基板處理裝置制造方法
【專利摘要】提供一種基板處理裝置，縮短擺動部件的擺動運動的收斂，防止基板的通過的錯誤檢測，并且縮短基板傳送間隔來提高基板的傳送效率，從而能夠?qū)崿F(xiàn)基板的處理效率的提高?；逄幚硌b置(1)的基板檢測裝置(2)具備：擺動部件(5)的一端部的檢測輥(6)；擺動部件(5)的另一端部的配重(5C)及磁鐵(7)；檢測傳感器(8)，若擺動部件(5)從基板(B)與檢測輥(6)相碰前的擺動部件的初始位置(P1)向旋轉方向(R)旋轉，則檢測出磁鐵(7)所產(chǎn)生的磁場的變化并發(fā)送檢測信號(DS)；以及擺動制動器(11)，在擺動部件(5)的初始位置(P1)，將擺動部件(5)保持為相對于垂直線(Z1)傾斜。
【專利說明】基板處理裝置【技術領域】
[0001]本發(fā)明的實施方式涉及一種基板處理裝置，傳送并處理液晶顯示裝置的玻璃基板等基板。
【背景技術】[0002]在制造液晶顯示裝置等顯示裝置的玻璃基板時，在基板處理裝置中傳送基板并對該基板實施各種處理。作為基板處理裝置對基板實施的處理，有例如抗蝕劑涂布處理、抗蝕劑剝離處理、蝕刻處理及清洗處理等。例如，在基板處理裝置對基板進行清洗處理的情況下，一邊由基板傳送部傳送基板，一邊向基板的表面供給清洗處理液。
[0003]這種基板處理裝置具有在傳送基板的過程中檢測是否有基板的基板檢測裝置?；鍣z測裝置具有被支撐為能夠擺動的擺動部件、檢測輥、磁鐵及舌簧開關。檢測輥能夠旋轉地設置在擺動部件的一端部，被所傳送的基板按壓。磁鐵固定在擺動部件的另一端部。舌簧開關設置在與擺動部件的擺動方向交叉的方向上。所傳送的基板與檢測輥相碰，從而擺動部件旋轉，磁鐵向旋轉方向旋轉。由此，舌簧開關根據(jù)磁鐵所產(chǎn)生的磁場的變化來輸出信號。
[0004]但是，在上述基板處理裝置中，當所傳送的基板與檢測輥相碰從而擺動部件旋轉時，擺動部件像擺錘那樣進行擺動運動，存在擺動部件的擺動運動不會立即收斂的情況。因此，舌簧開關多次檢測出磁鐵所產(chǎn)生的磁場的變化，所以存在錯誤地檢測基板的通過的可能性。此外，擺動部件回到收斂位置需要時間，因此到檢測輥檢測出前一個基板并且擺動部件的擺動運動收斂為止，無法傳送下一個基板并使基板與檢測輥相碰而進行檢測。因此，無法減小基板傳送部可傳送基板的基板傳送間隔，基板的傳送效率差，因此無法提高基板的處理效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明所要解決的問題在于，提供一種基板處理裝置，縮短擺動部件的擺動運動的收斂，防止基板的通過的錯誤檢測，并且減小基板傳送間隔，提聞基板的傳送效率，從而實現(xiàn)基板的處理效率的提聞。
[0006]本發(fā)明的實施方式的一種基板處理裝置，具有檢測是否有傳送的基板的基板檢測裝置，上述基板檢測裝置具備:基部；擺動部件，被安裝為相對于上述基部擺動自如；檢測輥，設置在上述擺動部件的一端部，與所傳送的上述基板相碰；配重及磁鐵，設置在上述擺動部件的另一端部；檢測傳感器，若所傳送的上述基板按下上述檢測輥，從而上述擺動部件從上述基板與上述檢測輥相碰前的上述擺動部件的初始位置向旋轉方向旋轉，則檢測出上述磁鐵所產(chǎn)生的磁場的變化，并輸出表示檢測到上述基板的檢測信號；以及擺動制動器，在上述擺動部件的初始位置，將上述擺動部件保持成相對于與上述基板的傳送方向交叉的垂直線傾斜。
[0007]由此，在上述基板處理裝置中，在擺動部件的初始位置，擺動部件相對于與基板的傳送方向交叉的垂直線傾斜地被保持。因此，當所傳送的基板按下檢測輥，從而擺動部件從基板與檢測輥相碰前的擺動部件的初始位置向旋轉方向旋轉，并且基板通過從而擺動部件向與該旋轉方向相反的方向返回時，擺動部件與擺動制動器相撞。因此，能夠縮短擺動部件的擺動運動的收斂，防止基板的通過的錯誤檢測，并且減小基板傳送間隔，提高基板的傳送效率，從而能夠?qū)崿F(xiàn)基板的處理效率的提聞。
[0008]根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種基板處理裝置，縮短擺動部件的擺動運動的收斂，防止基板的通過的錯誤檢測，并且減小基板傳送間隔，提聞基板的傳送效率，從而實現(xiàn)基板的處理效率的提聞。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1是表示本發(fā)明的第I實施方式的基板處理裝置的圖。
[0010]圖2是表示圖1所示的基板處理裝置中所設置的基板檢測裝置的結構例(圖2(A))和動作例(圖2(B))的圖。
[0011]圖3是從圖2(A)所示的CR方向觀察的基板檢測裝置的側視圖。
[0012]圖4是用于說明擺動部件的重量平衡(圖4(A)及圖4(B))的圖。
[0013]圖5(A)是表示基板與半徑小的檢測輥相撞的狀態(tài)的圖，圖5(B)是表示基板與半徑大的檢測輥相撞的狀態(tài)的圖。
[0014]圖6是比較并表示伴隨著基板的移動而由本發(fā)明的實施方式中的檢測傳感器輸出的檢測信號與現(xiàn)有例的檢測傳感器輸出的檢測信號的圖。
[0015]圖7(A)是表示本發(fā)明的第2實施方式的基板處理裝置所具有的基板檢測裝置的正視圖，圖7(B)是從箭頭HJ觀察圖7 (A)所示的基板處理裝置的側視圖。
[0016]圖8是表示本發(fā)明的第3實施方式的基板處理裝置所具有的基板檢測裝置的圖。
【具體實施方式】
[0017]參照【專利附圖】

【附圖說明】本發(fā)明的實施方式。
[0018](第I實施方式)
[0019]圖1是表示本發(fā)明的基板處理裝置的優(yōu)選的第I實施方式的圖。圖2是表示圖1所示的基板處理裝置上所設置的基板檢測裝置2的結構例和動作例的圖。
[0020]如圖1所示，在本發(fā)明的實施方式中，作為基板處理裝置的一例，一邊沿著傳送方向T傳送處理對象基板例如液晶顯示裝置用的玻璃基板B (以下稱為基板)，一邊向該基板B的表背面供給清洗處理液，從而對基板B的表面上的污潰進行清洗處理。作為該清洗處理液，使用例如純水，但不限于此。
[0021]圖1中例示的基板處理裝置I具備基板檢測裝置2，基板檢測裝置2還稱為基板有無檢測裝置。該基板檢測裝置2例如被設置在多個傳送輥3中的相鄰的2個傳送輥3之間。各傳送輥3被安裝在傳送軸3A上。傳送軸3A能夠通過驅(qū)動未圖示的驅(qū)動部的馬達來旋轉。該傳送軸3A沿著X方向(圖1的紙面垂直方向)而配置。如圖1和圖2所示，基板檢測裝置2具有基部4、擺動部件5、檢測輥6、磁鐵7、檢測傳感器8 (例如舌簧開關(Reedswitch))、擺動支點部件10及擺動制動器11。
[0022]圖1及圖2所示的基部4是彎折金屬板而形成的部件，具有沿著Z方向(上下方向)形成的安裝部9。在該安裝部9上，擺動部件5被安裝成能夠以擺動支點部件10為中心擺動。擺動部件5是金屬制的板狀的部件。Z方向是與基板B的傳送方向T及X方向正交垂直的方向。擺動部件5能夠以擺動支點部件10為中心，沿著安裝部9在由Z方向和傳送方向T形成的面內(nèi)沿著旋轉方向R和逆旋轉方向Rl擺動。
[0023]圖1及圖2所示的檢測輥6例如為樹脂制，用安裝軸部12在擺動部件5的一端部5A上安裝成能夠旋轉。在擺動部件5的另一端部5B上固定有金屬制的配重(Weight) 5C。配重5C是為了得到與檢測輥6的重量平衡而設置的。磁鐵7優(yōu)選安裝在配重5C中。
[0024]圖2⑷表示擺動部件5定位于初始位置Pl的狀態(tài)，圖2⑶表示擺動部件5向旋轉方向R旋轉并定位于檢測位置P2的狀態(tài)。圖3是從圖2(A)所示的CR方向觀察的基板檢測裝置2的側視圖。
[0025]如圖2 (A)及圖3所示，擺動制動器11在安裝部9上沿著X方向突出，并固定在擺動部件5的另一端部5B附近的位置。該擺動制動器11具有如下功能:通過與擺動部件5的另一端部5B附近的下側側面部直接相撞，使擺動部件5在圖1及圖2 (A)所示的初始位置Pl以角度Θ傾斜的狀態(tài)定位。擺動部件5的從一端部5A到另一端部5B的部分是直線狀的板部件，但如圖3所示，另一端部5B通過彎折90度而在X方向上突出。
[0026]如圖1及圖2(A)所示，檢測傳感器8在基部4的安裝部13上被固定成，在擺動部件5位于圖2(A)所示的初始位置Pl的狀態(tài)下，與磁鐵7以分離微小的間隔的狀態(tài)面對。檢測傳感器8在擺動部件5向旋轉方向R旋轉而從圖2(A)所示的初始位置Pl成為圖2(B)所示的檢測位置P2時，即在基板B按下檢測輥6時，檢測磁鐵7所產(chǎn)生的磁場的變化。由此，檢測傳感器8將基板B的檢測信號DS作為檢測到基板B的信號發(fā)送到控制部100。
[0027]在圖2(A)中，擺動部件5被定位于初始位置P1，從而擺動部件5的長邊方向G相對于Z方向的垂直線Zl以角度Θ傾斜。在該狀態(tài)下，擺動部件5的長邊方向G通過檢測輥6的安裝軸部12的中心、擺動支點部件10的中心、磁鐵7的中心及檢測傳感器8的中心。檢測輥6的安裝軸部12與擺動支點部件10之間的距離LI優(yōu)選設定為比擺動支點部件10與磁鐵7 (配重5C)之間的距離L2短。由此，擺動部件5R能夠從圖2(B)所示的檢測位置P2向初始位置Pl沿著逆旋轉方向Rl旋轉而返回。
[0028]如圖2所示，在初始位置Pl，該擺動部件5的長邊方向G相對于Z方向的垂直線Zl以擺動支點部件10為中心傾斜預定的角度Θ。磁鐵7面對于檢測傳感器8。在擺動制動器11上抵接有擺動部件5的下側側面部該角度Θ為例如40度。角度Θ的范圍優(yōu)選為30度到50度的范圍內(nèi)。若角度Θ小于30度，則在檢測輥6被基板B向旋轉方向R按下的情況下，檢測輥6向旋轉方向R旋轉的角度增大，擺動部件5從檢測位置P2返回到初始位置Pl的返回時間變長，因此不理想。此外，若角度Θ超過50度，則在檢測輥6被基板B向旋轉方向R按下的情況下，雖然檢測棍6向旋轉方向R旋轉的角度小，但由于磁鐵7遠離檢測傳感器8的距離小(磁鐵的逃脫距離小)，因此檢測開關8難以檢測磁鐵7的磁場的變化，所以不理想。
[0029]而圖2 (B)所示，在擺動部件5旋轉到檢測位置P2時，即在基板B按下檢測輥12時，擺動部件5的長邊方向G相對于Z方向的垂直線Zl在預定的角度Θ的基礎上以擺動支點部件10為中心進一步向旋轉方向R旋轉追加的旋轉角度Θ I。由此，磁鐵7從檢測傳感器8向旋轉方向R離開。擺動制動器11從擺動部件5的下側側面部離開。作為該旋轉角度θ I的例子，為15.5度，但沒有特別限定。
[0030]圖4表示擺動部件K的重量平衡。圖4⑷所示的重量Wl表示從擺動部件K的擺動支點(擺錘支點)K1起上方的部分即到檢測棍K2為止的重量,重量W2表示從擺動部件K的擺動支點Kl起下方的部分即到磁鐵K3和配重K4為止的重量。距離LI是從擺動支點Kl到檢測輥K2的旋轉中心的距離，距離L2是從擺動支點Kl到磁鐵K3的距離。
[0031]圖4⑶所示的反作用力WO是在檢測輥K2檢測基板時，檢測輥K2從基板受到的上推反作用力。在圖4(B)中，擺動部件K的以擺動支點Kl為中心的傾倒容易度(旋轉容易度)可以表示為(W0+W1) XL1>W2XL2，W2XL2的值越小，擺動部件K的重量平衡越穩(wěn)定。此外，擺動部件K朝向逆旋轉方向Rl的復原容易度(返回容易度)可以表示為W1XL1〈W2XL2，W2XL2的值越大，擺動部件K越容易朝向逆旋轉方向Rl復原。
[0032]圖5 (A)表示基板B與半徑小的檢測輥K2A相撞的狀態(tài)，圖5⑶表示基板B與半徑比圖5 (A)的檢測輥K2A大的檢測輥K2B相撞的狀態(tài)。
[0033]若設半徑小的檢測輥K2A和半徑比該檢測輥K2A大的檢測輥K2B分別被基板B向Zl方向按下的量SS (例如3mm)相同，則圖5⑶所示的檢測輥K2B的基板入射角C2能夠比圖5(A)所示的檢測輥K2A的基板入射角Cl小。該基板入射角是指，在檢測輥被基板B向Zl方向按下時檢測輥本身沿著垂直軸Zl被按下的角度。由此，在使用半徑大的檢測輥K2B時，與使用半徑小的檢測輥K2A時相比，檢測輥向旋轉方向R旋轉時容易向垂直線Zl方向逃離。換言之，擺動部件容易向旋轉方向R側傾倒。檢測棍的優(yōu)選直徑為例如20mm,但沒有特別限定。
[0034]接著，說明上述本發(fā)明的實施方式的動作例。
[0035]在圖1所示的基板處理裝置I中，若未圖示的驅(qū)動源的馬達動作，則傳送軸3A旋轉，從而傳送輥3依次沿著傳送方向T傳送基板B。該基板處理裝置I為例如基板清洗裝置，對基板B供給像純水這樣的清洗處理液，從而基板B被清洗處理，基板B上的清洗處理液通過高壓空氣被吹飛而干燥。
[0036]如圖1所示，在基板B向傳送方向T傳送的中途，若基板B通過基板檢測裝置2的上方，則圖2 (A)所示的檢測輥6被基板B的背面按壓，因此圖2 (A)所示的擺動部件5從位于初始位置Pl的狀態(tài)向圖2(B)所示的檢測位置P2旋轉。
[0037]在基板B通過從而基板B按下了檢測輥12時，擺動部件5的長邊方向G相對于Z方向的垂直線Zi在預先設定的預定的角度Θ的基礎上，以擺動支點部件10為中心向旋轉方向R進一步旋轉旋轉角度Θ1。由此，磁鐵7從檢測傳感器8向旋轉方向R離開。擺動部件5的下側側面部從擺動制動器11離開。由此，磁鐵7從圖2(A)所示的與檢測傳感器8對置的狀態(tài)成為圖2(B)所示的離開的狀態(tài)，從而在檢測傳感器8的檢測范圍內(nèi)不再產(chǎn)生磁場。檢測傳感器8向控制部100發(fā)送表示該不再產(chǎn)生磁場的識別信號(檢測信號)DS，控制部100識別到在檢測傳感器8的檢測范圍內(nèi)不再產(chǎn)生磁場，從而控制部100判斷為檢測到基板B。
[0038]相反，若基板B進一步向傳送方向T傳送，基板B從檢測輥12離開，則擺動部件5通過重力的力向逆旋轉方向Rl旋轉而從檢測位置P2返回到初始位置P1，因此磁鐵7從與檢測傳感器8離開的狀態(tài)恢復成與檢測傳感器8對置的狀態(tài)時，檢測傳感器8檢測出產(chǎn)生了磁場，因此控制部100識別出產(chǎn)生了磁場，判斷為沒有檢測到基板B。[0039]這樣，若基板B從檢測輥12離開，則擺動部件5通過重力的力而從檢測位置P2向初始位置Pl沿著逆旋轉方向Rl旋轉，因此能夠靈敏度良好地立即返回到初始位置P1。并且，擺動部件5的下側側面部與擺動制動器11抵接。
[0040]由此，擺動部件5在旋轉方向R和逆旋轉方向Rl上完全不會產(chǎn)生像擺錘那樣擺動的動作(振動=Chattering)，能夠?qū)[動部件5立即定位于初始位置Pl。當基板B從檢測輥12離開時擺動部件5從檢測位置P2向初始位置Pl沿著逆旋轉方向Rl旋轉而能夠立即返回是因為，如上所述，擺動部件5在初始位置Pl朝向旋轉方向R側預先傾斜角度Θ并被保持。并且，是因為，如圖2(A)所示，優(yōu)選地設定為，檢測輥6的安裝軸部12與擺動支點部件10之間的距離LI比擺動支點部件10與磁鐵7 (配重5C)之間的距離L2短。
[0041]在此，參照圖6。圖6是比較并表示伴隨著圖2的基板B的移動而由本發(fā)明的實施方式中的檢測傳感器8輸出的檢測信號與現(xiàn)有例的基板檢測裝置502中的檢測傳感器輸出的檢測信號的圖。
[0042]在本發(fā)明的實施方式的基板檢測裝置2中，如圖2(A)及圖2(B)所示，在基板B通過并在圖6的時刻tl向垂直線Zl方向按下檢測輥6時，擺動部件5從定位于初始位置Pl的狀態(tài)向旋轉方向R旋轉，在時刻t2定位于檢測位置P2。由此，磁鐵7從圖2(A)所示的最接近檢測傳感器8的狀態(tài)成為圖2(B)所示的離開的狀態(tài)，因此在從圖6的時刻tl稍微延遲時間DLl的時刻t3，檢測傳感器8向控制部100產(chǎn)生(發(fā)送)檢測信號DS。如圖6所示，在基板B被傳送且基板B按下了檢測輥6的期間，產(chǎn)生檢測信號DS。并且，若在圖6的時刻t2基板B通過，則擺動部件5從檢測位置P2向初始位置Pl返回，因此磁鐵7從離開檢測傳感器8的狀態(tài)向接近的狀態(tài)復原，從而在從時刻t2稍微延遲時間DL2的時刻t4，結束產(chǎn)生檢測信號DS。在時刻t4之后，設定軟件所需的時間余裕。
[0043]而在圖6所示的現(xiàn)有的基板檢測裝置502中，在從圖6的時刻tl稍微延遲時間DLl的時刻t3，檢測傳感器產(chǎn)生檢測信號ES。并且，若在圖6的時刻t2基板B通過，則在從時刻t2稍微延遲時間DL2的時刻t4，結束產(chǎn)生檢測信號ES。但是，在時刻t4以后，例如2秒鐘到3秒鐘,從檢測傳感器產(chǎn)生振動波形(Chattering waveform) EF。這樣在時刻t4以后產(chǎn)生振動波形EF是因為，擺動部件本身像擺錘那樣進行擺動運動，花費了用于擺動部件返回到收斂位置(中立位置)的收斂時間。
[0044]在本發(fā)明的實施方式的基板檢測裝置2中，如圖1及圖2所示，擺動部件5在初始狀態(tài)Pl下朝向旋轉方向R側預先傾斜并被保持。并且，如圖2(A)至圖2(B)所示，在擺動部件5從初始位置Pl變化為檢測位置P2之后，基板B通過從而檢測輥6不被基板B按下時，如圖2 (A)所示，擺動部件5能夠從檢測狀態(tài)P2向初始狀態(tài)Pl沿著逆旋轉方向Rl旋轉而立即返回到初始位置Pl。這樣，若擺動部件5從檢測狀態(tài)P2立即返回到初始狀態(tài)PlJlJ擺動部件5的另一端部5B附近的下側側面部直接撞到擺動制動器11。因此，能夠?qū)[動部件5迅速且切實地定位于圖1及圖2 (A)所示的初始位置P1。不會產(chǎn)生以往產(chǎn)生的振動波形EF，縮短擺動部件5的擺動運動的收斂，能夠防止基板B的通過的錯誤檢測。并且，由于能夠縮短擺動部件5的擺動運動的收斂，因此即使減小依次傳送的多個基板B彼此的傳送間隔，也能夠切實地進行基板B的有無的檢測，所以能夠提高傳送基板B時的基板處理效率。
[0045](第2實施方式)[0046]接著，說明本發(fā)明的基板處理裝置的優(yōu)選的第2實施方式。
[0047]圖7 (A)是表示本發(fā)明的第2實施方式的基板處理裝置所具有的基板檢測裝置102的正視圖，圖7(B)是從箭頭HJ觀察圖7(A)所示的基板處理裝置102的側視圖。
[0048]基板檢測裝置102還稱為基板有無檢測裝置。該基板檢測裝置102例如被設置在圖1所示的基板處理裝置I的多個傳送輥3中的相鄰的2個傳送輥3之間。如圖7 (A)及圖7(B)所示，基板檢測裝置102具有基部104、擺動部件105、配重105C、追加配重105D、檢測輥106、磁鐵107、像舌簧開關那樣的檢測傳感器108、擺動支點部件110及擺動制動器111。
[0049]在安裝部109上，擺動部件105被安裝成能夠以擺動支點部件110為中心擺動。擺動部件105是金屬制的板狀的部件。擺動部件105具有在圖7(A)所示的定位于初始位置Pl的狀態(tài)下沿著Z方向的垂直線Zl形成的第I部分105S、以及沿著傾斜線V形成的第2部分105T。傾斜線V相對于垂直線Zl向旋轉方向R側傾斜預定的角度Θ。該角度Θ的值優(yōu)選與第I實施方式中的角度Θ的值相同。Z方向與基板B的傳送方向T及X方向正交。擺動部件105能夠以擺動支點部件110為中心，沿著安裝部109的面在由Z方向和傳送方向T形成的面內(nèi)沿著旋轉方向R擺動。
[0050]圖7 (A)及圖7⑶所示的檢測輥106例如為樹脂制，用安裝軸部112在擺動部件105的一端部105A上安裝成能夠旋轉。擺動部件105的另一端部105B固定金屬制的配重105C，在該配重105C上設置有磁鐵107。配重105C是為了得到與檢測輥106的重量平衡而設置的。磁鐵107優(yōu)選安裝在配重105C中。
[0051]如圖7(A)所示，在配重105C上還追加設置有追加配重10?。并且，配重105C具有與擺動制動器111相撞的相撞面105M，追加配重10?被固定在與該相撞面105M相反側的配重105C的面105N上。由此，追加配重10?的負荷加在配重105C的負荷上，向與檢測輥106相反的方向(逆旋轉方向Rl)提供追加負荷，因此在擺動部件105上能夠向與旋轉方向R相反的逆旋轉方向Rl發(fā)揮擺動向量，即能夠朝向使配重105C向擺動制動器111相撞的方向發(fā)揮擺動向量。
[0052]在圖7(A)中，表示擺動部件105定位于用實線表示的初始位置Pl的狀態(tài)、以及擺動部件105向旋轉方向R旋轉而定位于用虛線表示的檢測位置P2的狀態(tài)雙方。擺動制動器111具有如下功能:通過與配重105C直接相撞，使擺動部件5定位于用圖7(A)的實線表示的初始位置P1。如圖7(A)及圖7(B)所示，檢測傳感器108在圖7 (B)所示的基部104上被固定成，在擺動部件105位于圖7(A)所示的初始位置Pl的狀態(tài)下，與磁鐵107面對。檢測傳感器108在擺動部件105從用實線表示的初始位置Pl旋轉到用虛線表示的檢測位置P2時，即在基板B按下檢測輥106時，檢測磁鐵107所產(chǎn)生的磁場的變化。由此，檢測傳感器108具有向控制部100發(fā)送基板B的檢測信號DS的功能。
[0053]接著，說明上述本發(fā)明的第2實施方式的基板處理裝置I的基板檢測裝置2的動作例。若基板處理裝置為例如基板清洗裝置，且圖7(A)所示的基板B沿著傳送方向T傳送，則通過對基板B供給像純水這樣的清洗處理液，基板B被清洗處理，基板B上的清洗處理液通過高壓空氣被吹飛而干燥。
[0054]在基板B向傳送方向T傳送的中途，若基板B通過基板檢測裝置102的上方，則圖7(A)所示的檢測輥106被基板B的下表面按壓，因此圖7 (A)所示的擺動部件105從位于初始位置Pl的狀態(tài)向檢測位置P2沿著旋轉方向R旋轉。由此，磁鐵107從檢測傳感器108向旋轉方向R離開。擺動制動器111從配重105C離開。由此，磁鐵107從最接近檢測傳感器108的狀態(tài)成為離開的狀態(tài)，因此檢測傳感器108向控制部100產(chǎn)生檢測信號DS。
[0055]并且，若基板B進一步向傳送方向T傳送，基板B從檢測輥106離開，則擺動部件105從檢測位置P2向初始位置Pl沿著逆旋轉方向Rl旋轉而返回，因此磁鐵107從與檢測傳感器108離開的狀態(tài)恢復成最接近的狀態(tài)，所以結束從檢測傳感器108產(chǎn)生檢測信號DS。
[0056]這樣，若基板B從檢測輥106離開，則擺動部件105能夠從檢測位置P2向初始位置Pl沿著逆旋轉方向Rl旋轉而立即返回到初始位置Pl。并且，擺動部件5的配重105C與擺動制動器111相撞。由此，擺動部件105不會產(chǎn)生像擺錘那樣的振動動作，能夠立即定位于初始位置Pl。
[0057]當基板B從檢測輥106離開時擺動部件105從檢測位置P2向初始位置Pl沿著逆旋轉方向Rl旋轉而能夠立即返回是因為，如上所述，擺動部件5的第2部分105T相對于第I部分105S向旋轉方向R側預先傾斜角度Θ。并且，追加配重10?向與檢測輥106相反的方向提供負荷，由此在擺動部件105上向與旋轉方向R相反方向的逆旋轉方向Rl擺動，與擺動制動器111抵接。因此，圖7所示的基板檢測裝置102縮短擺動部件105的擺動運動的收斂，能夠防止基板B的通過的錯誤檢測。并且，由于能夠縮短擺動部件105的擺動運動的收斂，因此即使減小依次傳送的多個基板B彼此的傳送間隔，也能夠切實地進行基板B的有無的檢測，所以能夠提聞傳送基板時的基板處理效率。
[0058](第3實施方式)
[0059]接著，說明本發(fā)明的基板處理裝置的優(yōu)選的第3實施方式。
[0060]圖8是表示本發(fā)明的第3實施方式的基板處理裝置所具備的基板檢測裝置202的正視圖。圖8所示的基板檢測裝置202的結構與圖7(A)及圖7(B)所示的基板檢測裝置102的結構大致相同，但有以下不同。
[0061]如圖8所示，具有基部104、擺動部件105、配重105C、迫加配重105D、檢測輥106、磁鐵107、像舌簧開關這樣的檢測傳感器108、擺動支點部件110及擺動制動器111。擺動部件105具有在圖7(A)所示的定位于初始位置Pl的狀態(tài)下沿著Z方向的垂直線Zl形成的第I部分105S、以及沿著傾斜線V形成的第2部分105T。傾斜線V相對于垂直線Zl傾斜預定的角度Θ 2。
[0062]該傾斜角度Θ 2是將角度Θ和角度u相加而得到的角度。該基板檢測裝置202的基部104、擺動部件105、配重105C、追加配重105D、檢測輥106、磁鐵107、像舌簧開關這樣的檢測傳感器108、擺動支點部件110及擺動制動器111與圖7所示的基板檢測裝置102的基部104、擺動部件105、配重105C、追加配重105D、檢測輥106、磁鐵107、像舌簧開關這樣的檢測傳感器108、擺動支點部件110及擺動制動器111相同。
[0063]但是，擺動部件105的第I部分105S的長邊方向RG相對于Z方向的垂直線Zl預先傾斜角度U。即，擺動制動器111靠向垂直線Zl側而固定，擺動部件105在傾斜角度u的狀態(tài)下，配重105C與擺動制動器111相撞，由此擺動部件105被定位于初始位置P1。
[0064]在基板B按下了檢測輥106時，擺動部件105以擺動支點部件110為中心向旋轉方向R旋轉。由此，磁鐵107從檢測傳感器108向旋轉方向R離開。擺動制動器111從配重105C離開。由此，磁鐵107從與檢測傳感器108對置的狀態(tài)成為離開的狀態(tài)，因此檢測傳感器108向控制部100產(chǎn)生檢測信號DS。[0065]并且，若基板B進一步向傳送方向T傳送，基板B從檢測輥112離開，則擺動部件105從檢測位置P2向初始位置Pl沿著逆旋轉方向Rl旋轉而返回到初始位置P1，因此磁鐵107從與檢測傳感器108分離的狀態(tài)恢復成接近的狀態(tài)，所以結束從檢測傳感器108產(chǎn)生檢測信號DS。
[0066]這樣，若基板B從檢測輥106離開，則擺動部件105從檢測位置P2向初始位置Pl沿著逆旋轉方向Rl旋轉而立即返回到初始位置P1，并且擺動部件5的配重105C與擺動制動器111相撞，因此擺動部件105不會產(chǎn)生像擺錘那樣的擺動動作(振動=Chattering)，擺動部件105能夠立即定位于初始位置P1。
[0067]圖8所示的擺動部件105與圖7的擺動部件105相比，在初始位置Pl也預先進一步向旋轉方向R側傾斜偏移角度U。并且，是因為，追加配重10?向與檢測輥106相反的方向提供負荷，由此在擺動部件105上能夠向逆旋轉方向Rl發(fā)揮擺動向量，即能夠朝向與擺動制動器111抵接的方向發(fā)揮擺動向量。由此，圖8所示的基板檢測裝置202與圖7所示的基板檢測裝置102相比，能夠進一步加快基板檢測動作中的向旋轉方向R的旋轉及向逆旋轉方向Rl的返回。因此，圖8所示的基板檢測裝置202能夠縮短擺動部件105的擺動運動的收斂，防止基板B的通過的錯誤檢測。并且，由于能夠縮短擺動部件105的擺動運動的縮短，因此即使減小依次傳送的多個基板B彼此的傳送間隔，也能夠切實地進行基板B的有無的檢測，所以能夠提聞傳送基板時的基板處理效率。
[0068]本發(fā)明的實施方式的基板處理裝置的特征在于，具有檢測是否有傳送的基板的基板檢測裝置，該基板檢測裝置2、102、202具備:基部；擺動部件，被安裝成相對于基部擺動自如；檢測輥，設置在擺動部件的一端部，與所傳送的基板相碰；配重和磁鐵，設置在擺動部件的另一端部；檢測傳感器，若所傳送的基板按下檢測輥，從而擺動部件從基板與檢測輥相碰前的擺動部件的初始位置向旋轉方向旋轉，則檢測出磁鐵所產(chǎn)生的磁場的變化并輸出表示檢測到基板的檢測信號；以及擺動制動器，在擺動部件的初始位置，將擺動部件保持成相對于與基板的傳送方向交叉的垂直線傾斜，在擺動部件的初始位置，擺動部件相對于與基板的傳送方向交叉的垂直線傾斜地被保持。
[0069]由此，在基板處理裝置中，在擺動部件的初始位置，擺動部件相對于與基板的傳送方向交叉的垂直線傾斜地被保持。因此，所傳送的基板按下檢測輥，擺動部件從基板與檢測輥相碰前的擺動部件的初始位置向旋轉方向旋轉，且基板通過從而擺動部件向逆旋轉方向返回時，擺動部件與擺動制動器相撞。因此，能夠縮短擺動部件的擺動運動的收斂，防止基板的通過的錯誤檢測，并且能夠減小基板傳送間隔來提高基板的傳送效率，從而實現(xiàn)基板的處理效率的提聞。
[0070]此外，能夠?qū)[動部件設為直線狀的部件。由此，能夠?qū)[動部件的形狀簡單化，簡化基板檢測裝置的結構。
[0071]此外，擺動部件具有沿著垂直線形成的第I部分、以及從第I部分相對于垂直線向旋轉方向側傾斜地形成的第2部分，在第2部分的端部設置有檢測輥，在第I部分的端部設置有配重和磁鐵。由此，由于擺動部件的第2部分相對于擺動部件的第I部分傾斜地形成，因此與擺動部件為直線狀的部件時相比，能夠減小擺動部件所占的空間，能夠?qū)崿F(xiàn)基板檢測裝置的小型化。
[0072]并且，擺動部件的第I部分相對于垂直線向旋轉方向側傾斜。由此，能夠加快擺動部件向擺動制動器側恢復的動作，能夠提高基板檢測動作的靈敏度。
[0073]在配重上設置有用于在初始位置使擺動部件向擺動制動器側推靠的追加配重。由此，能夠加快擺動部件向擺動制動器側恢復的動作，能夠提高基板檢測動作的靈敏度。
[0074]以上，說明了本發(fā)明的實施方式，但各實施方式是作為例子而提示的，不限定發(fā)明的范圍。這些新穎的實施方式能夠以其他各種方式來實施，在不脫離發(fā)明的要旨的范圍內(nèi)能夠進行各種省略、置換、變更。這些實施方式及其變形包含在發(fā)明的范圍及要旨中，并且包含在權利要求書中所記載發(fā)明及其均等的范圍內(nèi)。
[0075]例如，作為本發(fā)明的基板處理裝置，不限于進行基板的清洗處理的裝置，也可以是在基板的表面形成光刻膠被膜的處理裝置、曝光處理裝置、顯影處理裝置、蝕刻處理裝置、剝離處理等加工處理裝置、干燥處理裝置等。本發(fā)明的實施方式的基板處理裝置能夠用于液晶基板、半導體基板、光掩模等基板的制造中。
【權利要求】
1.一種基板處理裝置，具有檢測是否有傳送的基板的基板檢測裝置，其特征在于， 上述基板檢測裝置具備: 基部; 擺動部件，被安裝為相對于上述基部擺動自如； 檢測輥，設置在上述擺動部件的一端部，與所傳送的上述基板相碰； 配重及磁鐵，設置在上述擺動部件的另一端部； 檢測傳感器，若所傳送的上述基板按下上述檢測輥，從而上述擺動部件從上述基板與上述檢測棍相碰前的上述擺動部件的初始位置向旋轉方向旋轉，則檢測出上述磁鐵所產(chǎn)生的磁場的變化，并輸出表示檢測到上述基板的檢測信號；以及 擺動制動器，在上述擺動部件的初始位置，將上述擺動部件保持成相對于與上述基板的傳送方向交叉的垂直線傾斜。
2.根據(jù)權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述擺動部件具有沿著上述垂直線形成的第I部分、以及從上述第I部分相對于上述垂直線向上述旋轉方向側傾斜地形成的第2部分， 上述檢測輥設置在上述第2部分的端部， 上述配重及上述磁鐵設置在上述第I部分的端部。
3.根據(jù)權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述擺動制動器將上述第I部分保持為相對于上述垂直線傾斜。
4.根據(jù)權利要求2或3所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述配重具有追加配重，該追加配重用于在上述擺動部件的初始位置使上述擺動部件向上述擺動制動器側推靠。
5.根據(jù)權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述擺動部件被設置成能夠以擺動支點部件為中心擺動， 上述檢測輥通過安裝軸部設置在上述擺動部件的一端部， 上述安裝軸部與上述擺動支點部件之間的距離被設定為，比上述擺動支點部件與上述磁鐵之間的距離短。
6.根據(jù)權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述擺動制動器將上述擺動部件保持為在30度到50度的范圍內(nèi)相對于上述垂直線傾斜。
【文檔編號】H01L21/67GK103633000SQ201310364328
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年8月20日 優(yōu)先權日:2012年8月22日
【發(fā)明者】末吉秀樹, 宮迫久顯, 荻原潔, 濱田崇廣 申請人:芝浦機械電子株式會社