(jī)發(fā)光層EML上設(shè)置有第二電極E2。第二電極E2用作陰極,第一電極El用作陽極。此外，還可在有機(jī)發(fā)光層EML與第二電極E2之間設(shè)置空穴傳輸層(未不出)和電子注入層(未示出)。
[0044]相對襯底200被設(shè)置成面對顯示襯底100，在顯示襯底100與相對襯底200之間裝填絕緣層150。絕緣層150包括高分子材料，例如，聚酰亞胺，絕緣層150形成在顯示襯底100的整個(gè)表面上以覆蓋顯示襯底100。因此，絕緣層150阻擋氣體和濕氣以阻止有機(jī)發(fā)光層EML受到氣體和濕氣的侵蝕。
[0045]圖3是示出根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的像素的放大截面圖。具體地，圖3示出了設(shè)置在有機(jī)電致發(fā)光顯示器的像素限定層PDL上的親液層31的中心部分CP和邊緣部分SP。同時(shí)，除親液層31之外，圖3所示的有機(jī)電致發(fā)光顯示器具有與圖1和圖2所示的有機(jī)電致發(fā)光顯示器300的相同配置和功能。在圖3中，相同的參考標(biāo)號指示圖1和圖2中的相同元件，因而將省略對相同元件的詳細(xì)描述。
[0046]參見圖3，有機(jī)電致發(fā)光顯示器包括親液層31，親液層31包括中心部分CP和從中心部分CP延伸并相對于襯底10傾斜的邊緣部分SP。在中心部分CP中形成有凹口部分RP_1，凹口部分RP_1由凹口 GV限定，凹口 GV通過沿親液層31的厚度方向?qū)⒂H液層31的部分從親液層31的中心部分CP的上表面移除來形成。此外，凹口 GV彼此間隔開。
[0047]如上所述，由于在親液層31中形成了凹口部分RP_1，所以中心部分CP的上表面的表面能量小于邊緣部分SP的上表面的表面能量。因此，如參照圖1和圖2所描述，當(dāng)液體材料被施加到親液層31上并且液體材料被固化以在親液層31上形成層時(shí)，被施加到親液層31上的液體材料的一部分從中心部分CP移動至邊緣部分SP以被重新布置。因此，液體材料被阻止從邊緣部分SP向下流到中心部分CP，因而形成在中心部分CP和邊緣部分SP上的層的厚度可以是均勻的。
[0048]圖4是示出根據(jù)另一實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的像素的放大截面圖。具體地，圖4示出了設(shè)置在有機(jī)電致發(fā)光顯示器的像素限定層PDL上的親液層32的中心部分CP和邊緣部分SP。同時(shí)，除親液層32之外，圖4所示的有機(jī)電致發(fā)光顯示器具有與圖1所示的有機(jī)電致發(fā)光顯示器300的相同配置和功能。在圖4中，相同的參考標(biāo)號指示圖1和圖2中的相同元件，因而將省略對相同元件的詳細(xì)描述。
[0049]參見圖4，有機(jī)電致發(fā)光顯示器包括親液層32，親液層32包括中心部分CP和邊緣部分SP，邊緣部分SP從中心部分CP延伸并相對于襯底10傾斜。在中心部分CP中形成有凹口部分RP_2，凹口部分RP_2由凹口 GV和孔HL限定，凹口 GV通過沿親液層32的厚度方向?qū)⒂H液層32的一部分從親液層32的中心部分CP的上表面移除來形成，孔HL穿過親液層32的中心部分CP形成。此外，凹口 GV和孔HL彼此間隔開。
[0050]如上所述，由于在親液層32中形成了凹口部分RP_2，所以中心部分CP的上表面的表面能量小于邊緣部分SP的上表面的表面能量。因此，如參照圖1和圖2所描述，當(dāng)液體材料被施加到親液層32上并且液體材料被固化以在親液層32上形成層時(shí)，被施加到親液層32上的液體材料的一部分從中心部分CP移動至邊緣部分SP以被重新布置。因此，液體材料被阻止從邊緣部分SP向下流到中心部分CP，因而形成在中心部分CP和邊緣部分SP上的層的厚度可以是均勻的。
[0051]圖5是示出根據(jù)另一實(shí)施方式的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的截面圖。在圖5中，相同的參考標(biāo)號指示圖1和圖2中的相同元件，因而將省略對相同元件的詳細(xì)描述。
[0052]當(dāng)圖5所示的有機(jī)電致發(fā)光顯示器301與圖1所示的有機(jī)電致發(fā)光顯示器300進(jìn)行比較時(shí)，有機(jī)電致發(fā)光顯示器301沒有包括如圖1所示的抗液層20。其包括具有液體排斥性質(zhì)的像素限定層roL_l以替代抗液層20。
[0053]類似于上述實(shí)施方式，由于在圖5所示的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的像素區(qū)PA中設(shè)置有親液層30，所以容易使用印刷方法將液體材料施加到像素區(qū)PA，并且容易通過使施加到像素區(qū)PA上的液體材料固化來形成有機(jī)發(fā)光層EML。
[0054]圖6A至圖6E是示出制造圖1和圖2所示的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的方法的視圖。在圖6A至圖6E中，相同的參考標(biāo)號指示圖1和圖2中的相同元件，因而將省略對相同元件的詳細(xì)描述。
[0055]參見圖6A，在襯底10上形成驅(qū)動晶體管TR，襯底10包括像素區(qū)PA和非像素區(qū)SA,形成平坦化層L3以覆蓋驅(qū)動晶體管TR。然后，穿過平坦化層L3形成接觸孔CH以暴露驅(qū)動晶體管TR的漏電極DE，在平坦化層L3上形成第一電極El。因此，第一電極El通過接觸孔CH與驅(qū)動晶體管TR的漏電極DE接觸。
[0056]參見圖6B和圖6C，在第一電極El上形成設(shè)置有開口部分OP的像素限定層I3DL以通過開口部分OP暴露第一電極El的一部分，其中，開口部分OP被形成為穿過像素限定層PDL0此后，在像素限定層PDL上相繼形成抗液層20和預(yù)備親液層30_1。
[0057]然后，在預(yù)備親液層30_1上設(shè)置掩模SM。在一些實(shí)施方式中，掩模SM可包括光透射部分Pl和光阻擋部分P2。光透射部分Pl被設(shè)置為對應(yīng)于非像素區(qū)SA以透射光LT。光阻擋部分P2被設(shè)置為對應(yīng)于像素區(qū)PA以阻擋光LT。此外，光阻擋部分P2包括被形成為從中穿過的狹縫ST以對應(yīng)于凹口部分RP (參見圖1)，狹縫ST與光透射部分Pl —樣透射光LT0
[0058]在將掩模SM設(shè)置在預(yù)備親液層30_1上之后，通過在預(yù)備親液層30_1上輻照光LT來進(jìn)行曝光工序，并且在曝光于光LT的預(yù)備親液層30_1上進(jìn)行顯影工序。因此，預(yù)備親液層30_1被構(gòu)圖以形成親液層30。
[0059]根據(jù)另一實(shí)施方式，在預(yù)備親液層30_1上形成光刻圖案(未示出)以對應(yīng)于光透射部分Pl和狹縫ST，并且通過使用光刻工序(使用光刻膠圖案)對預(yù)備親液層30_1進(jìn)行構(gòu)圖，從而形成親液層30。
[0060]根據(jù)又一實(shí)施方式，當(dāng)像素限定層PDL可由具有液體排斥性質(zhì)的材料形成時(shí)，可省略抗液層20，如圖5所示的有機(jī)電致發(fā)光顯示器那樣。
[0061]參見圖6D，在第一方向Dl上或在第一方向Dl的相反方向上移動噴嘴NL以向像素區(qū)PA提供印刷溶液PS。因此，印刷溶液PS被施加到親液層30。
[0062]同時(shí)，在使用噴嘴NL將印刷溶液PS施加到親液層30之前，親液層30在像素區(qū)PA中暴露于外部，抗液層20在非像素區(qū)SA中暴露于外部。因此，由于印刷溶液PS與親液層30之間的可濕性大于印刷溶液PS與抗液層20之間的可濕性，所以印刷溶液PS可容易地施加到像素區(qū)PA。
[0063]此外，當(dāng)親液層30的中心部分CP中形成有凹口部分RP時(shí)，中心部分CP的上表面的表面能量因凹口部分RP而小于邊緣部分SP的上表面的表面能量，抗液層20通過凹口部分RP而暴露于外部。因此，邊緣部分SP的上表面與印刷溶液PS之間的可濕性大于中心部分CP的上表面與印刷溶液PS之間的可濕性，因此可避免印刷溶液PS在被施加到像素區(qū)PA之后從邊緣部分SP流到中心部分CP的結(jié)果。此外，由于邊緣部分SP的上表面與印刷溶液PS之間的可濕性大于中心部分CP的上表面與印刷溶液PS之間的可濕性，所以印刷溶液PS沿第二和第三方向D2和D3從中心部分CP移動到邊緣部分SP。因此，印刷溶液PS被重新布置，使得印刷溶液PS具有均勻的厚度。
[0064]參見圖6E，在將印刷溶液PS施加到像素區(qū)PA后，進(jìn)行熱處理工序以將熱HT施加到襯底10。由于熱處理工序，所以印刷溶液固化，從而形成有機(jī)發(fā)光層EML。
[0065]在熱處理工序的過程中，被施加到中心部分CP的印刷溶液PS因中心部分CP的上表面的表面能量與邊緣部分SP的上表面的表面能量之間的差異而移動到邊緣部分SP。因此，印刷溶液PS被重新布置并且具有均勻厚度。
[0066]因此，在熱處理工序完成后，可改善有機(jī)發(fā)光層EML的厚度的均勻性。在一些實(shí)施方式中，可避免有機(jī)發(fā)光層EML的厚度的均勻性在中心部分CP與邊緣部分SP接觸的位置處的劣化。
[0067]然后，在有機(jī)發(fā)光層EML上形成第二電極E2 (參見圖1)和絕緣層150 (參見圖1)以制造圖1所示的顯示襯底100。此后，將顯示襯底100聯(lián)接至相對襯底200 (參見圖1)，從而制造有機(jī)電致發(fā)光顯示器300。
[0068]以上實(shí)施方式僅為了示例性目的而示出，并不旨在限定含義或限制在所附權(quán)利要求中提及的本發(fā)明的范圍。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解，在不偏離由所附權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，本發(fā)明的各種修改和等同實(shí)施方式均是可能的。
【權(quán)利要求】
1.一種有機(jī)電致發(fā)光顯示器，包括: 襯底； 第一電極，設(shè)置在所述襯底上； 像素限定層，設(shè)置在所述第一電極上，其中，所述像素限定層包括開口部分，所述開口部分形成在與所述第一電極重疊的區(qū)域中； 親液層，具有親液性質(zhì)并且設(shè)置在所述第一電極和所述像素限定層上，其中，所述親液層包括中心部分、至少一個(gè)凹口部分和邊緣部分，所述中心部分通過所述開口部分設(shè)置在所述第一電極上，所述至少一個(gè)凹口部分形成在所述中心部分中，所述邊緣部分從所述中心部分延伸并設(shè)置在所述像素限定層上； 有機(jī)發(fā)光層，設(shè)置在所述親液層上；以及 第二電極，設(shè)置在所述有機(jī)發(fā)光層上。
2.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器，其中，所述像素限定層包括上表面和傾斜表面，所述傾斜表面連接至所述上表面并延伸至所述開口部分，所述邊緣部分設(shè)置在所述傾斜表面上以相對于所述襯底傾斜，所述中心部分平行于所述襯底。
3.如權(quán)利要求2所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器，還包括抗液層，所述抗液層具有液體排斥性質(zhì)并設(shè)置在所述像素限定層與所示親液層之間以及所述第一電極與所述親液層之間。
4.如權(quán)利要求3所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器，其中，所述中心部分的上表面的表面能量小于所述邊緣部分的上表面的表面能量。
5.如權(quán)利要求3所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器，其中，所述凹口部分包括被形成為穿過所述親液層和所述有機(jī)發(fā)光層的孔，所述有機(jī)發(fā)光層被配置為通過所述凹口部分與所述抗液層接觸。
6.如權(quán)利要求3所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器，其中，所述襯底包括像素區(qū)和非像素區(qū)，所述親液層設(shè)置在所述像素區(qū)中，所述抗液層設(shè)置在所述像素區(qū)和所述非像素區(qū)中。
7.如權(quán)利要求6所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器，其中，所述有機(jī)發(fā)光層設(shè)置在所述像素區(qū)中。
8.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器，其中，所述像素限定層具有液體排斥性質(zhì)。
9.如權(quán)利要求8所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器，其中，所述襯底包括像素區(qū)和非像素區(qū)，所述像素限定層設(shè)置在所述像素區(qū)和所述非像素區(qū)中，所述開口部分設(shè)置在所述像素區(qū)中，所述有機(jī)發(fā)光層和所述親液層設(shè)置在所述像素區(qū)中。
10.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器，其中，所述凹口部分包括孔或凹口，所述孔被形成為穿過所述親液層，所述凹口通過沿所述親液層的厚度方向從所述親液層的上表面部分移除所述親液層而形成。
11.一種制造有機(jī)電致發(fā)光顯示器的方法，包括: 在襯底上形成第一電極，其中所述襯底包括像素區(qū)和非像素區(qū)； 在所述第一電極上形成像素限定層，其中所述像素限定層設(shè)置有開口部分以暴露所述第一電極的至少一部分； 在所述第一電極和所述像素限定層上形成預(yù)備親液層； 對所述預(yù)備親液層進(jìn)行構(gòu)圖以形成親液層；將印刷溶液施加到所述親液層以形成有機(jī)發(fā)光層；以及 在所述有機(jī)發(fā)光層上形成第二電極，其中，形成所述親液層的步驟包括: 將設(shè)置在所述非像素區(qū)中的預(yù)備親液層移除以形成中心部分和邊緣部分，所述中心部分通過所述開口部分設(shè)置在所述第一電極上，所述邊緣部分從所述中心部分延伸以設(shè)置在所述像素限定層上；以及 在所述中心部分中形成凹口部分。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述像素限定層包括上表面和傾斜表面，所述傾斜表面連接至所述上表面并延伸至所述開口部分，所述邊緣部分設(shè)置在所述傾斜表面以相對于所述襯底傾斜，所述中心部分平行于所述襯底。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，還包括形成抗液層，所述抗液層具有液體排斥性質(zhì)并設(shè)置在所述像素限定層與所述親液層之間以及所述第一電極與所述親液層之間。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其中，所述中心部分的上表面的表面能量因所述凹口部分而小于所述邊緣部分的上表面的表面能量。
15.如權(quán)利要求13所述的方法，其中，所述凹口部分被形成為穿過所述親液層，并且當(dāng)所述印刷溶液被施加到所述親液層時(shí)，所述印刷溶液通過所述凹口部分與所述抗液層接觸。
16.如權(quán)利要求13所述的方法，其中，所述親液層設(shè)置在所述像素區(qū)中，所述抗液層被設(shè)置在所述像素區(qū)和所述非像素區(qū)中。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，其中，所述有機(jī)發(fā)光層設(shè)置在所述像素區(qū)中。
18.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述像素限定層具有液體排斥性質(zhì)，所述像素限定層設(shè)置在所述像素區(qū)和所述非像素區(qū)中，所述像素限定層的所述開口部分設(shè)置在所述像素區(qū)中，所述有機(jī)發(fā)光層和所述親液層設(shè)置在所述像素區(qū)中。
19.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述凹口部分被形成為穿過所述親液層，或者所述凹口部分通過沿所述親液層的厚度方向從所述親液層的上表面部分移除所述親液層而形成。
20.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，形成所述有機(jī)發(fā)光層的步驟包括對施加到所述親液層的所述印刷溶液進(jìn)行熱處理以固化所述印刷溶液，以及在對所述印刷溶液進(jìn)行熱處理的過程中，被施加到所述 親液層的所述中心部分的印刷溶液移動到所述親液層的所述邊緣部分以被重新布置。
【文檔編號】H01L51/50GK103811523SQ201310295009
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年7月15日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月13日
【發(fā)明者】李阿榮, 金英一, 金義圭 申請人:三星顯示有限公司